JPH0696471A - 光学記録媒体 - Google Patents
光学記録媒体Info
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- JPH0696471A JPH0696471A JP4269404A JP26940492A JPH0696471A JP H0696471 A JPH0696471 A JP H0696471A JP 4269404 A JP4269404 A JP 4269404A JP 26940492 A JP26940492 A JP 26940492A JP H0696471 A JPH0696471 A JP H0696471A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】レ−ザ−光線により高感度で記録、再生できる
良好な記録特性を有し、物理的、化学的に安定で、さら
に極めて高い光安定性を有する光学記録媒体を提供する
こと。 【構成】透明基板および記録層を有し、透明基板を通し
てレ−ザ−光を照射することにより記録、再生を行う光
学記録媒体において、少なくとも記録層より光入射側に
光吸収層を有し、その光吸収層が記録、再生に用いるレ
−ザ−波長領域以外に吸収極大を有する少なくとも1種
以上の光吸収化合物の薄膜からなることを特徴とする光
学記録媒体。 【効果】本発明の構成により光学記録媒体を作成するこ
とにより、レ−ザ−光線により高感度で記録、再生でき
る良好な記録特性を有し、物理的、化学的に安定で、さ
らに極めて高い光安定性を有する光学記録媒体を提供す
ることができる。
良好な記録特性を有し、物理的、化学的に安定で、さら
に極めて高い光安定性を有する光学記録媒体を提供する
こと。 【構成】透明基板および記録層を有し、透明基板を通し
てレ−ザ−光を照射することにより記録、再生を行う光
学記録媒体において、少なくとも記録層より光入射側に
光吸収層を有し、その光吸収層が記録、再生に用いるレ
−ザ−波長領域以外に吸収極大を有する少なくとも1種
以上の光吸収化合物の薄膜からなることを特徴とする光
学記録媒体。 【効果】本発明の構成により光学記録媒体を作成するこ
とにより、レ−ザ−光線により高感度で記録、再生でき
る良好な記録特性を有し、物理的、化学的に安定で、さ
らに極めて高い光安定性を有する光学記録媒体を提供す
ることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レ−ザ−光線によっ
て、情報を書き込んだり、読み取ったりすることが可能
な光学記録媒体に関する。
て、情報を書き込んだり、読み取ったりすることが可能
な光学記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、レ−ザ−光線を用いて情報を記録
する媒体には種々のものがあるが、その一つにレ−ザ−
光線を基板上の記録層に照射することによって、照射部
分を局部的に加熱し、融解、蒸発または分解等の物理的
あるいは化学的変化を起こさせ情報を記録するものがあ
る。これまで基板上の記録層として、As、Te、S
e、Ti等の金属やこれらを主成分とする合金の薄膜が
使用されてきた。このような記録層を有する記録媒体
は、一般に比較的書き込み感度が高く、また記録再生の
光学系が小型にできる半導体レ−ザ−にも適用すること
ができるが、熱伝導率が大きい等の理由で記録時にレ−
ザ−光線のエネルギ−を効率よく利用できない。またこ
れらの記録層は化学的に不安定であり、空気中で劣化さ
れることが問題であった。
する媒体には種々のものがあるが、その一つにレ−ザ−
光線を基板上の記録層に照射することによって、照射部
分を局部的に加熱し、融解、蒸発または分解等の物理的
あるいは化学的変化を起こさせ情報を記録するものがあ
る。これまで基板上の記録層として、As、Te、S
e、Ti等の金属やこれらを主成分とする合金の薄膜が
使用されてきた。このような記録層を有する記録媒体
は、一般に比較的書き込み感度が高く、また記録再生の
光学系が小型にできる半導体レ−ザ−にも適用すること
ができるが、熱伝導率が大きい等の理由で記録時にレ−
ザ−光線のエネルギ−を効率よく利用できない。またこ
れらの記録層は化学的に不安定であり、空気中で劣化さ
れることが問題であった。
【0003】このため、特開昭57−82093号公
報、特開昭58−56829号公報、特開昭60−89
842号公報、特開昭60−150243号公報や米国
特許4492750等により、記録層として有機薄膜層
を用い、比較的長波長の、例えば780nm以上のレ−
ザ−光線により情報の書き込みや読み取りを行なう光学
記録媒体が提案された。このような光学記録媒体では、
記録再生系の小型化が可能な半導体レ−ザ−による融
解、蒸発、分解などによって、有機薄膜層に容易に微小
な凹部(ピット)を形成させることができる。
報、特開昭58−56829号公報、特開昭60−89
842号公報、特開昭60−150243号公報や米国
特許4492750等により、記録層として有機薄膜層
を用い、比較的長波長の、例えば780nm以上のレ−
ザ−光線により情報の書き込みや読み取りを行なう光学
記録媒体が提案された。このような光学記録媒体では、
記録再生系の小型化が可能な半導体レ−ザ−による融
解、蒸発、分解などによって、有機薄膜層に容易に微小
な凹部(ピット)を形成させることができる。
【0004】しかしながら、現在このような光学記録媒
体において、一般に有機薄膜層に用いられている化合物
の多くは光安定性が悪いため、特にコンパクトディスク
(CD)対応またはコンパクトディスク−ROM(CD
−ROM)対応の追記型光ディスクや光カ−ドのような
単板構成で直接太陽光にさらされるような使用条件下で
は、記録の信頼性に問題が生じる可能性がある。またレ
−ザ−ディスク(LD)対応の追記型光ディスクやフォ
トCD対応の追記型光ディスク等、極めて高い信頼性が
要求される次世代の光学記録媒体に応用するのは困難で
ある可能性がある。
体において、一般に有機薄膜層に用いられている化合物
の多くは光安定性が悪いため、特にコンパクトディスク
(CD)対応またはコンパクトディスク−ROM(CD
−ROM)対応の追記型光ディスクや光カ−ドのような
単板構成で直接太陽光にさらされるような使用条件下で
は、記録の信頼性に問題が生じる可能性がある。またレ
−ザ−ディスク(LD)対応の追記型光ディスクやフォ
トCD対応の追記型光ディスク等、極めて高い信頼性が
要求される次世代の光学記録媒体に応用するのは困難で
ある可能性がある。
【0005】このため、特開平4−162225号公報
等により、基板の光入射側に、放射線硬化型の化合物に
光吸収化合物を相溶させ、塗布、硬化させたハ−ドコ−
ト層を設けることにより光学記録媒体の光安定性を向上
させる方法が提案されている。
等により、基板の光入射側に、放射線硬化型の化合物に
光吸収化合物を相溶させ、塗布、硬化させたハ−ドコ−
ト層を設けることにより光学記録媒体の光安定性を向上
させる方法が提案されている。
【0006】しかしながら、このようなハ−ドコ−ト層
においては、放射線硬化型化合物と光吸収化合物を均一
に相溶させることが難しく、またハ−ドコ−ト層を均一
に良好な成膜状態で塗布することも難しくなるため、こ
のようにして作製した光学記録媒体は、ハ−ドコ−ト層
を有さない光学記録媒体と比較して、記録特性が低下す
る可能性がある。
においては、放射線硬化型化合物と光吸収化合物を均一
に相溶させることが難しく、またハ−ドコ−ト層を均一
に良好な成膜状態で塗布することも難しくなるため、こ
のようにして作製した光学記録媒体は、ハ−ドコ−ト層
を有さない光学記録媒体と比較して、記録特性が低下す
る可能性がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明はレ−ザ−光線
により高感度で記録、再生できる良好な記録特性を有
し、物理的、化学的に安定で、さらに極めて高い光安定
性を有する光学記録媒体を提供するものである。
により高感度で記録、再生できる良好な記録特性を有
し、物理的、化学的に安定で、さらに極めて高い光安定
性を有する光学記録媒体を提供するものである。
【0008】
【課題を解決する手段】本発明者らは、鋭意検討を行な
った結果、良好な記録特性と極めて高い光安定性を有す
る光学記録媒体を開発し、本発明を完成するに至った。
第一の発明は、透明基板および記録層を有し、透明基板
を通してレ−ザ−光を照射することにより記録、再生を
行う光学記録媒体において、少なくとも記録層より光入
射側に光吸収層を有し、その光吸収層が記録、再生に用
いるレ−ザ−波長領域以外に吸収極大を有する少なくと
も1種以上の光吸収化合物の薄膜からなることを特徴と
する光学記録媒体である。第二の発明は、透明基板を有
し、その光入射側表面に光吸収層を有し、さらにその上
に保護層を有することを特徴とする第一の発明に記載の
光学記録媒体である。
った結果、良好な記録特性と極めて高い光安定性を有す
る光学記録媒体を開発し、本発明を完成するに至った。
第一の発明は、透明基板および記録層を有し、透明基板
を通してレ−ザ−光を照射することにより記録、再生を
行う光学記録媒体において、少なくとも記録層より光入
射側に光吸収層を有し、その光吸収層が記録、再生に用
いるレ−ザ−波長領域以外に吸収極大を有する少なくと
も1種以上の光吸収化合物の薄膜からなることを特徴と
する光学記録媒体である。第二の発明は、透明基板を有
し、その光入射側表面に光吸収層を有し、さらにその上
に保護層を有することを特徴とする第一の発明に記載の
光学記録媒体である。
【0009】本発明の光学記録媒体の例としては、光吸
収層/透明基板/記録層/反射層/保護層の構成を有す
るCDまたはCD−ROM対応の追記型光ディスク、光
吸収層/透明基板/記録層を有する2枚の光ディスクを
記録層が内側になるように貼り合わせた構造を有するエ
ア−サンドイッチ型追記型光ディスク、光吸収層/透明
基板/記録層/接着剤層/透明基板の構成を有する光カ
−ド等を挙げることができるが、これらに限定されるも
のではない。
収層/透明基板/記録層/反射層/保護層の構成を有す
るCDまたはCD−ROM対応の追記型光ディスク、光
吸収層/透明基板/記録層を有する2枚の光ディスクを
記録層が内側になるように貼り合わせた構造を有するエ
ア−サンドイッチ型追記型光ディスク、光吸収層/透明
基板/記録層/接着剤層/透明基板の構成を有する光カ
−ド等を挙げることができるが、これらに限定されるも
のではない。
【0010】本発明の光吸収層は多くの有機化合物を劣
化、変質させる有害な光、特に紫外線を吸収し、記録層
に到達するのを防ぐと共に、そのエネルギ−を主として
無害な熱エネルギ−として再輻射し、また光吸収層自身
はなんら変質しないことにより、記録層に用いた化合物
の光劣化を防止し、記録層に極めて高い光安定性をもた
らす。また、光吸収層として、ポリマ−等のバインダ−
を含有しない光吸収化合物のみからなる薄膜を有するこ
とにより、光吸収層を設けることによる記録特性の低下
を防ぐことができる。
化、変質させる有害な光、特に紫外線を吸収し、記録層
に到達するのを防ぐと共に、そのエネルギ−を主として
無害な熱エネルギ−として再輻射し、また光吸収層自身
はなんら変質しないことにより、記録層に用いた化合物
の光劣化を防止し、記録層に極めて高い光安定性をもた
らす。また、光吸収層として、ポリマ−等のバインダ−
を含有しない光吸収化合物のみからなる薄膜を有するこ
とにより、光吸収層を設けることによる記録特性の低下
を防ぐことができる。
【0011】本発明の光吸収層に用いられる化合物の例
としては、芳香族または不飽和脂肪族ジアミン系金属錯
体、芳香族または不飽和脂肪族ジチオ−ル系金属錯体、
チオカテコ−ル系金属錯体、サリシルアルデヒドオキシ
ム系金属錯体、チオビスフェノレ−ト系金属錯体、フタ
ロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、スクアリ
ウム化合物、アゾ化合物、シアニン化合物、ナフトキノ
ン化合物、アントラキノン化合物、トリフェニルメタン
化合物、ピリリウムないしチアピリリウム塩化合物等の
光吸収色素、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾ
トリアゾ−ル系、シアノアクリレ−ト系等の紫外線吸収
剤、ヒンダ−ドアミン系等の紫外線安定剤等を挙げるこ
とができるが、これらに限定されるものではない。
としては、芳香族または不飽和脂肪族ジアミン系金属錯
体、芳香族または不飽和脂肪族ジチオ−ル系金属錯体、
チオカテコ−ル系金属錯体、サリシルアルデヒドオキシ
ム系金属錯体、チオビスフェノレ−ト系金属錯体、フタ
ロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、スクアリ
ウム化合物、アゾ化合物、シアニン化合物、ナフトキノ
ン化合物、アントラキノン化合物、トリフェニルメタン
化合物、ピリリウムないしチアピリリウム塩化合物等の
光吸収色素、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾ
トリアゾ−ル系、シアノアクリレ−ト系等の紫外線吸収
剤、ヒンダ−ドアミン系等の紫外線安定剤等を挙げるこ
とができるが、これらに限定されるものではない。
【0012】本発明の光学記録媒体において、光吸収層
を成膜する方法としては、ドライプロセス、例えば、真
空蒸着法、スパッタリング法によっても可能であるが、
ウエットプロセス、例えば、スピンコ−ト法、ディップ
法、スプレ−法、ロ−ルコ−ト法あるいはLB(ラング
ミュア−ブロジェット)法によっても可能である。光吸
収層に含有される光吸収化合物が、汎用の有機溶媒、例
えば、アルコ−ル系、ケトン系、セロソルブ系、ハロゲ
ン化炭化水素系、フロン系溶媒等に溶解する場合には、
生産性および光吸収層の均一性からスピンコ−ト法によ
り成膜する方法が好ましい。
を成膜する方法としては、ドライプロセス、例えば、真
空蒸着法、スパッタリング法によっても可能であるが、
ウエットプロセス、例えば、スピンコ−ト法、ディップ
法、スプレ−法、ロ−ルコ−ト法あるいはLB(ラング
ミュア−ブロジェット)法によっても可能である。光吸
収層に含有される光吸収化合物が、汎用の有機溶媒、例
えば、アルコ−ル系、ケトン系、セロソルブ系、ハロゲ
ン化炭化水素系、フロン系溶媒等に溶解する場合には、
生産性および光吸収層の均一性からスピンコ−ト法によ
り成膜する方法が好ましい。
【0013】光吸収層の最適膜厚は、光吸収化合物の種
類および組合わせにより異なるため特に制限はないが、
0.5〜50ミクロンの範囲が好ましい。
類および組合わせにより異なるため特に制限はないが、
0.5〜50ミクロンの範囲が好ましい。
【0014】本発明において用いられる透明基板として
は、信号の書き込みや読み出しを行なうために光の透過
率が好ましくは85%以上であり、かつ光学異方性の小
さいものが望ましい。例えば、ガラスまたはアクリル樹
脂、ポリカ−ボネ−ト樹脂、ポリエステル樹脂、ポリア
ミド樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリビニルエステル系樹
脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂(例え
ばポリ−4−メチルペンテン等)、ポリエ−テルスルホ
ン樹脂等の熱可塑性樹脂やエポキシ樹脂、アリル樹脂等
の熱硬化性樹脂を用いた基板が挙げられる。これらの中
で、成型のしやすさ、案内溝やアドレス信号等の付与の
しやすさなどから前記した熱可塑性樹脂が好ましい。
は、信号の書き込みや読み出しを行なうために光の透過
率が好ましくは85%以上であり、かつ光学異方性の小
さいものが望ましい。例えば、ガラスまたはアクリル樹
脂、ポリカ−ボネ−ト樹脂、ポリエステル樹脂、ポリア
ミド樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリビニルエステル系樹
脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂(例え
ばポリ−4−メチルペンテン等)、ポリエ−テルスルホ
ン樹脂等の熱可塑性樹脂やエポキシ樹脂、アリル樹脂等
の熱硬化性樹脂を用いた基板が挙げられる。これらの中
で、成型のしやすさ、案内溝やアドレス信号等の付与の
しやすさなどから前記した熱可塑性樹脂が好ましい。
【0015】本発明においては、これらの透明基板の厚
さは特に制限がなく、板状でもフィルム状でもよい。ま
たその形状は円形やカ−ド状でもよく、その大きさには
特に制限はない。つまり一般の光ディスクという円盤状
のものに限定されるものではなく、光カ−ドやテ−プ状
あるいはシ−ト状の記録媒体でもよい。また本発明の透
明基板には、記録および読み出しの際の位置制御のため
の案内溝やアドレス信号や各種マ−ク等のプレフォ−マ
ット用の凹凸を通常有しているが、これらの凹凸は前記
したような熱可塑性樹脂を成形(射出成形、圧縮成形)
する際にスタンパ−などを用いて付与する方法が好まし
いが、フォトポリマ−樹脂を用いるいわゆる2P法によ
っても行なうことができる。
さは特に制限がなく、板状でもフィルム状でもよい。ま
たその形状は円形やカ−ド状でもよく、その大きさには
特に制限はない。つまり一般の光ディスクという円盤状
のものに限定されるものではなく、光カ−ドやテ−プ状
あるいはシ−ト状の記録媒体でもよい。また本発明の透
明基板には、記録および読み出しの際の位置制御のため
の案内溝やアドレス信号や各種マ−ク等のプレフォ−マ
ット用の凹凸を通常有しているが、これらの凹凸は前記
したような熱可塑性樹脂を成形(射出成形、圧縮成形)
する際にスタンパ−などを用いて付与する方法が好まし
いが、フォトポリマ−樹脂を用いるいわゆる2P法によ
っても行なうことができる。
【0016】本発明の案内溝の形状については特に制限
はなく、短形、台形、U字形であってもよい。また案内
溝の寸法については、記録層に用いられる材料の種類お
よび組合せ等により最適値はそれぞれ異なるが、平均溝
幅(溝深さの1/2の位置の幅)が0.3〜0.6ミク
ロン、また溝深さが500〜2000オングストロ−ム
の範囲が好ましい。
はなく、短形、台形、U字形であってもよい。また案内
溝の寸法については、記録層に用いられる材料の種類お
よび組合せ等により最適値はそれぞれ異なるが、平均溝
幅(溝深さの1/2の位置の幅)が0.3〜0.6ミク
ロン、また溝深さが500〜2000オングストロ−ム
の範囲が好ましい。
【0017】本発明の光学記録媒体において、記録層に
用いられる材料の例としては、As、Te、Se、Ti
等の金属やこれらを主成分とする合金、希土類金属化合
物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、
スクアリウム化合物、アゾ化合物、シアニン化合物、ナ
フトキノン化合物、アントラキノン化合物、トリフェニ
ルメタン化合物、ピリリウムないしチアピリリウム塩化
合物、金属錯体色素化合物等の光吸収色素を挙げること
ができるが、これらに限定されるものではない。
用いられる材料の例としては、As、Te、Se、Ti
等の金属やこれらを主成分とする合金、希土類金属化合
物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、
スクアリウム化合物、アゾ化合物、シアニン化合物、ナ
フトキノン化合物、アントラキノン化合物、トリフェニ
ルメタン化合物、ピリリウムないしチアピリリウム塩化
合物、金属錯体色素化合物等の光吸収色素を挙げること
ができるが、これらに限定されるものではない。
【0018】本発明の光学記録媒体において、記録層を
成膜するには、ドライプロセス、例えば、真空蒸着法、
スパッタリング法によっても可能であるが、ウエットプ
ロセス、例えば、スピンコ−ト法、ディップ法、スプレ
−法、ロ−ルコ−ト法あるいはLB(ラングミュア−ブ
ロジェット)法によっても可能である。本発明の光学記
録媒体の記録層に含有される記録材料が、汎用の有機溶
媒、例えば、アルコ−ル系、ケトン系、セロソルブ系、
ハロゲン化炭化水素系、フロン系溶媒等に溶解する場合
は、生産性および記録膜の均一性からスピンコ−ト法に
より成膜する方法が好ましい。
成膜するには、ドライプロセス、例えば、真空蒸着法、
スパッタリング法によっても可能であるが、ウエットプ
ロセス、例えば、スピンコ−ト法、ディップ法、スプレ
−法、ロ−ルコ−ト法あるいはLB(ラングミュア−ブ
ロジェット)法によっても可能である。本発明の光学記
録媒体の記録層に含有される記録材料が、汎用の有機溶
媒、例えば、アルコ−ル系、ケトン系、セロソルブ系、
ハロゲン化炭化水素系、フロン系溶媒等に溶解する場合
は、生産性および記録膜の均一性からスピンコ−ト法に
より成膜する方法が好ましい。
【0019】このように、いわゆる塗布法で成膜する場
合には、必要に応じて高分子バインダ−を加えてもよ
い。高分子バインダ−としてはアクリル樹脂、ポリカ−
ボネ−ト樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩
化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ニトロセルロ−
ス、フェノ−ル樹脂などが挙げられるが、これらに限定
されるものではない。高分子バインダ−の混合比として
は特に制限はないが、記録材料に対して30重量%以下
が好ましい。
合には、必要に応じて高分子バインダ−を加えてもよ
い。高分子バインダ−としてはアクリル樹脂、ポリカ−
ボネ−ト樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩
化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ニトロセルロ−
ス、フェノ−ル樹脂などが挙げられるが、これらに限定
されるものではない。高分子バインダ−の混合比として
は特に制限はないが、記録材料に対して30重量%以下
が好ましい。
【0020】本発明の記録層には、記録層の光安定性、
耐環境性、繰り返し再生の安定性をさらに向上させる目
的で、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸素クエンチャ−
等の添加剤を加えてもよい。
耐環境性、繰り返し再生の安定性をさらに向上させる目
的で、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸素クエンチャ−
等の添加剤を加えてもよい。
【0021】記録層の最適膜厚は、記録材料の種類およ
び組合せにより異なるため特に制限はなく、500〜3
000オングストロ−ムが好ましく、さらに1000〜
2500オングストロ−ムが最適膜厚範囲である。
び組合せにより異なるため特に制限はなく、500〜3
000オングストロ−ムが好ましく、さらに1000〜
2500オングストロ−ムが最適膜厚範囲である。
【0022】本発明の光学記録媒体が反射層を有する場
合には、反射層の材料としては、金、銀、銅、白金、ア
ルミニウム、コバルト、スズ等の金属およびこれらを主
成分とした合金、MgO、ZnO、SnO等の金属酸化
物、SiN4 、AlN、TiN等の窒化物等が挙げられ
るが、絶対反射率が高く安定性に優れている点から金が
最適である。このように、反射層の材料としては金が最
適であるが、金は高価であるため、安価な光学記録媒体
を得ることが困難となる問題点がある。この問題点を解
決する目的で、金の膜厚を最小限に小さくし、膜厚不足
分を他の金属、金属酸化物(例えば、アルミニウム、
銀、ZnO等)で補うような積層膜を反射層に用いるこ
とも可能である。なお、この場合、絶対反射率を金単独
膜とほぼ同等にするためには、積層する下層の金膜厚は
最低200オングストロ−ム以上必要であり、反射層の
厚みは500〜2500オングストロ−ムが最適であ
る。また場合によっては有機系の高反射膜を使用するこ
ともできる。このような反射層の成膜方法としては、ド
ライプロセス例えば真空蒸着法、スパッタリング法が最
も好ましいが、これに限定されるものではない。反射層
の最適膜厚については、特に制限はないが400〜13
00オングストロ−ムの範囲が好ましい。
合には、反射層の材料としては、金、銀、銅、白金、ア
ルミニウム、コバルト、スズ等の金属およびこれらを主
成分とした合金、MgO、ZnO、SnO等の金属酸化
物、SiN4 、AlN、TiN等の窒化物等が挙げられ
るが、絶対反射率が高く安定性に優れている点から金が
最適である。このように、反射層の材料としては金が最
適であるが、金は高価であるため、安価な光学記録媒体
を得ることが困難となる問題点がある。この問題点を解
決する目的で、金の膜厚を最小限に小さくし、膜厚不足
分を他の金属、金属酸化物(例えば、アルミニウム、
銀、ZnO等)で補うような積層膜を反射層に用いるこ
とも可能である。なお、この場合、絶対反射率を金単独
膜とほぼ同等にするためには、積層する下層の金膜厚は
最低200オングストロ−ム以上必要であり、反射層の
厚みは500〜2500オングストロ−ムが最適であ
る。また場合によっては有機系の高反射膜を使用するこ
ともできる。このような反射層の成膜方法としては、ド
ライプロセス例えば真空蒸着法、スパッタリング法が最
も好ましいが、これに限定されるものではない。反射層
の最適膜厚については、特に制限はないが400〜13
00オングストロ−ムの範囲が好ましい。
【0023】本発明の光学記録媒体は、媒体の化学的劣
化(例えば酸化、吸水等)および物理的劣化(傷、けず
れ等)を防ぐ目的で媒体を保護するための保護層を設け
てもよい。保護層用の材料としては、紫外線硬化型樹脂
を用いて、スピンコ−トにより塗布し、紫外線照射によ
り硬化させる方法が好ましいがこれに限定されるもので
はない。保護層の最適膜厚については、薄い場合には、
保護の効果が低下し、厚い場合には樹脂の硬化時の収縮
により媒体のそり等の機械特性の悪化の原因になるた
め、2〜20ミクロンの範囲で成膜することが好まし
い。
化(例えば酸化、吸水等)および物理的劣化(傷、けず
れ等)を防ぐ目的で媒体を保護するための保護層を設け
てもよい。保護層用の材料としては、紫外線硬化型樹脂
を用いて、スピンコ−トにより塗布し、紫外線照射によ
り硬化させる方法が好ましいがこれに限定されるもので
はない。保護層の最適膜厚については、薄い場合には、
保護の効果が低下し、厚い場合には樹脂の硬化時の収縮
により媒体のそり等の機械特性の悪化の原因になるた
め、2〜20ミクロンの範囲で成膜することが好まし
い。
【0024】
【実施例】以下の実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。なお例中、部とは重量部を表わす。
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。なお例中、部とは重量部を表わす。
【0025】実施例1 ジアミノアントラキノン化合物(a)25部を、2,
2,3,3−テトラフルオロプロパノ−ル50部に溶解
させ、0.2ミクロンのフィルタ−を通して塗液を調整
した。得られた塗液用いて、深さ1000オングストロ
−ム、幅0.40ミクロン、ピッチ1.6ミクロンの案
内溝を有する厚さ1.20mm、外径120mm、内径
15mmのポリカ−ボネ−トディスク基板の裏面(案内
溝が形成されていない側)に、スピンコ−タ−により膜
厚10ミクロンに光吸収層を成膜した。次に、フタロシ
アニン化合物(a)60mgに対してジアセトンアルコ
−ル1mlの濃度で溶解し、0.2ミクロンのフィルタ
−を通して調整した塗液を用いて、ポリカ−ボネ−トデ
ィスク基板の表側(案内溝が形成されている側)にスピ
ンコ−タ−により膜厚1500オングストロ−ムに記録
層を成膜した。さらに、このようにして得た記録層の上
にスパッタリングにより金膜を厚さ1000オングスト
ロ−ムに成膜した。さらに、この上に紫外線硬化樹脂に
より保護層を5ミクロンの膜厚で設けて、CD対応の追
記型光ディスクを作成した。同様にして、光吸収層のみ
有さず、他は全く同一の構成のCD対応の追記型光ディ
スクを作成した。このようにして作成した光ディスクの
反射率および波長785nmの半導体レ−ザ−を使用し
て線速度1.4m/secで、EFM−CDフォ−マッ
ト信号を記録したときの最適記録レ−ザ−パワ−を表1
に示す。この信号をCDプレ−ヤ−によりレ−ザ−パワ
−0.5mWで再生を行ったところ、いずれのディスク
についても得られた信号は良好であり、市販のCDプレ
−ヤ−に十分かかるレベルであった。次にこのようにし
て作成した光ディスクを紫外線照射装置を用い、ディス
ク基板裏面より100時間紫外線照射した。照射後のデ
ィスクについてCDプレ−ヤ−によりレ−ザ−パワ−
0.5mWで再生を行なったところ、いずれのディスク
についても得られた信号は良好であり、市販のCDプレ
−ヤ−に十分かかるレベルであったが、光吸収層を有し
ていないディスクは反射率が若干低下し、またビットエ
ラ−レ−トが若干高くなる傾向が観測された。これに対
して光吸収層を有するディスクは、反射率の低下は観測
されず、ビットエラ−レ−トも変化は見られなかった
(紫外線照射後の反射率も表1に示した)。
2,3,3−テトラフルオロプロパノ−ル50部に溶解
させ、0.2ミクロンのフィルタ−を通して塗液を調整
した。得られた塗液用いて、深さ1000オングストロ
−ム、幅0.40ミクロン、ピッチ1.6ミクロンの案
内溝を有する厚さ1.20mm、外径120mm、内径
15mmのポリカ−ボネ−トディスク基板の裏面(案内
溝が形成されていない側)に、スピンコ−タ−により膜
厚10ミクロンに光吸収層を成膜した。次に、フタロシ
アニン化合物(a)60mgに対してジアセトンアルコ
−ル1mlの濃度で溶解し、0.2ミクロンのフィルタ
−を通して調整した塗液を用いて、ポリカ−ボネ−トデ
ィスク基板の表側(案内溝が形成されている側)にスピ
ンコ−タ−により膜厚1500オングストロ−ムに記録
層を成膜した。さらに、このようにして得た記録層の上
にスパッタリングにより金膜を厚さ1000オングスト
ロ−ムに成膜した。さらに、この上に紫外線硬化樹脂に
より保護層を5ミクロンの膜厚で設けて、CD対応の追
記型光ディスクを作成した。同様にして、光吸収層のみ
有さず、他は全く同一の構成のCD対応の追記型光ディ
スクを作成した。このようにして作成した光ディスクの
反射率および波長785nmの半導体レ−ザ−を使用し
て線速度1.4m/secで、EFM−CDフォ−マッ
ト信号を記録したときの最適記録レ−ザ−パワ−を表1
に示す。この信号をCDプレ−ヤ−によりレ−ザ−パワ
−0.5mWで再生を行ったところ、いずれのディスク
についても得られた信号は良好であり、市販のCDプレ
−ヤ−に十分かかるレベルであった。次にこのようにし
て作成した光ディスクを紫外線照射装置を用い、ディス
ク基板裏面より100時間紫外線照射した。照射後のデ
ィスクについてCDプレ−ヤ−によりレ−ザ−パワ−
0.5mWで再生を行なったところ、いずれのディスク
についても得られた信号は良好であり、市販のCDプレ
−ヤ−に十分かかるレベルであったが、光吸収層を有し
ていないディスクは反射率が若干低下し、またビットエ
ラ−レ−トが若干高くなる傾向が観測された。これに対
して光吸収層を有するディスクは、反射率の低下は観測
されず、ビットエラ−レ−トも変化は見られなかった
(紫外線照射後の反射率も表1に示した)。
【0026】フタロシアニン化合物(a)
【化1】
【0027】ジアミノアントラキノン化合物(a)
【化2】
【0028】
【表1】
【0029】実施例2 アゾ化合物(a)15部を、エチルセロソルブ15部、
シクロヘキサノン60部に溶解させ塗液を調整した。得
られた塗液用いて、深さ1000オングストロ−ム、幅
0.40ミクロン、ピッチ1.6ミクロンの案内溝を有
する厚さ1.20mm、外径120mm、内径15mm
のポリオレフィンディスク基板の裏面(案内溝が形成さ
れていない側)に、スピンコ−タ−により膜厚20ミク
ロンに光吸収層を成膜した。次に、フタロシアニン化合
物(b)20mgに対してエチルセロソルブ1mlの濃
度で溶解し、0.2ミクロンのフィルタ−を通して調整
した塗液を用いて、ポリオレフィン基板の表側(案内溝
が形成されている側)にスピンコ−タ−により膜厚12
00オングストロ−ムに記録層を成膜した。さらに、こ
のようにして得た記録層の上に真空蒸着により金膜を厚
さ800オングストロ−ムに成膜した。さらに、この上
に紫外線硬化樹脂により保護層を5ミクロンの膜厚で設
けて、CD対応の追記型光ディスクを作成した。同様に
して、光吸収層のみ有さず、他は全く同一の構成のCD
対応の追記型光ディスクを作成した。このようにして作
成した光ディスクの反射率および波長785nmの半導
体レ−ザ−を使用して線速度1.4m/secで、EF
M−CDフォ−マット信号を記録したときの最適記録レ
−ザ−パワ−を表1に示す。この信号をCDプレ−ヤ−
によりレ−ザ−パワ−0.5mWで再生を行ったとこ
ろ、いずれのディスクについても得られた信号は良好で
あり、市販のCDプレ−ヤ−に十分かかるレベルであっ
た。次にこのようにして作成した光ディスクを紫外線照
射装置を用い、ディスク基板裏面より100時間紫外線
照射した。照射後のディスクについてCDプレ−ヤ−に
よりレ−ザ−パワ−0.5mWで再生を行なったとこ
ろ、いずれのディスクについても得られた信号は良好で
あり、市販のCDプレ−ヤ−に十分かかるレベルであっ
たが、光吸収層を有していないディスクは反射率が若干
低下し、またビットエラ−レ−トが若干高くなる傾向が
観測された。これに対して光吸収層を有するディスク
は、反射率の低下は観測されず、ビットエラ−レ−トも
変化は見られなかった(紫外線照射後の反射率も表1に
示した)。
シクロヘキサノン60部に溶解させ塗液を調整した。得
られた塗液用いて、深さ1000オングストロ−ム、幅
0.40ミクロン、ピッチ1.6ミクロンの案内溝を有
する厚さ1.20mm、外径120mm、内径15mm
のポリオレフィンディスク基板の裏面(案内溝が形成さ
れていない側)に、スピンコ−タ−により膜厚20ミク
ロンに光吸収層を成膜した。次に、フタロシアニン化合
物(b)20mgに対してエチルセロソルブ1mlの濃
度で溶解し、0.2ミクロンのフィルタ−を通して調整
した塗液を用いて、ポリオレフィン基板の表側(案内溝
が形成されている側)にスピンコ−タ−により膜厚12
00オングストロ−ムに記録層を成膜した。さらに、こ
のようにして得た記録層の上に真空蒸着により金膜を厚
さ800オングストロ−ムに成膜した。さらに、この上
に紫外線硬化樹脂により保護層を5ミクロンの膜厚で設
けて、CD対応の追記型光ディスクを作成した。同様に
して、光吸収層のみ有さず、他は全く同一の構成のCD
対応の追記型光ディスクを作成した。このようにして作
成した光ディスクの反射率および波長785nmの半導
体レ−ザ−を使用して線速度1.4m/secで、EF
M−CDフォ−マット信号を記録したときの最適記録レ
−ザ−パワ−を表1に示す。この信号をCDプレ−ヤ−
によりレ−ザ−パワ−0.5mWで再生を行ったとこ
ろ、いずれのディスクについても得られた信号は良好で
あり、市販のCDプレ−ヤ−に十分かかるレベルであっ
た。次にこのようにして作成した光ディスクを紫外線照
射装置を用い、ディスク基板裏面より100時間紫外線
照射した。照射後のディスクについてCDプレ−ヤ−に
よりレ−ザ−パワ−0.5mWで再生を行なったとこ
ろ、いずれのディスクについても得られた信号は良好で
あり、市販のCDプレ−ヤ−に十分かかるレベルであっ
たが、光吸収層を有していないディスクは反射率が若干
低下し、またビットエラ−レ−トが若干高くなる傾向が
観測された。これに対して光吸収層を有するディスク
は、反射率の低下は観測されず、ビットエラ−レ−トも
変化は見られなかった(紫外線照射後の反射率も表1に
示した)。
【0030】フタロシアニン化合物(b)
【化3】
【0031】アゾ化合物(a)
【化4】
【0032】実施例3 ベンゾフェノン系紫外線吸収剤12mg、ヒンダ−ドア
ミン系紫外線安定剤12mgに対して、ジアセトンアル
コ−ル1mlの濃度で溶解させ塗液を調整した。 得ら
れた塗液用いて、深さ800オングストロ−ム、幅0.
40ミクロン、ピッチ1.6ミクロンの案内溝を有する
厚さ1.20mm、外径130mm、内径15mmのポ
リカ−ボネ−トディスク基板の裏面(案内溝が形成され
ていない側)に、スピンコ−タ−により膜厚5ミクロン
に光吸収層を成膜した。次に、フタロシアニン化合物
(c)50mgに対して2,2,3,3−テトラフルオ
ロプロパノ−ル1mlの濃度で溶解し、0.2ミクロン
のフィルタ−を通して調整した塗液を用いて、ポリカ−
ボネ−トディスク基板の表側(案内溝が形成されている
側)にスピンコ−タ−により膜厚1000オングストロ
−ムに記録層を成膜し、記録媒体を作成した。同様にし
て、光吸収層のみ有さず、他は同じ構成の記録媒体を作
成した。このようにして作成した記録媒体の最大吸収波
長および830nmの波長の光に対する反射率(記録層
側からの入射)を表2に示した。得られた記録媒体をタ
−ンテ−ブルに取り付け、1800rpmで回転させな
がら1.0ミクロンに収束した830nmの半導体レ−
ザ−光5.0mW、8MHzで照射して記録を行なっ
た。記録を行なった記録媒体表面を走査型電子顕微鏡で
観察したところ、鮮明なピットの形成が認められた。ま
た、これらの記録媒体に780nm、0.4mWの半導
体レ−ザ−光を照射し、反射光の検出を行ったときのC
/N比を表2に示した。次にこのようにして作成した記
録媒体を紫外線照射装置を用い、ディスク基板裏面より
100時間紫外線照射した。照射後の記録媒体について
の830nmの波長の光に対する反射率(記録層側から
の入射)および780nm、0.4mWの半導体レ−ザ
−光を照射し、反射光の検出を行なったときのC/N比
を表2に示した。光吸収層を有していない記録媒体は反
射率が若干低下し、またC/N比が若干低くなる傾向が
観測された。これに対して光吸収層を有する記録媒体
は、反射率の低下は観測されず、C/N比も変化は見ら
れなかった。
ミン系紫外線安定剤12mgに対して、ジアセトンアル
コ−ル1mlの濃度で溶解させ塗液を調整した。 得ら
れた塗液用いて、深さ800オングストロ−ム、幅0.
40ミクロン、ピッチ1.6ミクロンの案内溝を有する
厚さ1.20mm、外径130mm、内径15mmのポ
リカ−ボネ−トディスク基板の裏面(案内溝が形成され
ていない側)に、スピンコ−タ−により膜厚5ミクロン
に光吸収層を成膜した。次に、フタロシアニン化合物
(c)50mgに対して2,2,3,3−テトラフルオ
ロプロパノ−ル1mlの濃度で溶解し、0.2ミクロン
のフィルタ−を通して調整した塗液を用いて、ポリカ−
ボネ−トディスク基板の表側(案内溝が形成されている
側)にスピンコ−タ−により膜厚1000オングストロ
−ムに記録層を成膜し、記録媒体を作成した。同様にし
て、光吸収層のみ有さず、他は同じ構成の記録媒体を作
成した。このようにして作成した記録媒体の最大吸収波
長および830nmの波長の光に対する反射率(記録層
側からの入射)を表2に示した。得られた記録媒体をタ
−ンテ−ブルに取り付け、1800rpmで回転させな
がら1.0ミクロンに収束した830nmの半導体レ−
ザ−光5.0mW、8MHzで照射して記録を行なっ
た。記録を行なった記録媒体表面を走査型電子顕微鏡で
観察したところ、鮮明なピットの形成が認められた。ま
た、これらの記録媒体に780nm、0.4mWの半導
体レ−ザ−光を照射し、反射光の検出を行ったときのC
/N比を表2に示した。次にこのようにして作成した記
録媒体を紫外線照射装置を用い、ディスク基板裏面より
100時間紫外線照射した。照射後の記録媒体について
の830nmの波長の光に対する反射率(記録層側から
の入射)および780nm、0.4mWの半導体レ−ザ
−光を照射し、反射光の検出を行なったときのC/N比
を表2に示した。光吸収層を有していない記録媒体は反
射率が若干低下し、またC/N比が若干低くなる傾向が
観測された。これに対して光吸収層を有する記録媒体
は、反射率の低下は観測されず、C/N比も変化は見ら
れなかった。
【0033】フタロシアニン化合物(c)
【化5】
【0034】
【表2】
【0035】
【発明の効果】本発明の構成により光学記録媒体を作成
することにより、レ−ザ−光線により高感度で記録、再
生できる良好な記録特性を有し、物理的、化学的に安定
で、さらに極めて高い光安定性を有する光学記録媒体を
提供することができる。また極めて高い光安定性を有す
ることにより、CDまたはCD−ROM対応の追記型光
ディスク、光カ−ド、LD対応の追記型光ディスク、フ
ォトCD対応の追記型光ディスク等への応用が可能であ
る。
することにより、レ−ザ−光線により高感度で記録、再
生できる良好な記録特性を有し、物理的、化学的に安定
で、さらに極めて高い光安定性を有する光学記録媒体を
提供することができる。また極めて高い光安定性を有す
ることにより、CDまたはCD−ROM対応の追記型光
ディスク、光カ−ド、LD対応の追記型光ディスク、フ
ォトCD対応の追記型光ディスク等への応用が可能であ
る。
Claims (2)
- 【請求項1】透明基板および記録層を有し、透明基板を
通してレ−ザ−光を照射することにより記録、再生を行
う光学記録媒体において、少なくとも記録層より光入射
側に光吸収層を有し、その光吸収層が記録、再生に用い
るレ−ザ−波長領域以外に吸収極大を有する少なくとも
1種以上の光吸収化合物の薄膜からなることを特徴とす
る光学記録媒体。 - 【請求項2】透明基板を有し、その光入射側表面に光吸
収層を有し、さらにその上に保護層を有することを特徴
とする請求項1記載の光学記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4269404A JPH0696471A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | 光学記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4269404A JPH0696471A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | 光学記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0696471A true JPH0696471A (ja) | 1994-04-08 |
Family
ID=17471945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4269404A Pending JPH0696471A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | 光学記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0696471A (ja) |
-
1992
- 1992-09-11 JP JP4269404A patent/JPH0696471A/ja active Pending
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