JP3426286B2 - 耐湿反射防止膜 - Google Patents
耐湿反射防止膜Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学機器を構成するレ
ンズ、プリズム等の光学部品、特に高湿度雰囲気で用い
られる光学部品の反射防止膜に関する。 【０００２】 【従来技術及びその問題点】従来、光学機器を構成する
レンズ、プリズム等の光学部品に用いられる反射防止膜
には、例えば、低屈折率材料としてＭｇＦ2 、高屈折率
材料としてＺｒＯ2が用いられている。さらに具体的に
は、図３に示したように屈折率１．５２の光学ガラス基
板（ＢＫ７）４上に、設計波長λ0 ＝５５０ｎｍで、光
学膜厚λ0 ／１６のＭｇＦ2 からなる第一層３ａ、光学
膜厚λ0 ／８のＺｒＯ2 からなる第二層３ｂ、光学膜厚
λ0 ／１６のＭｇＦ2 からなる第三層３ｃ、光学膜厚λ
0 ／４のＺｒＯ2 からなる第四層３ｄ、さらに光学膜厚
λ0 ／４のＭｇＦ2 からなる第五層３ｅからなる反射防
止膜３が形成される。 【０００３】しかしながら、このような反射防止膜で
は、その膜表面に水滴が生じるような高湿度雰囲気で
は、長期間かけて水滴が蒸発した場合に、水滴が生じて
いた部分に白い曇り状フローマークが残る。このフロー
マークは、アルコール等の溶剤で拭いても簡単には落ち
ないという問題点があった。 【０００４】 【発明の目的】本発明は、上記従来技術の問題点を解消
し、高湿度雰囲気に曝されて反射防止膜表面に水滴が生
じた後に蒸発して残ったフローマークを簡単に拭き取る
ことができる耐湿性の高い反射防止膜を提供することを
目的とする。 【０００５】 【発明の概要】本発明者らは、鋭意研究の結果、高屈折
率材料としてＨｆＯ2 を、低屈折率材料としてＳｉＯ2
を用いることにより上記目的を達成しうるとの知見を得
た。本発明はこのような知見に基づいて完成したもので
ある。すなわち、本発明による耐湿反射防止膜は、高屈
折率材料としてＨｆＯ2 を使用した層と、低屈折率材料
としてＳｉＯ2 を使用した層を有することを特徴とす
る。 【０００６】本発明による耐湿反射防止膜は、上記のよ
うに、高屈折率材料としてＨｆＯ2を使用した層と、低
屈折率材料としてＳｉＯ2 を使用した層とを組み合わせ
て形成したものであり、所望の反射特性に応じて適切な
光学膜厚で組み合わせて形成することにより作製され
る。膜の形成方法としては、特に制限はなく、真空蒸着
法、スパッタリング法などが挙げられる。 【０００７】本発明の反射防止膜の構成の一例を図１に
示す。図１において、反射防止膜１は、５層からなり、
光学ガラス基板２上に設計波長λ0 で光学膜厚λ0 ／１
２のＳｉＯ2 からなる第一層１ａ、光学膜厚λ0 ／１２
のＨｆＯ2 からなる第二層１ｂ、光学膜厚λ0 ／１２の
ＳｉＯ2 からなる第三層１ｃ、光学膜厚λ0 ／４のＨｆ
Ｏ2 からなる第四層１ｄ、光学膜厚λ0 ／４のＳｉＯ2
からなる第五層１ｅを順次形成したものである。 【０００８】 【作用】ＨｆＯ2 及びＳｉＯ2 は、耐湿性に優れてお
り、これらを用いて適切な膜構成を形成することにより
所望の反射防止特性と耐湿性を得ることができる。 【０００９】 【実施例】次に、本発明を実施例に基づいてさらに詳細
に説明するが、本発明はこれによって制限されるもので
はない。 【００１０】実施例１ クラウンガラスの一つであるＢＫ７（屈折率＝１．５
２）からなるガラス基板を２５０℃まで加熱し、真空蒸
着装置により設計波長λ0 ＝５５０ｎｍで光学膜厚λ0
／１２のＳｉＯ2 からなる第一層、光学膜厚λ0 ／１２
のＨｆＯ2 からなる第二層、光学膜厚λ0 ／１２のＳｉ
Ｏ2 からなる第三層、光学膜厚λ0 ／４のＨｆＯ2 から
なる第四層、光学膜厚λ0 ／４のＳｉＯ2 からなる第五
層を順次形成し、反射防止膜を作成した。この反射防止
膜の反射率特性は、図２に示したように波長４７０〜６
２０ｎｍの範囲で反射率０．５％以下と優れた反射防止
特性を示している。 【００１１】比較例１ ＢＫ７ガラス基板を２５０℃まで加熱し、真空蒸着装置
により設計波長λ0 ＝５５０ｎｍで光学膜厚λ0 ／１６
のＭｇＦ2 からなる第一層、光学膜厚λ0 ／８のＺｒＯ
2 からなる第二層、光学膜厚λ0 ／１６のＭｇＦ2 から
なる第三層、光学膜厚λ0 ／４のＺｒＯ2 からなる第四
層、さらに光学膜厚λ0 ／４のＭｇＦ2からなる第五層
を順次形成し、反射防止膜を作成した。この反射防止膜
の反射率特性は、図４に示したように波長４７０〜６２
０ｎｍの範囲で反射率０．５％以下と優れた反射防止特
性を示している。 【００１２】耐湿テスト 上記実施例及び比較例でそれぞれ作成した反射防止膜上
に純水からなる水滴を載せた後、温度６５℃、相対湿度
９５％の雰囲気下に１４時間放置し、水滴の蒸発した跡
を観察したところ、実施例１で作成した反射防止膜では
小さなフローマークが残ったが、その部分をアルコール
で拭いたところ、フローマークは消失した。他方、比較
例１で作成した反射防止膜では、水滴の蒸発した跡に大
きなフローマークが残り、その部分をアルコールで拭い
てもフローマークは消えずに残った。したがって、本発
明の反射防止膜は、反射特性については従来のものに匹
敵し、耐湿性については著しく向上していることが判
る。 【００１３】 【発明の効果】本発明の反射防止膜は、波長４７０〜６
２０ｎｍで反射率０．５％以下の反射防止効果を示し、
しかも優れた耐湿効果を有している。したがって、本発
明の反射防止膜は、高湿度雰囲気で用いられる光学部品
への反射防止膜として最適である。
ンズ、プリズム等の光学部品、特に高湿度雰囲気で用い
られる光学部品の反射防止膜に関する。 【０００２】 【従来技術及びその問題点】従来、光学機器を構成する
レンズ、プリズム等の光学部品に用いられる反射防止膜
には、例えば、低屈折率材料としてＭｇＦ2 、高屈折率
材料としてＺｒＯ2が用いられている。さらに具体的に
は、図３に示したように屈折率１．５２の光学ガラス基
板（ＢＫ７）４上に、設計波長λ0 ＝５５０ｎｍで、光
学膜厚λ0 ／１６のＭｇＦ2 からなる第一層３ａ、光学
膜厚λ0 ／８のＺｒＯ2 からなる第二層３ｂ、光学膜厚
λ0 ／１６のＭｇＦ2 からなる第三層３ｃ、光学膜厚λ
0 ／４のＺｒＯ2 からなる第四層３ｄ、さらに光学膜厚
λ0 ／４のＭｇＦ2 からなる第五層３ｅからなる反射防
止膜３が形成される。 【０００３】しかしながら、このような反射防止膜で
は、その膜表面に水滴が生じるような高湿度雰囲気で
は、長期間かけて水滴が蒸発した場合に、水滴が生じて
いた部分に白い曇り状フローマークが残る。このフロー
マークは、アルコール等の溶剤で拭いても簡単には落ち
ないという問題点があった。 【０００４】 【発明の目的】本発明は、上記従来技術の問題点を解消
し、高湿度雰囲気に曝されて反射防止膜表面に水滴が生
じた後に蒸発して残ったフローマークを簡単に拭き取る
ことができる耐湿性の高い反射防止膜を提供することを
目的とする。 【０００５】 【発明の概要】本発明者らは、鋭意研究の結果、高屈折
率材料としてＨｆＯ2 を、低屈折率材料としてＳｉＯ2
を用いることにより上記目的を達成しうるとの知見を得
た。本発明はこのような知見に基づいて完成したもので
ある。すなわち、本発明による耐湿反射防止膜は、高屈
折率材料としてＨｆＯ2 を使用した層と、低屈折率材料
としてＳｉＯ2 を使用した層を有することを特徴とす
る。 【０００６】本発明による耐湿反射防止膜は、上記のよ
うに、高屈折率材料としてＨｆＯ2を使用した層と、低
屈折率材料としてＳｉＯ2 を使用した層とを組み合わせ
て形成したものであり、所望の反射特性に応じて適切な
光学膜厚で組み合わせて形成することにより作製され
る。膜の形成方法としては、特に制限はなく、真空蒸着
法、スパッタリング法などが挙げられる。 【０００７】本発明の反射防止膜の構成の一例を図１に
示す。図１において、反射防止膜１は、５層からなり、
光学ガラス基板２上に設計波長λ0 で光学膜厚λ0 ／１
２のＳｉＯ2 からなる第一層１ａ、光学膜厚λ0 ／１２
のＨｆＯ2 からなる第二層１ｂ、光学膜厚λ0 ／１２の
ＳｉＯ2 からなる第三層１ｃ、光学膜厚λ0 ／４のＨｆ
Ｏ2 からなる第四層１ｄ、光学膜厚λ0 ／４のＳｉＯ2
からなる第五層１ｅを順次形成したものである。 【０００８】 【作用】ＨｆＯ2 及びＳｉＯ2 は、耐湿性に優れてお
り、これらを用いて適切な膜構成を形成することにより
所望の反射防止特性と耐湿性を得ることができる。 【０００９】 【実施例】次に、本発明を実施例に基づいてさらに詳細
に説明するが、本発明はこれによって制限されるもので
はない。 【００１０】実施例１ クラウンガラスの一つであるＢＫ７（屈折率＝１．５
２）からなるガラス基板を２５０℃まで加熱し、真空蒸
着装置により設計波長λ0 ＝５５０ｎｍで光学膜厚λ0
／１２のＳｉＯ2 からなる第一層、光学膜厚λ0 ／１２
のＨｆＯ2 からなる第二層、光学膜厚λ0 ／１２のＳｉ
Ｏ2 からなる第三層、光学膜厚λ0 ／４のＨｆＯ2 から
なる第四層、光学膜厚λ0 ／４のＳｉＯ2 からなる第五
層を順次形成し、反射防止膜を作成した。この反射防止
膜の反射率特性は、図２に示したように波長４７０〜６
２０ｎｍの範囲で反射率０．５％以下と優れた反射防止
特性を示している。 【００１１】比較例１ ＢＫ７ガラス基板を２５０℃まで加熱し、真空蒸着装置
により設計波長λ0 ＝５５０ｎｍで光学膜厚λ0 ／１６
のＭｇＦ2 からなる第一層、光学膜厚λ0 ／８のＺｒＯ
2 からなる第二層、光学膜厚λ0 ／１６のＭｇＦ2 から
なる第三層、光学膜厚λ0 ／４のＺｒＯ2 からなる第四
層、さらに光学膜厚λ0 ／４のＭｇＦ2からなる第五層
を順次形成し、反射防止膜を作成した。この反射防止膜
の反射率特性は、図４に示したように波長４７０〜６２
０ｎｍの範囲で反射率０．５％以下と優れた反射防止特
性を示している。 【００１２】耐湿テスト 上記実施例及び比較例でそれぞれ作成した反射防止膜上
に純水からなる水滴を載せた後、温度６５℃、相対湿度
９５％の雰囲気下に１４時間放置し、水滴の蒸発した跡
を観察したところ、実施例１で作成した反射防止膜では
小さなフローマークが残ったが、その部分をアルコール
で拭いたところ、フローマークは消失した。他方、比較
例１で作成した反射防止膜では、水滴の蒸発した跡に大
きなフローマークが残り、その部分をアルコールで拭い
てもフローマークは消えずに残った。したがって、本発
明の反射防止膜は、反射特性については従来のものに匹
敵し、耐湿性については著しく向上していることが判
る。 【００１３】 【発明の効果】本発明の反射防止膜は、波長４７０〜６
２０ｎｍで反射率０．５％以下の反射防止効果を示し、
しかも優れた耐湿効果を有している。したがって、本発
明の反射防止膜は、高湿度雰囲気で用いられる光学部品
への反射防止膜として最適である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例を示す反射防止膜の構成を示
す説明図である。 【図２】本発明の実施例１で作成した反射防止膜の反射
率特性を示すグラフを表す図である。 【図３】従来の反射防止膜の構成を示す説明図である。 【図４】比較例１で作成した反射防止膜の反射率特性を
示すグラフを表す図である。 【符号の説明】 １ 反射防止膜 １ａ 第一層 １ｂ 第二層 １ｃ 第三層 １ｄ 第四層 １ｅ 第五層 ２ ガラス基板 ３ 反射防止膜 ４ ガラス基板
す説明図である。 【図２】本発明の実施例１で作成した反射防止膜の反射
率特性を示すグラフを表す図である。 【図３】従来の反射防止膜の構成を示す説明図である。 【図４】比較例１で作成した反射防止膜の反射率特性を
示すグラフを表す図である。 【符号の説明】 １ 反射防止膜 １ａ 第一層 １ｂ 第二層 １ｃ 第三層 １ｄ 第四層 １ｅ 第五層 ２ ガラス基板 ３ 反射防止膜 ４ ガラス基板
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(56)参考文献 特開 平１−128829（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−246502（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−42201（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−173216（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−159602（ＪＰ，Ａ)
特開 昭58−35501（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−81404（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 1/11
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 光学ガラス基板上に形成する反射防止膜
において、設計波長をλ0 としたとき光学ガラス基板側
から第一層が光学膜厚λ0 ／１２のＳｉＯ2層、第二層
が光学膜厚λ0 ／１２のＨｆＯ2 層、第三層が光学膜厚
λ0 ／１２のＳｉＯ2 層、第四層が光学膜厚λ0 ／４の
ＨｆＯ2 層、第五層が光学膜厚λ0 ／４のＳｉＯ2 層で
ある５層から構成されていることを特徴とする耐湿反射
防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18378593A JP3426286B2 (ja) | 1993-07-26 | 1993-07-26 | 耐湿反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18378593A JP3426286B2 (ja) | 1993-07-26 | 1993-07-26 | 耐湿反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0735901A JPH0735901A (ja) | 1995-02-07 |
| JP3426286B2 true JP3426286B2 (ja) | 2003-07-14 |
Family
ID=16141897
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18378593A Expired - Fee Related JP3426286B2 (ja) | 1993-07-26 | 1993-07-26 | 耐湿反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3426286B2 (ja) |
-
1993
- 1993-07-26 JP JP18378593A patent/JP3426286B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0735901A (ja) | 1995-02-07 |
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Legal Events
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