JPH0692032A - 光学記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 レ−ザ−光線により高感度で記録、再生でき
る良好な記録特性を有し、物理的、化学的に安定で、さ
らに極めて高い光安定性を有する光学記録媒体を提供す
ること。 【構成】 透明基板および記録層を有し、透明基板を通
してレ−ザ−光を照射することにより記録、再生を行う
光学記録媒体において、その記録層が一般式［１］から
選ばれる少なくとも１種以上のフタロシアニン化合物を
含有し、さらに記録層より光入射側に光吸収層を有し、
該光吸収層が記録、再生に用いるレ−ザ−波長領域以外
に吸収極大を有する少なくとも１種以上の顔料の分散体
薄膜からなることを特徴とする光学記録媒体。一般式
［１］

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レ−ザ−光線によっ
て、情報を書き込んだり、読み取ったりすることが可能
な光学記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、レ−ザ−光線を用いて情報を記録
する媒体には種々のものがあるが、その一つにレ−ザ−
光線を基板上の記録層に照射することによって、照射部
分を局部的に加熱し、融解、蒸発または分解等の物理的
あるいは化学的変化を起こさせ情報を記録するものがあ
る。これまで基板上の記録層として、Ａｓ、Ｔｅ、Ｓ
ｅ、Ｔｉ等の金属やこれらを主成分とする合金の薄膜が
使用されてきた。このような記録層を有する記録媒体
は、一般に比較的書き込み感度が高く、また記録再生の
光学系が小型にできる半導体レ−ザ−にも適用すること
ができるが、熱伝導率が大きい等の理由で記録時にレ−
ザ−光線のエネルギ−を効率よく利用できない。またこ
れらの記録層は化学的に不安定であり、空気中で劣化さ
れることが問題であった。

【０００３】このため、特開昭５７−８２０９３号公
報、特開昭５８−５６８２９号公報、特開昭６０−８９
８４２号公報、特開昭６０−１５０２４３号公報や米国
特許４４９２７５０等により、記録層として有機薄膜層
を用い、比較的長波長の、例えば７８０ｎｍ以上のレ−
ザ−光線により情報の書き込みや読み取りを行なう光学
記録媒体が提案された。このような光学記録媒体では、
記録再生系の小型化が可能な半導体レ−ザ−による融
解、蒸発、分解などによって、有機薄膜層に容易に微小
な凹部（ピット）を形成させることができる。

【０００４】しかしながら、現在このような光学記録媒
体において、一般に有機薄膜層に用いられている化合物
の多くは光安定性が悪いため、特にコンパクトディスク
（ＣＤ）対応またはコンパクトディスク−ＲＯＭ（ＣＤ
−ＲＯＭ）対応の追記型光ディスクや光カ−ドのような
単板構成で直接太陽光にさらされるような使用条件下で
は、記録の信頼性に問題が生じる可能性がある。またレ
−ザ−ディスク（ＬＤ）対応の追記型光ディスクやフォ
トＣＤ対応の追記型光ディスク等、極めて高い信頼性が
要求される次世代の光学記録媒体に応用するのは困難で
ある可能性がある。

【０００５】このため、特開平４−１６２２２５号公報
等により、基板の光入射側に、放射線硬化型の化合物に
光吸収化合物を相溶させ、塗布、硬化させたハ−ドコ−
ト層を設けることにより光学記録媒体の光安定性を向上
させる方法が提案されている。

【０００６】しかしながら、このようなハ−ドコ−ト層
は、放射線硬化型化合物と光吸収化合物を相溶させた系
であることから、ハ−ドコ−ト層自身の光安定性が悪い
ことが多く、ハ−ドコ−ト層の劣化に伴って、記録の信
頼性に問題が生じる可能性がある。またハ−ドコ−ト層
を均一に良好な成膜状態で塗布することも難しいため、
このようにして作製した光学記録媒体は、ハ−ドコ−ト
層を有さない光学記録媒体と比較して、記録特性が低下
する可能性がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明はレ−ザ−光線
により高感度で記録、再生できる良好な記録特性を有
し、物理的、化学的に安定で、さらに極めて高い光安定
性を有する光学記録媒体を提供するものである。

【０００８】

【課題を解決する手段】本発明者らは、鋭意検討を行な
った結果、良好な記録特性と極めて高い光安定性を有す
る光学記録媒体を開発し、本発明を完成するに至った。
第一の発明は、透明基板および記録層を有し、透明基板
を通してレ−ザ−光を照射することにより記録、再生を
行う光学記録媒体において、その記録層が一般式［１］
から選ばれる少なくとも１種以上のフタロシアニン化合
物を含有し、さらに記録層より光入射側に光吸収層を有
し、その光吸収層が記録、再生に用いるレ−ザ−波長領
域以外に吸収極大を有する少なくとも１種以上の顔料の
分散体薄膜からなることを特徴とする光学記録媒体であ
る。一般式［１］

【化２】 ［式中、置換基Ｘ¹ 〜Ｘ⁴ は、それぞれ独立に置換基を
有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルコ
キシ基を表す。ｋ¹ 〜ｋ⁴ は置換基Ｘ¹ 〜Ｘ⁴ の置換数
で１〜４の整数を表す。置換基Ｙ¹ 〜Ｙ⁴ は、それぞれ
独立にニトロ基、ハロゲン原子を表す。ｍ¹ 〜ｍ⁴ は置
換基Ｙ¹ 〜Ｙ⁴ の置換数で０〜４の整数を表す。中心金
属Ｍは、Ｓｉ、Ａｌを表す。置換基Ｚは、 を表す。ここでＲ¹ 、Ｒ² は置換基を有してもよいアル
キル基、置換基を有してもよいアリ−ル基、置換基を有
してもよいアルコキシ基を表す。ｎは置換基Ｚの置換数
で１〜２の整数を表す。］ 第二の発明は、光吸収層／透明基板／記録膜／反射膜／
保護膜の構成からなり、ＣＤフォ−マット信号の記録を
行うＣＤまたはＣＤ−ＲＯＭ対応の追記型光ディスクで
ある第１の発明の光学記録媒体である。

【０００９】本発明の光学記録媒体の例としては、光吸
収層／透明基板／記録層／反射層／保護層の構成を有す
るＣＤまたはＣＤ−ＲＯＭ対応の追記型光ディスク、光
吸収層／透明基板／記録層を有する２枚の光ディスクを
記録層が内側になるように貼り合わせた構造を有するエ
ア−サンドイッチ型追記型光ディスク、光吸収層／透明
基板／記録層／接着剤層／透明基板の構成を有する光カ
−ド等を挙げることができるが、これらに限定されるも
のではない。

【００１０】本発明の光学記録媒体は、記録層に有機化
合物の中では極めて高い光安定性を有する化合物である
フタロシアニン化合物を用いた。さらに光吸収層を設
け、この光吸収層は多くの有機化合物を劣化、変質させ
る有害な光、特に紫外線を吸収し、記録層に到達するの
を防ぐと共に、そのエネルギ−を主として無害な熱エネ
ルギ−として再輻射し、また光吸収層自身はなんら変質
しないことにより、記録層に用いた化合物の光劣化を防
止し、記録層に極めて高い光安定性をもたらすことがで
きる。特に光吸収層として、顔料の分散体薄膜を用いる
ことにより、光吸収層自身の光安定性が極めて高くなる
ため、直接太陽光にさらされるような使用条件下におい
ても、光吸収層自身の紫外線吸収能が低下することがな
い。本発明では、このように記録層に光安定性の高い化
合物を用い、さらに光吸収層を設けて記録層の光劣化を
防止するという二重の効果により、極めて高い光安定性
を有する光学記録媒体を提供することができる。

【００１１】本発明の光学記録媒体において、記録層に
用いられる一般式［１］で示されるフタロシアニン化合
物に導入される置換基Ｘ¹ 〜Ｘ⁴ の代表例としては、置
換基を有してもよいアルキル基としては、メチル基、エ
チル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ステアリ
ル基、ネオペンチル基、トリクロロメチル基、トリフル
オロメチル基、２−メトキシエチル基、フタルイミドメ
チル基等が、置換基を有してもよいアルコキシ基として
は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒ
ｔ−ブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、２，２，２−
トリクロロエトキシ基、２，２，２−トリフルオロエト
キシ基、２，２，３，３−テトラフルオロプロポキシ
基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロポキシ
基、２−エトキシエトキシ基等がそれぞれ挙げられるが
これらに限定されるものではない。

【００１２】本発明の光学記録媒体において、記録層に
用いられる一般式［１］で示されるフタロシアニン化合
物に導入される置換基Ｙ¹ 〜Ｙ⁴ のハロゲン原子として
は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を挙げることができ
る。

【００１３】本発明の光学記録媒体において、記録層に
用いられる一般式［１］で示されるフタロシアニン化合
物に導入される置換基ＺのＲ¹ 、Ｒ² を構成する原子お
よび基の代表例としては、置換基を有してもよいアルキ
ル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基、ステアリル基、ネオペンチル基、ト
リクロロメチル基、トリフルオロメチル基、２−メトキ
シエチル基等が、置換基を有してもよいアリ−ル基とし
てはフェニル基、ナフチル基、ｐ−ニトロフェニル基、
ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ペンタフルオロフェ
ニル基等があり、置換基を有してもよいアルコキシ基と
しては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、２，２，
２−トリクロロエトキシ基、２，２，２−トリフルオロ
エトキシ基、２，２，３，３−テトラフルオロプロポキ
シ基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロポキシ
基、２−エトキシエトキシ基等がそれぞれ挙げられるが
これらに限定されるものではない。

【００１４】本発明の光学記録媒体において、記録層を
成膜するには、ドライプロセス、例えば、真空蒸着法、
スパッタリング法によっても可能であるが、ウエットプ
ロセス、例えば、スピンコ−ト法、ディップ法、スプレ
−法、ロ−ルコ−ト法あるいはＬＢ（ラングミュア−ブ
ロジェット）法によっても可能である。本発明の光学記
録媒体の記録層に含有される記録材料が、汎用の有機溶
媒、例えば、アルコ−ル系、ケトン系、セロソルブ系、
ハロゲン化炭化水素系、フロン系溶媒等に溶解する場合
は、生産性および記録膜の均一性からスピンコ−ト法に
より成膜する方法が好ましい。

【００１５】このように、いわゆる塗布法で成膜する場
合には、必要に応じて高分子バインダ−を加えてもよ
い。高分子バインダ−としてはアクリル樹脂、ポリカ−
ボネ−ト樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩
化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ニトロセルロ−
ス、フェノ−ル樹脂などが挙げられるが、これらに限定
されるものではない。高分子バインダ−の混合比として
は特に制限はないが、記録材料に対して３０重量％以下
が好ましい。

【００１６】本発明の光学記録媒体において、記録層に
は、記録層の光安定性、耐環境性、繰り返し再生の安定
性をさらに向上させる目的で、紫外線吸収剤、紫外線安
定剤、酸素クエンチャ−等の添加剤を加えてもよい。

【００１７】記録層の最適膜厚は、記録材料の種類およ
び組合せにより異なるため特に制限はなく、５００〜３
０００オングストロ−ムが好ましく、さらに１０００〜
２５００オングストロ−ムが最適膜厚範囲である。

【００１８】本発明の光学記録媒体において、光吸収層
に用いられる顔料の例としては、無機顔料としては、酸
化クロム、コバルトブル−、酸化鉄、二酸化チタン等の
酸化物系顔料、酸化鉄黄、ビリジアン、アルミナ白等の
水酸化物系顔料、カドミウムレッド、カドミウムエロ
−、リトポン、硫化亜鉛等の硫化物系顔料、黄鉛、モリ
ブデ−トオレンジ、ジンククロメ−ト、ストロンチウム
クロメ−ト等のクロム酸塩系顔料、クレ−、タルク、ホ
ワイトカ−ボン、群青等の珪酸塩系顔料、硫酸バリウ
ム、バライト粉等の硫酸塩系顔料、炭酸カルシウム、鉛
白等の炭酸鉛系顔料、紺青、燐酸塩系顔料およびカ−ボ
ンブラック等を挙げることができるが、これらに限定さ
れるものではない。有機顔料としては、溶性アゾ顔料、
不溶性アゾ顔料、縮合アゾ顔料、アゾ錯塩、ベンズイミ
ダゾロンアゾ等のアゾ顔料、フタロシアニン顔料、ナフ
タロシアニン顔料等のフタロシアニン系顔料、スレン系
顔料、インジゴ系顔料、ペリノン系顔料、ペリレン系、
フタロン系顔料、ジオキサジン系顔料、キナクリドン系
顔料、イソインドリノン系顔料、金属錯体顔料、メチ
ン、アゾメチン系顔料等の縮合多環系顔料、ニトロ系顔
料およびニトロソ系顔料等を挙げることができるが、こ
れらに限定されるものではない。

【００１９】本発明の光学記録媒体においては、光吸収
層が顔料の分散体薄膜であるため、光吸収層が記録、再
生に必要なレ−ザ−波長領域の光まで吸収、散乱するこ
とのないように、十分な透明性を有している必要があ
る。このため顔料粒子はできるだけ微細、均一かつ安定
な状態で分散媒体（樹脂・溶剤・添加剤）中に分散させ
ることが要求され、顔料粒子と分散媒体が十分な親和性
を有するような組み合わせを選択すること、最適な分散
機器を選ぶこと、必要ならば顔料粒子の表面処理等を行
うことなどが必要となってくる。

【００２０】本発明の光学記録媒体において、顔料粒子
の分散媒体に用いられる樹脂、溶剤、添加剤の例として
は、樹脂としては、アクリル樹脂、アルキド樹脂、石油
樹脂、ポリカ−ボネ−ト樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
アミド樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル樹脂、ニト
ロセルロ−ス、フェノ−ル樹脂等が挙げられるが、これ
らに限定されるものではない。溶剤の例としては、脂肪
族炭化水素系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、ハロゲン化
炭化水素系溶剤、フロン系溶剤、アルコ−ル系溶剤、フ
ェノ−ル系溶剤、セロソルブ系溶剤、エ−テル、アセタ
−ル系溶剤、ケトン系溶剤、脂肪酸、酸無水物系溶剤、
エステル系溶剤、窒素化合物系溶剤、硫黄化合物系溶
剤、水等が挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。添加剤の例としては、分散安定化剤、光重合開始
剤等が挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。

【００２１】顔料粒子の表面処理の方法としては、界面
活性剤、高分子、無機物質、顔料誘導体等を添加し、吸
着あるいは被覆させる方法、顔料粒子表面の官能基を化
学的に反応させる方法、分散前の顔料粒子をあらかじめ
機械的に粉砕しておき表面を活性化させておく方法等が
挙げられるがこれらに限定されるものではない。

【００２２】本発明の光学記録媒体において、顔料粒子
を分散媒体中に分散させる方法としては、分散媒体が高
粘度の場合は、２本ロ−ルミル、バンバリ−、３本ロ−
ルミル等を、中程度の粘度の場合は、ハイスピ−ドスト
−ンミル、ハイスピ−ドディスクインペラ−等を、低粘
度の場合は、サンドミル、アトライタ、バイブレ−タ−
ミル、カイネティックディスパ−ジョンミル、ジェット
ミル等をそれぞれ挙げることができるが、これらに限定
されるものではない。

【００２３】本発明の光学記録媒体において、光吸収層
を成膜する方法としては、スピンコ−ト法、ディップ
法、スプレ−法あるいはロ−ルコ−ト法等によって可能
であるが、生産性および光吸収層の均一性からスピンコ
−ト法により成膜する方法が好ましい。

【００２４】成膜した光吸収層は常温での蒸発による乾
燥、加熱蒸発による乾燥、酸化重合、熱重合、紫外線、
電子線等による光重合等により、化学的、物理的に安定
な、堅牢な薄膜にすることができる。

【００２５】光吸収層の最適膜厚は、顔料および分散媒
体の種類および組合わせにより異なるため特に制限はな
いが、０．５〜５０ミクロンの範囲が好ましい。

【００２６】本発明において用いられる透明基板として
は、信号の書き込みや読み出しを行なうために光の透過
率が好ましくは８５％以上であり、かつ光学異方性の小
さいものが望ましい。例えば、ガラスまたはアクリル樹
脂、ポリカ−ボネ−ト樹脂、ポリエステル樹脂、ポリア
ミド樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリビニルエステル系樹
脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂（例え
ばポリ−４−メチルペンテン等）、ポリエ−テルスルホ
ン樹脂等の熱可塑性樹脂やエポキシ樹脂、アリル樹脂等
の熱硬化性樹脂を用いた基板が挙げられる。これらの中
で、成型のしやすさ、案内溝やアドレス信号等の付与の
しやすさなどから前記した熱可塑性樹脂が好ましい。

【００２７】本発明においては、これらの透明基板の厚
さは特に制限がなく、板状でもフィルム状でもよい。ま
たその形状は円形やカ−ド状でもよく、その大きさには
特に制限はない。つまり一般の光ディスクという円盤状
のものに限定されるものではなく、光カ−ドやテ−プ状
あるいはシ−ト状の記録媒体でもよい。また本発明の透
明基板には、記録および読み出しの際の位置制御のため
の案内溝やアドレス信号や各種マ−ク等のプレフォ−マ
ット用の凹凸を通常有しているが、これらの凹凸は前記
したような熱可塑性樹脂を成形（射出成形、圧縮成形）
する際にスタンパ−などを用いて付与する方法が好まし
いが、フォトポリマ−樹脂を用いるいわゆる２Ｐ法によ
っても行なうことができる。

【００２８】本発明の案内溝の形状については特に制限
はなく、短形、台形、Ｕ字形であってもよい。また案内
溝の寸法については、記録層に用いられる材料の種類お
よび組合せ等により最適値はそれぞれ異なるが、平均溝
幅（溝深さの１／２の位置の幅）が０．３〜０．６ミク
ロン、また溝深さが５００〜２０００オングストロ−ム
の範囲が好ましい。

【００２９】本発明の光学記録媒体が反射層を有する場
合には、反射層の材料としては、金、銀、銅、白金、ア
ルミニウム、コバルト、スズ等の金属およびこれらを主
成分とした合金、ＭｇＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ等の金属酸化
物、ＳｉＮ₄ 、ＡｌＮ、ＴｉＮ等の窒化物等が挙げられ
るが、絶対反射率が高く安定性に優れている点から金が
最適である。このように、反射層の材料としては金が最
適であるが、金は高価であるため、安価な光学記録媒体
を得ることが困難となる問題点がある。この問題点を解
決する目的で、金の膜厚を最小限に小さくし、膜厚不足
分を他の金属、金属酸化物（例えば、アルミニウム、
銀、ＺｎＯ等）で補うような積層膜を反射層に用いるこ
とも可能である。なお、この場合、絶対反射率を金単独
膜とほぼ同等にするためには、積層する下層の金膜厚は
最低２００オングストロ−ム以上必要であり、反射層の
厚みは５００〜２５００オングストロ−ムが最適であ
る。また場合によっては有機系の高反射膜を使用するこ
ともできる。このような反射層の成膜方法としては、ド
ライプロセス例えば真空蒸着法、スパッタリング法が最
も好ましいが、これに限定されるものではない。反射層
の最適膜厚については、特に制限はないが４００〜１３
００オングストロ−ムの範囲が好ましい。

【００３０】本発明の光学記録媒体は、媒体の化学的劣
化（例えば酸化、吸水等）および物理的劣化（傷、けず
れ等）を防ぐ目的で媒体を保護するための保護層を設け
てもよい。保護層用の材料としては、紫外線硬化型樹脂
を用いて、スピンコ−トにより塗布し、紫外線照射によ
り硬化させる方法が好ましいがこれに限定されるもので
はない。保護層の最適膜厚については、薄い場合には、
保護の効果が低下し、厚い場合には樹脂の硬化時の収縮
により媒体のそり等の機械特性の悪化の原因になるた
め、２〜２０ミクロンの範囲で成膜することが好まし
い。

【００３１】

【実施例】以下の実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。なお例中、部とは重量部を表わす。

【００３２】実施例１ 顔料（ａ）７０部、アクリル樹脂３０部を混合し、２本
ロ−ルに２回通して分散した。得られた顔料樹脂分散体
５７部、顔料（ｂ）３部、アクリル樹脂４０部、エチル
セロソルブ２４０部、ジアセトンアルコ−ル６０部を混
合し、サンドミルを通して分散、５ミクロンフィルタ−
でろ過して塗液を調整した得られた塗液用いて、深さ１
０００オングストロ−ム、幅０．４０ミクロン、ピッチ
１．６ミクロンの案内溝を有する厚さ１．２０ｍｍ、外
径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍのポリカ−ボネ−トディス
ク基板の裏面（案内溝が形成されていない側）に、スピ
ンコ−タ−により膜厚１０ミクロンに成膜し、紫外線照
射して硬化させ、光吸収層を形成させた。次に、フタロ
シアニン化合物（ａ）６０ｍｇに対してジアセトンアル
コ−ル１ｍｌの濃度で溶解し、０．２ミクロンのフィル
タ−を通して調整した塗液を用いて、ポリカ−ボネ−ト
ディスク基板の表側（案内溝が形成されている側）にス
ピンコ−タ−により膜厚１５００オングストロ−ムに記
録層を成膜した。さらに、このようにして得た記録層の
上にスパッタリングにより金膜を厚さ１０００オングス
トロ−ムに成膜した。さらに、この上に紫外線硬化樹脂
により保護層を５ミクロンの膜厚で設けて、ＣＤ対応の
追記型光ディスクを作成した。同様にして、光吸収層の
み有さず、他は全く同一の構成のＣＤ対応の追記型光デ
ィスクを作成した。このようにして作成した光ディスク
の反射率および波長７８５ｎｍの半導体レ−ザ−を使用
して線速度１．４ｍ／ｓｅｃで、ＥＦＭ−ＣＤフォ−マ
ット信号を記録したときの最適記録レ−ザ−パワ−を表
１に示す。この信号をＣＤプレ−ヤ−によりレ−ザ−パ
ワ−０．５ｍＷで再生を行ったところ、いずれのディス
クについても得られた信号は良好であり、市販のＣＤプ
レ−ヤ−に十分かかるレベルであった。次にこのように
して作成した光ディスクを紫外線照射装置を用い、ディ
スク基板裏面より１００時間紫外線照射した。照射後の
ディスクについてＣＤプレ−ヤ−によりレ−ザ−パワ−
０．５ｍＷで再生を行なったところ、いずれのディスク
についても得られた信号は良好であり、市販のＣＤプレ
−ヤ−に十分かかるレベルであったが、光吸収層を有し
ていないディスクは反射率が若干低下し、またビットエ
ラ−レ−トが若干高くなる傾向が観測された。これに対
して光吸収層を有するディスクは、反射率の低下は観測
されず、ビットエラ−レ−トも変化は見られなかった
（紫外線照射後の反射率も表１に示した）。

【００３３】フタロシアニン化合物（ａ）

【化３】

【００３４】顔料（ａ）

【化４】

【００３５】顔料（ｂ）

【化５】

【００３６】

【表１】

【００３７】実施例２ 顔料（ａ）７０部、アクリル樹脂３０部を混合し、２本
ロ−ルに２回通して分散した。得られた顔料樹脂分散体
５７部、顔料（ｂ）３部、アクリル樹脂４０部、シクロ
ヘキサノン２４０部、エチルセロソルブ６０部を混合
し、サンドミルを通して分散、５ミクロンフィルタ−で
ろ過して塗液を調整した得られた塗液用いて、深さ１０
００オングストロ−ム、幅０．４０ミクロン、ピッチ
１．６ミクロンの案内溝を有する厚さ１．２０ｍｍ、外
径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍのポリオレフィンディスク
基板の裏面（案内溝が形成されていない側）に、スピン
コ−タ−により膜厚１０ミクロンに成膜し、紫外線照射
して硬化させ、光吸収層を形成させた。次に、フタロシ
アニン化合物（ｂ）２０ｍｇに対してエチルセロソルブ
１ｍｌの濃度で溶解し、０．２ミクロンのフィルタ−を
通して調整した塗液を用いて、ポリオレフィン基板の表
側（案内溝が形成されている側）にスピンコ−タ−によ
り膜厚１２００オングストロ−ムに記録層を成膜した。
さらに、このようにして得た記録層の上に真空蒸着によ
り金膜を厚さ８００オングストロ−ムに成膜した。さら
に、この上に紫外線硬化樹脂により保護層を５ミクロン
の膜厚で設けて、ＣＤ対応の追記型光ディスクを作成し
た。同様にして、光吸収層のみ有さず、他は全く同一の
構成のＣＤ対応の追記型光ディスクを作成した。このよ
うにして作成した光ディスクの反射率および波長７８５
ｎｍの半導体レ−ザ−を使用して線速度１．４ｍ／ｓｅ
ｃで、ＥＦＭ−ＣＤフォ−マット信号を記録したときの
最適記録レ−ザ−パワ−を表１に示す。この信号をＣＤ
プレ−ヤ−によりレ−ザ−パワ−０．５ｍＷで再生を行
ったところ、いずれのディスクについても得られた信号
は良好であり、市販のＣＤプレ−ヤ−に十分かかるレベ
ルであった。次にこのようにして作成した光ディスクを
紫外線照射装置を用い、ディスク基板裏面より１００時
間紫外線照射した。照射後のディスクについてＣＤプレ
−ヤ−によりレ−ザ−パワ−０．５ｍＷで再生を行なっ
たところ、いずれのディスクについても得られた信号は
良好であり、市販のＣＤプレ−ヤ−に十分かかるレベル
であったが、光吸収層を有していないディスクは反射率
が若干低下し、またビットエラ−レ−トが若干高くなる
傾向が観測された。これに対して光吸収層を有するディ
スクは、反射率の低下は観測されず、ビットエラ−レ−
トも変化は見られなかった（紫外線照射後の反射率も表
１に示した）。

【００３８】フタロシアニン化合物（ｂ）

【化６】

【００３９】実施例３ 顔料（ｃ）７０部、アクリル樹脂３０部を混合し、２本
ロ−ルに２回通して分散した。得られた顔料樹脂分散体
５７部、顔料（ｄ）３部、アクリル樹脂４０部、エチル
セロソルブ２４０部、ジアセトンアルコ−ル６０部を混
合し、サンドミルを通して分散、５ミクロンフィルタ−
でろ過して塗液を調整した得られた塗液用いて、深さ８
００オングストロ−ム、幅０．４０ミクロン、ピッチ
１．６ミクロンの案内溝を有する厚さ１．２０ｍｍ、外
径１３０ｍｍ、内径１５ｍｍのポリカ−ボネ−トディス
ク基板の裏面（案内溝が形成されていない側）に、スピ
ンコ−タ−により膜厚１０ミクロンに成膜し、紫外線照
射して硬化させ、光吸収層を形成させた。次に、フタロ
シアニン化合物（ｃ）５０ｍｇに対して２，２，３，３
−テトラフルオロプロパノ−ル１ｍｌの濃度で溶解し、
０．２ミクロンのフィルタ−を通して調整した塗液を用
いて、ポリカ−ボネ−トディスク基板の表側（案内溝が
形成されている側）にスピンコ−タ−により膜厚１００
０オングストロ−ムに記録層を成膜し、記録媒体を作成
した。同様にして、光吸収層のみ有さず、他は同じ構成
の記録媒体を作成した。このようにして作成した記録媒
体の最大吸収波長および８３０ｎｍの波長の光に対する
反射率（記録層側からの入射）を表２に示した。得られ
た記録媒体をタ−ンテ−ブルに取り付け、１８００ｒｐ
ｍで回転させながら１．０ミクロンに収束した８３０ｎ
ｍの半導体レ−ザ−光５．０ｍＷ、８ＭＨｚで照射して
記録を行なった。記録を行なった記録媒体表面を走査型
電子顕微鏡で観察したところ、鮮明なピットの形成が認
められた。また、これらの記録媒体に７８０ｎｍ、０．
４ｍＷの半導体レ−ザ−光を照射し、反射光の検出を行
ったときのＣ／Ｎ比を表２に示した。次にこのようにし
て作成した記録媒体を紫外線照射装置を用い、ディスク
基板裏面より１００時間紫外線照射した。照射後の記録
媒体についての８３０ｎｍの波長の光に対する反射率
（記録層側からの入射）および７８０ｎｍ、０．４ｍＷ
の半導体レ−ザ−光を照射し、反射光の検出を行なった
ときのＣ／Ｎ比を表２に示した。光吸収層を有していな
い記録媒体は反射率が若干低下し、またＣ／Ｎ比が若干
低くなる傾向が観測された。これに対して光吸収層を有
する記録媒体は、反射率の低下は観測されず、Ｃ／Ｎ比
も変化は見られなかった。

【００４０】フタロシアニン化合物（ｃ）

【化７】

【００４１】顔料（ｃ）

【化８】

【００４２】顔料（ｄ）

【化９】

【００４３】

【表２】

【００４４】

【発明の効果】本発明の構成により光学記録媒体を作成
することにより、レ−ザ−光線により高感度で記録、再
生できる良好な記録特性を有し、物理的、化学的に安定
で、さらに極めて高い光安定性を有する光学記録媒体を
提供することができる。また極めて高い光安定性を有す
ることにより、ＣＤまたはＣＤ−ＲＯＭ対応の追記型光
ディスク、光カ−ド、ＬＤ対応の追記型光ディスク、フ
ォトＣＤ対応の追記型光ディスク等への応用が可能であ
る。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明基板および記録層を有し、透明基板を
   通してレ−ザ−光を照射することにより記録、再生を行
   う光学記録媒体において、その記録層が一般式［１］か
   ら選ばれる少なくとも１種以上のフタロシアニン化合物
   を含有し、さらに記録層より光入射側に光吸収層を有
   し、該光吸収層が記録、再生に用いるレ−ザ−波長領域
   以外に吸収極大を有する少なくとも１種以上の顔料の分
   散体薄膜からなることを特徴とする光学記録媒体。一般
   式［１］ 【化１】 ［式中、置換基Ｘ¹ 〜Ｘ⁴ は、それぞれ独立に置換基を
   有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルコ
   キシ基を表す。ｋ¹ 〜ｋ⁴ は置換基Ｘ¹ 〜Ｘ⁴ の置換数
   で１〜４の整数を表す。置換基Ｙ¹ 〜Ｙ⁴ は、それぞれ
   独立にニトロ基、ハロゲン原子を表す。ｍ¹ 〜ｍ⁴ は置
   換基Ｙ¹ 〜Ｙ⁴ の置換数で０〜４の整数を表す。中心金
   属Ｍは、Ｓｉ、Ａｌを表す。置換基Ｚは、 を表す。ここでＲ¹ 、Ｒ² は置換基を有してもよいアル
   キル基、置換基を有してもよいアリ−ル基、置換基を有
   してもよいアルコキシ基を表す。ｎは置換基Ｚの置換数
   で１〜２の整数を表す。］
2. 【請求項２】光吸収層／透明基板／記録膜／反射膜／保
   護膜の構成からなり、ＣＤフォ−マット信号の記録を行
   うＣＤまたはＣＤ−ＲＯＭ対応の追記型光ディスクであ
   る請求項１記載の光学記録媒体。