JPH06236854A - 熱処理装置 - Google Patents
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- JPH06236854A JPH06236854A JP5043199A JP4319993A JPH06236854A JP H06236854 A JPH06236854 A JP H06236854A JP 5043199 A JP5043199 A JP 5043199A JP 4319993 A JP4319993 A JP 4319993A JP H06236854 A JPH06236854 A JP H06236854A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/324—Thermal treatment for modifying the properties of semiconductor bodies, e.g. annealing, sintering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
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- H01L21/67769—Storage means
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B33/00—After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B35/00—Apparatus not otherwise provided for, specially adapted for the growth, production or after-treatment of single crystals or of a homogeneous polycrystalline material with defined structure
- C30B35/002—Crucibles or containers
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 縦型の熱処理炉を複数用いる場合に装置全体
の占有面積を狭くすることができ、またウエハキャリア
を効率よく活用することのできる熱処理装置を提供する
こと。 【構成】 縦型の熱処理炉31、ウエハボート33及び
ウエハ移載機34を備えた熱処理ユニット部を複数例え
ば2個横に並べて配置し、各熱処理ユニット部3A、3
B毎に、キャリアCを例えば3段載置できるウエハ受け
渡し部4A、4Bを設ける。各ウエハ受け渡し部4A、
4Bの上方領域とこれらの間にキャリア収納棚51、5
2を配置し、これらキャリア収納棚51、52に臨む領
域を移動するようにキャリア移載機7を設け、更にその
手前側にキャリアステージ6を設け、キャリア収納棚5
1、52、キャリア移載機7及びキャリアステージ6を
熱処理ユニット部3A、3Bに対して共通に使用する。
の占有面積を狭くすることができ、またウエハキャリア
を効率よく活用することのできる熱処理装置を提供する
こと。 【構成】 縦型の熱処理炉31、ウエハボート33及び
ウエハ移載機34を備えた熱処理ユニット部を複数例え
ば2個横に並べて配置し、各熱処理ユニット部3A、3
B毎に、キャリアCを例えば3段載置できるウエハ受け
渡し部4A、4Bを設ける。各ウエハ受け渡し部4A、
4Bの上方領域とこれらの間にキャリア収納棚51、5
2を配置し、これらキャリア収納棚51、52に臨む領
域を移動するようにキャリア移載機7を設け、更にその
手前側にキャリアステージ6を設け、キャリア収納棚5
1、52、キャリア移載機7及びキャリアステージ6を
熱処理ユニット部3A、3Bに対して共通に使用する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体ウエハ
(以下「ウエハ」という)を、熱処理する熱処理装置に
関する。
(以下「ウエハ」という)を、熱処理する熱処理装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハを製造するにあたって重要
な工程の一つとして熱処理工程がある。この熱処理とし
ては、例えば酸化膜の形成、ドーパントの拡散、アニー
ルあるいはCVDなどが挙げられ、最近では空気の巻き
込みが少ないなどの利点から横型炉に代わって縦型の熱
処理装置が多く使用されてきている。
な工程の一つとして熱処理工程がある。この熱処理とし
ては、例えば酸化膜の形成、ドーパントの拡散、アニー
ルあるいはCVDなどが挙げられ、最近では空気の巻き
込みが少ないなどの利点から横型炉に代わって縦型の熱
処理装置が多く使用されてきている。
【0003】熱処理装置をレイアウトの面からみると、
ウエハボート(治具)へウエハを受け渡しする場所や、
ウエハを収納する例えば最大25枚収納する容器(以下
「キャリア」という。)を外部に対して搬出入する領
域、更にはキャリアを収納する棚やキャリアの移載機な
どが必要であり、これらをできるだけ狭いスペースの中
に収め、しかもウエハ及びキャリアを効率よく移動させ
ることが必要である。
ウエハボート(治具)へウエハを受け渡しする場所や、
ウエハを収納する例えば最大25枚収納する容器(以下
「キャリア」という。)を外部に対して搬出入する領
域、更にはキャリアを収納する棚やキャリアの移載機な
どが必要であり、これらをできるだけ狭いスペースの中
に収め、しかもウエハ及びキャリアを効率よく移動させ
ることが必要である。
【0004】従来縦型熱処理装置は、こうした要請を踏
まえて、例えば図5に示すものが用いられている。この
装置は、装置本体10の前面側に、外部との間の入出力
ポートをなすキャリアステージ1が配置されると共に、
このキャリアステージ1の奥側にキャリア移載機11の
移動路を介して対向するようウエハ受け渡し部12が設
けられ、更にこのウエハ受け渡し部12の上方側に、例
えば最大8個のキャリアを収納できるよう、2列4段の
キャリア収納棚13が配設されている。
まえて、例えば図5に示すものが用いられている。この
装置は、装置本体10の前面側に、外部との間の入出力
ポートをなすキャリアステージ1が配置されると共に、
このキャリアステージ1の奥側にキャリア移載機11の
移動路を介して対向するようウエハ受け渡し部12が設
けられ、更にこのウエハ受け渡し部12の上方側に、例
えば最大8個のキャリアを収納できるよう、2列4段の
キャリア収納棚13が配設されている。
【0005】ウエハ受け渡し部12の奥側には、熱処理
ユニット部2が設置され、この熱処理ユニット部2は、
縦型の熱処理炉21と、多数のウエハを搭載してボート
エレベータ22により熱処理炉21に対してロード、ア
ンロードするウエハボート23と、ウエハボート23と
前記ウエハ受け渡し部12との間でウエハを移載するウ
エハ移載機24とを備えてなる。24は熱処理炉21の
下方側を閉じる蓋体である。
ユニット部2が設置され、この熱処理ユニット部2は、
縦型の熱処理炉21と、多数のウエハを搭載してボート
エレベータ22により熱処理炉21に対してロード、ア
ンロードするウエハボート23と、ウエハボート23と
前記ウエハ受け渡し部12との間でウエハを移載するウ
エハ移載機24とを備えてなる。24は熱処理炉21の
下方側を閉じる蓋体である。
【0006】そして先ずキャリアステージ1に、ウエハ
を例えば25枚収納したキャリアCを2個載置し、図示
しない横倒し機構によりこれらキャリアCを横に倒す。
前記キャリア移載機11は、X、Z、θ方向に移動自在
であり、当該2個のキャリアCをウエハ受け渡し部12
あるいはキャリア収納棚13に移載する。ウエハ受け渡
し部12にキャリアCが移載された後、ウエハ移載機2
4が当該キャリアC内のウエハをウエハボート23に順
次移載し、しかる後ウエハボート23が上昇してウエハ
が熱処理炉21内にロードされる。
を例えば25枚収納したキャリアCを2個載置し、図示
しない横倒し機構によりこれらキャリアCを横に倒す。
前記キャリア移載機11は、X、Z、θ方向に移動自在
であり、当該2個のキャリアCをウエハ受け渡し部12
あるいはキャリア収納棚13に移載する。ウエハ受け渡
し部12にキャリアCが移載された後、ウエハ移載機2
4が当該キャリアC内のウエハをウエハボート23に順
次移載し、しかる後ウエハボート23が上昇してウエハ
が熱処理炉21内にロードされる。
【0007】
【発明が解決しようとしている課題】上述の装置のキャ
リア収納棚13は、製品ウエハの入ったキャリアCを一
旦収納するバッファ部としての役割を有するが、それ以
外にテスト用ウエハの入ったキャリアや欠損ウエハの補
充用ウエハの入ったキャリア、及びダミー用ウエハの入
ったキャリアを収納する役割を持っている。
リア収納棚13は、製品ウエハの入ったキャリアCを一
旦収納するバッファ部としての役割を有するが、それ以
外にテスト用ウエハの入ったキャリアや欠損ウエハの補
充用ウエハの入ったキャリア、及びダミー用ウエハの入
ったキャリアを収納する役割を持っている。
【0008】テスト用ウエハとは、製品ウエハと一緒に
熱処理を行った後製品ウエハから別れて当該熱処理を評
価する工程に送られるものである。また補充用ウエハと
は、製品ウエハが規定の数量に満たない場合があり、こ
のままでは熱処理炉21内でガスの流れが変わってしま
い、熱処理の均一性の保証ができなくなるため、補充さ
れるものである。更にダミー用ウエハとは、ウエハボー
トの上下両端における温度の不均一性を避ける目的で、
上下両端部に配置されるものである。
熱処理を行った後製品ウエハから別れて当該熱処理を評
価する工程に送られるものである。また補充用ウエハと
は、製品ウエハが規定の数量に満たない場合があり、こ
のままでは熱処理炉21内でガスの流れが変わってしま
い、熱処理の均一性の保証ができなくなるため、補充さ
れるものである。更にダミー用ウエハとは、ウエハボー
トの上下両端における温度の不均一性を避ける目的で、
上下両端部に配置されるものである。
【0009】ところで熱処理装置と外部との間のキャリ
アの搬出入のタイミングと熱処理の開始、終了のタイミ
ングとは通常異なるので、キャリアの搬出入や熱処理を
円滑に行って、スループットの低下を避けるためには、
キャリア収納棚13には製品ウエハを収納するキャリア
をできるだけ多く確保することが得策である。
アの搬出入のタイミングと熱処理の開始、終了のタイミ
ングとは通常異なるので、キャリアの搬出入や熱処理を
円滑に行って、スループットの低下を避けるためには、
キャリア収納棚13には製品ウエハを収納するキャリア
をできるだけ多く確保することが得策である。
【0010】また製品ウエハ以外のウエハについても、
テスト用ウエハを収納する最低1個のキャリアと、ダミ
ー用ウエハの入った例えば最低2個のキャリアとが必要
であり、このため実際には補充用ウエハを収納するキャ
リアの数が制限されている。補充用ウエハは、ウエハボ
ートに載置可能な製品ウエハ枚数から1を差し引いた数
だけ用意することが望ましく、従って従来の装置では、
これらウエハを収納するキャリアの数が少ないため、数
枚のウエハを熱処理する場合には対応できず、装置とし
ての自由度が小さく不便なことがあった。
テスト用ウエハを収納する最低1個のキャリアと、ダミ
ー用ウエハの入った例えば最低2個のキャリアとが必要
であり、このため実際には補充用ウエハを収納するキャ
リアの数が制限されている。補充用ウエハは、ウエハボ
ートに載置可能な製品ウエハ枚数から1を差し引いた数
だけ用意することが望ましく、従って従来の装置では、
これらウエハを収納するキャリアの数が少ないため、数
枚のウエハを熱処理する場合には対応できず、装置とし
ての自由度が小さく不便なことがあった。
【0011】一方熱処理装置は、熱処理ユニット部に関
連してガス供給ユニットや排気ユニットなどを備えてお
り、装置全体をできるだけ小型化する工夫がなされてい
る。そしてキャリアステージ1やキャリア収納棚13な
どは、コストの高いクリーンルームに置かれており、実
際の製造工場では熱処理装置が多数設置されていること
から、その占有面積をできるだけ小さくすることが要求
される。上述の熱処理装置は、このような要求を考慮し
て設計されたものであり、仮にキャリア収納部の段数や
列数を増やすとしたら、装置本体がキャリアの大きさに
相当する分だけ縦にあるいは横に広がってしまい、こう
した単純な手法は現実的には採用することができない。
連してガス供給ユニットや排気ユニットなどを備えてお
り、装置全体をできるだけ小型化する工夫がなされてい
る。そしてキャリアステージ1やキャリア収納棚13な
どは、コストの高いクリーンルームに置かれており、実
際の製造工場では熱処理装置が多数設置されていること
から、その占有面積をできるだけ小さくすることが要求
される。上述の熱処理装置は、このような要求を考慮し
て設計されたものであり、仮にキャリア収納部の段数や
列数を増やすとしたら、装置本体がキャリアの大きさに
相当する分だけ縦にあるいは横に広がってしまい、こう
した単純な手法は現実的には採用することができない。
【0012】更にまた上述の装置は、キャリア移載機に
着目してみると、機構自体もコストが高く、しかも広い
移動領域を占有している割には、稼動率が非常に低く、
コスト的にもレイアウト上からも効率が悪いという問題
点を有している。
着目してみると、機構自体もコストが高く、しかも広い
移動領域を占有している割には、稼動率が非常に低く、
コスト的にもレイアウト上からも効率が悪いという問題
点を有している。
【0013】本発明は、以上のような事情にもとづいて
なされたものであり、その目的は、縦型の熱処理炉を複
数用いる場合に装置全体の占有面積を狭くすることがで
き、また被処理体容器(キャリア)を効率よく活用する
ことのできる熱処理装置を提供することにある。
なされたものであり、その目的は、縦型の熱処理炉を複
数用いる場合に装置全体の占有面積を狭くすることがで
き、また被処理体容器(キャリア)を効率よく活用する
ことのできる熱処理装置を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は、縦型の熱処理
炉、被処理体ボート及び被処理体移載機を備えた熱処理
ユニット部と、この熱処理ユニット部に容器移載機の移
動領域を介して対向配置され、複数の被処理体を収納し
た容器が外部との間で搬出入される容器受け渡し部と、
前記容器移載機と熱処理ユニット部との間に配設された
被処理体受け渡し部と、この被処理体受け渡し部の上方
に設けられた容器収納部と、を有し、容器移載機により
容器受け渡し部、被処理体受け渡し部及び容器収納部の
間で容器の受け渡しを行うと共に、被処理体移載機によ
り、被処理体受け渡し部に置かれた容器と被処理体ボー
トとの間で被処理体の受け渡しを行う熱処理装置におい
て、前記熱処理ユニット部を複数横に並べて配置すると
共に、前記被処理体受け渡し部を各熱処理ユニット部毎
に設け、前記容器収納部を各被処理体受け渡し部の上方
領域に跨って配置して、各熱処理ユニット部に対して共
通に用い、前記容器移載機を、各熱処理ユニット部の並
びに沿って移動自在に構成して、各熱処理ユニット部に
対して共通に用いることを特徴とする。
炉、被処理体ボート及び被処理体移載機を備えた熱処理
ユニット部と、この熱処理ユニット部に容器移載機の移
動領域を介して対向配置され、複数の被処理体を収納し
た容器が外部との間で搬出入される容器受け渡し部と、
前記容器移載機と熱処理ユニット部との間に配設された
被処理体受け渡し部と、この被処理体受け渡し部の上方
に設けられた容器収納部と、を有し、容器移載機により
容器受け渡し部、被処理体受け渡し部及び容器収納部の
間で容器の受け渡しを行うと共に、被処理体移載機によ
り、被処理体受け渡し部に置かれた容器と被処理体ボー
トとの間で被処理体の受け渡しを行う熱処理装置におい
て、前記熱処理ユニット部を複数横に並べて配置すると
共に、前記被処理体受け渡し部を各熱処理ユニット部毎
に設け、前記容器収納部を各被処理体受け渡し部の上方
領域に跨って配置して、各熱処理ユニット部に対して共
通に用い、前記容器移載機を、各熱処理ユニット部の並
びに沿って移動自在に構成して、各熱処理ユニット部に
対して共通に用いることを特徴とする。
【0015】
【作用】複数の熱処理ユニット部に対して容器収納部及
び容器移載機を共用するようにしており、容器収納部内
の容器に収納されている被処理体のうちダミー用被処理
体、補充用被処理体などは共用できるため、通常熱処理
ユニット部の開始、終了のタイミングは異なることが多
いことから、1つの熱処理ユニット部に対して補充用ウ
エハを収納する容器の数を多くすることができ、従って
製品ウエハを少数処理する場合にも対応できる。この結
果熱処理の処理能力からみれば、熱処理ユニット部を1
個のみ有する熱処理装置に比べて狭い占有面積でしかも
容器を効率的に活用することができる。
び容器移載機を共用するようにしており、容器収納部内
の容器に収納されている被処理体のうちダミー用被処理
体、補充用被処理体などは共用できるため、通常熱処理
ユニット部の開始、終了のタイミングは異なることが多
いことから、1つの熱処理ユニット部に対して補充用ウ
エハを収納する容器の数を多くすることができ、従って
製品ウエハを少数処理する場合にも対応できる。この結
果熱処理の処理能力からみれば、熱処理ユニット部を1
個のみ有する熱処理装置に比べて狭い占有面積でしかも
容器を効率的に活用することができる。
【0016】
【実施例】図1〜図3は本発明の実施例を示す図であ
り、この実施例では、装置本体30の奥側に、2個の熱
処理ユニット部3A、3Bが横に並べて(x方向に並べ
て)配置されている。これら熱処理ユニット部3A、3
Bは、図では見えない反応チューブの外にヒータを囲撓
して設けてなる縦型の熱処理炉31と、被処理体例えば
多数のウエハを上下に間隔を置いて搭載し、ボートエレ
ベータ32により熱処理炉31に対してウエハW(図2
参照)をロード、アンロードするためのウエハボート3
3と、このウエハボート33にウエハを着脱するため
の、例えば進退自在、昇降自在、回転自在な複数のピン
セットを備えたウエハ移載機34とを有してなる。なお
図1中35は、ウエハボート33とキャリアCとの間で
ウエハの移載が行われている間、熱処理炉31の下端開
口部を塞ぐための蓋体である。また熱処理ユニット部3
A、3Bの間には仕切り壁36が設置され、2つの熱処
理ユニット部3A、3Bの雰囲気を分離している。
り、この実施例では、装置本体30の奥側に、2個の熱
処理ユニット部3A、3Bが横に並べて(x方向に並べ
て)配置されている。これら熱処理ユニット部3A、3
Bは、図では見えない反応チューブの外にヒータを囲撓
して設けてなる縦型の熱処理炉31と、被処理体例えば
多数のウエハを上下に間隔を置いて搭載し、ボートエレ
ベータ32により熱処理炉31に対してウエハW(図2
参照)をロード、アンロードするためのウエハボート3
3と、このウエハボート33にウエハを着脱するため
の、例えば進退自在、昇降自在、回転自在な複数のピン
セットを備えたウエハ移載機34とを有してなる。なお
図1中35は、ウエハボート33とキャリアCとの間で
ウエハの移載が行われている間、熱処理炉31の下端開
口部を塞ぐための蓋体である。また熱処理ユニット部3
A、3Bの間には仕切り壁36が設置され、2つの熱処
理ユニット部3A、3Bの雰囲気を分離している。
【0017】前記熱処理ユニット部3A、3Bの手前側
には、ウエハボート33の下降位置とウエハ移載機34
を介して対向するように夫々ウエハ受け渡し部4A、4
Bが配設されており、このウエハ受け渡し部4A、4B
は、例えばウエハWを収納するキャリアCを3段置くこ
とができるように構成されている。
には、ウエハボート33の下降位置とウエハ移載機34
を介して対向するように夫々ウエハ受け渡し部4A、4
Bが配設されており、このウエハ受け渡し部4A、4B
は、例えばウエハWを収納するキャリアCを3段置くこ
とができるように構成されている。
【0018】前記ウエハ受け渡し部4A、4Bの上方領
域には、各上方領域に跨ってキャリア収納部であるキャ
リア収納棚51が設けられており、このキャリア収納棚
51はキャリアCを5列、4段、最大数20個収納でき
るように構成されている。更に前記ウエハ受け渡し部4
A、4Bの間にも1列4段のキャリア収納棚52が設け
られている。図3では、ウエハ受け渡し部4A、4Bに
載置されたキャリアC及び下方側のキャリア収納棚52
に収納されたキャリアCを実線で、また上方側のキャリ
ア収納棚51に収納されたキャリアCを点線(ただしウ
エハ受け渡し部4AのキャリアCと重なるものもある)
で示している。
域には、各上方領域に跨ってキャリア収納部であるキャ
リア収納棚51が設けられており、このキャリア収納棚
51はキャリアCを5列、4段、最大数20個収納でき
るように構成されている。更に前記ウエハ受け渡し部4
A、4Bの間にも1列4段のキャリア収納棚52が設け
られている。図3では、ウエハ受け渡し部4A、4Bに
載置されたキャリアC及び下方側のキャリア収納棚52
に収納されたキャリアCを実線で、また上方側のキャリ
ア収納棚51に収納されたキャリアCを点線(ただしウ
エハ受け渡し部4AのキャリアCと重なるものもある)
で示している。
【0019】前記ウエハ受け渡し部4A、4B及びキャ
リア収納棚51、52に臨む位置には後述のキャリア移
載機7の移動領域が確保されており、この移動領域を挟
んで装置本体30の手前側にキャリア受け渡し部である
キャリアステージ6が設けられている。このキャリアス
テージ6は、ウエハを収納したキャリアが外部との間で
搬出入される入出力ポートの役割を果たす個所であり、
キャリアCのウエハ取り出し口が上に向いた状態つまり
ウエハが垂直な状態でキャリアCが例えば4個横に(x
方向に)並べて載置される。またこのキャリアステージ
6は図1では概念的に1枚のステージで描いてあるが、
実際には4つのキャリアCに対して夫々設けられ、この
キャリアステージ6には、載置されたキャリアCを図2
に示すように回動軸60のまわりに奥側に回動して横倒
しにする機構が組み合わせられており、キャリアCは横
倒しの状態で後述のキャリア移載機により移載されるこ
とになる。
リア収納棚51、52に臨む位置には後述のキャリア移
載機7の移動領域が確保されており、この移動領域を挟
んで装置本体30の手前側にキャリア受け渡し部である
キャリアステージ6が設けられている。このキャリアス
テージ6は、ウエハを収納したキャリアが外部との間で
搬出入される入出力ポートの役割を果たす個所であり、
キャリアCのウエハ取り出し口が上に向いた状態つまり
ウエハが垂直な状態でキャリアCが例えば4個横に(x
方向に)並べて載置される。またこのキャリアステージ
6は図1では概念的に1枚のステージで描いてあるが、
実際には4つのキャリアCに対して夫々設けられ、この
キャリアステージ6には、載置されたキャリアCを図2
に示すように回動軸60のまわりに奥側に回動して横倒
しにする機構が組み合わせられており、キャリアCは横
倒しの状態で後述のキャリア移載機により移載されるこ
とになる。
【0020】前記キャリア移載機7は、x方向に移動自
在な支柱71に沿って昇降する昇降台72に、キャリア
Cを保持して移載するためのZ軸まわりに回動自在なア
ーム73を取り付けて構成される。
在な支柱71に沿って昇降する昇降台72に、キャリア
Cを保持して移載するためのZ軸まわりに回動自在なア
ーム73を取り付けて構成される。
【0021】なおこの熱処理装置には、熱処理ユニット
部3A、3Bの壁部やキャリア収納棚61の背面側ある
いはキャリアステージ6の上方などにパーティクル除去
のためのエアフィルタ部F1〜F3が配設されている
(図2、図3参照)。
部3A、3Bの壁部やキャリア収納棚61の背面側ある
いはキャリアステージ6の上方などにパーティクル除去
のためのエアフィルタ部F1〜F3が配設されている
(図2、図3参照)。
【0022】次に上述の装置の作用について説明する。
例えば一方の熱処理ユニット部3Aにて熱処理を行う場
合、キャリア移載機7によりキャリア収納棚51あるい
は52に収納されているウエハの入ったキャリアCをウ
エハ受け渡し部4Aに移載する。次いでウエハ移載機3
4により、ウエハ受け渡し部4Aに載置されたキャリア
CからウエハWを取り出してウエハボート33に1枚づ
つ、あるいはウエハ移載機34が複数枚のピンセットを
備えている場合には複数枚づつ移載される。
例えば一方の熱処理ユニット部3Aにて熱処理を行う場
合、キャリア移載機7によりキャリア収納棚51あるい
は52に収納されているウエハの入ったキャリアCをウ
エハ受け渡し部4Aに移載する。次いでウエハ移載機3
4により、ウエハ受け渡し部4Aに載置されたキャリア
CからウエハWを取り出してウエハボート33に1枚づ
つ、あるいはウエハ移載機34が複数枚のピンセットを
備えている場合には複数枚づつ移載される。
【0023】ここでキャリアC内には例えば最大25枚
のウエハが収納され、ウエハボート33には熱処理炉3
1内のガスの流れを均一にするために製品ウエハ、ダミ
ー用ウエハ、テスト用ウエハなどを含めて所定枚数例え
ば100枚のウエハWが搭載される。ウエハ受け渡し部
4AのキャリアCの収納数はこの例では3個であるか
ら、キャリアCが空になった後、キャリア移載機7によ
り当該キャリアCがキャリア収納棚51あるいは52に
移載されて、キャリア収納棚51あるいは52から次の
キャリアCがウエハ受け渡し部4Aに移載されることに
なるが、キャリアCの移載と、ウエハボート33へのウ
エハの受け渡しとは並行して行われる。
のウエハが収納され、ウエハボート33には熱処理炉3
1内のガスの流れを均一にするために製品ウエハ、ダミ
ー用ウエハ、テスト用ウエハなどを含めて所定枚数例え
ば100枚のウエハWが搭載される。ウエハ受け渡し部
4AのキャリアCの収納数はこの例では3個であるか
ら、キャリアCが空になった後、キャリア移載機7によ
り当該キャリアCがキャリア収納棚51あるいは52に
移載されて、キャリア収納棚51あるいは52から次の
キャリアCがウエハ受け渡し部4Aに移載されることに
なるが、キャリアCの移載と、ウエハボート33へのウ
エハの受け渡しとは並行して行われる。
【0024】そしてウエハWがウエハボート33へ所定
枚数搭載された後ウエハボート33が上昇して熱処理炉
31内にロードされ、例えば酸化、拡散などの所定の熱
処理が行われる。しかる後ウエハボート33が下降して
ウエハWがアンロードされ、ウエハ移載機によりウエハ
ボート33からウエハ受け渡し部4AのキャリアCへウ
エハWが移載される。他方の熱処理ユニット部3Bによ
り熱処理を行う場合にも同様にして行われ、処理のタイ
ミングによっては両方の熱処理ユニット部3A、3Bの
ウエハ移載機34が稼働する場合もある。
枚数搭載された後ウエハボート33が上昇して熱処理炉
31内にロードされ、例えば酸化、拡散などの所定の熱
処理が行われる。しかる後ウエハボート33が下降して
ウエハWがアンロードされ、ウエハ移載機によりウエハ
ボート33からウエハ受け渡し部4AのキャリアCへウ
エハWが移載される。他方の熱処理ユニット部3Bによ
り熱処理を行う場合にも同様にして行われ、処理のタイ
ミングによっては両方の熱処理ユニット部3A、3Bの
ウエハ移載機34が稼働する場合もある。
【0025】また熱処理炉31にてウエハの熱処理が行
われている間や、あるいはウエハ移載機34により上述
のウエハの受け渡しが行われている場合であっても、必
要に応じて例えば既に熱処理済みの製品ウエハの入った
キャリアCをキャリア収納棚51または52からキャリ
ア移載機7によりキャリアステージ6に移載したり、あ
るいは外部からキャリアステージ6に搬入された処理前
のウエハの入ったキャリアCをキャリア収納棚51また
は52に移載する。キャリアCは、必ずしもキャリア収
納棚51、52を経由しなくてもよく、例えばキャリア
収納棚51、52が空になっている場合などにはキャリ
アステージ6とウエハ受け渡し部4A、4Bとの間でキ
ャリアCを移載してもよい。
われている間や、あるいはウエハ移載機34により上述
のウエハの受け渡しが行われている場合であっても、必
要に応じて例えば既に熱処理済みの製品ウエハの入った
キャリアCをキャリア収納棚51または52からキャリ
ア移載機7によりキャリアステージ6に移載したり、あ
るいは外部からキャリアステージ6に搬入された処理前
のウエハの入ったキャリアCをキャリア収納棚51また
は52に移載する。キャリアCは、必ずしもキャリア収
納棚51、52を経由しなくてもよく、例えばキャリア
収納棚51、52が空になっている場合などにはキャリ
アステージ6とウエハ受け渡し部4A、4Bとの間でキ
ャリアCを移載してもよい。
【0026】ここでキャリア収納棚51、52及びキャ
リアステージ6は、2つの熱処理ユニット部4A、4B
に対して共用される。キャリア収納棚51、52には、
ダミー用ウエハ、テスト用ウエハ、及び補充用ウエハが
夫々収納されたキャリアCが用意されており、熱処理さ
れたテスト済みのウエハと、ダミー用ウエハ、補充用ウ
エハの入ったキャリアCについては共用される。従って
外部からキャリアステージ6に搬入された処理前のウエ
ハの枚数が所定枚数以下である場合には、キャリア収納
棚51または52に用意されているキャリアC内の補充
用ウエハが使用され、ウエハボート33には所定枚数を
搭載して熱処理ユニット部3Aまたは3Bにより熱処理
を行う。
リアステージ6は、2つの熱処理ユニット部4A、4B
に対して共用される。キャリア収納棚51、52には、
ダミー用ウエハ、テスト用ウエハ、及び補充用ウエハが
夫々収納されたキャリアCが用意されており、熱処理さ
れたテスト済みのウエハと、ダミー用ウエハ、補充用ウ
エハの入ったキャリアCについては共用される。従って
外部からキャリアステージ6に搬入された処理前のウエ
ハの枚数が所定枚数以下である場合には、キャリア収納
棚51または52に用意されているキャリアC内の補充
用ウエハが使用され、ウエハボート33には所定枚数を
搭載して熱処理ユニット部3Aまたは3Bにより熱処理
を行う。
【0027】このような実施例によれば、装置本体30
内に2個の熱処理ユニット部3A、3Bを横に並べて配
置し、これら熱処理ユニット部3A、3Bの手前側に
て、一方の熱処理ユニット部3Aの左端部から他方の熱
処理ユニット部3Bの右端部に亘ってキャリア収納棚5
1を配列しているため、熱処理ユニット部により決定さ
れる最小限の横幅を設計した場合、従来のように熱処理
ユニット部を個々に備えた装置を2台並べた場合に比較
してキャリア収納棚51の列数(1段に並ぶ数)を多く
することができ、しかも各ウエハ受け渡し部4A、4B
の間にもキャリア収納棚52を設置でき、この結果キャ
リア収納棚におけるキャリアの収納容量を大きくするこ
とができる。
内に2個の熱処理ユニット部3A、3Bを横に並べて配
置し、これら熱処理ユニット部3A、3Bの手前側に
て、一方の熱処理ユニット部3Aの左端部から他方の熱
処理ユニット部3Bの右端部に亘ってキャリア収納棚5
1を配列しているため、熱処理ユニット部により決定さ
れる最小限の横幅を設計した場合、従来のように熱処理
ユニット部を個々に備えた装置を2台並べた場合に比較
してキャリア収納棚51の列数(1段に並ぶ数)を多く
することができ、しかも各ウエハ受け渡し部4A、4B
の間にもキャリア収納棚52を設置でき、この結果キャ
リア収納棚におけるキャリアの収納容量を大きくするこ
とができる。
【0028】そして熱処理ユニット部3A、3Bの熱処
理の開始、終了のタイミングは例えばシーケンスプログ
ラムにより異ならせることができるし、また熱処理の種
類が違う場合には通常異なる場合の方が多いので、1つ
の熱処理炉に対して、補充用ウエハを収納するキャリア
Cの数を多くすることができ、従って製品ウエハが少な
くても例えば1枚であっても当該1枚のウエハを熱処理
できるため、装置の自由度が大きい。更にまた製品ウエ
ハを収納するキャリアCの数も増やせるので大きなバッ
ファ機能が得られ熱処理装置の処理のタイミングと、外
部からのキャリアCの搬出入のタイミングが異なっても
待ち時間を少なくできるなどの利点もある。
理の開始、終了のタイミングは例えばシーケンスプログ
ラムにより異ならせることができるし、また熱処理の種
類が違う場合には通常異なる場合の方が多いので、1つ
の熱処理炉に対して、補充用ウエハを収納するキャリア
Cの数を多くすることができ、従って製品ウエハが少な
くても例えば1枚であっても当該1枚のウエハを熱処理
できるため、装置の自由度が大きい。更にまた製品ウエ
ハを収納するキャリアCの数も増やせるので大きなバッ
ファ機能が得られ熱処理装置の処理のタイミングと、外
部からのキャリアCの搬出入のタイミングが異なっても
待ち時間を少なくできるなどの利点もある。
【0029】そしてまたウエハ移載機7は熱処理ユニッ
ト部3A、3Bに対して共用されているため、熱処理ユ
ニット部3A、3B毎に設置する場合に比べてコストが
低減される。
ト部3A、3Bに対して共用されているため、熱処理ユ
ニット部3A、3B毎に設置する場合に比べてコストが
低減される。
【0030】以上において本発明では、図4に示すよう
に1つのウエハボート33を使用する熱処理ユニット部
3Cと、2つのウエハボート33a、33bを使用する
熱処理ユニット部3Dとを組み合わせてもよい。この例
では熱処理ユニット部3Dは、ウエハ移載機34により
ウエハをアクセス(ウエハの受け渡し)できる領域の中
でウエハボート33a、33bの夫々の載置位置を設定
しておき、これらの一方が熱処理炉31内にロードされ
ている間に他方に対してウエハをアクセスするように構
成される。また図4の実施例では、下段側のキャリア収
納棚52を例えば2列に構成している。なおこの場合上
段側のキャリア収納棚については例えば5列設けること
ができる。
に1つのウエハボート33を使用する熱処理ユニット部
3Cと、2つのウエハボート33a、33bを使用する
熱処理ユニット部3Dとを組み合わせてもよい。この例
では熱処理ユニット部3Dは、ウエハ移載機34により
ウエハをアクセス(ウエハの受け渡し)できる領域の中
でウエハボート33a、33bの夫々の載置位置を設定
しておき、これらの一方が熱処理炉31内にロードされ
ている間に他方に対してウエハをアクセスするように構
成される。また図4の実施例では、下段側のキャリア収
納棚52を例えば2列に構成している。なおこの場合上
段側のキャリア収納棚については例えば5列設けること
ができる。
【0031】以上において本発明は、熱処理ユニット部
の組み合わせの数は2個に限定されるものではなく3個
以上であってもよいし、熱処理の種類としては、酸化、
拡散、アニールまたはCVDなど種々の熱処理を対象と
することができ、更にまた被処理体としても半導体ウエ
ハ以外の例えばLCD基板であってもよい。
の組み合わせの数は2個に限定されるものではなく3個
以上であってもよいし、熱処理の種類としては、酸化、
拡散、アニールまたはCVDなど種々の熱処理を対象と
することができ、更にまた被処理体としても半導体ウエ
ハ以外の例えばLCD基板であってもよい。
【0032】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、熱処
理ユニット部を複数並べて配置し、容器収納部をこれら
熱処理ユニット部に対して共用する構成としているた
め、縦型の熱処理炉を複数用いる場合に装置全体の占有
面積を狭くすることができ、また被処理体容器を効率よ
く活用することができる。更に容器移載機を熱処理ユニ
ット部に対して共用しているため、熱処理能力からみれ
ばコスト的にも有利である。
理ユニット部を複数並べて配置し、容器収納部をこれら
熱処理ユニット部に対して共用する構成としているた
め、縦型の熱処理炉を複数用いる場合に装置全体の占有
面積を狭くすることができ、また被処理体容器を効率よ
く活用することができる。更に容器移載機を熱処理ユニ
ット部に対して共用しているため、熱処理能力からみれ
ばコスト的にも有利である。
【図1】本発明の実施例を示す概観斜視図である。
【図2】本発明の実施例を示す側面図である。
【図3】本発明の実施例を示す平面図である。
【図4】本発明の他の実施例を示す平面図である。
【図5】従来の熱処理装置を示す概観斜視図である。
3A、3B、3C、3D 熱処理ユニット部 31 熱処理炉 33 ウエハボート 34 ウエハ移載機 4A、4B ウエハ受け渡し部 51、52 キャリア収納棚 6 キャリアステージ 7 キャリア移載機 C キャリア W ウエハ
Claims (1)
- 【請求項1】 縦型の熱処理炉、被処理体ボート及び被
処理体移載機を備えた熱処理ユニット部と、 この熱処理ユニット部に容器移載機の移動領域を介して
対向配置され、複数の被処理体を収納した容器が外部と
の間で搬出入される容器受け渡し部と、 前記容器移載機と熱処理ユニット部との間に配設された
被処理体受け渡し部と、 この被処理体受け渡し部の上方に設けられた容器収納部
と、 を有し、容器移載機により容器受け渡し部、被処理体受
け渡し部及び容器収納部の間で容器の受け渡しを行うと
共に、被処理体移載機により、被処理体受け渡し部に置
かれた容器と被処理体ボートとの間で被処理体の受け渡
しを行う熱処理装置において、 前記熱処理ユニット部を複数横に並べて配置すると共
に、前記被処理体受け渡し部を各熱処理ユニット部毎に
設け、 前記容器収納部を各被処理体受け渡し部の上方領域に跨
って配置して、各熱処理ユニット部に対して共用し、 前記容器移載機を、各熱処理ユニット部の並びに沿って
移動自在に構成して、各熱処理ユニット部に対して共用
することを特徴とする熱処理装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04319993A JP3258748B2 (ja) | 1993-02-08 | 1993-02-08 | 熱処理装置 |
US08/191,487 US5464313A (en) | 1993-02-08 | 1994-02-04 | Heat treating apparatus |
KR1019940002161A KR100233310B1 (ko) | 1993-02-08 | 1994-02-05 | 열처리장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04319993A JP3258748B2 (ja) | 1993-02-08 | 1993-02-08 | 熱処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06236854A true JPH06236854A (ja) | 1994-08-23 |
JP3258748B2 JP3258748B2 (ja) | 2002-02-18 |
Family
ID=12657265
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP04319993A Expired - Fee Related JP3258748B2 (ja) | 1993-02-08 | 1993-02-08 | 熱処理装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5464313A (ja) |
JP (1) | JP3258748B2 (ja) |
KR (1) | KR100233310B1 (ja) |
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KR101426887B1 (ko) * | 2011-11-02 | 2014-08-07 | 우범제 | 반도체 소자 제조용 수직형 확산로의 웨이퍼 로딩 시스템 |
JP2019114784A (ja) * | 2017-12-20 | 2019-07-11 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム |
US11094572B2 (en) | 2017-12-20 | 2021-08-17 | Kokusai Electric Corporation | Substrate processing apparatus and recording medium |
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---|---|---|---|---|
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AU2368495A (en) * | 1994-04-28 | 1995-11-29 | Semitool, Incorporated | Semiconductor processing system with wafer container docking and loading station |
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US6833035B1 (en) | 1994-04-28 | 2004-12-21 | Semitool, Inc. | Semiconductor processing system with wafer container docking and loading station |
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JP3239977B2 (ja) * | 1994-05-12 | 2001-12-17 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置 |
JPH08213446A (ja) * | 1994-12-08 | 1996-08-20 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
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