JPH06271576A - イミダゾール誘導体の製法 - Google Patents
イミダゾール誘導体の製法Info
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- JPH06271576A JPH06271576A JP5060067A JP6006793A JPH06271576A JP H06271576 A JPH06271576 A JP H06271576A JP 5060067 A JP5060067 A JP 5060067A JP 6006793 A JP6006793 A JP 6006793A JP H06271576 A JPH06271576 A JP H06271576A
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- C07D487/12—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains three hetero rings
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 一般式（Ｉ）で示される化合物にジイミド
（ＨＮ＝ＮＨ）を反応させて、一般式（II）で示される
イミダゾール誘導体またはその薬理学的に許容されるエ
ステルもしくは塩を製造する。 〔式中、Ｒは（置換）ベンジル、（置換）４−ビフェニ
ルメチル等；Ｒ１はＨ、低級アルキル、低級アルコキ
シ、ＣＦ３、アリール等；Ｒ２乃至Ｒ５はＨ、低級アル
キル、あるいはＲ２−Ｒ３，Ｒ４−Ｒ５で＝Ｏ；Ｒ１３
乃至Ｒ１８はＨ、低級（フルオロ）アルキル等、又はＲ
１６−Ｒ１８で−（ＣＨ２）ｉ−；ｉは１，２，３をそ
れぞれ表す〕 【効果】 イミダゾール誘導体のＣ環の開裂反応を伴う
ことなく、同環二重結合の還元の選択性を向上させる。
（ＨＮ＝ＮＨ）を反応させて、一般式（II）で示される
イミダゾール誘導体またはその薬理学的に許容されるエ
ステルもしくは塩を製造する。 〔式中、Ｒは（置換）ベンジル、（置換）４−ビフェニ
ルメチル等；Ｒ１はＨ、低級アルキル、低級アルコキ
シ、ＣＦ３、アリール等；Ｒ２乃至Ｒ５はＨ、低級アル
キル、あるいはＲ２−Ｒ３，Ｒ４−Ｒ５で＝Ｏ；Ｒ１３
乃至Ｒ１８はＨ、低級（フルオロ）アルキル等、又はＲ
１６−Ｒ１８で−（ＣＨ２）ｉ−；ｉは１，２，３をそ
れぞれ表す〕 【効果】 イミダゾール誘導体のＣ環の開裂反応を伴う
ことなく、同環二重結合の還元の選択性を向上させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、イミダゾール誘導体の
製法に関する。特に、本発明は、高血圧、鬱血性心不
全、腎不全、緑内障および高尿酸血症等に有用なイミダ
ゾール誘導体およびその中間体の製法に関する。
製法に関する。特に、本発明は、高血圧、鬱血性心不
全、腎不全、緑内障および高尿酸血症等に有用なイミダ
ゾール誘導体およびその中間体の製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明者らは高血圧、鬱血性心不全、腎
不全、緑内障および高尿酸血症等の予防・治療剤として
のアンジオテンシンII拮抗剤に注目し、長期間の保存に
耐えられ、高活性でかつ静脈内注射した際の作用発現が
速やかで、また経口投与した際の体内への吸収移行性が
良好で、毒性が低く、作用持続時間の長い薬剤について
鋭意研究を重ねた結果、化学式：
不全、緑内障および高尿酸血症等の予防・治療剤として
のアンジオテンシンII拮抗剤に注目し、長期間の保存に
耐えられ、高活性でかつ静脈内注射した際の作用発現が
速やかで、また経口投与した際の体内への吸収移行性が
良好で、毒性が低く、作用持続時間の長い薬剤について
鋭意研究を重ねた結果、化学式：
【化９】 で示されるヒドラジン橋かけ構造を有する新規イミダゾ
ール誘導体を見い出し、既に特許出願した(特願平３−
２７７５３７、特願平３−３２３４７４、特願平４−０
９５１９１、特願平４−２１６８０９)。
ール誘導体を見い出し、既に特許出願した(特願平３−
２７７５３７、特願平３−３２３４７４、特願平４−０
９５１９１、特願平４−２１６８０９)。
【０００３】上記イミダゾール化合物の製法において、
ディールス・アルダー(Diels Alder)反応によって生成
する化合物のＣ環二重結合を還元する場合（下記反応経
路参照）、特にＲがベンジル基等の保護基であるときに
は、脱ベンジル化等の脱保護反応が同時に可能となる水
酸化パラジウム触媒を用いたメタノール中、水素ガス雰
囲気下で還元反応を行うのが一般的である。しかしなが
ら、この還元反応では、Ｒ13基やＲ17基の種類、大きさ
および反応条件によっても異なるが、特に−Ｐ−で示さ
れるＣ環がビシクロを形成する化合物(１)の場合は、目
的の化合物(２)以外に、１０〜６０％の環開裂体(３)が
副生成物として生成するため、カラムクロマトグラフィ
ーによる精製が不可欠であり、また収率の点からも決し
て満足のいくものではなく、大量合成のプロセスとして
は経済性に問題があった。
ディールス・アルダー(Diels Alder)反応によって生成
する化合物のＣ環二重結合を還元する場合（下記反応経
路参照）、特にＲがベンジル基等の保護基であるときに
は、脱ベンジル化等の脱保護反応が同時に可能となる水
酸化パラジウム触媒を用いたメタノール中、水素ガス雰
囲気下で還元反応を行うのが一般的である。しかしなが
ら、この還元反応では、Ｒ13基やＲ17基の種類、大きさ
および反応条件によっても異なるが、特に−Ｐ−で示さ
れるＣ環がビシクロを形成する化合物(１)の場合は、目
的の化合物(２)以外に、１０〜６０％の環開裂体(３)が
副生成物として生成するため、カラムクロマトグラフィ
ーによる精製が不可欠であり、また収率の点からも決し
て満足のいくものではなく、大量合成のプロセスとして
は経済性に問題があった。
【０００４】
【化１０】
【０００５】なお、本副反応には、以下に示すようなπ
−アリル−パラジウム錯体の生成が関与している可能性
が考えられる。しかしながら、水酸化パラジウムの代わ
りに酸化白金およびパラジウム炭素を用いた場合におい
ても同様の副反応が観察されており、その詳細について
は未だ明かではない。また、リンドラー触媒ではこの副
反応はほとんど起こらないことが判明したが、大量合成
の際に原料に含まれる不純物によるためか、目的の反応
が進行しないこともあり、再現性の点で問題があった。
−アリル−パラジウム錯体の生成が関与している可能性
が考えられる。しかしながら、水酸化パラジウムの代わ
りに酸化白金およびパラジウム炭素を用いた場合におい
ても同様の副反応が観察されており、その詳細について
は未だ明かではない。また、リンドラー触媒ではこの副
反応はほとんど起こらないことが判明したが、大量合成
の際に原料に含まれる不純物によるためか、目的の反応
が進行しないこともあり、再現性の点で問題があった。
【０００６】
【化１１】
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、大量
合成においても高収率が達成され、さらに煩雑な精製工
程の必要性をなくすべく、前記イミダゾール誘導体にお
けるＣ環二重結合の還元の選択性を向上させることにあ
る。
合成においても高収率が達成され、さらに煩雑な精製工
程の必要性をなくすべく、前記イミダゾール誘導体にお
けるＣ環二重結合の還元の選択性を向上させることにあ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らはかかる課題
を解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、含Ｃ環イミダゾ
ール化合物をジイミド（ＨＮ＝ＮＨ）に反応させること
により、Ｃ環の開裂反応を伴うことなしにＣ環二重結合
を選択的に還元できることを見い出し、本発明を完成す
るに至った。
を解決すべく、鋭意検討を重ねた結果、含Ｃ環イミダゾ
ール化合物をジイミド（ＨＮ＝ＮＨ）に反応させること
により、Ｃ環の開裂反応を伴うことなしにＣ環二重結合
を選択的に還元できることを見い出し、本発明を完成す
るに至った。
【０００９】すなわち、本発明は、一般式（Ｉ）:
【化１２】 [式中、Ｒ1は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルアミノ基、低
級アルケニル基、−ＣＦ3基、アリール基またはアラル
キル基；Ｒは水素原子、あるいは次に示す群から選択さ
れる基；
シ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルアミノ基、低
級アルケニル基、−ＣＦ3基、アリール基またはアラル
キル基；Ｒは水素原子、あるいは次に示す群から選択さ
れる基；
【化１３】 ここに、Ｘは−ＣＨ2−、−ＮＲ'−、酸素原子または−
Ｓ(Ｏ)n−を表し、ここに、Ｒ'は水素原子または低級ア
ルキル基、ここに、ｎは０、１または２;ここに、Ｘ1、
Ｘ2およびＸ3は、各々、独立して、水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、
シアノ基、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基もしくはそ
のアルカリ金属塩、−ＣＯ2Ｒ7基、−ＣＯＮＲ'Ｒ"基、
−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ8基、アミノ基、−ＮＨＳＯ2ＣＦ3基
または−ＳＯ3Ｈ基、あるいは次に示す群から選択され
る基;
Ｓ(Ｏ)n−を表し、ここに、Ｒ'は水素原子または低級ア
ルキル基、ここに、ｎは０、１または２;ここに、Ｘ1、
Ｘ2およびＸ3は、各々、独立して、水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、
シアノ基、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基もしくはそ
のアルカリ金属塩、−ＣＯ2Ｒ7基、−ＣＯＮＲ'Ｒ"基、
−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ8基、アミノ基、−ＮＨＳＯ2ＣＦ3基
または−ＳＯ3Ｈ基、あるいは次に示す群から選択され
る基;
【化１４】 Ｙはシアノ基、ベンジル基、トシル基、メトキシメチル
基、エトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基また
はトリメチルシリルエトキシメチル基で置換されていて
もよい１Ｈ−テトラゾール−５−イル基もしくはそのア
ルカリ金属塩、−ＣＯ2Ｒ7基、−ＣＯＮＲ'Ｒ"基、−Ｃ
ＯＮＨＳＯ2Ｒ8基、アミノ基、−ＮＨＳＯ2ＣＦ3基また
は−ＳＯ3Ｈ基;Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、各々、独立
して、水素原子または低級アルキル基を表すか、あるい
はＲ2およびＲ3、またはＲ4およびＲ5はそれぞれ一緒に
なって＝Ｏ結合を形成してもよく;Ｒ6は水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基、−ＣＦ3基または−ＣＦ2Ｃ
Ｆ3基;Ｒ7は水素原子、アルカリ金属原子または低級ア
ルキル基;Ｒ'およびＲ"は、各々、独立して、水素原子
または低級アルキル基を表すか、あるいはＲ'およびＲ"
は一緒になって脂環式構造を形成してもよく;Ｒ8は低級
アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基;Ｒ9は
低級アルキル基、低級アルコキシ基、シクロアルキル
基、シクロアルコキシ基、アリール基またはアリールオ
キシ基;Ｒ10、Ｒ11およびＲ12は、各々、独立して、水
素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、ニトロ基、シアノ基、−ＣＯ2Ｒ7基または−ＣＯ
ＮＲ'Ｒ"基;Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17およびＲ18
は、各々、独立して、水素原子、低級アルキル基、低級
フルオロアルキル基、−Ｃ(Ｒ')(Ｒ")−ＯＲ19基、−
(ＣＨ2)j−ＣＯ2Ｒ7基、−(ＣＨ2)j−ＣＮ基、−(Ｃ
Ｈ2)j−Ｃ(＝Ｏ)Ｒ'基、−(ＣＨ2)j−ＣＯＮＲ'Ｒ"基ま
たは−(ＣＨ2)j−Ａryl基を表し、ここに、jは０、１ま
たは２、ここに、Ｒ16およびＲ18は一緒になって−(Ｃ
Ｈ2)i−基を形成してもよく、ここに、ｉは１、２また
は３、ここに、Ａrylはハロゲン原子、低級アルキル
基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、ニトロ基または
シアノ基で置換されていてもよい、フェニル基、ピリジ
ル基、ピリミジル基、ピリダジニル基、フリル基、テニ
ル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、
オキサジアゾリル基またはイソオキサゾリル基;Ｒ19は
水素原子、あるいはヒドロキシ基またはエーテル基で置
換されていてもよい低級アルキル基を表す]で示される
化合物にジイミド(ＨＮ＝ＮＨ)を反応させて、Ｃ環二重
結合を選択的に還元することによる、一般式（II）：
基、エトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基また
はトリメチルシリルエトキシメチル基で置換されていて
もよい１Ｈ−テトラゾール−５−イル基もしくはそのア
ルカリ金属塩、−ＣＯ2Ｒ7基、−ＣＯＮＲ'Ｒ"基、−Ｃ
ＯＮＨＳＯ2Ｒ8基、アミノ基、−ＮＨＳＯ2ＣＦ3基また
は−ＳＯ3Ｈ基;Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、各々、独立
して、水素原子または低級アルキル基を表すか、あるい
はＲ2およびＲ3、またはＲ4およびＲ5はそれぞれ一緒に
なって＝Ｏ結合を形成してもよく;Ｒ6は水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基、−ＣＦ3基または−ＣＦ2Ｃ
Ｆ3基;Ｒ7は水素原子、アルカリ金属原子または低級ア
ルキル基;Ｒ'およびＲ"は、各々、独立して、水素原子
または低級アルキル基を表すか、あるいはＲ'およびＲ"
は一緒になって脂環式構造を形成してもよく;Ｒ8は低級
アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基;Ｒ9は
低級アルキル基、低級アルコキシ基、シクロアルキル
基、シクロアルコキシ基、アリール基またはアリールオ
キシ基;Ｒ10、Ｒ11およびＲ12は、各々、独立して、水
素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、ニトロ基、シアノ基、−ＣＯ2Ｒ7基または−ＣＯ
ＮＲ'Ｒ"基;Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17およびＲ18
は、各々、独立して、水素原子、低級アルキル基、低級
フルオロアルキル基、−Ｃ(Ｒ')(Ｒ")−ＯＲ19基、−
(ＣＨ2)j−ＣＯ2Ｒ7基、−(ＣＨ2)j−ＣＮ基、−(Ｃ
Ｈ2)j−Ｃ(＝Ｏ)Ｒ'基、−(ＣＨ2)j−ＣＯＮＲ'Ｒ"基ま
たは−(ＣＨ2)j−Ａryl基を表し、ここに、jは０、１ま
たは２、ここに、Ｒ16およびＲ18は一緒になって−(Ｃ
Ｈ2)i−基を形成してもよく、ここに、ｉは１、２また
は３、ここに、Ａrylはハロゲン原子、低級アルキル
基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、ニトロ基または
シアノ基で置換されていてもよい、フェニル基、ピリジ
ル基、ピリミジル基、ピリダジニル基、フリル基、テニ
ル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、
オキサジアゾリル基またはイソオキサゾリル基;Ｒ19は
水素原子、あるいはヒドロキシ基またはエーテル基で置
換されていてもよい低級アルキル基を表す]で示される
化合物にジイミド(ＨＮ＝ＮＨ)を反応させて、Ｃ環二重
結合を選択的に還元することによる、一般式（II）：
【化１５】 ［式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ13、Ｒ14、
Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17およびＲ18は前記定義に同じ]で示さ
れるイミダゾール誘導体またはその薬理学的に許容され
るエステルもしくは塩の製法を提供するものである。
Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17およびＲ18は前記定義に同じ]で示さ
れるイミダゾール誘導体またはその薬理学的に許容され
るエステルもしくは塩の製法を提供するものである。
【００１０】まず、本明細書中に記載された化合物の一
般式で用いる変数置換基について説明する。
般式で用いる変数置換基について説明する。
【００１１】Ｒ1で表される低級アルキル基としては、
炭素数１〜８のアルキル基、例えば、メチル、エチル、
n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、
t−ブチル、n−ペンチル、イソアミル、n−ヘキシル、n
−ヘプチル、n−オクチル等が挙げられる。Ｒ1で表され
る低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、n
−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブ
トキシ、t−ブトキシ、n−ペントキシ、イソアミロキ
シ、n−ヘキシロキシ、n−ヘプチロキシ、n−オクチロ
キシ等が挙げられる。Ｒ1で表される低級アルキルチオ
基としては、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチ
オ、イソプロピルチオ、n−ブチルチオ、n−ペンチルチ
オ、n−ヘキシルチオ、n−ヘプチルチオ、n−オクチル
チオ等が挙げられる。Ｒ1で表される低級アルキルアミ
ノ基としては、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチル
アミノ、ジエチルアミノ、n−プロピルアミノ、ジ（n−
プロピル）アミノ、イソプロピルアミノ、n−ブチルア
ミノ、n−ペンチルアミノ、ピロリジノ、ピペリジノ、
ピペラジノ、モルホリノ等が挙げられる。Ｒ1で表され
る低級アルケニル基としては、ビニル、１−プロペニ
ル、２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、１
−ブテニル、２−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペン
テニル、１−ヘキセニル、１−ヘプテニル、１−オクテ
ニル等が挙げられる。Ｒ1で表される低級アルキニル基
としては、アセチレン基、１−プロピニル、２−プロピ
ニル、１−ブチニル、２−ブチニル、１−ペンチニル、
２−ペンチニル、１−ヘキシニル、１−ヘプチニル、１
−オクチニル等が挙げられる。Ｒ1で表されるアリール
基およびアラルキル基としては、炭素数６〜１０のも
の、例えば、フェニル、ナフチル、ベンジル、フェネチ
ル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル等が挙
げられる。これらのアリール基またはアラルキル基は、
所望により、前記したような低級アルキル基、あるいは
低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基
等の置換基によって置換されていてもよい。
炭素数１〜８のアルキル基、例えば、メチル、エチル、
n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、
t−ブチル、n−ペンチル、イソアミル、n−ヘキシル、n
−ヘプチル、n−オクチル等が挙げられる。Ｒ1で表され
る低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、n
−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブ
トキシ、t−ブトキシ、n−ペントキシ、イソアミロキ
シ、n−ヘキシロキシ、n−ヘプチロキシ、n−オクチロ
キシ等が挙げられる。Ｒ1で表される低級アルキルチオ
基としては、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチ
オ、イソプロピルチオ、n−ブチルチオ、n−ペンチルチ
オ、n−ヘキシルチオ、n−ヘプチルチオ、n−オクチル
チオ等が挙げられる。Ｒ1で表される低級アルキルアミ
ノ基としては、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチル
アミノ、ジエチルアミノ、n−プロピルアミノ、ジ（n−
プロピル）アミノ、イソプロピルアミノ、n−ブチルア
ミノ、n−ペンチルアミノ、ピロリジノ、ピペリジノ、
ピペラジノ、モルホリノ等が挙げられる。Ｒ1で表され
る低級アルケニル基としては、ビニル、１−プロペニ
ル、２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、１
−ブテニル、２−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペン
テニル、１−ヘキセニル、１−ヘプテニル、１−オクテ
ニル等が挙げられる。Ｒ1で表される低級アルキニル基
としては、アセチレン基、１−プロピニル、２−プロピ
ニル、１−ブチニル、２−ブチニル、１−ペンチニル、
２−ペンチニル、１−ヘキシニル、１−ヘプチニル、１
−オクチニル等が挙げられる。Ｒ1で表されるアリール
基およびアラルキル基としては、炭素数６〜１０のも
の、例えば、フェニル、ナフチル、ベンジル、フェネチ
ル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル等が挙
げられる。これらのアリール基またはアラルキル基は、
所望により、前記したような低級アルキル基、あるいは
低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基
等の置換基によって置換されていてもよい。
【００１２】Ｒが置換または無置換のフェニルメチル基
である場合、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3で定義するハロゲン原
子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨ
ウ素原子が挙げられ、また、低級アルキル基および低級
アルコキシ基としては、前記定義の低級アルキル基およ
びアルコキシ基が挙げられる。Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が１
Ｈ−テトラゾール−５−イル基である場合、そのアルカ
リ金属塩の例としては、ナトリウム塩、カリウム塩等が
挙げられる。Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が−ＣＯ2Ｒ7基である
場合、該基におけるＲ7の例としては水素原子、リチウ
ム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属原子、前
記定義の低級アルキル基のアルコールエステル基等が挙
げられる。Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が−ＣＯＮＲ'Ｒ"基であ
る場合、該基における−ＮＲ'Ｒ"の例としては、アミ
ノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジ
エチルアミノ、n−プロピルアミノ、ジ（n−プロピル）
アミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ピロ
リジル、ピペラジノ、モルホリノ等が挙げられる。ま
た、−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ8基におけるＲ8の例としては、
メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、n
−ブチル、イソブチル、t−ブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、フェニル等が挙げられる。Ｘ1、Ｘ2お
よびＸ3が次に示す群：
である場合、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3で定義するハロゲン原
子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨ
ウ素原子が挙げられ、また、低級アルキル基および低級
アルコキシ基としては、前記定義の低級アルキル基およ
びアルコキシ基が挙げられる。Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が１
Ｈ−テトラゾール−５−イル基である場合、そのアルカ
リ金属塩の例としては、ナトリウム塩、カリウム塩等が
挙げられる。Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が−ＣＯ2Ｒ7基である
場合、該基におけるＲ7の例としては水素原子、リチウ
ム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属原子、前
記定義の低級アルキル基のアルコールエステル基等が挙
げられる。Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が−ＣＯＮＲ'Ｒ"基であ
る場合、該基における−ＮＲ'Ｒ"の例としては、アミ
ノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジ
エチルアミノ、n−プロピルアミノ、ジ（n−プロピル）
アミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ピロ
リジル、ピペラジノ、モルホリノ等が挙げられる。ま
た、−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ8基におけるＲ8の例としては、
メチル、トリフルオロメチル、エチル、n−プロピル、n
−ブチル、イソブチル、t−ブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、フェニル等が挙げられる。Ｘ1、Ｘ2お
よびＸ3が次に示す群：
【化１６】 から選択される基である場合、ＹおよびＲ７は前記定義
に同じである。Ｒ9で定義される低級アルキル基、低級
アルコキシ基は前記定義に同じである。Ｒ9がシクロア
ルキル基、シクロアルコキシ基である場合、シクロペン
チル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなど５〜７員環
化合物を示す。Ｒ9で表されるアリール基、アリールオ
キシ基の例としては、フェニル、p−ヒドロキシフェニ
ル、p−カルボキシフェニル、o−ニトロフェニルなどの
置換または無置換のフェニル化合物が挙げられる。
Ｒ10、Ｒ11およびＲ12が低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、−ＣＯ2Ｒ7基または−ＣＯＮＲ'Ｒ"基である場合
の例としては前記定義のものが挙げられる。また、Ｒが
置換ビフェニルメチル基である場合、置換基Ｙとしての
１Ｈ−テトラゾール−５−イルのアルカリ金属塩の例と
しては、ナトリウム、カリウム塩等が挙げられる。ま
た、Ｙが−ＣＯ2Ｒ7基、−ＣＯＮＲ'Ｒ"基または−ＣＯ
ＮＨＳＯ2Ｒ8基である場合、それらの基におけるＲ7、
−ＮＲ'Ｒ"およびＲ8は前記定義に同じである。また、
Ｒが次式:
に同じである。Ｒ9で定義される低級アルキル基、低級
アルコキシ基は前記定義に同じである。Ｒ9がシクロア
ルキル基、シクロアルコキシ基である場合、シクロペン
チル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなど５〜７員環
化合物を示す。Ｒ9で表されるアリール基、アリールオ
キシ基の例としては、フェニル、p−ヒドロキシフェニ
ル、p−カルボキシフェニル、o−ニトロフェニルなどの
置換または無置換のフェニル化合物が挙げられる。
Ｒ10、Ｒ11およびＲ12が低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、−ＣＯ2Ｒ7基または−ＣＯＮＲ'Ｒ"基である場合
の例としては前記定義のものが挙げられる。また、Ｒが
置換ビフェニルメチル基である場合、置換基Ｙとしての
１Ｈ−テトラゾール−５−イルのアルカリ金属塩の例と
しては、ナトリウム、カリウム塩等が挙げられる。ま
た、Ｙが−ＣＯ2Ｒ7基、−ＣＯＮＲ'Ｒ"基または−ＣＯ
ＮＨＳＯ2Ｒ8基である場合、それらの基におけるＲ7、
−ＮＲ'Ｒ"およびＲ8は前記定義に同じである。また、
Ｒが次式:
【化１７】 で示される場合、Ｒ6で表されるハロゲン原子、低級ア
ルキル基の例、Ｙが１Ｈ−テトラゾール−５−イルのア
ルカリ金属塩の例、Ｙが−ＣＯ2Ｒ7基、−ＣＯＮＲ'Ｒ"
基または−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ8基で示されるＲ7、ＮＲ'
Ｒ"およびＲ8の例は前記定義の通りである。
ルキル基の例、Ｙが１Ｈ−テトラゾール−５−イルのア
ルカリ金属塩の例、Ｙが−ＣＯ2Ｒ7基、−ＣＯＮＲ'Ｒ"
基または−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ8基で示されるＲ7、ＮＲ'
Ｒ"およびＲ8の例は前記定義の通りである。
【００１３】Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5が低級アルキル基
である場合、その例としては、炭素数１〜８のアルキル
基、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、n−ペンチ
ル、イソアミル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オク
チル等が挙げられる。
である場合、その例としては、炭素数１〜８のアルキル
基、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、n−ペンチ
ル、イソアミル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オク
チル等が挙げられる。
【００１４】Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17およびＲ18
が低級アルキル基である場合、その例としては、炭素数
１〜８のアルキル基、例えば、メチル、エチル、n−プ
ロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブ
チル、n−ペンチル、イソアミル、n−ヘキシル、n−ヘ
プチル、n−オクチル等が挙げられる。また、Ｒ13、Ｒ
14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17およびＲ18が低級フルオロアルキ
ル基である場合、その例としては、トリフルオロメチ
ル、２,２,２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエ
チル等が挙げられる。また、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、
Ｒ17およびＲ18が−(ＣＨ2)j−ＣＯ2Ｒ7、−(ＣＨ2)j−
Ｃ(＝Ｏ)Ｒ'、−Ｃ(Ｒ')(Ｒ")−ＯＲ19、−(ＣＨ2)j−
ＣＯＮＲ'Ｒ"である場合、それらの基におけるＲ7、Ｒ'
およびＲ"は前記定義に同じである。
が低級アルキル基である場合、その例としては、炭素数
１〜８のアルキル基、例えば、メチル、エチル、n−プ
ロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブ
チル、n−ペンチル、イソアミル、n−ヘキシル、n−ヘ
プチル、n−オクチル等が挙げられる。また、Ｒ13、Ｒ
14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17およびＲ18が低級フルオロアルキ
ル基である場合、その例としては、トリフルオロメチ
ル、２,２,２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエ
チル等が挙げられる。また、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、
Ｒ17およびＲ18が−(ＣＨ2)j−ＣＯ2Ｒ7、−(ＣＨ2)j−
Ｃ(＝Ｏ)Ｒ'、−Ｃ(Ｒ')(Ｒ")−ＯＲ19、−(ＣＨ2)j−
ＣＯＮＲ'Ｒ"である場合、それらの基におけるＲ7、Ｒ'
およびＲ"は前記定義に同じである。
【００１５】次に、本発明の製法で用いるジイミドは、
例えば、ヒドラジンの酸化、アゾジカルボン酸二カリウ
ム塩の酸による分解、アリールスルホヒドラジドの塩基
による分解およびヒドロキシルアミン−酢酸エステル法
等、種々の方法により発生させることができる(オーガ
ニック・リアクションズ(Organic Reactions)、４０、
９１−１５５(１９９１))。とりわけ、操作が簡便で、
また安全性が高いという観点より、p−トルエンスルホ
ヒドラジドの酢酸ナトリウムによる分解を利用する方法
が好適である。
例えば、ヒドラジンの酸化、アゾジカルボン酸二カリウ
ム塩の酸による分解、アリールスルホヒドラジドの塩基
による分解およびヒドロキシルアミン−酢酸エステル法
等、種々の方法により発生させることができる(オーガ
ニック・リアクションズ(Organic Reactions)、４０、
９１−１５５(１９９１))。とりわけ、操作が簡便で、
また安全性が高いという観点より、p−トルエンスルホ
ヒドラジドの酢酸ナトリウムによる分解を利用する方法
が好適である。
【００１６】ジイミドと一般式（Ｉ）の化合物との反応
は、室温ないし１２０℃の加温下で効率的に進行する。
反応は溶媒中で行い、溶媒の例としては、例えば、メタ
ノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶
媒もしくはテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等の
エーテル系溶媒が挙げられる。なお、ジイミドの発生方
法としてp−トルエンスルホヒドラジドを用いる場合に
は、ジメトキシエタン中で還流してジイミドを発生させ
つつ一般式（Ｉ）の化合物と反応させるのが望ましい。
は、室温ないし１２０℃の加温下で効率的に進行する。
反応は溶媒中で行い、溶媒の例としては、例えば、メタ
ノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶
媒もしくはテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等の
エーテル系溶媒が挙げられる。なお、ジイミドの発生方
法としてp−トルエンスルホヒドラジドを用いる場合に
は、ジメトキシエタン中で還流してジイミドを発生させ
つつ一般式（Ｉ）の化合物と反応させるのが望ましい。
【００１７】かかる反応により、従来１０〜６０％の環
開裂体が副生成物として生成していたのが、副生成物を
生成することなく、定量的にＣ環二重結合の還元体が得
られる。
開裂体が副生成物として生成していたのが、副生成物を
生成することなく、定量的にＣ環二重結合の還元体が得
られる。
【００１８】なお、Ｒがベンジル基等の保護基である場
合は、本法によるＣ環二重結合の還元後、常法に従い、
触媒量の２０％水酸化パラジウム炭素存在下、メタノー
ル中、１ないし３気圧の水素雰囲気下で反応させること
により脱ベンジル化等の脱保護反応が容易に達成され
る。従って、本発明の製法は合成中間体(４)の製法とし
ても有用である（前記反応経路参照）。さらには、特願
平３−２７７５３７、特願平３−３２３４７４、特願平
４−０９５１９１および特願平４−２１６８０９に記載
の方法に従い、この中間体にビフェニルテトラゾール部
分を結合させることにより、副生成物はほとんど生成す
ることなく、最終目的であるイミダゾール誘導体(５)を
結晶として得ることができる（前記反応経路参照）。そ
のため、従来の方法では必須であったカラムクロマトグ
ラフィーによる精製が不要となり、大量合成においても
再現性よく応用できることが判明した。
合は、本法によるＣ環二重結合の還元後、常法に従い、
触媒量の２０％水酸化パラジウム炭素存在下、メタノー
ル中、１ないし３気圧の水素雰囲気下で反応させること
により脱ベンジル化等の脱保護反応が容易に達成され
る。従って、本発明の製法は合成中間体(４)の製法とし
ても有用である（前記反応経路参照）。さらには、特願
平３−２７７５３７、特願平３−３２３４７４、特願平
４−０９５１９１および特願平４−２１６８０９に記載
の方法に従い、この中間体にビフェニルテトラゾール部
分を結合させることにより、副生成物はほとんど生成す
ることなく、最終目的であるイミダゾール誘導体(５)を
結晶として得ることができる（前記反応経路参照）。そ
のため、従来の方法では必須であったカラムクロマトグ
ラフィーによる精製が不要となり、大量合成においても
再現性よく応用できることが判明した。
【００１９】本発明の製法による化合物は、所望により
常法に従って、そのエステルまたは塩とすることができ
る。そのようなエステルまたは塩には、薬理学的に許容
される非毒性的なものが挙げられ、エステルとしては好
適にはメタノール、エタノール等の直鎖または分枝を有
する低級アルコールエステル等が、また塩としては好適
にはナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属または
アルカリ土類金属塩、フッ化水素酸塩、塩酸塩等のハロ
ゲン化水素酸塩、硝酸塩、硫酸塩等の無機酸塩、メタン
スルホン酸等の低級アルキルスルホン酸塩、マレイン酸
塩、フマル酸塩等の有機酸塩およびアスパラギン酸塩等
のアミノ酸塩等が挙げられる。
常法に従って、そのエステルまたは塩とすることができ
る。そのようなエステルまたは塩には、薬理学的に許容
される非毒性的なものが挙げられ、エステルとしては好
適にはメタノール、エタノール等の直鎖または分枝を有
する低級アルコールエステル等が、また塩としては好適
にはナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属または
アルカリ土類金属塩、フッ化水素酸塩、塩酸塩等のハロ
ゲン化水素酸塩、硝酸塩、硫酸塩等の無機酸塩、メタン
スルホン酸等の低級アルキルスルホン酸塩、マレイン酸
塩、フマル酸塩等の有機酸塩およびアスパラギン酸塩等
のアミノ酸塩等が挙げられる。
【００２０】
【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳し
く説明する。実施例１ 式：
く説明する。実施例１ 式：
【化１８】 で表される１−ベンジル−２−n−ブチル−５,８−ジメ
チル−５,８−エタノ−５,６,７,８−テトラヒドロ−１
Ｈ−１,３,４a,８a−テトラアザ−シクロペンタナフタ
レン−４,９−ジオンの合成 １−ベンジル−２−n−ブチル−５,８−ジメチル−５,
８−エタノ−５,８−ジヒドロ−１Ｈ−１,３,４a,８a−
テトラアザ−シクロペンタナフタレン−４,９−ジオン
(５８g、０.１４mol)とp−トルエンスルホニルヒドラジ
ド(１８７g、１.０mol)をジメトキシエタン(４００ml)
に溶解し、加熱還流した。この溶液に酢酸ナトリウム
(１６５g、２.０mol)の水溶液(４００ml)を４時間かけ
て滴下した。室温まで放冷後、更に０℃まで冷却し、析
出した結晶を濾取した。この結晶を塩化メチレンに溶解
し、水、食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下溶媒を留去した。同様の操作(１−ベンジル
−２−n−ブチル−５,８−ジメチル−５,８−エタノ−
５,８−ジヒドロ−１Ｈ−１,３,４a,８a−テトラアザ−
シクロペンタナフタレン−４,９−ジオン、５６.５g)を
して得られた残渣と合わせて試薬由来の不純物除去のた
めシリカゲルカラムクロマトグラフィー(アセトン:ヘキ
サン:塩化メチレン＝５:１:４０)を用いて精製し、標題
化合物(１０５g、９１％)を無色固体として得た。本ジ
イミド還元では標題化合物のみを単一成績体として得る
ことができ、水酸化パラジウム還元において生じた副生
成物は全く見られなかった。このものの核磁気共鳴スペ
クトルは以下の通りである。
チル−５,８−エタノ−５,６,７,８−テトラヒドロ−１
Ｈ−１,３,４a,８a−テトラアザ−シクロペンタナフタ
レン−４,９−ジオンの合成 １−ベンジル−２−n−ブチル−５,８−ジメチル−５,
８−エタノ−５,８−ジヒドロ−１Ｈ−１,３,４a,８a−
テトラアザ−シクロペンタナフタレン−４,９−ジオン
(５８g、０.１４mol)とp−トルエンスルホニルヒドラジ
ド(１８７g、１.０mol)をジメトキシエタン(４００ml)
に溶解し、加熱還流した。この溶液に酢酸ナトリウム
(１６５g、２.０mol)の水溶液(４００ml)を４時間かけ
て滴下した。室温まで放冷後、更に０℃まで冷却し、析
出した結晶を濾取した。この結晶を塩化メチレンに溶解
し、水、食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下溶媒を留去した。同様の操作(１−ベンジル
−２−n−ブチル−５,８−ジメチル−５,８−エタノ−
５,８−ジヒドロ−１Ｈ−１,３,４a,８a−テトラアザ−
シクロペンタナフタレン−４,９−ジオン、５６.５g)を
して得られた残渣と合わせて試薬由来の不純物除去のた
めシリカゲルカラムクロマトグラフィー(アセトン:ヘキ
サン:塩化メチレン＝５:１:４０)を用いて精製し、標題
化合物(１０５g、９１％)を無色固体として得た。本ジ
イミド還元では標題化合物のみを単一成績体として得る
ことができ、水酸化パラジウム還元において生じた副生
成物は全く見られなかった。このものの核磁気共鳴スペ
クトルは以下の通りである。
【００２１】1Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣl3) δppm:０.８４
(３Ｈ,t,Ｊ＝７.３Ｈz)、１.２５−１.３８(２Ｈ,m)、
１.６３−１.８０(６Ｈ,m)、１.８２(３Ｈ,s)、１.８９
(３Ｈ,s)、２.１３−２.２４(４Ｈ,m)、２.６５(２Ｈ,
t,Ｊ＝８.０Ｈz)、５.６９(２Ｈ,s)、７.０９−７.１５
(２Ｈ,m)、７.２４−７.３６(３Ｈ,m)
(３Ｈ,t,Ｊ＝７.３Ｈz)、１.２５−１.３８(２Ｈ,m)、
１.６３−１.８０(６Ｈ,m)、１.８２(３Ｈ,s)、１.８９
(３Ｈ,s)、２.１３−２.２４(４Ｈ,m)、２.６５(２Ｈ,
t,Ｊ＝８.０Ｈz)、５.６９(２Ｈ,s)、７.０９−７.１５
(２Ｈ,m)、７.２４−７.３６(３Ｈ,m)
【００２２】実施例２ 式：
【化１９】 で表される２−n−ブチル−５,８−ジメチル−５,８−
エタノ−５,６,７,８−テトラヒドロ−１Ｈ−１,３,４
a,８a−テトラアザ−シクロペンタナフタレン−４,９−
ジオンの合成 １−ベンジル−２−n−ブチル−５,８−ジメチル−５,
８−エタノ−５,６,７,８−テトラヒドロ−１Ｈ−１,
３,４a,８a−テトラアザ−シクロペンタナフタレン−
４,９−ジオン(５３g、０.１３mol)をメタノール(３０
０ml)−塩化メチレン(８０ml)に溶解した。この溶液に
２０％水酸化パラジウム(５０％含水、１０g)を加え、
水素雰囲気下、３気圧、室温で４時間攪拌した。触媒を
濾去し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をエタノ
ール−トルエンに溶解し減圧下溶媒を留去した。この操
作を３回繰り返すことにより標題化合物(４１.１g、１
００％)を無色固体として得た。このものの核磁気共鳴
スペクトルは以下の通りである。
エタノ−５,６,７,８−テトラヒドロ−１Ｈ−１,３,４
a,８a−テトラアザ−シクロペンタナフタレン−４,９−
ジオンの合成 １−ベンジル−２−n−ブチル−５,８−ジメチル−５,
８−エタノ−５,６,７,８−テトラヒドロ−１Ｈ−１,
３,４a,８a−テトラアザ−シクロペンタナフタレン−
４,９−ジオン(５３g、０.１３mol)をメタノール(３０
０ml)−塩化メチレン(８０ml)に溶解した。この溶液に
２０％水酸化パラジウム(５０％含水、１０g)を加え、
水素雰囲気下、３気圧、室温で４時間攪拌した。触媒を
濾去し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をエタノ
ール−トルエンに溶解し減圧下溶媒を留去した。この操
作を３回繰り返すことにより標題化合物(４１.１g、１
００％)を無色固体として得た。このものの核磁気共鳴
スペクトルは以下の通りである。
【００２３】1Ｈ−ＮＭＲ(ＣＤＣl3＋ＣＤ3ＯＤ) δpp
m:０.９７(３Ｈ,t,Ｊ＝７.２Ｈz)、１.３４−１.４９
(２Ｈ,m)、１.８０−１.９４(６Ｈ,m)、１.８６(６Ｈ,
s)、２.１０−２.２１(４Ｈ,m)、３.１７(２Ｈ,t,Ｊ＝
７.４Ｈz)
m:０.９７(３Ｈ,t,Ｊ＝７.２Ｈz)、１.３４−１.４９
(２Ｈ,m)、１.８０−１.９４(６Ｈ,m)、１.８６(６Ｈ,
s)、２.１０−２.２１(４Ｈ,m)、３.１７(２Ｈ,t,Ｊ＝
７.４Ｈz)
【００２４】
【発明の効果】本発明の製法により、ヒドラジン橋かけ
構造を有するイミダゾール誘導体のＣ環二重結合を選択
的に還元する方法が提供され、大量合成においても高収
率で、さらに煩雑な精製工程を要せずして有用なイミダ
ゾール誘導体の製造が可能となった。
構造を有するイミダゾール誘導体のＣ環二重結合を選択
的に還元する方法が提供され、大量合成においても高収
率で、さらに煩雑な精製工程を要せずして有用なイミダ
ゾール誘導体の製造が可能となった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/50 ＡＤＭ (Ｃ０７Ｄ 487/14 233:00 237:00） (72)発明者 谷口 幹雄 茨城県つくば市下広岡668−34 (72)発明者 藤田 芳司 千葉県我孫子市並木６−８−６−302
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式: 【化１】 [式中、Ｒ1は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルアミノ基、低
級アルケニル基、−ＣＦ3基、アリール基またはアラル
キル基;Ｒは水素原子、あるいは次に示す群から選択さ
れる基; 【化２】 ここに、Ｘは−ＣＨ2−、−ＮＲ'−、酸素原子または−
Ｓ(Ｏ)n−を表し、ここに、Ｒ'は水素原子または低級ア
ルキル基、ここに、ｎは０、１または２;ここに、Ｘ1、
Ｘ2およびＸ3は、各々、独立して、水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、
シアノ基、１Ｈ−テトラゾール−５−イル基もしくはそ
のアルカリ金属塩、−ＣＯ2Ｒ7基、−ＣＯＮＲ'Ｒ"基、
−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ8基、アミノ基、−ＮＨＳＯ2ＣＦ3基
または−ＳＯ3Ｈ基、あるいは次に示す群から選択され
る基； 【化３】 Ｙはシアノ基、ベンジル基、トシル基、メトキシメチル
基、エトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基また
はトリメチルシリルエトキシメチル基で置換されていて
もよい１Ｈ−テトラゾール−５−イル基もしくはそのア
ルカリ金属塩、−ＣＯ２Ｒ7基、−ＣＯＮＲ'Ｒ"基、−
ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ8基、アミノ基、−ＮＨＳＯ2ＣＦ3基ま
たは−ＳＯ3Ｈ基;Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、各々、独
立して、水素原子または低級アルキル基を表すか、ある
いはＲ2およびＲ3、またはＲ4およびＲ5はそれぞれ一緒
になって＝Ｏ結合を形成してもよく;Ｒ6は水素原子、ハ
ロゲン原子、低級アルキル基、−ＣＦ3基または−ＣＦ2
ＣＦ3基;Ｒ7は水素原子、アルカリ金属原子または低級
アルキル基;Ｒ'およびＲ"は、各々、独立して、水素原
子または低級アルキル基を表すか、あるいはＲ'および
Ｒ"は一緒になって脂環式構造を形成してもよく;Ｒ8は
低級アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基;
Ｒ9は低級アルキル基、低級アルコキシ基、シクロアル
キル基、シクロアルコキシ基、アリール基またはアリー
ルオキシ基;Ｒ10、Ｒ11およびＲ12は、各々、独立し
て、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、−ＣＯ2Ｒ7基または
−ＣＯＮＲ'Ｒ"基;Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17およ
びＲ18は、各々、独立して、水素原子、低級アルキル
基、低級フルオロアルキル基、−Ｃ(Ｒ')(Ｒ")−ＯＲ19
基、−(ＣＨ2)j−ＣＯ2Ｒ7基、−(ＣＨ2)j−ＣＮ基、−
(ＣＨ2)j−Ｃ(＝Ｏ)Ｒ'基、−(ＣＨ2)j−ＣＯＮＲ'Ｒ"
基または−(ＣＨ2)j−Ａryl基を表し、ここに、jは０、
１または２、ここに、Ｒ16およびＲ18は一緒になって−
(ＣＨ2)i−基を形成してもよく、ここに、ｉは１、２ま
たは３、ここに、Ａrylはハロゲン原子、低級アルキル
基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、ニトロ基または
シアノ基で置換されていてもよい、フェニル基、ピリジ
ル基、ピリミジル基、ピリダジニル基、フリル基、テニ
ル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、
オキサジアゾリル基またはイソオキサゾリル基;Ｒ19は
水素原子、あるいはヒドロキシ基またはエーテル基で置
換されていてもよい低級アルキル基を表す]で示される
化合物にジイミド(ＨＮ＝ＮＨ)を反応させることを特徴
とする一般式; 【化４】 [式中、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ
15、Ｒ16、Ｒ17およびＲ18は前記定義に同じ]で示され
るイミダゾール誘導体またはその薬理学的に許容される
エステルもしくは塩の製法。 - 【請求項２】 一般式: 【化５】 [式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ13およびＲ17は前
記定義に同じ]で示される化合物にジイミド(ＨＮ＝Ｎ
Ｈ)を反応させた後、加水素分解することを特徴とする
一般式: 【化６】 [式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ13およびＲ17は前
記定義に同じ]で示されるイミダゾール誘導体またはそ
の薬理学的に許容されるエステルもしくは塩の製法。 - 【請求項３】 一般式: 【化７】 [式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ13、Ｒ17およびＹ
は前記定義に同じ]で示される化合物にジイミド(ＨＮ＝
ＮＨ)を反応させることを特徴とする一般式: 【化８】 [式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ13、Ｒ17およびＹ
は前記定義に同じ]で示されるイミダゾール誘導体また
はその薬理学的に許容されるエステルもしくは塩の製
法。
Priority Applications (8)
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|---|---|---|---|
| JP5060067A JPH06271576A (ja) | 1993-03-19 | 1993-03-19 | イミダゾール誘導体の製法 |
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| JP6521039A JPH08508468A (ja) | 1993-03-19 | 1994-03-04 | イミダゾール誘導体の製法 |
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| AU63519/94A AU6351994A (en) | 1993-03-19 | 1994-03-04 | Process for production of an imidazole derivative |
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- 1994-03-04 JP JP6521039A patent/JPH08508468A/ja active Pending
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