JPH03246501A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPH03246501A JPH03246501A JP2042337A JP4233790A JPH03246501A JP H03246501 A JPH03246501 A JP H03246501A JP 2042337 A JP2042337 A JP 2042337A JP 4233790 A JP4233790 A JP 4233790A JP H03246501 A JPH03246501 A JP H03246501A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ＯＡ機器や光通信、光情報処理、光応用製造
装置や測定器あるいはカメラなどの光学機器等を構成す
る光学部品に対して施される反射防止膜に関する。
装置や測定器あるいはカメラなどの光学機器等を構成す
る光学部品に対して施される反射防止膜に関する。
従来からレンズ、プリズムなどの光学部品に対しては、
有害な表面反射を低減させるために反射防止層を設ける
ことが一般に行われている。
有害な表面反射を低減させるために反射防止層を設ける
ことが一般に行われている。
特にレーザ応用光学部品に対しては反射防止が重要であ
り、たとえばその表面にＭｇＦ２からなる単層構成の反
射防止膜、あるいは高屈折率の材料と低屈折率の材料と
からなる２層構成のＶコートと呼ばれる低反射を目的と
した反射防止膜が施されることが普通である。
り、たとえばその表面にＭｇＦ２からなる単層構成の反
射防止膜、あるいは高屈折率の材料と低屈折率の材料と
からなる２層構成のＶコートと呼ばれる低反射を目的と
した反射防止膜が施されることが普通である。
上記のような構成の反射防止膜にあっては、ＭｇＦ２等
の単層構成の場合には反射率が１．３％以上であって、
反射防止膜としての性能が充分でない。
の単層構成の場合には反射率が１．３％以上であって、
反射防止膜としての性能が充分でない。
また２層構成の場合には、中心波長域での反射率を０．
２％以下にすることが可能であるものの、ここから離れ
た波長域では反射率が急激に増大するという問題があっ
た。
２％以下にすることが可能であるものの、ここから離れ
た波長域では反射率が急激に増大するという問題があっ
た。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、広い
波長域にわたって優れた反射防止特性を有する反射防止
膜を提供することを目的としたものである。
波長域にわたって優れた反射防止特性を有する反射防止
膜を提供することを目的としたものである。
かかる本発明の目的は、屈折率が１．６０〜１．６４の
範囲内にある誘電体材料からなる第１層と、ＬａｚＯ３
＋ Ｎｄｚ０３またはＹ２Ｏ３からなる第２層と、Ｍｇ
Ｆ２またはＳｉｎ、からなる第３層とを、光学部品の表
面側から順次積層してなる光学部品の反射防止膜によっ
て達成することができる。
範囲内にある誘電体材料からなる第１層と、ＬａｚＯ３
＋ Ｎｄｚ０３またはＹ２Ｏ３からなる第２層と、Ｍｇ
Ｆ２またはＳｉｎ、からなる第３層とを、光学部品の表
面側から順次積層してなる光学部品の反射防止膜によっ
て達成することができる。
本発明の反射防止膜を光学部品の表面上に形成するには
、まず第１層として、たとえば真空蒸着法やイオンブレ
ーティング法などの薄膜形成技術を用いて、屈折率が１
．６０〜１．６４の範囲内にある誘電体材料からなる層
を光学部品の表面上に形成する。このような第１層とし
て用いるに適した誘電体材料としては、例えばＡｌ２Ｏ
：ｌとＺｒＯ，との混合物、ＮｄＦ、、ＣｅＦ 、、Ｌ
ａＦ３などを挙げることができる。
、まず第１層として、たとえば真空蒸着法やイオンブレ
ーティング法などの薄膜形成技術を用いて、屈折率が１
．６０〜１．６４の範囲内にある誘電体材料からなる層
を光学部品の表面上に形成する。このような第１層とし
て用いるに適した誘電体材料としては、例えばＡｌ２Ｏ
：ｌとＺｒＯ，との混合物、ＮｄＦ、、ＣｅＦ 、、Ｌ
ａＦ３などを挙げることができる。
次にこの第１層に重ねて、同様な方法によってＬａｚ０
３． Ｎａ２ｏ３またはＹ２Ｏ３からなる第２層を形成
し、更にその上にＭｇＦ２またはＳｉＯ□からなる第３
層を同様にして順次に形成する方法によるのがよい。
３． Ｎａ２ｏ３またはＹ２Ｏ３からなる第２層を形成
し、更にその上にＭｇＦ２またはＳｉＯ□からなる第３
層を同様にして順次に形成する方法によるのがよい。
このようにして形成された反射防止膜は第１図に示すよ
うに、光学部品ａの上に第１Ｎｂ、第２層Ｃ１第３層ｄ
の順に積層構造をとっている。
うに、光学部品ａの上に第１Ｎｂ、第２層Ｃ１第３層ｄ
の順に積層構造をとっている。
上記のようにして形成された本発明の反射防止膜は、耐
久性の優れた成膜材料を用いて、広い波長域にわたって
安定した光学特性を有するものである。
久性の優れた成膜材料を用いて、広い波長域にわたって
安定した光学特性を有するものである。
〔実施例１〕
光学硝子部品（ＢＫ７、屈折率：１．５１）を精密洗浄
したのち真空蒸着装置内に取り付け、装置内を排気しな
がら部品を約３００℃に加熱し、真空度２Ｘ１０−’
トールの条件下で、電子ビームを用いてＡｈａ３とＺ
ｒＯ２との混合物（■オプトロン製、０Ｍ−４、屈折率
：１．６４）を光学的膜厚が１９５ｎｍとなるように蒸
着した。この膜厚は波長λが８５０ｎｍの光に対して０
．２３λに相当するものである。
したのち真空蒸着装置内に取り付け、装置内を排気しな
がら部品を約３００℃に加熱し、真空度２Ｘ１０−’
トールの条件下で、電子ビームを用いてＡｈａ３とＺ
ｒＯ２との混合物（■オプトロン製、０Ｍ−４、屈折率
：１．６４）を光学的膜厚が１９５ｎｍとなるように蒸
着した。この膜厚は波長λが８５０ｎｍの光に対して０
．２３λに相当するものである。
次に同様な方法で上記の第１層の上に、Ｌａ２０．１（
屈折率：１．８）の第２層を同様に光学的膜厚が１９５
ｎｍとなるように蒸着し、更に同様な方法で上記の第２
層の上に、ＭｇＦｚ（７屈折率：１．３７）の第３層を
同様に光学的膜厚が１９５ｎｍとなるように蒸着して、
３層構成の反射防止膜を得た。
屈折率：１．８）の第２層を同様に光学的膜厚が１９５
ｎｍとなるように蒸着し、更に同様な方法で上記の第２
層の上に、ＭｇＦｚ（７屈折率：１．３７）の第３層を
同様に光学的膜厚が１９５ｎｍとなるように蒸着して、
３層構成の反射防止膜を得た。
こうして得た反射防止膜について分光反射特性を測定し
た結果を第１図に示すが、７００〜９００ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．２５％以下であった。
た結果を第１図に示すが、７００〜９００ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．２５％以下であった。
〔実施例２〕
実施例１と同様な光学硝子部品の表面に、実施例１と同
様な方法に従って、ＮｄＦｚ（屈折率：１．６）の第１
層を光学的膜厚が１９５ｎｍとなるように蒸着した。
様な方法に従って、ＮｄＦｚ（屈折率：１．６）の第１
層を光学的膜厚が１９５ｎｍとなるように蒸着した。
次に同様な方法で上記の第１層の上に、Ｎｄ２０３（屈
折率：１．７９）の第２層を同様に光学的膜厚が１９５
ｎｍとなるように蒸着し、更に上記の第２層の上に、実
施例１と同様なＭｇＦ２の第３層を光学的膜厚が１９５
ｎｍとなるように蒸着して、３層構成の反射防止膜を得
た。
折率：１．７９）の第２層を同様に光学的膜厚が１９５
ｎｍとなるように蒸着し、更に上記の第２層の上に、実
施例１と同様なＭｇＦ２の第３層を光学的膜厚が１９５
ｎｍとなるように蒸着して、３層構成の反射防止膜を得
た。
こうして得た反射防止膜について分光反射特性を測定し
た結果を第２図に示すが、７００〜９゜Ｏｎｍの波長域
にわたって反射率が０．４７％以下であった。
た結果を第２図に示すが、７００〜９゜Ｏｎｍの波長域
にわたって反射率が０．４７％以下であった。
〔実施例３〕
実施例１と同様な光学硝子部品の表面に、実施例１と同
様な方法に従って、ＣｅＦ ｚ （屈折率＝１．６１）
の第１層を光学的膜厚が１９５ｎｍとなるように蒸着し
た。
様な方法に従って、ＣｅＦ ｚ （屈折率＝１．６１）
の第１層を光学的膜厚が１９５ｎｍとなるように蒸着し
た。
次に同様な方法で上記の第１層の上に、Ｙ２Ｏ。
（屈折率：１．８３）の第２層を同様に光学的膜厚が１
９５ｒ＋ｍとなるように蒸着し、更に同様な方法で上記
の第２層の上に、５ｒＯｚ （屈折率：１．４５）の第
３層を同様に光学的膜厚が１９５ｎｍとなるように蒸着
して、３層構成の反射防止膜を得た。
９５ｒ＋ｍとなるように蒸着し、更に同様な方法で上記
の第２層の上に、５ｒＯｚ （屈折率：１．４５）の第
３層を同様に光学的膜厚が１９５ｎｍとなるように蒸着
して、３層構成の反射防止膜を得た。
こうして得た反射防止膜について分光反射特性を測定し
た結果を第３図に示すが、７００〜９００ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．６％以下であった。
た結果を第３図に示すが、７００〜９００ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．６％以下であった。
〔比較例１〕
実施例１と同様な光学硝子部品の表面に、実施例１と同
様な方法に従って、ＭｇＦ２０層を光学的膜厚が１９５
ｎｍとなるように蒸着して、反射防止膜を形成した。
様な方法に従って、ＭｇＦ２０層を光学的膜厚が１９５
ｎｍとなるように蒸着して、反射防止膜を形成した。
こうして得た単層構成の反射防止膜について分光反射特
性を測定した結果は、第４回に示すように分光反射率が
１．３％以上であった。
性を測定した結果は、第４回に示すように分光反射率が
１．３％以上であった。
〔比較例２〕
実施例１と同様な光学硝子部品の表面に、実施例Ｉと同
様にしてＡ１□０３とＺｒＯ２との混合物を光学的膜厚
が１９５ｔ＋ｍとなるように蒸着した。
様にしてＡ１□０３とＺｒＯ２との混合物を光学的膜厚
が１９５ｔ＋ｍとなるように蒸着した。
次に同様な方法で上記の第１層の上に、ＭｇＦ、の第２
層を光学的膜厚が１９５ｎｍとなるように蒸着して、２
層構成の反射防止膜を得た。
層を光学的膜厚が１９５ｎｍとなるように蒸着して、２
層構成の反射防止膜を得た。
こうして得た２層構成の反射防止膜について分光反射特
性を測定したところ、第５図に示すように、反射率は中
心波長の７８０ｎｍ付近では約０．１％であるものの、
中心波長から外れると急激に悪化している。
性を測定したところ、第５図に示すように、反射率は中
心波長の７８０ｎｍ付近では約０．１％であるものの、
中心波長から外れると急激に悪化している。
本発明の反射防止膜は、広い波長域の範囲にわたって残
存反射率が小さいのみならず、膜材料として耐久性の良
いものを用いているので、安定した光学特性を維持する
ことができる。
存反射率が小さいのみならず、膜材料として耐久性の良
いものを用いているので、安定した光学特性を維持する
ことができる。
第１図は本発明の反射防止膜の構造を示す断面図である
。 第２図ないし第４図はそれぞれ本発明の実施例工ないし
実施例３の反射防止膜の分光反射特性図であり、 第５図および第６図はそれぞれ比較例１および比較例２
の反射防止膜の分光反射特性図である。 ａ・・・光学部品、 ｂ・・・第１層、 Ｃ・・・第２層、 ｄ ・・・ 第３層。
。 第２図ないし第４図はそれぞれ本発明の実施例工ないし
実施例３の反射防止膜の分光反射特性図であり、 第５図および第６図はそれぞれ比較例１および比較例２
の反射防止膜の分光反射特性図である。 ａ・・・光学部品、 ｂ・・・第１層、 Ｃ・・・第２層、 ｄ ・・・ 第３層。
Claims (1)
- 屈折率が１．６０〜１．６４の範囲内にある誘電体材料
から、なる第１層と、Ｌａ＿２Ｏ＿３、Ｎｄ＿２Ｏ＿３
またはＹ＿２Ｏ＿３からなる第２層と、ＭｇＦ＿２また
はＳｉＯ＿２からなる第３層とを、光学部品の表面側か
ら順次積層してなる光学部品の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2042337A JPH03246501A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2042337A JPH03246501A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03246501A true JPH03246501A (ja) | 1991-11-01 |
Family
ID=12633200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2042337A Pending JPH03246501A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03246501A (ja) |
-
1990
- 1990-02-26 JP JP2042337A patent/JPH03246501A/ja active Pending
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