JPH06119611A

JPH06119611A - 磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH06119611A
Application number: JP27891392A
Authority: JP
Inventors: Fumio Kurosawa; 文夫黒澤; Atsushi Suzuki; 篤鈴木; Fusashige Tokutake; 房重徳竹; Tatsuo Hisamura; 達雄久村
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1992-08-20
Filing date: 1992-10-16
Publication date: 1994-04-28

Abstract

(57)【要約】【構成】補助コア基板２１，２２，２３，２４と金属
磁性膜６，７よりなる磁気コア半体１，２同士が、上記
金属磁性膜６，７の端面同士を対向させて突き合わさ
れ、これら金属磁性膜６，７の突き合わせ面間に磁気ギ
ャップｇが構成されてなる磁気ヘッドにおいて、上記補
助コア基板２１，２２，２３，２４の少なくとも一部が
ヘマタイト又はＺｒＯ₂よりなる。【効果】耐摩耗性が向上し、ヘッド寿命を大幅に延ば
すことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ（ＶＴＲ）やディジタルオーディオテープレコー
ダ（Ｒ−ＤＡＴ）等の高密度記録可能な記録再生装置に
搭載して有用な磁気ヘッドに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ビデオテープレコーダやディジ
タルオーディオテープレコーダ等の磁気記録再生装置に
おいては、高画質化等を目的として情報信号の短波長記
録化が進められており、これに対応して磁性粉に強磁性
金属粉末を用いたいわゆるメタルテープや、ベースフィ
ルム上に強磁性金属材料を直接被着した蒸着テープ等の
高抗磁力磁気記録媒体が使用されるようになってきてい
る。

【０００３】一方、これに対処するべく磁気ヘッドの分
野においても研究が進められており、高抗磁力磁気記録
媒体に対して高密度記録を可能ならしめるためコア材料
に金属磁性材料を用いるとともに狭トラック化を図った
磁気ヘッドが開発されている。

【０００４】かかる磁気ヘッドとしては、例えば非磁性
材料よりなる磁気コア基板で高透磁率且つ高飽和磁束密
度を有する金属磁性膜をその膜厚方向より挟み込むこと
により形成される一対の磁気コア半体を、各金属磁性膜
の端面同士が突合うようにしてガラス融着により接合一
体化した，いわゆるラミネートタイプの磁気ヘッドが知
られている。

【０００５】この磁気ヘッドにおいては、金属磁性膜の
膜厚がすなわち磁気ギャップのトラック幅となるもので
あるから、当該金属磁性膜の膜厚を制御することで簡単
に狭トラック化が図れること、及び金属磁性膜と基板と
の界面が磁気ギャップと非平行であるため当該界面が疑
似ギャップとして動作することがないこと、さらに製造
工程が簡単であること等、種々の利点を有する。

【０００６】この他、磁気ギャップに対して斜交するよ
うに金属磁性膜を磁気コア基板に形成し、これら各金属
磁性膜の端面同士を突合わせガラスにより接合一体化し
た，いわゆる斜め膜同士の磁気ヘッドも提案されてい
る。かかる磁気ヘッドにおいては、金属磁性膜が磁気ギ
ャップに対して斜めとされていることから、アジマスに
よりクロストークの影響が低減でき、また、金属磁性膜
の斜め膜同士の突合わせであるので、狭トラック化に適
している。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ラミネート
タイプの磁気ヘッドにおいては、金属磁性膜を挟み込む
磁気コア基板として、一般にチタン酸系セラミックや非
磁性フェライト等が多く用いられている。ところが、こ
れらの材料は、耐摩耗性が充分ではなく、磁気テープの
高速摺動によってヘッドの摩耗が比較的早く、ヘッド寿
命の点で不満がある。

【０００８】一方、斜め膜同士の磁気ヘッドにおいて
は、磁気抵抗の増加防止の観点より通常、磁気コア基板
として酸化物磁性材料（例えば、Ｍｎ−Ｚｎフェライ
ト）が用いられる。したがって、この磁気ヘッドでは、
磁気テープと摺接する面の大部分が磁性フェライトで占
められることになり、ヘッド寿命が該磁性フェライトの
摩耗性に大きく左右される。

【０００９】ヘッド寿命を延ばすためには、１）摺動面
のトラック幅方向のいわゆる当たり幅を広げる、２）磁
気ギャップのデプスを大きくとる等の方法が挙げられ
る。しかしながら、磁気テープとの良好な接触状態を保
つためには、当たり幅を必要以上に大きくできず、ま
た、デプスを大きくとった場合にはヘッドの電磁変換効
率の低下を招くことになる。

【００１０】そこで本発明は、かかる実情に鑑みて提案
されたものであり、磁気ヘッドの電磁変換効率を損なう
ことなくヘッド寿命を延ばすことができる高出力且つ耐
摩耗性に優れた磁気ヘッドを提供することを目的とす
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、上述の目的を
達成するために提案されたものであり、補助コアと金属
磁性膜よりなる磁気コア半体同士が上記金属磁性膜の端
面同士を対向させて突き合わされ、これら金属磁性膜の
突合わせ面間に磁気ギャップが構成されてなる磁気ヘッ
ドにおいて、上記補助コアの少なくとも一部がヘマタイ
ト又はＺｒＯ₂を主体とする非磁性酸化物材料よりなる
ことを特徴とする。

【００１２】また、本発明においては、上記補助コア
は、磁気ギャップが構成されるフロント側がヘマタイト
又はＺｒＯ₂を主体とする非磁性酸化物材料とされ、バ
ック側が酸化物磁性材料であることを特徴とする。

【００１３】さらに、本発明においては、非磁性酸化物
材料は、ヘマタイト又はＺｒＯ₂を９０重量％以上含有
することを特徴とする。そしてさらに、上記ヘマタイト
がα−ヘマタイト、γ−ヘマタイトのうち少なくとも１
種であることを特徴とする。ヘマタイトとはＦｅ₂Ｏ₃
なる組成の鉄の酸化鉱物であるが、補助コアにヘマタイ
トを用いることによって、ヘッドの耐摩耗性を向上させ
ることができる。

【００１４】また、本発明においては、金属磁性膜は、
一対の補助コアによってその膜厚方向より挾み込まれて
なることを特徴とする他、磁気ギャップ面に対して１０
〜７０度の角度を有することを特徴とする。

【００１５】

【作用】ヘマタイト又はＺｒＯ₂は耐摩耗性に優れた材
料であるので、補助コアにヘマタイト又はＺｒＯ₂を用
いることにより、磁気記録媒体と摺接する磁気ヘッドの
摺接面の摩耗量が大幅に低減する。したがって、金属磁
性膜を補助コアによってその膜厚方向より挾み込んでな
るいわゆるラミネートタイプの磁気ヘッドであると、金
属磁性膜を磁気ギャップに対して斜めに配したいわゆる
斜め膜同士による磁気ヘッドであるとに拘わらず、ヘッ
ド寿命が延びる。

【００１６】特に、ヘマタイト又はＺｒＯ₂を磁気ギャ
ップが構成されるフロント側に配し、酸化物磁性材料を
バック側に配することによって、磁気ヘッドの電磁変換
効率を損なわずにヘッド寿命の向上が図れ、ヘッド効率
とヘッド寿命の両方が満たされる。

【００１７】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。

【００１８】実施例１本実施例の磁気ヘッドは、図１に示すように、閉磁路を
構成する一対の磁気コア半体１，２が突合わされて接合
一体化され、磁気記録媒体と摺接する磁気記録媒体摺動
面３に磁気ギャップｇを構成してなる。

【００１９】上記磁気コア半体１，２は、α−ヘマタイ
トよりなる補助コア基板２１，２２，２３，２４と、金
属磁性膜６，７とからなり、上記金属磁性膜６，７はそ
の膜厚方向より上記補助コア基板２１，２２，２３，２
４によって挟み込まれている。

【００２０】そして、磁気コア半体１，２同士の突合わ
せ面においては、金属磁性膜６，７の端面が突合わされ
ることによって磁気ギャップｇが構成されている。上記
磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗは、上記補助コア基板
２１，２２，２３，２４が非磁性体であることから、上
記金属磁性膜６，７の膜厚によって規制される。

【００２１】また、上記磁気コア半体１，２の突合わせ
面には、当該磁気ギャップｇのデプスＤｐを規制すると
ともにコイルを巻回させるための巻線溝８，９が形成さ
れている。すなわち、上記巻線溝８，９は、磁気コア半
体１，２の突合わせ面の中途部で溝部同士が突合わさっ
て平面略矩形状の孔としてコア厚方向に貫通して形成さ
れている。

【００２２】上記金属磁性膜６，７には、各種強磁性材
料の他に、例えば高飽和磁束密度を有し且つ軟磁気特性
に優れた強磁性合金材料が使用されるが、かかる強磁性
合金材料としては従来より公知のものがいずれも使用で
き、結晶質、非結晶質であるとを問わない。

【００２３】例示するならば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合
金，Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ系合
金，Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金，Ｆｅ−Ｎｉ系合金，Ｆｅ
−Ａｌ−Ｇｅ系合金，Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系合金，Ｆｅ−
Ｓｉ−Ｇｅ系合金，Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ系合金，Ｆｅ−Ｓ
ｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金
等が挙げられる。さらには、耐蝕性や耐摩耗性等の一層
の向上を図るために、Ｔｉ，Ｃｏ，Ａｕ，Ｃｒ，Ｍｎ，
Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉ
ｒ，Ｒｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎ，Ｃ，Ｏ等
の少なくとも１種を添加したものであってもよい。

【００２４】また、強磁性非晶質金属合金、いわゆるア
モルファス合金（例えば、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏの１つ以上
の元素とＰ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの１つ以上の元素とからなる
合金、またはこれらを主成分としＡｌ，Ｇｅ，Ｂｅ，Ｓ
ｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，
Ｎｂ等を含んだ合金等のメタル−メタロイド系アモルフ
ァス合金、あるいはＣｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の遷移元素や希
土類元素等を主成分とするメタル−メタル系アモルファ
ス合金）等が挙げられる。

【００２５】これら金属磁性膜６，７の成膜方法として
は、膜厚制御性に優れるスパッタリング法，真空蒸着
法，イオンプレーティング法，クラスター・イオンビー
ム法等に代表される真空薄膜形成技術が採用される。な
お、上記補助コア基板２１，２２，２３，２４に成膜す
る金属磁性膜６，７は、単層膜に限らず、高周波帯域で
の渦電流損失を回避するために金属磁性膜と絶縁膜を交
互に何層にも積層した、いわゆる積層膜であってもよ
い。この場合、絶縁膜としては、ＳｉＯ₂，Ａｌ
₂Ｏ₃，Ｓｉ₃Ｎ₄等の電気的絶縁性に優れた酸化物，
窒化物等よりなる膜が好適である。

【００２６】次に、上述の磁気ヘッドの製造方法につい
て説明する。先ず、図２に示すように、α−ヘマタイト
からなる基板１５同士の突合わせ面となる端面とその反
対側の端面を鏡面仕上げした後、非磁性基板１５の一側
面にセンダスト等の強磁性金属材料をスパッタリングす
ることによって、金属磁性膜１６を形成する。

【００２７】そして、図３に示すように、上記ヘマタイ
ト基板１５を重ね合わせ、複数のヘマタイト基板１５と
金属磁性膜１６が交互に積層された基板ブロック１７を
形成する。

【００２８】次いで、上記基板ブロック１７を図４中Ａ
−Ａ´線，Ｂ−Ｂ´線，Ｃ−Ｃ´線で示すように上記金
属磁性膜１６の略直交方向に切断し、図５に示す磁気コ
ア半体ブロック１８を作製する。そして、この磁気コア
半体ブロック１８の磁気ギャップｇ形成面となる面１８
ａ（突合わせ面）にコイルを巻回させるための巻線溝１
９を磁気コア半体ブロック１８全体に亘って形成する。

【００２９】次に、上記磁気コア半体ブロック１８の突
合わせ面１８ａを鏡面仕上げした後、当該突合わせ面１
８ａにギャップ膜を成膜する。そして、この磁気コア半
体ブロック１８に、同様にして形成した他の磁気コア半
体ブロック１８を図６に示すように突合わせる。なお、
これら磁気コア半体ブロック１８，１８同士を突合わせ
る際には、それぞれの金属磁性膜１６，１６の位置合わ
せを行い、接合一体化する。

【００３０】この結果、突合わされた金属磁性膜１６間
に磁気ギャップｇが構成される。

【００３１】次いで、これら接合一体化された磁気コア
ブロック２０に対し、磁気記録媒体との当たりを確保す
るために円筒研磨を施した後、図６中Ｄ−Ｄ´線及びＥ
−Ｅ´線で示す位置でスライシングする。このようにし
て、図１に示す本実施例の磁気ヘッドが完成する。

【００３２】なお、各部材の接合には、従来公知の接合
方法が適用可能であり、例示するならば、低温熱拡散接
合（接合面にそれぞれ設けられた金属層同士の熱拡散に
より接合する方法）やボンディングガラス等による接合
が挙げられる。

【００３３】ここで、実際に、上述のようにして作製さ
れた磁気ヘッドについて摩耗試験を行った。試験は、上
述のようにして作製された当たり幅５０μｍ、先端Ｒ８
ｍｍの磁気ヘッドをソニー社製，商品名ＢＶＷ−５０
（ベータカムＳＰ）に搭載して、ソニー社製，商品名Ｂ
ＣＴ−９０ＭＬ（ベータカムＳＰ用メタルテープ）に対
して摺動させて行った。そして、３０℃，８０％ＲＨの
高相対湿度下でこの試験を行い、ヘッドの摩耗量を調べ
た。その結果を図７に示す。

【００３４】比較例１金属磁性膜を挟み込む基板にチタン酸カルシウム系セラ
ミックを用いた以外は実施例１と同様の方法で、実施例
１と同様な構造の磁気ヘッドを作製した。そして、実施
例１と同様にして摩耗試験を行った。その結果を図７に
併せて示す。

【００３５】比較例２金属磁性膜を挟み込む基板にＺｎ系非磁性フェライトを
用いた以外は実施例１と同様の方法で、実施例１と同様
な構造の磁気ヘッドを作製した。そして、実施例１と同
様にして摩耗試験を行った。その結果を図７に併せて示
す。

【００３６】図７に示されるように、ヘマタイトを補助
コア基板として用いた磁気ヘッドは、極めて耐摩耗性に
優れたものであることが判る。

【００３７】なお、磁気ヘッドの構造としては、図１に
示したものの他に、以下のようなものでも良い。１．図８に示されるように、接合用に融着ガラス１０，
１１が用いられているもの。２．図９に示されるように、金属磁性膜６，７が磁気記
録媒体摺動方向に対して斜めに形成されているもの。３．図１０に示されるように、金属磁性膜６，７を挟み
込む補助コア基板２１，２２，２３，２４のうち、磁気
記録媒体摺動部２１ａ，２２ａ，２３ａ，２４ａのみが
ヘマタイトからなり、基板の他の部分２１ｂ，２２ｂ，
２３ｂ，２４ｂがヘマタイト以外の非磁性材料、或いは
フェライト等の磁性材料よりなっているもの。４．図１１に示されるように、磁気コア半体１，２のう
ち、どちらか一方のみがヘマタイト基板２１，２２より
なり、もう一方はヘマタイト以外の非磁性材料の基板２
５，２６よりなっているもの。５．上述の磁気ヘッドの特徴を組み合わせたもの。

【００３８】実施例２本実施例の磁気ヘッドは、図１２に示すように、金属磁
性膜２７，２８と補助コア基板２９，３０からなる一対
の磁気コア半体３１，３２が融着ガラス３３によって接
合一体化されることにより、各金属磁性膜２７，２８の
突合わせ面間に磁気ギャッｇを構成してなっている。

【００３９】上記補助コア基板２９，３０は、磁気ギャ
ップｇが形成されるフロント側、つまり磁気テープと摺
接する磁気記録媒体摺動部２９ａ，３０ａがヘマタイト
よりなる基板とされ、その他のバック側の部分２９ｂ，
３０ｂが酸化物磁性材料よりなる基板とされている。し
たがって、磁気記録媒体摺動部２９ａ，３０ａが耐摩耗
性に優れるヘマタイトよりなることから、ヘッドの耐摩
耗性が向上し、ヘッド寿命が大幅に延びる。また、バッ
ク側の部分２９ｂ，３０ｂが酸化物磁性材料よりなる基
板とされていることから、磁気コア断面積の確保により
ヘッドの電磁変換効率が損なわれない。

【００４０】上記ヘマタイトには、例えばα−ヘマタイ
ト又はγ−ヘマタイトのいずれか一方、又はその両方が
使用できる。そして、このヘマタイトの含有量として
は、ヘッドの耐摩耗性を考慮して基板全体を１００重量
％としたときに該ヘマタイトを９０重量％以上含有する
ことが望ましい。ヘマタイトが９０重量％未満である
と、磁気記録媒体との摺接により摩耗が多くなり、ヘッ
ド寿命が短くなる。

【００４１】一方、酸化物磁性材料には、Ｍｎ−Ｚｎ
系、Ｎｉ−Ｚｎ系の単結晶又は多結晶フェライトが用い
られる。

【００４２】そして、上記金属磁性膜２７，２８は、上
記補助コア基板２９，３０の突合わせ面側の対向部分が
尖頭形状となるように磁気ギャップｇに対して斜めに切
り欠かれた傾斜面３４ａ，３４ｂ，３５ａ，３５ｂのう
ちの一方の傾斜面３４ａ，３５ａに被着形成されてい
る。したがって、上記金属磁性膜２７，２８は、磁気ギ
ャップｇを構成する磁気ギャップ面に対してθなる傾斜
角度を有する。かかる傾斜角度θは、例えば１０〜７０
度とされ、望ましくは３０〜６０度とされる。また、こ
れら金属磁性膜２７，２８は、先の実施例１の磁気ヘッ
ドと同様、飽和磁束密度の高い軟磁性薄膜からなり、単
層膜又は絶縁膜を介して積層された積層膜からなる。な
お、これら金属磁性膜２７，２８の成膜法は、やはり先
の実施例１と同様の手法がいずれも適用できる。

【００４３】そして、上記金属磁性膜２７，２８と補助
コア基板２９，３０からなる各磁気コア半体３１，３２
には、磁気ギャップｇのデプスを規制するとともに、コ
イルを巻回させるための巻線溝３６，３７が形成されて
いる。上記巻線溝３６，３７は、各磁気コア半体３１，
３２の突合わせ面の中途部にそれぞれ平面略コ字状をな
す孔としてコア厚方向に貫通して設けられている。

【００４４】このようにして構成された磁気コア半体３
１，３２は、互いの金属磁性膜２７，２８の端面同士を
突合わせ、融着ガラス３３によって接合一体化されるこ
とにより、該金属磁性膜２７，２８の突合わせ面間に記
録再生ギャップとして動作する磁気ギャップｇを構成す
る。そして、特にこの磁気ヘッドにおいては、磁気記録
媒体摺動部２９ａ，３０ａがヘマタイトよりなり、その
他の部分２９ｂ，３０ｂが酸化物磁性材料よりなる補助
コア基板２９，３０からなるため、ヘッドの電磁変換効
率を損なうことなく、ヘッド寿命を延ばすことができ
る。また、酸化物磁性材料が磁気記録媒体と直接接触な
い構造のため、走行時の摺動ノイズの低減も図れる。

【００４５】なお、上述の磁気ヘッドの変形例として、
例えば図１３ないし図１５に示すような構造のものが挙
げられる。図１３に示す磁気ヘッドは、各補助コア基板
２９，３０に形成された傾斜面３４ａ，３５ａを一つと
したものである。図１４に示す磁気ヘッドは、図１２の
磁気ヘッドにおいて磁気記録媒体摺動面の一部に酸化物
磁性材料よりなる基板２９ｂ，３０ｂを露出させたもの
である。図１５に示す磁気ヘッドは、図１３に示す磁気
ヘッドにおいて磁気記録媒体摺動面の一部に酸化物磁性
材料よりなる基板２９ｂ，３０ｂを露出させたものであ
る。

【００４６】ところで、図１２に示す磁気ヘッドを作製
するには、以下のようにして行う。先ず、図１６に示す
ように、ヘマタイトよりなる基板３８と酸化物磁性材料
よりなる基板３９を固相反応、すなわちＰｂＯを主成分
とするガラス、又はＡｕ，Ａｇ，Ｐｂ，Ｐｔを用いた低
温金属接合等により接合し、所定の大きさの複合基板４
０を作製する。

【００４７】次に、この複合基板４０の主面４０ａに、
図１７に示すように上記ヘマタイトよりなる基板３８と
酸化物磁性材料よりなる基板３９との接合面に対して直
交する方向に断面略Ｖ字状をなす切削溝４１を基板全体
に亘って形成する。上記切削溝４１は、複合基板４０の
主面４０ａに対して１０〜７０度の角度を有するように
形成する。望ましくは、３０〜６０度とする。

【００４８】次いで、この切削溝４１の傾斜面４１ａ，
４１ｂを鏡面加工した後、スパッタ、蒸着、ＭＢＥ法等
の真空薄膜形成技術により金属磁性膜４２を被着形成す
る。なお、金属磁性膜４２は、単層膜又は絶縁膜を介し
た積層膜としてもよい。

【００４９】次に、図１８に示すように、金属磁性膜４
２の膜剥がれを防止する目的で上記切削溝４１内に融着
ガラス４３を流し込む。一般的には、線引された極細ガ
ラス棒を切削溝４１内に並べて、６００〜７００度程度
の温度を加えて溶融する。次いで、上記融着ガラス４３
が充填された面を、図１９に示すように上記切削溝４１
以外に付着している金属磁性膜４２が完全に除去される
まで平面研磨した後、鏡面加工処理を施す。

【００５０】次に、図２０に示すように、上記複合基板
４０に対してコイルを巻回するための巻線溝４４を研削
により形成する。かかる巻線溝４４は、磁気ギャップの
デプスを規制する傾斜面４４ａがヘマタイトよりなる基
板３８と酸化物磁性材料よりなる基板３９との接合界面
にかかるようにして、上記切削溝４１と略直交する方向
に断面略コ字状をなす溝として形成する。

【００５１】そして、巻線溝４４が形成された主面にＳ
ｉ，Ｔａ，Ａｌ，Ｃｒ等の酸化物、窒化物を真空薄膜形
成技術によって膜付けする。

【００５２】次に、上述の工程を順次繰り返して作製し
た複合基板４０，４０同士を、図２１に示すように、互
いの金属磁性膜４２，４２の端面が相対向するようにし
て重ね合わせる。そして、この状態で融着ガラス４３が
多少緩む程度の温度を加え、上記複合基板４０，４０を
接合一体化してヘッドブロック４５を作製する。

【００５３】なお、これら複合基板４０を接合するに当
たっては、二次融着と称する上記融着ガラス４３よりも
作業温度の低い極細のガラス棒を巻線溝４４，４４内に
挿入溶融することにより、接合をより安定且つ確実にす
るようにしてもよい。

【００５４】次に、上記ヘッドブロック４５に対し、磁
気記録媒体との当たりを確保するために円筒研磨を施し
た後、図２１中Ｆ−Ｆ´線及びＧ−Ｇ´線で示す位置で
スライシングし、磁気ヘッドを完成する。

【００５５】実験例１ここで、実際に図１２に示す磁気ヘッドと同一形状のダ
ミーヘッドを試作して摩耗試験を行ってみた。ダミーヘ
ッドは、縦横厚みがそれぞれ２ｍｍ×２ｍｍ×０．２ｍ
ｍ、摺動面の当たり幅が６０μｍ、先端曲率（Ｒ）が８
ｍｍ、金属磁性膜の膜厚が２０μｍで、この金属磁性膜
が磁気ギャップ面に対して４５度傾斜したヘッドを用い
た。なお、補助コア基板は、ヘッドの耐摩耗性を調べる
ことからヘマタイトのみから構成した。

【００５６】そして、このダミーヘッドをソニー社製，
商品名ＢＶＷ−５０（ベータカムＳＰ）に搭載して、ソ
ニー社製，商品名ＢＣＴ−９０ＭＬ（ベータカムＳＰ用
メタルテープ）に対して摺動させて行った。試験はヘッ
ド摩耗が多くなるように、３０℃，８０％ＲＨの高相対
湿度下で行った。この摩耗試験の結果を図２２に示す。

【００５７】実験例２補助コア基板にＭｎ−Ｚｎフェライトを用いた以外は、
実験例１の磁気ヘッドと同じにした。そして、この磁気
ヘッドに対しても同様に摩耗試験を行った。

【００５８】この結果からわかるように、補助コア基板
にヘマタイトを用いた実験例１の磁気ヘッドは、Ｍｎ−
Ｚｎフェライトを用いた磁気ヘッドに比べて格段に優れ
た耐摩耗性を有することがわかる。したがって、少なく
とも磁気記録媒体摺動部を構成する補助コア基板にヘマ
タイトを使用すれば、ヘッド寿命を大幅に向上させるこ
とができる。

【００５９】実施例３本実施例は、磁気記録媒体との摺接によるヘッドの耐摩
耗性を高める目的で、ヘマタイトの代わりにＺｒＯ₂を
用いた例である。したがって、磁気ヘッドの構成自体
は、先の実施例２の磁気ヘッドと全く同一であり、その
製造工程も同じである。

【００６０】ＺｒＯ₂は、ヘマタイトと同じく耐摩耗性
に優れた非磁性材料であり、先の実施例２の磁気ヘッド
の磁気記録媒体摺接部２９ａ，３０ｂに用いることによ
り、ヘッド寿命を大幅に延ばすことができる。このとき
のＺｒＯ₂の含有量としては、やはりヘマタイトと同じ
く耐摩耗性を考慮として９０重量％以上であることが望
ましい。

【００６１】なお、実際に、上記ＺｒＯ₂を用いて先の
実験例１と同様のダミーヘッドを作製し、摩耗試験を行
ったところ（これを実験例３とする。）、ヘマタイトに
よる磁気ヘッドに比べて多少劣るものの優れた耐摩耗性
を示した。

【００６２】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、ヘマ
タイト又はＺｒＯ₂は耐摩耗性に非常に優れた材料であ
るので、このヘマタイト又はＺｒＯ₂を補助コア基板に
使用することにより、いわゆるラミネートタイプの磁気
ヘッド又は金属磁性膜の斜め膜同士の突合わせによる磁
気ヘッドのいずれのヘッドに対しても、磁気記録媒体と
の摺接による耐摩耗性を向上させることができる。した
がって、ヘッド寿命を大幅に延ばすことができる。

【００６３】特に、磁気記録媒体と摺接するフロント側
にヘマタイト又はＺｒＯ₂を用い、その他のバック側に
酸化物磁性材料を用いれば、磁気ヘッドの電磁変換効率
を損なうことなく、耐摩耗性を向上させることができ、
ヘッド効率とヘッド寿命の両方を満足させることができ
る。また、本発明の磁気ヘッドにおいては、酸化物磁性
材料が磁気記録媒体と直接接触しない構造のため、走行
時の摺動ノイズを低減させることもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の磁気ヘッドの一例を示す斜視図であ
る。

【図２】図１に示す磁気ヘッドの製造工程を工程順に示
すものであり、金属磁性膜成膜工程を示す斜視図であ
る。

【図３】図１に示す磁気ヘッドの製造工程を工程順に示
すものであり、ヘマタイト基板の接合工程を示す斜視図
である。

【図４】図１に示す磁気ヘッドの製造工程を工程順に示
すものであり、磁気コア半体ブロックへの切断工程を示
す斜視図である。

【図５】図１に示す磁気ヘッドの製造工程を工程順に示
すものであり、切り出された磁気コア半体ブロックを示
す斜視図である。

【図６】図１に示す磁気ヘッドの製造工程を工程順に示
すものであり、磁気ヘッドの切り出し工程を示す斜視図
である。

【図７】実施例１の磁気ヘッドにおける摺動時間とヘッ
ド摩耗量の関係を示す特性図である。

【図８】実施例１の磁気ヘッドの他の例を示す斜視図で
ある。

【図９】実施例１の磁気ヘッドのさらに他の例を示す斜
視図である。

【図１０】実施例１の磁気ヘッドのさらに他の例を示す
斜視図である。

【図１１】実施例１の磁気ヘッドのさらに他の例を示す
斜視図である。

【図１２】実施例２の磁気ヘッドの一例を示す斜視図で
ある。

【図１３】実施例２の磁気ヘッドの他の例を示す斜視図
である。

【図１４】実施例２の磁気ヘッドのさらに他の例を示す
斜視図である。

【図１５】実施例２の磁気ヘッドのさらに他の例を示す
斜視図である。

【図１６】図１２に示す磁気ヘッドの製造工程を工程順
に示すものであり、基板の接合工程を示す斜視図であ
る。

【図１７】図１２に示す磁気ヘッドの製造工程を工程順
に示すものであり、金属磁性膜形成工程を示す斜視図で
ある。

【図１８】図１２に示す磁気ヘッドの製造工程を工程順
に示すものであり、ガラスパック工程を示す斜視図であ
る。

【図１９】図１２に示す磁気ヘッドの製造工程を工程順
に示すものであり、研磨工程を示す斜視図である。

【図２０】図１２に示す磁気ヘッドの製造工程を工程順
に示すものであり、巻線溝形成工程を示す斜視図であ
る。

【図２１】図１２に示す磁気ヘッドの製造工程を工程順
に示すものであり、ヘッドブロックの接合工程を示す斜
視図である。

【図２２】実施例２及び実施例３の磁気ヘッドにおける
摺動時間とヘッド摩耗量の関係を示す特性図である。

【符号の説明】

１，２，３１，３２・・・磁気コア半体３・・・磁気記録媒体摺動面６，７，２７，２８・・・金属磁性膜８，９，３６，３７・・・巻線溝２１，２２，２３，２４，２９，３０・・・補助コア基
板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者久村達雄東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】補助コアと金属磁性膜よりなる磁気コア
半体同士が上記金属磁性膜の端面同士を対向させて突き
合わされ、これら金属磁性膜の突合わせ面間に磁気ギャ
ップが構成されてなる磁気ヘッドにおいて、上記補助コアの少なくとも一部がヘマタイトを主体とす
る非磁性酸化物材料よりなることを特徴とする磁気ヘッ
ド。
【請求項２】補助コアと金属磁性膜よりなる磁気コア
半体同士が上記金属磁性膜の端面同士を対向させて突き
合わされ、これら金属磁性膜の突合わせ面間に磁気ギャ
ップが構成されてなる磁気ヘッドにおいて、上記補助コアは、磁気ギャップが構成されるフロント側
がヘマタイトを主体とする非磁性酸化物材料とされ、バ
ック側が酸化物磁性材料であることを特徴とする磁気ヘ
ッド。
【請求項３】非磁性酸化物材料は、ヘマタイトを９０
重量％以上含有することを特徴とする請求項１又は請求
項２記載の磁気ヘッド。
【請求項４】ヘマタイトがα−ヘマタイト、γ−ヘマ
タイトのうち少なくとも１種であることを特徴とする請
求項３記載の磁気ヘッド。
【請求項５】金属磁性膜は、一対の補助コアによって
その膜厚方向より挾み込まれてなることを特徴とする請
求項３又は請求項４記載の磁気ヘッド。
【請求項６】金属磁性膜は、磁気ギャップ面に対して
１０〜７０度の角度を有することを特徴とする請求項３
又は請求項４記載の磁気ヘッド。
【請求項７】補助コアと金属磁性膜よりなる磁気コア
半体同士が上記金属磁性膜の端面同士を対向させて突き
合わされ、これら金属磁性膜の突合わせ面間に磁気ギャ
ップが構成されてなる磁気ヘッドにおいて、上記補助コアの少なくとも一部がＺｒＯ₂を主体とする
非磁性酸化物材料よりなることを特徴とする磁気ヘッ
ド。
【請求項８】補助コアと金属磁性膜よりなる磁気コア
半体同士が上記金属磁性膜の端面同士を対向させて突き
合わされ、これら金属磁性膜の突合わせ面間に磁気ギャ
ップが構成されてなる磁気ヘッドにおいて、上記補助コアは、磁気ギャップが構成されるフロント側
がＺｒＯ₂を主体とする非磁性酸化物材料とされ、バッ
ク側が酸化物磁性材料であることを特徴とする磁気ヘッ
ド。
【請求項９】非磁性酸化物材料は、ＺｒＯ₂を９０重
量％以上含有することを特徴とする請求項７又は請求項
８記載の磁気ヘッド。
【請求項１０】金属磁性膜は、一対の補助コアによっ
てその膜厚方向より挾み込まれてなることを特徴とする
請求項９記載の磁気ヘッド。
【請求項１１】金属磁性膜は、磁気ギャップ面に対し
て１０〜７０度の角度を有することを特徴とする請求項
９記載の磁気ヘッド。