JPH0644093A - 二重化装置切替方式 - Google Patents
二重化装置切替方式Info
- Publication number
- JPH0644093A JPH0644093A JP4079676A JP7967692A JPH0644093A JP H0644093 A JPH0644093 A JP H0644093A JP 4079676 A JP4079676 A JP 4079676A JP 7967692 A JP7967692 A JP 7967692A JP H0644093 A JPH0644093 A JP H0644093A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processor
- change
- over
- switching
- operating state
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- Withdrawn
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- Hardware Redundancy (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】プロセッサ搭載する二重化装置の系切替におい
て、プロセッサが障害時でも強制的に系切替を実行させ
る。 【構成】二重化装置内に現用から予備への動作状態指示
の変化を検出する変化検出回路２と、動作状態指示情報
の変化で起動される監視タイマー４と、プロセッサ１か
らのアクノレッジ信号か監視タイマー４からのオーバー
フロー信号のいずれかをトリガにして系切替を実行する
制御回路３とを備えている。プロセッサ１の正常時は、
動作状態の変化を伝達されたプロセッサからのアクノレ
ッジ信号により系切替（動作状態の切替）が行なわれ、
プロセッサ障害時でアクノレッジ信号が出力されない場
合は、監視タイマー４のオーバーフロー信号をトリガに
系切替えが行なわれる。
て、プロセッサが障害時でも強制的に系切替を実行させ
る。 【構成】二重化装置内に現用から予備への動作状態指示
の変化を検出する変化検出回路２と、動作状態指示情報
の変化で起動される監視タイマー４と、プロセッサ１か
らのアクノレッジ信号か監視タイマー４からのオーバー
フロー信号のいずれかをトリガにして系切替を実行する
制御回路３とを備えている。プロセッサ１の正常時は、
動作状態の変化を伝達されたプロセッサからのアクノレ
ッジ信号により系切替（動作状態の切替）が行なわれ、
プロセッサ障害時でアクノレッジ信号が出力されない場
合は、監視タイマー４のオーバーフロー信号をトリガに
系切替えが行なわれる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はプロセッサを有する二重
化装置における現用系及び予備系の系切替方式に関す
る。
化装置における現用系及び予備系の系切替方式に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来のプロセッサを有する二重化装置の
切替方式では、切替指示があると、プロセッサ制御によ
り切替時の準備処理を実行した後に、切替を実行してい
た。
切替方式では、切替指示があると、プロセッサ制御によ
り切替時の準備処理を実行した後に、切替を実行してい
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この従来の切替方式で
は、プロセッサが準備処理を実行し、プロセッサよりの
アクノレッジ信号が出力されたことにより、切替が実行
されるので、プロセッサに障害が発生すると、アクノレ
ッジ信号が出力されず切替が実行されなくなる問題点が
ある。
は、プロセッサが準備処理を実行し、プロセッサよりの
アクノレッジ信号が出力されたことにより、切替が実行
されるので、プロセッサに障害が発生すると、アクノレ
ッジ信号が出力されず切替が実行されなくなる問題点が
ある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の二重化装置切替
方式は、プロセッサを有する二重化装置における現用系
と予備系との動作状態の切替方式において、前記二重化
装置内に上位装置からの動作状態指示情報の変化を検出
し前記プロセッサに伝達する手段と、前記動作状態指示
情報の変化時点からの一定時間を監視するタイマーと、
前記プロセッサからのアクノレッジ信号と前記監視タイ
マーからのオーバーフロー信号とのどちらかの信号の受
信により動作状態を切替える制御回路とを備えている。
方式は、プロセッサを有する二重化装置における現用系
と予備系との動作状態の切替方式において、前記二重化
装置内に上位装置からの動作状態指示情報の変化を検出
し前記プロセッサに伝達する手段と、前記動作状態指示
情報の変化時点からの一定時間を監視するタイマーと、
前記プロセッサからのアクノレッジ信号と前記監視タイ
マーからのオーバーフロー信号とのどちらかの信号の受
信により動作状態を切替える制御回路とを備えている。
【０００５】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【０００６】図１は本発明の一実施例のブロック図であ
る。二重化装置の片系を０系、他の片系を１系とここで
は呼び、０系，１系は同一構成である。０系，１系とも
プロセッサ１と、動作状態指示情報の変化検出回路２
と、動作状態を切替える制御回路３と、動作状態指示情
報の変化からの時間を監視する監視タイマー３とを有し
ている。
る。二重化装置の片系を０系、他の片系を１系とここで
は呼び、０系，１系は同一構成である。０系，１系とも
プロセッサ１と、動作状態指示情報の変化検出回路２
と、動作状態を切替える制御回路３と、動作状態指示情
報の変化からの時間を監視する監視タイマー３とを有し
ている。
【０００７】次に、０系が現用系から予備系へ、１系が
予備系から現用系へ切替るケースについて説明する。
予備系から現用系へ切替るケースについて説明する。
【０００８】０系に対し、上位装置からの動作状態指示
は現用から予備へ変化し、変化検出回路２がこの変化を
検出しプロセッサ１に伝達する。一方、監視タイマー４
は、変化時点よりタイマーが起動される。プロセッサ１
は、切替準備処理終了後、両系の制御回路３にアクノレ
ッジ信号を出力する。同様に、１系に対しても動作状態
指示は予備から現用に変化し、以降０系と同様にプロセ
ッサ１は両系にアクノレッジ信号を出力する。各々の系
の制御回路３は、両系のプロセッサ１からのアクノレッ
ジ信号を受信した時点で系切替を実行する。
は現用から予備へ変化し、変化検出回路２がこの変化を
検出しプロセッサ１に伝達する。一方、監視タイマー４
は、変化時点よりタイマーが起動される。プロセッサ１
は、切替準備処理終了後、両系の制御回路３にアクノレ
ッジ信号を出力する。同様に、１系に対しても動作状態
指示は予備から現用に変化し、以降０系と同様にプロセ
ッサ１は両系にアクノレッジ信号を出力する。各々の系
の制御回路３は、両系のプロセッサ１からのアクノレッ
ジ信号を受信した時点で系切替を実行する。
【０００９】プロセッサ１に障害が発生し、アクノレッ
ジ信号を両系プロセッサ１から受信できない時は、各々
の系の監視タイマー４がオーバーフロー信号を出力し、
制御回路３はオーバーフロー信号により切替を実行す
る。この監視タイマー４のオーバーフロー時間は、プロ
セッサ１が正常時にアクノレッジ信号を返答するのに要
する時間より大きく設定する必要がある。
ジ信号を両系プロセッサ１から受信できない時は、各々
の系の監視タイマー４がオーバーフロー信号を出力し、
制御回路３はオーバーフロー信号により切替を実行す
る。この監視タイマー４のオーバーフロー時間は、プロ
セッサ１が正常時にアクノレッジ信号を返答するのに要
する時間より大きく設定する必要がある。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、動作状態
指示情報の変化時点から一定時間を監視するタイマーを
備えることにより、プロセッサ正常時には情報欠落のな
い連続的な切替を提供することができ、プロセッサ障害
時でも強制的に切替を実行することができ、二重化装置
の信頼生を高めることができる。
指示情報の変化時点から一定時間を監視するタイマーを
備えることにより、プロセッサ正常時には情報欠落のな
い連続的な切替を提供することができ、プロセッサ障害
時でも強制的に切替を実行することができ、二重化装置
の信頼生を高めることができる。
【図１】本発明の一実施例のブロック図である。
１ プロセッサ ２ 変化検出回路 ３ 制御回路 ４ 監視タイマー
Claims (1)
- 【請求項１】 プロセッサを有する二重化装置における
現用系と予備系との動作状態の切替方式において、前記
二重化装置内に上位装置からの動作状態指示情報の変化
を検出し前記プロセッサに伝達する手段と、前記動作状
態指示情報の変化時点からの一定時間を監視するタイマ
ーと、前記プロセッサからのアクノレッジ信号と前記監
視タイマーからのオーバーフロー信号とのどちらかの信
号の受信により動作状態を切替える制御回路とを備える
ことを特徴とする二重化装置切替方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4079676A JPH0644093A (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 二重化装置切替方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4079676A JPH0644093A (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 二重化装置切替方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0644093A true JPH0644093A (ja) | 1994-02-18 |
Family
ID=13696805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4079676A Withdrawn JPH0644093A (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 二重化装置切替方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644093A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6730916B1 (en) | 1999-10-22 | 2004-05-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam lithography apparatus |
| US6872951B2 (en) | 2000-03-31 | 2005-03-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron optical system array, charged-particle beam exposure apparatus using the same, and device manufacturing method |
| US6872950B2 (en) | 2000-03-31 | 2005-03-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron optical system array, method of fabricating the same, charged-particle beam exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US6872952B2 (en) | 2000-03-31 | 2005-03-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron optical system array, method of manufacturing the same, charged-particle beam exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US6903345B2 (en) | 2000-03-31 | 2005-06-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron optical system, charged-particle beam exposure apparatus using the same, and device manufacturing method |
| US6965153B1 (en) | 2000-03-31 | 2005-11-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrooptic system array, charged-particle beam exposure apparatus using the same, and device manufacturing method |
-
1992
- 1992-04-01 JP JP4079676A patent/JPH0644093A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6730916B1 (en) | 1999-10-22 | 2004-05-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam lithography apparatus |
| US6872951B2 (en) | 2000-03-31 | 2005-03-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron optical system array, charged-particle beam exposure apparatus using the same, and device manufacturing method |
| US6872950B2 (en) | 2000-03-31 | 2005-03-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron optical system array, method of fabricating the same, charged-particle beam exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US6872952B2 (en) | 2000-03-31 | 2005-03-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron optical system array, method of manufacturing the same, charged-particle beam exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US6903345B2 (en) | 2000-03-31 | 2005-06-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron optical system, charged-particle beam exposure apparatus using the same, and device manufacturing method |
| US6965153B1 (en) | 2000-03-31 | 2005-11-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrooptic system array, charged-particle beam exposure apparatus using the same, and device manufacturing method |
| US7038226B2 (en) | 2000-03-31 | 2006-05-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrooptic system array, charged-particle beam exposure apparatus using the same, and device manufacturing method |
| US7126141B2 (en) | 2000-03-31 | 2006-10-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrooptic system array, charged-particle beam exposure apparatus using the same, and device manufacturing method |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990608 |