JPH0673165B2 - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH0673165B2 JPH0673165B2 JP9082185A JP9082185A JPH0673165B2 JP H0673165 B2 JPH0673165 B2 JP H0673165B2 JP 9082185 A JP9082185 A JP 9082185A JP 9082185 A JP9082185 A JP 9082185A JP H0673165 B2 JPH0673165 B2 JP H0673165B2
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- Japan
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- gap
- magnetic
- magnetic head
- magnetic film
- metal magnetic
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はビデオテープレコーダ等の高周波信号を記録再
生する磁気ヘッドに係り、特に高保持力記録媒体に対し
て好適な金属磁性膜を用いた磁気ヘッドの製造方法に関
する。
生する磁気ヘッドに係り、特に高保持力記録媒体に対し
て好適な金属磁性膜を用いた磁気ヘッドの製造方法に関
する。
近年、ビデオテープレコーダの高密度記録化、高性能化
を達成するために、従来の酸化物テープに代わってメタ
ルテープが注目されている。このメタルテープは高保磁
力Hcを有しており、十分な記録を行うためには強い磁場
が必要となる。そこで磁気ヘッドは従来のフェライトヘ
ッドに代わりより強い磁場が発生できるように、高飽和
磁束密度Bsの高い金属磁性材を用いたものが必要であ
る。
を達成するために、従来の酸化物テープに代わってメタ
ルテープが注目されている。このメタルテープは高保磁
力Hcを有しており、十分な記録を行うためには強い磁場
が必要となる。そこで磁気ヘッドは従来のフェライトヘ
ッドに代わりより強い磁場が発生できるように、高飽和
磁束密度Bsの高い金属磁性材を用いたものが必要であ
る。
これら金属磁性材とてはパーマロイ合金（Fe−Ni合
金）、センダスト合金（Fe−Al−Si合金）または非晶質
合金等が知られており、それらの薄板または薄膜をコア
材としたヘッドが提案されている。（特開昭55−87320
号公報） 第１図はその磁気ヘッドの斜視図を示し、該ヘッドは磁
性薄板10を非磁性基板11,11′で接着剤等を用いて挾
み、これを２等分してギャップ突き合せ面をラップし、
コイル巻線用窓12を形成し、ギャップ突き合せ面13に所
定の非磁性膜を介して接合することによって得られる。
ヘッドのトラック幅は磁性薄板の厚さで規制される。こ
の構造の磁気ヘッドは精度よく薄板の厚さを制御するこ
とが難しく、またビデオ周波数帯域における渦電流損失
により薄板の実効透磁率が低下し、再生効率が悪くなる
問題がある。薄膜を用いた例としてはまた第１図の薄板
を非磁性基板11上にスパッタリング等で形成した金属磁
性膜に代えた構造の磁気ヘッドが提案されている。（特
開昭48−3609号公報）この構造の磁気ヘッドは金属磁性
膜を非磁性膜を介して多層化することにより渦電流損失
を防止できるとともに磁性膜の厚さでヘッドトラック幅
を規制するために比較的精度よいトラック幅制御ができ
る。しかしその反面ギャップ形成法に問題があり、ギャ
ップ長精度も悪く、またヘッドコア厚がヘッド全体で同
じであるために磁気回路の磁気効率が悪くリアギャップ
部の磁気コア部の突合せのズレが特性に大きく影響しさ
らに生産性が悪いという問題がある。また更に第２図，
第３図に示すようにコア部20を高透磁率フェライトで構
成し、ギャップ突き合せ面に金属磁性膜21を形成してな
るものが提案されている。（特開昭51−140708号公報）
この構造の磁気ヘッドはテープ摺動面にフェライトが出
ており耐摩耗性は優れている。しかしフェライトコア部
20,20′と金属磁性膜部21,21′との境界部22,22′が疑
似の作動ギャップとして作用し、記録再生特性を損なう
コンター効果が発生するという問題があり、特に第３図
に示すごとく作動ギャップ33と境界部が平行であるとそ
のコンター効果が著しい。
金）、センダスト合金（Fe−Al−Si合金）または非晶質
合金等が知られており、それらの薄板または薄膜をコア
材としたヘッドが提案されている。（特開昭55−87320
号公報） 第１図はその磁気ヘッドの斜視図を示し、該ヘッドは磁
性薄板10を非磁性基板11,11′で接着剤等を用いて挾
み、これを２等分してギャップ突き合せ面をラップし、
コイル巻線用窓12を形成し、ギャップ突き合せ面13に所
定の非磁性膜を介して接合することによって得られる。
ヘッドのトラック幅は磁性薄板の厚さで規制される。こ
の構造の磁気ヘッドは精度よく薄板の厚さを制御するこ
とが難しく、またビデオ周波数帯域における渦電流損失
により薄板の実効透磁率が低下し、再生効率が悪くなる
問題がある。薄膜を用いた例としてはまた第１図の薄板
を非磁性基板11上にスパッタリング等で形成した金属磁
性膜に代えた構造の磁気ヘッドが提案されている。（特
開昭48−3609号公報）この構造の磁気ヘッドは金属磁性
膜を非磁性膜を介して多層化することにより渦電流損失
を防止できるとともに磁性膜の厚さでヘッドトラック幅
を規制するために比較的精度よいトラック幅制御ができ
る。しかしその反面ギャップ形成法に問題があり、ギャ
ップ長精度も悪く、またヘッドコア厚がヘッド全体で同
じであるために磁気回路の磁気効率が悪くリアギャップ
部の磁気コア部の突合せのズレが特性に大きく影響しさ
らに生産性が悪いという問題がある。また更に第２図，
第３図に示すようにコア部20を高透磁率フェライトで構
成し、ギャップ突き合せ面に金属磁性膜21を形成してな
るものが提案されている。（特開昭51−140708号公報）
この構造の磁気ヘッドはテープ摺動面にフェライトが出
ており耐摩耗性は優れている。しかしフェライトコア部
20,20′と金属磁性膜部21,21′との境界部22,22′が疑
似の作動ギャップとして作用し、記録再生特性を損なう
コンター効果が発生するという問題があり、特に第３図
に示すごとく作動ギャップ33と境界部が平行であるとそ
のコンター効果が著しい。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除き、記録再生
特性ならび耐摩耗性が優れ、量産性が良く特性ばらつき
の少い磁気ヘッドの製造方法を提供することにある。
特性ならび耐摩耗性が優れ、量産性が良く特性ばらつき
の少い磁気ヘッドの製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するために本発明の磁気ヘッドの製造方
法は、高飽和磁束密度の金属磁性膜で磁気回路が構成さ
れ、テープ走行面における断面形状がＶ字状に突出して
いる突起部を有する２個の基板の該突起部の少くとも両
側面に金属磁性膜が被着され、該突起部先端の金属磁性
膜がトラック幅に対応する平坦部を有し、非磁性ギャッ
プ材を介して突き合せて作動ギャップを構成しており、
該平坦部の幅が少くともトラック幅を規制するフロント
ギャップ部よりもリアギャップ部が広くなった磁気ヘッ
ドの製造方法である。
法は、高飽和磁束密度の金属磁性膜で磁気回路が構成さ
れ、テープ走行面における断面形状がＶ字状に突出して
いる突起部を有する２個の基板の該突起部の少くとも両
側面に金属磁性膜が被着され、該突起部先端の金属磁性
膜がトラック幅に対応する平坦部を有し、非磁性ギャッ
プ材を介して突き合せて作動ギャップを構成しており、
該平坦部の幅が少くともトラック幅を規制するフロント
ギャップ部よりもリアギャップ部が広くなった磁気ヘッ
ドの製造方法である。
この製造方法による磁気ヘッドにより構造により少くと
も作動ギャップと平行する疑似ギャップがなくコンター
効果の発生を無くすことができ、該基板をフェライトも
しくは同等の摩耗性を有する非磁性基板を用いることに
より耐摩耗性に優れ、また金属磁性膜を非磁性膜を介し
て多層化することにより渦電流損失を防止し高周波特性
の良好な磁気ヘッドが得られる。さらにギャップ突き合
せ面における金属磁性膜の平坦部の幅がフロントギャッ
プ部よりもリアギャップ部を広くしており、磁気効率を
良くすることができ優れた記録再生特性を得ることがで
き、さらに製造工程におけるリアギャップ部のトラック
ズレによる特性ばらつきを少くすることができる。
も作動ギャップと平行する疑似ギャップがなくコンター
効果の発生を無くすことができ、該基板をフェライトも
しくは同等の摩耗性を有する非磁性基板を用いることに
より耐摩耗性に優れ、また金属磁性膜を非磁性膜を介し
て多層化することにより渦電流損失を防止し高周波特性
の良好な磁気ヘッドが得られる。さらにギャップ突き合
せ面における金属磁性膜の平坦部の幅がフロントギャッ
プ部よりもリアギャップ部を広くしており、磁気効率を
良くすることができ優れた記録再生特性を得ることがで
き、さらに製造工程におけるリアギャップ部のトラック
ズレによる特性ばらつきを少くすることができる。
以下、本発明の一実施例を第４図により説明する。第４
図は本発明の製造方法より得られた磁気ヘッドの斜視図
である。同図において30,30′はＶ字状の突起部を設け
たコアブロックであり、フェライトもしくは非磁性フェ
ライト、セラミック、ガラス等で構成されている。31,3
1′はヘッドコアを形成する金属磁性膜からなり、パー
マロイ合金、センダスト合金もしくは非晶質合金等の軟
磁性材をスパッタリング、真空蒸着等の方法で薄膜化し
たものを用いる。32,32′はコアブロックを接着するた
めの充填ガラスであり、金属磁性膜への影響を少くする
ために充填温度が低くできる低融点鉛系ガラスを用い
る。33はギャップ突き合せ部でトラック幅に対応する平
坦部を有するＶ字状の金属磁性膜が所要のギャップ長が
得られるように非磁性薄膜を挾んで突き合せ作動ギャッ
プを形成してする。
図は本発明の製造方法より得られた磁気ヘッドの斜視図
である。同図において30,30′はＶ字状の突起部を設け
たコアブロックであり、フェライトもしくは非磁性フェ
ライト、セラミック、ガラス等で構成されている。31,3
1′はヘッドコアを形成する金属磁性膜からなり、パー
マロイ合金、センダスト合金もしくは非晶質合金等の軟
磁性材をスパッタリング、真空蒸着等の方法で薄膜化し
たものを用いる。32,32′はコアブロックを接着するた
めの充填ガラスであり、金属磁性膜への影響を少くする
ために充填温度が低くできる低融点鉛系ガラスを用い
る。33はギャップ突き合せ部でトラック幅に対応する平
坦部を有するＶ字状の金属磁性膜が所要のギャップ長が
得られるように非磁性薄膜を挾んで突き合せ作動ギャッ
プを形成してする。
なお34は巻線用窓である。
このような構造にすることによって、作動ギャップ面と
他端部に平行部を持たないため、アジマス損失によっ
て、疑似ギャップによるコンター効果の発生を抑えてい
る。
他端部に平行部を持たないため、アジマス損失によっ
て、疑似ギャップによるコンター効果の発生を抑えてい
る。
第５図は本発明の製造方法より得られたによる磁気ヘッ
ドのテープ走行面であるフロントギャップ部とそれに対
向しているリアギャップ部の外観を示したものである。
第５図の（ａ）に示すフロントギャップ部の金属磁性膜
の平坦部の幅T1はヘッドトラック幅を規制している。第
５図の（ｂ）を示すリアギャップ部の平坦部のトラック
幅T2は少くともT1よりも広くなっており、これによりリ
アギャップ部の突き合せ面の面積を広くすることがで
き、リアギャップ部の磁気抵抗低減効果が得られ優れた
記録再生特性をもつ磁気ヘッドが得られる。またリアギ
ャップ部のトラック幅T2をフロントギャップ部のT1より
も十分に広くすることにより、ヘッド製造工程における
リアギャップ部のトラックズレによるヘッド特性への影
響を少くすることができ、特性ばらつきの少い磁気ヘッ
ドが得られる。
ドのテープ走行面であるフロントギャップ部とそれに対
向しているリアギャップ部の外観を示したものである。
第５図の（ａ）に示すフロントギャップ部の金属磁性膜
の平坦部の幅T1はヘッドトラック幅を規制している。第
５図の（ｂ）を示すリアギャップ部の平坦部のトラック
幅T2は少くともT1よりも広くなっており、これによりリ
アギャップ部の突き合せ面の面積を広くすることがで
き、リアギャップ部の磁気抵抗低減効果が得られ優れた
記録再生特性をもつ磁気ヘッドが得られる。またリアギ
ャップ部のトラック幅T2をフロントギャップ部のT1より
も十分に広くすることにより、ヘッド製造工程における
リアギャップ部のトラックズレによるヘッド特性への影
響を少くすることができ、特性ばらつきの少い磁気ヘッ
ドが得られる。
次に本発明の前記磁気ヘッドの製造方法を詳細に説明す
る。
る。
本発明の磁気ヘッドの製造方法の各工程の説明図を第６
図（イ）〜（ハ）に示す。
図（イ）〜（ハ）に示す。
第６図の（イ）はMn−Zn単結晶フェライト基板のギャッ
プ突き合せ面となる面に深さが100〜200μｍのＶ溝加工
を行う工程である。Ｖ溝40の角度は90度とした。またこ
の工程で該フェライト基板に巻線用の溝41の加工を行
う。溝の深さはＶ溝よりも深くする。
プ突き合せ面となる面に深さが100〜200μｍのＶ溝加工
を行う工程である。Ｖ溝40の角度は90度とした。またこ
の工程で該フェライト基板に巻線用の溝41の加工を行
う。溝の深さはＶ溝よりも深くする。
第６図の（ロ）は前記（イ）でＶ溝加工を行ったギャッ
プ突き合せ面にスパッタリング法を用いて第１のたとえ
ばセンダスト合金膜42（Fe−Si−Al合金）を20μｍの厚
さ被着させる工程である。このときマスクを用いて少く
とも該センダスト合金膜を被着する範囲はヘッドのリア
ギャップ部となる部分のみとする。
プ突き合せ面にスパッタリング法を用いて第１のたとえ
ばセンダスト合金膜42（Fe−Si−Al合金）を20μｍの厚
さ被着させる工程である。このときマスクを用いて少く
とも該センダスト合金膜を被着する範囲はヘッドのリア
ギャップ部となる部分のみとする。
第６図の（ハ）において、該ギャップ突き合せ面の全面
に第６図の（イ）と同様の方法を用いて第２のセンダス
ト合金膜42′を20μｍの厚さ被着させる。第６図（ハ）
の（ａ）の（Ａ）はフロントギャップ部、（ハ）の
（ｂ）はリアギャップ部のセンダスト合金膜の被着状態
を示したものである。この第１ならびに第２のセンダス
ト合金膜の被着のときにスパッタリング法で形成したSi
O2等の非磁性膜を10〜50nmの厚さ介して５μｍ×４層の
多層化を行なう。
に第６図の（イ）と同様の方法を用いて第２のセンダス
ト合金膜42′を20μｍの厚さ被着させる。第６図（ハ）
の（ａ）の（Ａ）はフロントギャップ部、（ハ）の
（ｂ）はリアギャップ部のセンダスト合金膜の被着状態
を示したものである。この第１ならびに第２のセンダス
ト合金膜の被着のときにスパッタリング法で形成したSi
O2等の非磁性膜を10〜50nmの厚さ介して５μｍ×４層の
多層化を行なう。
第６図の（ニ）でセンダスト合金膜の上に少くとも残り
の溝が埋まる程度にたとえば軟化点が350℃のPbO−B2O3
系低融点ガラス43を550℃の温度を10分間保持し充填す
る。
の溝が埋まる程度にたとえば軟化点が350℃のPbO−B2O3
系低融点ガラス43を550℃の温度を10分間保持し充填す
る。
第６図の（ホ）においてギャップ突き合せ面上のガラス
43センダスト合金膜42,42′を機械研摩等により除去
し、ヘッドのフロントギャップ部となる部分のセンダス
ト合金膜42を所要のトラック幅T1まで露出させる。また
この工程で巻線窓内のガラスを機械研削で除去する。
43センダスト合金膜42,42′を機械研摩等により除去
し、ヘッドのフロントギャップ部となる部分のセンダス
ト合金膜42を所要のトラック幅T1まで露出させる。また
この工程で巻線窓内のガラスを機械研削で除去する。
次に第６図の（ホ）に一点鎖線Ａで示すように切断し１
対のブロック44,45を得る。
対のブロック44,45を得る。
第６図の（ヘ）で（ホ）で得られたコアブロック44,45
のギャップ突き合せ面にSiO2,ガラス等の非磁性膜を所
要の厚さ（約0.25μｍ）にスパッタリング法により形成
し、該コアブロックの互いのフロント部トラックT1およ
びリア部トラックT2を合わせて突き合せ、加圧しながら
550℃に加熱し該低融点ガラスを溶融しボンディングブ
ロック46を得る。このボンディングブロックをトラック
部T1を中心に一点鎖線ＢおよびＢ′で順次切断すること
によって第４図に示す磁気ヘッドを得る。アジマス角度
を設ける場合にはボンディングブロックを所要の角度傾
けて切断する。実施例に示した工程で得られたボンディ
ングブロックから数十個の磁気ヘッドを製造することが
でき、量産性にも優れたものである。
のギャップ突き合せ面にSiO2,ガラス等の非磁性膜を所
要の厚さ（約0.25μｍ）にスパッタリング法により形成
し、該コアブロックの互いのフロント部トラックT1およ
びリア部トラックT2を合わせて突き合せ、加圧しながら
550℃に加熱し該低融点ガラスを溶融しボンディングブ
ロック46を得る。このボンディングブロックをトラック
部T1を中心に一点鎖線ＢおよびＢ′で順次切断すること
によって第４図に示す磁気ヘッドを得る。アジマス角度
を設ける場合にはボンディングブロックを所要の角度傾
けて切断する。実施例に示した工程で得られたボンディ
ングブロックから数十個の磁気ヘッドを製造することが
でき、量産性にも優れたものである。
本実施例では金属磁性膜としてセンダスト合金膜を用い
たが、Fe−Si合金、Fe−Ni合金（パーマロイ合金）なら
びCo−Nb−Zr系等各種組成の非晶質合金など高飽和磁束
密度、高透磁率で磁歪が０付近の軟磁性材であれば何で
もよい。また基板材としてMn−Zn単結晶フェライトを用
いたが、他にNi−Znフェライト等のフェライト磁性材で
もよく、さらに結晶化ガラス、Al2O3などのセラミック
等の非磁性基板を用いた場合にも本発明は有効である。
充填ガラスとしてはPbO−B2O3系ガラスを用いたが、他
にPbO−SiO2系、PbO−P2O5系等の軟化点が600℃以下の
ガラスであればよい。
たが、Fe−Si合金、Fe−Ni合金（パーマロイ合金）なら
びCo−Nb−Zr系等各種組成の非晶質合金など高飽和磁束
密度、高透磁率で磁歪が０付近の軟磁性材であれば何で
もよい。また基板材としてMn−Zn単結晶フェライトを用
いたが、他にNi−Znフェライト等のフェライト磁性材で
もよく、さらに結晶化ガラス、Al2O3などのセラミック
等の非磁性基板を用いた場合にも本発明は有効である。
充填ガラスとしてはPbO−B2O3系ガラスを用いたが、他
にPbO−SiO2系、PbO−P2O5系等の軟化点が600℃以下の
ガラスであればよい。
本発明の製造方法によれば、金属磁性膜が容易に多層化
できるため渦電流損失を防止し高周波特性に優れ、コン
ター効果がなく磁気効率がよく、優れた記録再生特性を
もつ量産性のよい磁気ヘッドを得ることができる。
できるため渦電流損失を防止し高周波特性に優れ、コン
ター効果がなく磁気効率がよく、優れた記録再生特性を
もつ量産性のよい磁気ヘッドを得ることができる。
第１図，第２図は従来の磁気ヘッドの斜視図、第３図は
第２図に示す従来磁気ヘッドのギャップ部正面図、第４
図は本発明による磁気ヘッドの斜視図、第５図は本発明
による磁気ヘッドのテープ摺動面ならびそれに対向する
面の正面図、第６図は本発明による磁気ヘッドの製造工
程図である。 30,30′……基板、31,31′……金属磁性膜、33……作動
ギャップ、34……コイル巻線用窓、32,32′……充填ガ
ラス、40……Ｖ字状溝、42……第１の金属磁性膜、42′
……第２の金属磁性膜、43……充填ガラス、44,45……
コアブロック。
第２図に示す従来磁気ヘッドのギャップ部正面図、第４
図は本発明による磁気ヘッドの斜視図、第５図は本発明
による磁気ヘッドのテープ摺動面ならびそれに対向する
面の正面図、第６図は本発明による磁気ヘッドの製造工
程図である。 30,30′……基板、31,31′……金属磁性膜、33……作動
ギャップ、34……コイル巻線用窓、32,32′……充填ガ
ラス、40……Ｖ字状溝、42……第１の金属磁性膜、42′
……第２の金属磁性膜、43……充填ガラス、44,45……
コアブロック。
フロントページの続き (72)発明者 榑林 正明 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所家電研究所内 (72)発明者 後藤 典雄 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所家電研究所内 (72)発明者 柳原 仁 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所家電研究所内 (72)発明者 座間 秀夫 茨城県勝田市大字稲田1410番地 株式会社 日立製作所東海工場内 (56)参考文献 特開 昭61−133004（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】ｉ）基板のギャップ突き合せ側の面にコイ
ル巻線用の窓となる巻線溝を形成する工程、 ii）前記ギャップ突き合せ側の面に、前記巻線溝とほぼ
直交するように中央部に突起を挟持するように隣接し、
前記巻線溝より浅いＶ字状の２本の溝を１組とするＶ字
状溝を複数設ける工程、 iii）非磁性膜を介して多層化された第１の金属磁性膜
を、前記突き合せ面の作動ギャップ部となる範囲以外の
前記Ｖ字状溝上に、被着せしめる工程、 iv）非磁性膜を介して多層化された第２の金属磁性膜
を、前記ギャップ突き合せ面の作動ギャップ部を含む前
記Ｖ字状溝上に、被着せしめる工程、 ｖ）前記第１ならび第２の金属磁性膜が表面に被着させ
ている前記Ｖ字状溝に非磁性材を充填する工程、 vi）前記非磁性材ならび前記第1,第２の金属磁性膜の不
要部分を除去し、前記作動ギャップ部となる範囲の前記
第２の金属磁性膜に所定のトラック幅を有する平坦部を
露呈せしめ、一対の磁気ヘッドコアブロックとなるよう
に切断する工程、 vii）前記１対のコアブロックのギャップ突き合せ面側
の面に所要の厚さの非磁性層を形成する工程、 viii）前記１対のコアブロックのギャップ突き合せ面を
相対峙せしめ、互いに接合して一体化する工程、 ix）接合された前記ブロックを所定の位置にて切断し、
複数個の磁気ヘッドコアを得る工程を有することを特徴
とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9082185A JPH0673165B2 (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9082185A JPH0673165B2 (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61250806A JPS61250806A (ja) | 1986-11-07 |
| JPH0673165B2 true JPH0673165B2 (ja) | 1994-09-14 |
Family
ID=14009252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9082185A Expired - Lifetime JPH0673165B2 (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0673165B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2648057B2 (ja) * | 1991-09-26 | 1997-08-27 | シャープ株式会社 | 磁気ヘッドの製造方法 |
-
1985
- 1985-04-30 JP JP9082185A patent/JPH0673165B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61250806A (ja) | 1986-11-07 |
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