JPH0637355U - ウエハ用メッキ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウエハの下面に接触しているメッキ液中の気
泡を完全に除去する。 【構成】 カップ２の上面の所定の一領域にはメッキ液
流出口２１が設けられ、該メッキ液流出口２１と対向す
る側におけるカップ２内の底部にはメッキ液噴流口５が
設けられている。そして、メッキ液噴流口５からカップ
２内に噴流されたメッキ液４はウエハ１２の下面に沿っ
てメッキ液噴流口５に対応する側からメッキ液流出口２
１に対応する側に向かって一方向に流れ、１つのメッキ
液流出口２１からオーバーフローされることになる。こ
の場合、メッキ液流出口２１が１つであるので、このメ
ッキ液流出口２１を通過するメッキ液４の流れが比較的
速く、しかもメッキ液４をウエハ１２の被メッキ面に沿
って所定の一方向に流した後オーバーフローさせている
ので、ウエハ１２の下面に接触しているメッキ液４中の
気泡をどこにも停留させることなくスムーズに排除する
ことができる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

この考案は半導体ウエハにメッキを施すためのウエハ用メッキ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

例えば、半導体ウエハ（以下、単にウエハという）にバンプ電極を形成する場 合、ウエハのバンプ電極形成面（被メッキ面）にメッキレジスト層を形成し、こ のメッキレジスト層をエッチングして開口を形成することにより、この開口を介 してパッド部を露出させ、この露出したパッド部にウエハ用メッキ装置を用いて 金等のメッキを施し、この施したメッキによってバンプ電極を形成している。

【０００３】 ところで、従来のウエハ用メッキ装置は、メッキ液が噴流されるカップの上面 とその上側に配置されるウエハの被メッキ面の周囲との間にほぼ全体にわたって 隙間を設け、この隙間からメッキ液をオーバーフローさせることにより、メッキ 液を回収するようになっている。しかしながら、ウエハの被メッキ面の周囲の所 定の複数個所に設けられたメッキ用接続端子に接続されるカソード電極をカップ の上面に設けているので、カソード電極がオーバーフローするメッキ液と接触し てメッキされるのを防止し、ひいてはメッキ液中の高価な金（メッキ金属）が無 駄に消費されるのを防止するために、カソード電極の部分を複雑な構造とする必 要がある。

【０００４】 そこで、最近では、カップの上面にウエハの被メッキ面の周囲を密接させて配 置し、カソード電極の部分を簡単な構造としたウエハ用メッキ装置が考えられて いる。図３（Ａ）、（Ｂ）は従来のこのようなウエハ用メッキ装置を示したもの である。このウエハ用メッキ装置では、メッキ槽１内にカップ２が設けられてい る。カップ２は、カップ本体の上面にリング状のゴムシート２ａが設けられた構 造となっている。ゴムシート２ａの厚さは無負荷のとき全体にわたって均一とな っている。メッキ槽１とカップ２とは液路３によって連通されている。液路３に は、メッキ槽１内に収容されているメッキ液（イオン化された金を含む）４をカ ップ２内の底部中央に設けられたメッキ液噴流口５からカップ２内に噴流させる ための噴流ポンプ６が介在されている。カップ２内の底部には網状のアノード電 極７が設けられている。アノード電極７はリード線８を介して図示しない電源装 置の陽極に接続されている。カップ２の上壁部の等間隔ずつ離間する多数の個所 にはメッキ液流出孔９が放射状に設けられている。ゴムシート２ａの上面の等間 隔ずつ離間する所定の３個所には、側面ほぼＬ字状のカソード電極１０がその端 部をゴムシート２ａの内周端よりも所定の距離だけ外側に位置させられた状態で 設けられている。カソード電極１０はリード線１１を介して電源装置の陰極に接 続されている。

【０００５】 ゴムシート２ａの上面および３つのカソード電極１０の所定の上面にはウエハ １２の下面（被メッキ面）の周囲が密接されて配置されている。この場合、図示 していないが、ウエハ１２は、メッキ槽１の上部に取り付けられた上蓋の下面に 設けられた板バネによって押え付けられている。このため、ウエハ１２がカソー ド電極１０を押え付けることにより、カソード電極１０がゴムシート２ａにこれ を弾性変形させつつ食い込み、ウエハ１２の下面の周囲がゴムシート２ａの上面 に密接され、その間が液密状態となっている。また、ウエハ１２は、詳細には図 示していないが、既に説明したように、下面（バンプ電極形成面）に形成された メッキレジスト層に開口が形成されていることにより、この開口を介してパッド 部が露出され、さらにカソード電極１０の所定の上面と接触する部分にメッキ用 接続端子が設けられた構造となっている。

【０００６】 そして、このウエハ用メッキ装置の噴流ポンプ６が駆動すると、メッキ槽１内 に収容されているメッキ液４がメッキ液噴流口５からアノード電極７を通過して カップ２内に噴流され、ウエハ１２の下面中央部に噴き付けられる。ウエハ１２ の下面中央部に噴き付けられたメッキ液４は、例えば図３（Ａ）において矢印で 示すように、ウエハ１２の下面に沿って外側に向かって放射状に流れ、多数のメ ッキ液流出孔９から流出してメッキ槽１内に回収される。このとき、アノード電 極７とカソード電極１０との間にメッキ電流を流すと、ウエハ１２の下面に露出 したパッド部に金メッキが施され、この施された金メッキによってバンプ電極が 形成される。

【０００７】 ところで、このウエハ用メッキ装置では、ウエハ１２の下面の周囲をゴムシー ト２ａの上面に密接させてその間を液密状態としているので、この間からメッキ 液４が流出しないようにすることができ、またカソード電極１０の端部をゴムシ ート２ａの内周端よりも所定の距離だけ外側に位置させているので、カソード電 極１０がメッキ液４と全く接触しないようにすることができる。この結果、カッ プ２の上面に設けたカソード電極１０がメッキ液４と接触してメッキされるのを 防止することができる上、カソード電極１０の部分を簡単な構造とすることがで きる。また、メッキ液４をカップ２内の底部中央に設けたメッキ液噴流口５から カップ２内に噴流させるとともにカップ２の上壁部に放射状に設けた多数のメッ キ液流出孔９から流出させるようにしているので、ウエハ１２の下面に常に新し いメッキ液４を供給することができる。

【０００８】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、従来のこのようなウエハ用メッキ装置では、メッキ液４の回収 をカップ２の上壁部に放射状に設けた多数のメッキ液流出孔９を介して行なって いるので、各メッキ液流出孔９を通過するメッキ液４の流れが比較的遅く、一方 、相隣接するメッキ液流出孔９間にある程度の間隔が存在し、このため例えば図 ３（Ｂ）に示すように、相隣接するメッキ液流出孔９の中間部に気泡１３が停留 しやすく、またゴムシート２ａの上面とメッキ液流出孔９との間にある程度の間 隔が存在し、このためこの部分にも気泡が停留しやすく、さらに以上のような部 分に気泡が当初から存在している場合にはこれを排除しがたく、ひいてはウエハ １２の下面に接触しているメッキ液４中の気泡を完全に除去することができず、 メッキ不良が発生してしまうことがあるという問題があった。 この考案の目的は、ウエハの下面に接触しているメッキ液中の気泡を完全に除 去することのできるウエハ用メッキ装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】

この考案は、メッキ液が噴流されるカップの上面にウエハの被メッキ面の周囲 を密接させて配置するようにしたウエハ用メッキ装置において、前記カップの上 面の一領域にメッキ液流出口を設けるとともに、該メッキ液流出口と対向する側 における前記カップ内の底部にメッキ液噴流口を設けたものである。

【００１０】

【作用】

この考案によれば、メッキ液噴流口からカップ内に噴流されたメッキ液がウエ ハの被メッキ面に沿ってメッキ液噴流口に対応する側からメッキ液流出口に対応 する側に向かって一方向に流れ、１つのメッキ液流出口からオーバーフローされ ることになる。この場合、メッキ液流出口が１つであるので、このメッキ液流出 口を通過するメッキ液の流れが比較的速く、しかもメッキ液をウエハの被メッキ 面に沿って所定の一方向に流した後オーバーフローさせているので、ウエハの下 面に接触しているメッキ液中の気泡をどこにも停留させることなくスムーズに排 除することができ、したがってウエハの下面に接触しているメッキ液中の気泡を 完全に除去することができる。

【００１１】

【実施例】

図１（Ａ）、（Ｂ）はこの考案の一実施例におけるウエハ用メッキ装置を示し たものである。これらの図において、図３（Ａ）、（Ｂ）と同一名称部分には同 一の符号を付し、その説明を適宜省略する。このウエハ用メッキ装置におけるカ ップ２は、カップ本体の上面にほぼＣ字状のゴムシート２ａが設けられ、ゴムシ ート２ａが設けられていない部分によって１つの領域にメッキ液流出口２１が形 成された構造となっている。また、メッキ液流出口２１と対向する側におけるカ ップ２内の底部にはメッキ液噴流口５が設けられている。

【００１２】 そして、このウエハ用メッキ装置の噴流ポンプ６が駆動すると、メッキ槽１内 に収容されているメッキ液４がメッキ液噴流口５からアノード電極７を通過して カップ２内に噴流され、ウエハ１２の下面一端部（図１（Ｂ）において例えば時 計の９時の部分）に噴き付けられる。ウエハ１２の下面一端部に噴き付けられた メッキ液４は、例えば図１（Ｂ）において矢印で示すように、ウエハ１２の下面 に沿ってメッキ液噴流口５に対応する側からメッキ液流出口２１に対応する側に 向かって一方向に流れ、１つのメッキ液流出口２１からオーバーフローしてメッ キ槽１内に回収される。このとき、アノード電極７とカソード電極１０との間に メッキ電流を流すと、ウエハ１２の下面に露出したパッド部に金メッキが施され 、この施された金メッキによってバンプ電極が形成される。

【００１３】 このように、このウエハ用メッキ装置では、メッキ液噴流口５からカップ２内 に噴流されたメッキ液４がウエハ１２の下面に沿ってメッキ液噴流口５に対応す る側からメッキ液流出口２１に対応する側に向かって一方向に流れ、１つのメッ キ液流出口２１からオーバーフローされることになる。この場合、メッキ液流出 口２１が１つであるので、このメッキ液流出口２１を通過するメッキ液４の流れ が比較的速く、しかもメッキ液４をウエハ１２の被メッキ面に沿って所定の一方 向に流した後オーバーフローさせているので、ウエハ１２の下面に接触している メッキ液４中の気泡をどこにも停留させることなくスムーズに排除することがで き、したがってウエハ１２の下面に接触しているメッキ液４中の気泡を完全に除 去することができ、ひいてはメッキ不良が発生しないようにすることができる。

【００１４】 なお、上記実施例ではカップ２の上面を水平としているが、例えば図２に示す ように、カップ２の上面をメッキ液流出口２１を最も上側に位置させてある程度 傾斜させるようにしてもよい。このようにすると、メッキ液４中において上方へ 移動する傾向にある気泡をより一層スムーズに排除することができる。

【００１５】

【考案の効果】

以上説明したように、この考案によれば、メッキ液噴流口からカップ内に噴流 されたメッキ液をウエハの被メッキ面に沿って所定の一方向に比較的速い流速で 流した後１つのメッキ液流出口からオーバーフローさせているので、ウエハの下 面に接触しているメッキ液中の気泡をどこにも停留させることなくスムーズに排 除することができ、したがってウエハの下面に接触しているメッキ液中の気泡を 完全に除去することができ、ひいてはメッキ不良が発生しないようにすることが できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（Ａ）はこの考案の一実施例におけるウエハ用
メッキ装置の断面図、（Ｂ）はその一部の平面図。

【図２】この考案の他の実施例におけるウエハ用メッキ
装置の断面図。

【図３】（Ａ）は従来のウエハ用メッキ装置の断面図、
（Ｂ）はその一部の平面図。

【符号の説明】

１ メッキ槽 ２ カップ ４ メッキ液 ５ メッキ液噴流口 １２ ウエハ ２１ メッキ液流出口

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 メッキ液が噴流されるカップの上面にウ
   エハの被メッキ面の周囲を密接させて配置するようにし
   たウエハ用メッキ装置において、 前記カップの上面の一領域にメッキ液流出口を設けると
   ともに、該メッキ液流出口と対向する側における前記カ
   ップ内の底部にメッキ液噴流口を設けたことを特徴とす
   るウエハ用メッキ装置。
2. 【請求項２】 前記カップの上面は前記メッキ液流出口
   が最も上側に位置するように傾斜していることを特徴と
   する請求項１記載のウエハ用メッキ装置。