JP4756372B2 - 基板処理方法 - Google Patents

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Description

本発明は、矩形状の基板を処理する複数の基板処理装置と、前記基板を上下方向に間隔を隔てて並べる状態で複数枚保持する収納容器を収納する複数の収納部を備えた収納棚と、複数の前記基板処理装置の夫々に対する基板入出部に位置する前記収納容器から基板を一枚ずつ取り出して前記基板処理装置に供給し且つ前記基板処理装置から搬出される基板を前記基板入出部に位置する前記収納容器に収納する基板搬送装置と、前記収納容器を前記複数の基板処理装置の夫々における前記基板入出部及び前記収納棚における前記収納部に搬送する収納容器搬送装置とを備えさせて、前記収納容器を前記収納棚に保管しながら、保管した前記収納容器を前記複数の基板処理装置の夫々における前記基板入出部に順次搬送することにより、前記基板を複数の前記基板処理装置にて順次処理して処理済み基板を製造する基板処理方法に関する。
かかる基板処理方法は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイに使用されるガラス基板等の基板を上下方向に間隔を隔てて並べる状態で複数枚保持した収納容器を収納棚に保管しながら、保管した収納容器を収納容器搬送装置にて基板処理装置の夫々おける基板入出部に順次搬送することにより、その収納容器に収納された基板を複数の基板処理装置にて塗布、露光及び現像等の所定の処理を順次処理して、処理済み基板を製造するものであり、基板処理装置に対する基板入出部に搬送する際に、基板処理装置の処理量の差により基板の処理に待ちが生じた場合は、その基板を収納容器に収納させた状態で収納棚に一時的に保管しておくものである。
そして、このような基板処理方法において、従来では、基板搬送装置によって基板入出部と基板処理装置との間で基板を搬送する基板搬送エリアの清浄度を維持するために浄化空気を通風する搬送エリア用の浄化空気通風手段を備え、収納容器を、横倒れ姿勢の四角筒状に形成し、その収納容器の一端側の開口を基板を出し入れするための出入り口とし、収納容器の他端側の開口から出入り口に向けて通風するファンフィルタユニットを、収納容器における他端側の開口部に装備し、収納容器搬送装置にて搬送するときには、ファンフィルタユニットにて通風することにより、基板の清浄度を維持し、且つ、基板入出部において基板搬送装置にて基板を搬送するときには、ファンフィルタユニットを停止させているものがあった（例えば、特許文献１参照。）。
ちなみに、収納棚に保管するときにおいても、ファンフィルタユニットにて収納容器内で通風させることにより、基板の清浄度を維持することができる。又、搬送エリア用の清浄空気通風手段によって基板搬送エリアの清浄度を維持することにより、収納容器から取出されて基板搬送エリアにて搬送される基板の清浄度を維持していた。
特開２００１−３０８１６９号公報
上記した従来の基板処理方法では、収納棚に保管するとき及び収納容器搬送装置にて搬送するときには、ファンフィルタユニットにより、浄化空気を収納容器の他端側の開口から出入り口に向けて通風させて出入り口から排出することによって、収納容器内に存在する塵埃が基板に付着することを防止するとともに、収納容器搬送装置の作動等によって収納容器の周囲の気流が乱れたとしても収納容器内に外気が進入することを防止して、収納容器内の基板の清浄度を維持しているものである。
しかしながら、収納棚に保管するとき及び収納容器搬送装置にて搬送するときにおいて、ファンフィルタユニットによって通風させる場合には、収納容器内の風速は収納容器内に存在する塵埃が基板に付着するのを防止することができる程度に比較的遅くてもよいものの、収納容器から排出されるときの風速は出入り口からの外気の逆流を防止するために比較的速くする必要があるため、ファンフィルタユニットの通風量としては、収納容器から排出されるときの風速を比較的速くするために多く、さらに、そのファンフィルタユニットによる通風は、収納棚に保管する時間に収納容器搬送装置にて搬送する時間を加えた長時間に亘って行われるものであるので、ファンフィルタユニットのランニングコスト、もっては、処理済み基板を製造する際のコストが高くなってしまうものであった。
また、基板入出部において基板搬送装置にて基板を搬送するときでは、ファンフィルタユニットを停止させているため、基板搬送エリア内の浄化空気が収納容器内にも進入してしまい、その進入する浄化空気と伴って基板搬送装置から発生した塵埃が収納容器の出入り口から進入する場合があり、その進入した塵埃にて収納容器内の基板が汚染され易いものであった。
本発明は、上記実状に鑑みて為されたものであって、その目的は、処理済み基板を製造する際のコストを抑えながら基板が汚染され難くすることができる基板処理方法を提供する点にある。
この目的を達成するために、本発明にかかる基板処理方法の第１特徴構成は、矩形状の基板を処理する複数の基板処理装置と、前記基板を上下方向に間隔を隔てて並べる状態で複数枚保持する収納容器を収納する複数の収納部を備えた収納棚と、複数の前記基板処理装置の夫々に対する基板入出部に位置する前記収納容器から基板を一枚ずつ取り出して前記基板処理装置に供給し且つ前記基板処理装置から搬出される基板を前記基板入出部に位置する前記収納容器に収納する基板搬送装置と、前記収納容器を前記複数の基板処理装置の夫々における前記基板入出部及び前記収納棚における前記収納部に搬送する収納容器搬送装置とを備えさせて、前記収納容器を前記収納棚に保管しながら、保管した前記収納容器を前記複数の基板処理装置の夫々における前記基板入出部に順次搬送することにより、前記基板を複数の前記基板処理装置にて順次処理して処理済み基板を製造する基板処理方法において、
前記収納容器が、横倒れ姿勢の四角筒状に形成されて、その収納容器の一端側の開口が前記基板を出し入れするための出入り口とされ、前記収納容器の他端側の開口から前記出入り口に向けて通風するファンフィルタユニットが、前記収納容器における他端側の開口部に装備され、前記収納容器の前記出入り口を開閉する蓋が、閉じ状態において一部を開口し、且つ、開き状態において前記基板搬送装置による前記基板の搬送を許容する状態で、前記収納容器の出入り口部に装備されて、前記収納棚に保管するとき及び前記収納容器搬送装置にて搬送するときには、前記収納容器の前記蓋を閉じ状態として前記ファンフィルタユニットにて通風することにより、前記基板の清浄度を維持し、且つ、前記基板入出部において前記基板搬送装置にて前記基板を搬送するときには、前記収納容器の前記蓋を開き状態として前記ファンフィルタユニットにて通風することにより、前記基板の清浄度を維持することを特徴とする点にある。
すなわち、収納棚に保管するとき及び収納容器搬送装置にて搬送するときに、収納容器の蓋を閉じ状態としてファンフィルタユニットにて通風させることにより、浄化空気を収納容器の他端側の開口から出入り口に向けて通風させて出入り口の一部の開口から排出させて、収納容器内に存在する塵埃が基板に付着することを抑制するとともに収納容器内に外気が進入することを防止することができるので、基板の清浄度を維持することができ、また、基板入出部において基板搬送装置にて基板を搬送するときには、収納容器の蓋を開き状態としてファンフィルタユニットにて通風することにより、浄化空気を収納容器の他端側の開口から出入り口に向けて通風させて出入り口から排出させて、収納容器内に存在する塵埃が基板に付着することを抑制するとともに収納容器内に外気が進入することを防止することができるので、基板搬送装置による基板の搬送を許容しながら基板の清浄度を維持することができる。
そして、収納棚に保管するとき及び収納容器搬送装置にて搬送するときは、収納容器の蓋が閉じ状態であるので、ファンフィルタユニットにて、浄化空気を収納容器の他端側の開口から出入り口に向けて通風させて出入り口における一部の開口から排出させることとなるため、出入り口においては蓋により風路が狭められるために排出される浄化空気の風速が速くなるものであり、ファンフィルタユニットの通風量を比較的少なくしたとしても、排出される浄化空気の風速が速く、収納容器の出入り口から収納容器内への外気の進入を防ぐことができ、また、そのファンフィルタユニットによる通風は、収納棚に保管する時間に収納容器搬送装置にて搬送する時間を加えた長時間であるため、ファンフィルタユニットのランニングコスト、もっては、処理済み基板を製造する際のコストを抑えることができる。
加えて、基板入出部において基板搬送装置にて基板を搬送するときには、収納容器の蓋を開き状態とし、ファンフィルタユニットにて、浄化空気を収納容器の他端側の開口から出入り口に向けて通風させて出入り口から排出させることとなるため、基板搬送装置による基板の搬送を許容することができながら、出入り口からの外気の逆流つまりは基板搬送エリアからの浄化空気の流入が防止されるので、収納容器に基板搬送装置にて発生した塵埃が進入し難いものとなり、収納容器内の基板が汚染され難いものとなる。
従って、収納棚に保管するとき及び収納容器搬送装置にて搬送するときにおいては、蓋を閉じ状態としてファンフィルタユニットにて通風させることによって、長時間に亘ってファンフィルタユニットの通風量を比較的少なくしたとしても基板の清浄度を維持することができて、処理済み基板を製造する際のコストを抑えることができ、また、基板入出部において基板搬送装置にて基板を搬送するときにおいては、蓋を開き状態としてファンフィルタユニットにて通風させることによって、基板搬送装置による基板の搬送を許容しながら収納容器内の基板が汚染され難くなるものとなり、もって、処理済み基板を製造する際のコストを抑えながら基板が汚染され難くすることができる基板処理方法を提供することができるに至った。
本発明にかかる基板処理方法の第２特徴構成は、第１特徴構成において、前記基板搬送装置によって前記基板入出部と前記基板処理装置との間で前記基板を搬送する基板搬送エリアの清浄度を維持するために浄化空気を通風する搬送エリア用の浄化空気通風手段が備えられ、前記基板入出部において前記基板搬送装置にて前記基板を搬送するときには、前記搬送エリア用の浄化空気通風手段によって前記基板搬送エリアの清浄度を維持することにより、前記基板搬送エリア内において搬送される前記基板の清浄度を維持することを特徴とする点にある。
すなわち、基板入出部において基板搬送装置にて基板を搬送するときには、搬送エリア用の浄化空気通風手段によって基板搬送エリアの清浄度を維持させて、基板搬送エリアにおいて基板を搬送している際にその基板が汚染されることを抑制することができるので、収納容器から取出されて基板搬送エリアにて搬送される基板の清浄度を維持することができ、もって、収納容器から取出されて基板搬送エリアにて搬送される基板の清浄度を維持することができる基板処理方法を提供することができるに至った。
本発明にかかる基板処理方法の第３特徴構成は、第１又は第２特徴構成において、前記蓋を開き状態としたときには、前記ファンフィルタユニットの通風量を増大させるようにする点にある。
すなわち、蓋を開き状態にしたときに、ファンフィルタユニットの通風量を増大させることによって、収納容器の蓋を開き状態とした状態でも、出入り口から排出される浄化空気の風速を速くして出入り口からの外気が進入するのを防ぐことができるので、蓋を開き状態にしたときの基板の清浄度をより維持することができ、もって、基板の清浄度をより維持することができる基板処理方法を提供することができるに至った。
本発明にかかる基板処理方法の第４特徴構成は、第１〜第３特徴構成のいずれか１つにおいて、前記収納棚が複数の前記基板処理装置に対応させる状態で複数設けられて、それら収納棚が備える複数の収納部のうちの一部が、前記基板入出部とされ、前記収納容器搬送装置として、前記収納棚に対応して装備される収納棚用の収納容器搬送部と、複数の前記収納棚の夫々における複数の入出庫部の間で前記収納容器を搬送する棚間用の収納容器搬送部とが設けられている点にある。
すなわち、収納棚用の収納容器搬送部にて収納棚に備えられた複数の収納部の間で収納容器を搬送し、棚間用の収納容器搬送部にて複数の収納棚の間で収納容器を搬送することにより、収納棚用の収納容器搬送部と棚間用の収納容器搬送部とで収納容器が分担して搬送されることにより収納容器を効率よく搬送することができ、また、複数の収納容器のうちの一部を基板入出部とすることによって、省スペース化を図ることができ、もって、収納容器を効率よく搬送することができ且つ設備の省スペース化を図ることができる基板処理方法を提供することができるに至った。
本発明にかかる基板処理方法の第５特徴構成は、第１〜第４特徴構成のいずれか１つにおいて、浄化空気を天井部より床部に通風するダウンフローのクリーン空間内に、前記複数の基板処理装置、前記収納棚、前記基板搬送装置、及び、前記収納容器搬送装置が装備され、前記基板入出部が、前記床部よりも高い位置に設置されている点にある。
すなわち、複数の基板処理装置、収納棚、基板搬送装置、及び、収納容器搬送装置をダウンフローのクリーン空間内に装備することによって、収納容器内や基板搬送エリアに外気が進入したとしても基板が汚染され難く、また、クリーン空間内に発生した塵埃はダウンフローによって床部側に鎮められるため、基板入出部を床部より高い位置に設置することで、基板搬入出部において基板が汚染され難くすることができ、もって、基板が汚染され難い基板処理方法を提供することができるに至った。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図２及び図６に示すように、基板処理設備は、矩形状の基板１を処理する複数の基板処理装置３と、前記基板１を上下方向に間隔を隔てて並べる状態で複数枚保持する収納容器２を収納する複数の収納部４を備えた収納棚５と、複数の前記基板処理装置３の夫々に対する基板入出部６に位置する前記収納容器２から基板１を一枚ずつ取り出して前記基板処理装置３に供給し且つ前記基板処理装置３から搬出される基板１を前記基板入出部６に位置する前記収納容器２に収納する基板搬送装置７と、前記収納容器２を前記複数の基板処理装置３の夫々における前記基板入出部６及び前記収納棚５における前記収納部４に搬送する収納容器搬送装置８とが備えられている。
ちなみに、図１に示すように、基板処理設備には、複数の基板収納設備Ａと、処理工程設備Ｂとが装備されており、図２に示すように、基板収納設備Ａの夫々に、収納棚５及び前記収納容器搬送装置８としてのスタッカークレーン１０が備えられ、図６に示すように、処理工程設備Ｂの夫々に、基板処理装置３及び基板搬送装置７が備えられている。
そして、この基板処理設備においては、前記収納容器２を前記収納棚５に保管しながら、保管した前記収納容器２を前記複数の基板処理装置３の夫々における前記基板入出部６に順次搬送することにより、前記基板１を複数の前記基板処理装置３にて順次処理して処理済み基板を製造する基板処理方法が用いられている。
つまり、基板搬送装置７及び収納容器搬送装置８は、図外の制御装置にて作動が制御されており、収納容器搬送装置８にて、収納容器２を複数の基板処理装置３の夫々における基板入出部６に順次搬送し、基板入出部６に搬送される毎に、基板搬送装置７にて、収納容器２から基板１を一枚ずつ取り出して基板処置装置３に供給し、基板処理装置３から搬送される基板１を収納するように、制御装置にて基板搬送装置７及び収納容器搬送装置８の作動を制御される。
また、複数の基板処理装置３においては塗布、露光及び現像等の所定の処理を個別に行うものであるために基板１を処理する処理量に差が生じるものであり、基板入出部６に順次搬送するときにおいて基板１の処理に待ちが生じた場合には、その処理待ちの基板１を収納した収納容器２は一時的に収納棚５に保管させるべく、制御装置にて収納容器搬送装置８の作動が制御される。
前記収納容器搬送装置８として、前記収納棚５に対応して装備される収納棚用の収納容器搬送部であるスタッカークレーン１０と、複数の前記収納棚５の夫々における複数の入出庫部９の間で前記収納容器２を搬送する棚間用の収納容器搬送部である往復走行搬送車１１及び周回走行搬送車１２とが設けられている。
図１に示すように、前記往復走行搬送車１１及び周回走行搬送車１２は、基板収納設備Ａ外で収納容器２を搬送するものであり、往復走行搬送車１１は、隣接する２つの基板収納設備Ａの間で往復走行して２つの基板収納設備Ａの間で収納容器２を搬送するように構成され、周回走行搬送車１２は、多数の基板収納設備Ａに亘って周回走行して、多数の基板収納設備Ａの間で収納容器２を搬送するように構成されている。
また、図２に示すように、スタッカークレーン１０は、基板収納設備Ａ内で収納容器２を搬送するものであり、互いに対向する状態で設けられた一対の収納棚５の間に形成された移動空間に沿って往復走行して、対向する一対の収納棚５における複数の収納部４の間で収納容器２を搬送するように構成されている。
つまり、収納容器搬送装置８にて、搬送元となる収納部４又は基板入出部６から搬送先となる収納部４又は基板入出部６に収納容器２を搬送する場合に、搬送元と搬送先とが異なる基板収納設備Ａである場合は、搬送元の基板収納設備Ａのスタッカークレーン１０、往復走行搬送車１１や周回走行搬送車１２、搬送先の基板収納設備のスタッカークレーン１０の順で順次受け渡すようにして収納容器２は搬送され、搬送元と搬送先とが同じ基板収納設備Ａである場合は、その基板収納設備Ａのスタッカークレーン１０にて収納容器２は搬送される。
図４に示すように、物品処理設備には、クリーン空間１３において浄化空気を天井部より床部に通風させるダウンフロー式の浄化空気通風手段２３が設けられており、そのダウンフローのクリーン空間１３内に、前記複数の基板処理装置３、前記収納棚５、前記基板搬送装置７、及び、前記収納容器搬送装置８が装備されており、前記基板収納設備Ａが周囲を開放する状態で装備されて、基板収納設備Ａの内外に浄化空気が空気流動可能に構成されている。
浄化空気通風手段２３について説明を加えると、図４に示すように、浄化空気通風手段２３は、クリーン空間１３の床部が多孔状のグレーティング床１４にて形成され、クリーン空間１３の天井部がＨＥＰＡフィルタなどからなるエアーフィルタ１５にて形成されるとともに、グレーティング床１４の下方側に形成された吸気室１６とエアーフィルタ１５の上方側に形成されたチャンバー室１７とが通風ファン１８及びプレフィルタ２１を備えた循環路１９にて連通されており、通風ファン１８にて、クリーン空間１３の空気をグレーティング床１４及び吸気室１６を通して循環路１９に吸気されるとともに、その吸気された空気をプレフィルタ２１、チャンバー室１７及びエアーフィルタ１５を通して浄化空気としてクリーン空間１３内に下向きに噴き出すようにして、クリーン空間１３内の空気を、プレフィルタ２１とエアーフィルタ１５とで清浄化させながら循環させて、浄化空気を天井部より床部に通風させるように構成されている。そして、循環路１９には、通風ファン１８より上流側に外気取入流路２０が接続され、通風ファン１８より下流側に排気流路２２が接続されており、浄化空気通風手段２３にて循環されるクリーン空間１３内の空気の一部を外気と交換されている。
図６に示すように、物品処理設備には、前記基板搬送装置７によって前記基板入出部６と前記基板処理装置３との間で前記基板１を搬送する基板搬送エリア２４の清浄度を維持するために浄化空気を通風する搬送エリア用の浄化空気通風手段２５が備えられている。
つまり、処理工程設備Ｂにおける基板搬送エリア２４には、基板搬送装置７による基板搬送作用空間を収納棚５側の端部が開放され且つ基板処理装置３側の端部が基板処理装置３と連通するように覆う区画壁２６が設けられ、この区画壁２６の天井部に搬送エリア用の浄化空気通風手段２５としての複数のエリア用ファンフィルタユニット２７が設けられており、複数のエリア用ファンフィルタユニット２７にて、クリーン空間１３の浄化空気をさらに清浄化させた浄化空気を、基板搬送エリア２４の天井部より床部に通風させて、区画壁２６にて覆われる空間をダウンフローの空間としている。
図２〜図４に示すように、前記収納棚５は、グレーティング床１４上に設けられており、棚横幅方向に間隔を隔てて立設された前後一対の支柱３１と、前後一対の支柱３１に亘って架設されて棚上下方向に間隔を隔てて設けられた載置支持部３２とから構成されている。
そして、収納棚５には、前後一対の支柱３１と左右一対の載置支持部３２とにより形成された前記収納部４が縦横並べられて複数設けられている。各収納部４は、棚横幅方向に隣接するもの同士及び棚上下方向に隣接するもの同士が空気流動可能に連通されている。
また、最下段の収納部４は、グレーティング床１４から上方側に間隔を隔てるように設置されており、その最下段の収納部４の下方には、浄化空気を流動させるための流動用空間が形成されている。
前記収納棚５が備える複数の収納部４のうちの一部が、前記基板入出部６とされ、また、収納棚５が備える収納部４のうちの一部が、前記入出庫部９とされている。
説明を加えると、図５に示すように、収納棚５が備える最下段の複数の収納部４のうちの基板処理装置３に対応する収納部４が基板入出部６とされており、基板搬送装置７にて基板入出部６に位置する収納容器２に対して収納棚５の背面側を通して基板１を一枚ずつ取り出すことや一枚ずつ収納することができるように構成されている。そして、最下段の収納部は上記したようにグレーティング床１４から上方側に間隔を隔てるように設置されているため、基板入出部６は、床部よりも高い位置に設置されている。
また、図７に示すように、収納棚５が備える中段の複数の収納部４のうちの往復走行搬送車１１及び周回走行搬送車１２に対応する収納部４が入出庫部９とされており、往復走行搬送車１１に対応する入出庫部９は、往復走行搬送車１１にて収納棚５の背面側と通して収納容器２を搬出入できるように構成され、且つ、周回走行搬送車１２に対応する入出庫部９は、周回走行搬送車１２にて収納棚５の側面側を通して収納容器２を搬出入できるように構成されている。
図２、図３及び図８に示すように、スタッカークレーン１０は、収納棚５の前方の走行経路に長手方向に沿って設けられた２本の走行レール３４に沿って走行する走行台車３５と、走行台車３５に立設された一対の昇降マスト３６に昇降自在に案内支持される昇降台３７と、昇降台３７に支持されて収納部４と自己との間で収納容器２を移載可能なフォーク式の物品移載装置３８とが備えられており、走行台車３５の水平移動、昇降台３７の昇降移動、および、物品移載装置３８の作動により、収納棚５の前方の移動空間を棚横幅方向に走行自在で、且つ、前記収納容器２を前記基板入出部６、前記入出庫部９、及び、これら以外の前記収納棚５における前記収納部４に搬送するように構成されている。
前記走行台車３５には、２本の走行レール３４の夫々に対して前後２輪、計４輪の走行車輪３９が設けられており、走行車輪３９の夫々を走行用モータ４０にて回転駆動させることにより、走行台車３５が走行経路に沿って走行するように構成されている。
そして、一対の昇降マスト３６は、その上端部同士が上部フレーム４１にて連結されている。
図８に示すように、前記昇降台３７における前後方向の両端部の夫々には、一対の昇降用チェーン４５の一端部が連結されており、その一対の昇降用チェーン４５の一方は、昇降マスト３６の上端部に設けられた案内スプロケット４６に巻き掛けられて他端部がバランスウェイト４７に連結され、一対の昇降用チェーン４５の他方は、昇降マスト３６の下端部に設けられた駆動スプロケット４８に巻き掛けられて他端部がバランスウェイト４７に連結されており、昇降用モータ４９にて駆動スプロケット４８を回転駆動させることにより、昇降台３７を昇降移動させるように構成されている。
図９に示すように、前記物品移載装置３８は、上下軸芯Ｐ１周りに旋回自在な旋回台５０、及び、その旋回台５０上に設けられた載置部５１を出退移動自在に支持するリンク機構５２から構成されている。そして、物品移載装置３８は、旋回台５０の旋回により載置部５１を旋回移動可能で、且つ、リンク機構５２の伸縮により、物品移載装置３８を昇降台３７上に引退させた状態（図５参照）や物品移載装置３８を収納部４側に突出させた状態に切り換え可能に構成されている。尚、物品移載装置３８が、支持した収納容器２を旋回させる旋回手段に相当する。
図３に示すように、基板収納設備Ａには、スタッカークレーン１０の作動を制御する制御手段Ｈが備えられている。
この制御手段Ｈは、収納容器搬送装置８の運転を管理する上位の制御装置からの指令に基づいて、走行用モータ４０、昇降用モータ４９及び物品移載装置３８の作動を制御することにより、複数の収納部４の間で収納容器２を搬送すべく、スタッカークレーン１０の作動を制御するように構成されている。
そして、前記制御手段Ｈは、一対の前記収納棚５のいずれにおいても、前記収納容器２の前記ファンフィルタユニット６４を装備した側を前記移動空間側に位置させ且つ前記収納容器２の前記出入り口７２側を前記移動空間から離れる側に位置させる状態で前記収納容器２を前記収納部４に収納するように前記収納容器搬送装置８の作動を制御するように構成されている。
つまり、制御手段Ｈは、対向する一対の収納棚５の間で収納容器２を搬送する際に、搬送元の収納部４と搬送先の収納部４とが同じ収納棚５である場合では、搬送元の収納部４から収納容器２を取り出し、その収納容器２を物品移載装置３８にて旋回させることなく搬送先の収納部４に収納することによって、搬送元の収納部４と同様に搬送先の収納部４においても、収納容器２のファンフィルタユニット６４を装備した側を移動空間側に位置させ且つ収納容器２の前記出入り口側である蓋６５を装備した側を移動空間から離れる側に位置させる状態で収納容器２を収納部４に収納させ、また、搬送元の収納部４と搬送先の収納部４とが異なる収納棚５である場合では、搬送元の収納部４から収納容器２を取り出し、その収納容器２を物品移載装置３８にて１８０度旋回させた後に搬送先の収納部４に収納することによって、搬送元の収納部４と同様に搬送先の収納部４においても、収納容器２のファンフィルタユニット６４を装備した側を移動空間側に位置させ且つ収納容器２の蓋６５を装備した側を移動空間から離れる側に位置させる状態で収納容器２を収納部４に収納させるべく、スタッカークレーン１０の作動を制御するように構成されている。
図５及び図６に示すように、基板搬送装置７は、基板処理装置３と収納棚５近くとの間で基板１を載置搬送する基板搬送コンベヤ５４と、基板入出部６に位置する収納容器２と基板搬送コンベヤ５４の収納棚側端部との間で基板１を載置搬送する基板搬送ロボット５５とを備えて構成されている。
基板搬送ロボット５５は、収納棚５の背面側を棚横幅方向に沿って移動する移動台車５６と、その移動台車５６に昇降並びに回転自在に支持された昇降部５７と、その昇降部５７にリンク機構５８を介して連結されたフォーク状の支持部５９とを備え、昇降部５７の昇降及び回転とリンク機構５８の伸縮とによって、基板入出部６に位置する収納容器２から基板搬送コンベヤ５４の収納棚側端部に基板１を一枚ずつ搬送し、且つ、基板搬送コンベヤ５４の収納棚側端部の基板１を基板入出部６に位置する収納容器２に一枚ずつ搬送するように構成されている。
図６に示すように、基板搬送コンベヤ５４は、基板１の横幅方向の両端部を回転ローラ６１にて支持して、その回転ローラ６１を回転駆動させることによって基板１を搬送するように構成されており、図５に示すように、基板搬送コンベヤ５４として、基板搬送ロボット５５から受け取った基板１を基板処理装置３に向けて搬送する未処理用の基板搬送コンベヤ５４と、基板処理装置３から搬出された基板１を収納棚５側に向けて搬送する処理済用の基板搬送コンベヤ５４とが備えられている。
図１１及び図１２に示すように、前記収納容器２は、横倒れ姿勢の四角筒状に形成されて、その収納容器２の一端側の開口が前記基板１を出し入れするための出入り口７２とされ、前記収納容器２の他端側の開口から前記出入り口７２に向けて通風するファンフィルタユニット６４が、前記収納容器２における他端側の開口部に装備され、前記収納容器２の前記出入り口７２を開閉する蓋６５が、閉じ状態において一部を開口し、且つ、開き状態において前記基板搬送装置７よる前記基板１の搬送を許容する状態で、前記収納容器２の出入り口部に装備されている。
換言すると、横倒れ姿勢の四角筒状に形成された容器本体６６の一端側の開口が、前記基板１を一枚ずつ出し入れするための出入り口７２として構成され、前記容器本体６６の他端側の開口から前記出入り口７２に向けて通風するファンフィルタユニット６４が、前記容器本体６６における他端側の開口部に装備され、前記容器本体６６における前記出入り口７２を開閉する蓋６５が、閉じ状態において一部を通気口７５として開口し、且つ、開き状態において前記基板搬送装置７による前記基板１の搬送を許容する状態で、前記容器本体６６の出入り口部に装備されている。
図１０に示すように、容器本体６６は、矩形状に形成されて容器本体６６の一端側の開口を形成する一端側矩形枠９３と、同じく矩形状に形成されて容器本体６６の他端側の開口を形成する他端側矩形枠９４と、一端側枠体と他端側枠体と角部において互いに連結する角枠材９５と、容器本体６６の一端側部を除く他端側部、左右横側部、上側部及び下側部において適宜架設された連結枠材９６とで格子状に枠組み形成され、両横側部においては、その両横側部に形成された開口を塞ぐ形態で、矩形枠や枠材と外面側で面一となる状態で備えられた外面部材９７と矩形枠や枠材と内面側で面一となる状態に備えられた内面部材９８とを備え、上側部並びに下側部においては、その上側部並びに下側部に形成された開口を塞ぐ形態で、前記内面部材９８を備えて、横倒れ姿勢の四角筒状に形成されている。
そして、一端側矩形枠９３、他端側矩形枠９４及び下側に位置する各枠材９５には、収納棚５の収納部４に収納する際に載置支持される収納用支持部８２が設けられており、一端側矩形枠９３及び他端側矩形枠９４には、スタッカークレーン１０等の収納容器搬送装置８にて搬送する際に載置支持される搬送用支持部８３が設けられている。
図１３及び図１７に示すように、容器本体６６には、左右の両側壁部に亘って支持体６７が架設されている。この支持体６７は、１枚の基板１を支持するために前後方向に複数設けられ、且つ、収納容器２に収納する基板１の枚数に対応して上下方向に設定間隔で複数段に設けられている。
そして、図１３に示すように、支持体６７の夫々は、容器本体６６の左右の両側壁部における連結枠材９６に亘って架設される本体フレーム６９と、これに立設された複数本のピン部材６８とで構成されている。ピン部材６８は、基板搬送ロボット５５にて基板１を収納容器２から出し入れする際に基板搬送ロボット５５の支持部５９と干渉しないように本体フレーム６９における設定位置に立設されており、この複数本のピン部材６８にて基板１を支持することによって、本体フレーム６９とこれにて支持される基板１との間に基板搬送ロボット５５の支持部５９を挿通させるための隙間が形成されている。
図１１に示すように、容器本体６６には、ファンフィルタユニット６４が３つ装備されており、その３つのファンフィルタユニット６４は、容器本体６６における他端側の開口部に連結支持されるＦＦＵ用枠体９０に横幅方向に３つ並べた状態で取り付けられている。
そして、ＦＦＵ用枠体９０には、非接触給電装置７０の受電部７０ａが備えられており、収納部４の夫々において載置支持部３２にて支持される状態で備えられた非接触給電装置７０の給電部７０ｂ（図２参照）から供給された電力により３つのファンフィルタユニット６４が作動するように構成されている。
また、ＦＦＵ用枠体９０には、受電部７０ａに供給された電力を蓄えるバッテリ７１も備えられており、収納容器２をスタッカークレーン１０にて搬送するとき等、受電部７０ａが給電部７０ｂから離れて収納容器２に電力が供給されなくなる状態には、バッテリ７１に蓄えられた電力にて３つのファンフィルタユニット６４が作動するように構成されている。
次に、蓋６５について説明する。
図１６に示すように、前記蓋６５における前記通気口７５は、前記出入り口７２の横幅と略同じ横幅に亘るスリット状に形成され且つ前記容器本体６６に保持される複数枚の前記基板１の夫々に対応させた状態で上下方向に複数形成されている。
そして、図１６（ロ）に示すように、前記蓋６５が、前記基板１の出し入れを許容する開き状態において、前記出入り口７２の横幅と略同じ横幅に亘るスリット状の基板出し入れ用口７６を前記容器本体６６に保持される複数枚の前記基板１に対応する箇所に形成する形態で、且つ、隣接する基板出し入れ用口７６の間を閉じる形態で、前記出入り口７２を開くように構成されている。
前記蓋６５について説明を加えると、図１６に示すように、前記出入り口７２の横幅と略同じ横幅の蓋形成部材７７の複数を、前記閉じ状態において隣接するものの間に前記通気口７５を形成し且つ前記出入り口７２の横幅方向に沿う軸芯周りで回転させた前記開き状態において隣接するものの間に前記基板出し入れ用口７６を開口する形態で、前記出入り口７２を開くように上下方向に並べて構成されている。
複数の蓋形成部材７７の夫々は、横側面視において中空薄板状に形成された板状体にて構成されており、その中心部において横軸芯周りに回転自在に蓋用枠体７８に支持されている。そして、蓋６５は、図１６（イ）に示すように、複数の蓋形成部材７７の夫々を横軸芯周りに回転させて上下方向に沿う姿勢とすることにより、蓋形成部材７７同士の間に形成された比較的小さな開口を通気口７５とする閉じ状態となり、図１６（ロ）に示すように、複数の蓋形成部材７７の夫々を横軸芯周りに回転させて前後方向に沿う姿勢とすることにより、蓋形成部材７７同士の間に形成された比較的大きな開口を基板出し入れ用口７６とする開き状態となるように構成されている。
つまり、図１６（イ）及び図１７（イ）に示すように、蓋６５閉じ状態とした状態では、複数の蓋形成部材７７同士の間に通気口７５が開口しているため、ファンフィルタユニット６４にて、浄化空気を収納容器２の他端側の開口から出入り口７２に向けて通風させて出入り口７２における通気口７５から排出させることができ、その通気口７５は上下方向（通風方向と交差する方向）に沿う姿勢の複数の蓋形成部材７７によって小さく形成されているため、その通気口７５から排出される浄化空気は風速が速くなり、これによって収納容器２の出入り口７２から収納容器２内への外気の侵入を防ぐことができる。
そして、図１６（ロ）及び図１７（ロ）に示すように、蓋６５を開き状態とした状態では、複数の蓋形成部材７７同士の間に通気口７５より大きな基板出し入れ用口７６が開口しているため、浄化空気を基板出し入れ用口７６から基板１を出し入れすることができ、その基板出し入れ用口７６から排出される浄化空気は、閉じ状態程ではないものの前後方向（通風方向）に沿う姿勢の複数の蓋形成部材７７の存在によって風路が狭められて風速が速くなるため、これによって収納容器２の出入り口７２から収納容器２内への外気の侵入を防ぐことができる。
また、複数の蓋形成部材７７における隣接するもの同士の間には、上記の如く、閉じ状態においては通気口７５が形成され、開き状態においては基盤出し入れ用口７６が形成されているものであり、蓋６５の開き状態や閉じ状態、並びに、蓋６５をこれらの状態に切り換える際に互いに複数の蓋形成部材７７が互いに接触することがないため、蓋形成部材７７が互いに接触することによる発塵がなく、蓋６５からの塵埃の発生を抑制することができる。
前記蓋６５が前記閉じ状態側に復帰付勢されるように構成され、上方への移動により前記蓋６５を開き状態に操作する操作部としての連結棒８０が、前記容器本体６６の底面部から下方に突出する状態で設けられている。
説明を加えると、図１６（イ）に示すように、リンク部材７９の基端部が、上下方向に沿う姿勢の蓋形成部材７７の夫々に後ろ下方に延設される形態で一体回転するように連結され、このリンク部材７９の夫々の遊端部が上下方向に沿う姿勢の前記連結棒８０に回転自在に連結されており、蓋形成部材７７の夫々が上下方向沿う姿勢となる閉じ状態において、連結棒８０を上昇移動させることによって、蓋形成部材７７の夫々が前後方向に沿う姿勢となる開き状態となり、また、蓋形成部材７７の夫々が前後方向沿う姿勢となる開き状態において、連結棒８０を下降移動させることによって、蓋形成部材７７の夫々が上下方向に沿う姿勢となる閉じ状態となる。
そして、連結棒８０は自重にて下降側に付勢されており、連結棒８０が容器本体６６の底面部から下方に突出している状態では蓋６５は閉じ状態となり、この状態で収納容器２を基板入出部６に載置させるに伴って、基板入出部６の載置支持部３２に備えられた蓋用突起部８１にて連結棒８０が押し上げられることによって、リンク部材７９を介して蓋形成部材７７が回転操作され、蓋形成部材７７の夫々が前後方向に沿う姿勢となって蓋６５が開き状態となる。ちなみに、基板入出部６から収納容器２を持ち上げることによって、連結棒８０が自重によって押し下げられることによって、リンク部材７９を介して蓋形成部材７７が回転操作され、蓋形成部材７７が上下方向に沿う姿勢となって蓋６５が閉じ状態となる。尚、連結棒８０の下降移動は、図外の規制部材にて連結棒８０の下端部が容器本体６６の底面部から下方に突出する状態で規制されている。
基板入出部６の蓋用突起部８１のような連結棒８０を押し上げ操作するような部分は、基板入出部６以外の収納部４、並びに、スタッカークレーン１０等の収納容器搬送装置８には備えられておらず、基板入出部６に位置させた場合以外では、連結棒８０は押し上げ操作されることがないようにして、基板入出部６以外の収納部４にて収納させている際やスタッカークレーン１０等にて搬送する際は収納容器２の蓋６５が閉じ状態を維持するように構成されている。
つまり、基板処理設備においては、前記収納棚５に保管するとき及び前記収納容器搬送装置８にて搬送するときには、前記収納容器２の前記蓋６５を閉じ状態として前記ファンフィルタユニット６４にて通風することにより、前記基板１の清浄度が維持され、且つ、前記基板入出部６において前記基板搬送装置７にて前記基板１を搬送するときには、前記収納容器２の前記蓋６５を開き状態として前記ファンフィルタユニット６４にて通風すること並びに前記搬送エリア用の浄化空気通風手段２５によって前記基板搬送エリア２４の清浄度が維持されることにより、前記基板１の清浄度が維持する基板処理方法が用いられている。
そして、収納容器２は、蓋６５を開き状態としたときに３つのファンフィルタユニット６４の通風量を増大させるべく３つのファンフィルタユニット６４の作動を制御する制御部１０９を備えて構成されている。
つまり、図１１及び図１８に示すように、ＦＦＵ用枠体９０には、収納容器２を基板入出部６に載置するに伴って基板入出部６の載置支持部３２に備えられたＦＦＵ用突起部１０６にて押し上げられて上昇移動し、且つ、収納容器２が基板入出部６から持ち上げられることによって自重により下降移動する昇降移動可能な検出片１０７と、検出片１０７の昇降移動を検出してその検出情報を前記制御部１０９に向けて送信するリミットスイッチにて構成された検出スイッチ１０８と、検出スイッチ１０８からの検出情報に基づいてファンフィルタユニット６４の作動を制御する前記制御部１０９とが備えられており、制御部１０９は、検出片１０７が上昇移動した状態では、ファンフィルタユニット６４の通風量を増大させ、検出片１０７が下降移動した状態では、ファンフィルタユニット６４の通風量を減少させるべく、検出スイッチ１０８の検出情報に基づいてファンフィルタユニット６４の作動を制御するように構成されている。
そして、ＦＦＵ用突起部１０６は、蓋用突起部８１と同様に、基板入出部６以外の収納部４、並びに、スタッカークレーン１０等の収納容器搬装置８には備えられていない。
従って、収納容器２を基板入出部６に位置させて蓋６５が開き状態となった状態では、ファンフィルタユニット６４の通風量は増大し、収納容器２を基板入出部６以外に位置させて蓋６５が閉じ状態となった状態では、ファンフィルタユニット６４の通風量が減少する。
ちなみに、蓋６５が開き状態に切り換えられる前の時点で、ファンフィルタユニット６４の通風量が増大し、蓋が閉じ状態に切り換えられた後の時点で、ファンフィルタユニットの通風量が減少するようにして、蓋６５を開き状態に切り換えられる際や閉じ状態に切り換えられる際の蓋６５から発生する塵埃によって収納容器２内の基板１が汚染されることを防止することが好ましく、このような蓋６５の開き状態や閉じ状態への切り換えとファンフィルタユニット６４の通風量の増減の関係は、蓋用突起部８１及びＦＦＵ用突起部１０６の高さを調節することにより可能である。
図１１に示すように、前記ファンフィルタユニット６４並びに前記蓋６５が、前記容器本体６６に対して着脱自在に装着されており、収納容器２からファンフィルタユニット６４と蓋６５とを取り外して収納容器２を容易に洗浄できるように構成されている。
つまり、図１４に示すように、蓋用枠体７８の上端部には、容器本体６６における一端側矩形枠９３の上部に上方から係合する蓋用係合部材９９が設けられ、また、一端側矩形枠９３の下端部には、蓋用枠体７８を載置支持する状態で蓋用枠体７８の下端部に形成された被係合溝７８ａに係合する蓋用係合支持板１００が設けられており、蓋用係合部材９９を一端側矩形枠９３の上部に対して係脱し、且つ、蓋用係合支持板１００を蓋用枠体７８の被係合溝７８ａに対して係脱することにより、蓋６５を容器本体６６に対して着脱することができるように構成されている。
また、図１５に示すように、ＦＦＵ用枠体９０の上端部には、容器本体６６における他端側矩形枠９４の上部に上方から係合するＦＦＵ用係合部材８８が設けられ、また、他端側矩形枠９４の下端部には、ＦＦＵ用枠体９０を載置支持する状態でＦＦＵ用枠体９０の下端部に形成された被係合溝９０ａに係合するＦＦＵ用係合支持板８９が設けられており、ＦＦＵ用係合部材８８を他端側矩形枠９４の上部に対して係脱し、且つ、ＦＦＵ用係合支持板８９をＦＦＵ用枠体９０の被係合溝９０ａに対して係脱することにより、ファンフィルタユニット１０を給電部７０ｂやバッテリ７１とともに容器本体６６に対して着脱することができるように構成されている。
そして、図２に示すように、収納棚５が備える最下段の複数の収納部４のうちの一部が、収納棚５の背面側と通して手押し台車８５にて収納容器２を出し入れすることができる手押し台車用の入出庫部９とされており、手押し台車８５にて手押し台車用の入出庫部９から収納容器２を取り出した後、収納容器２からファンフィルタユニット６４と蓋６５とを取り外して、容器洗浄装置８６にて容器本体２を洗浄することができるように構成されている。ちなみに、手押し台車用の入出庫部９の背面側には、その入出庫部９の背面側を閉じるシャッター８４が設けられており、前記制御手段Ｈは、シャッター８４が開き操作されている状態では、手押し台車用の入出庫部９に対するスタッカークレーン１０による収納容器２の搬送が行われないようにスタッカークレーン１０の作動を制御するように構成されている。
〔別実施の形態〕
（１） 上記実施の形態では、基板入出部６において基板搬送装置７にて基板１を搬送するときは、収納容器２のファンフィルタユニット６４の通風量を増大させるようにしたが、基板入出部６において、基板搬送装置７にて基板１を搬送するときにおいてもファンフィルタユニット６４の通風量を増大させないようにしてもよい。
つまり、収納棚５に保管するとき、収納容器搬送装置８にて搬送するとき、及び、基板入出部６において基板搬送装置７にて基板１を搬送するときにおいて、収納容器２のファンフィルタユニット６４の通風量を一定に維持するようにしてもよい。
また、収納容器搬送装置８にて搬送するときは、収納棚５に保管するときより収納容器２のファンフィルタユニット６４の通風量を増大させ、基板入出部６において基板搬送装置７にて基板搬送するときは、収納容器搬送装置８にて搬送するときよりファンフィルタユニット６４の通風量を増大させるというように、収納棚５に保管するときと、収納容器搬送装置８にて搬送するときと、基板入出部６において基板搬送装置７にて基板搬送するときとで、収納容器２のファンフィルタユニット６４の通風量を変更するようにしてもよい。つまり、収納容器搬送装置８にて搬送するときにおいても、収納容器２のファンフィルタユニット６４の通風量を増大させるようにしてもよい。ちなみに、収納容器搬送装置８にて搬送するときの通風量は、基板入出部６において基板搬送装置７にて基板搬送するときと同じでもよく、また、多くてもよい。
（２） 上記実施の形態では、収納棚５が備える複数の収納部４のうちの一部を基板入出部６としたが、収納棚５の長手方向の一側方に基板入出部６を別途備えるように、基板入出部６を収納部４とは異なる箇所に備えるようにしてもよい。
また、収納棚５が備える複数の収納部４のうちの一部を入出庫部９としたが、収納棚５の長手方向の一側方に入出庫部９を別途備えるように、入出庫部９を収納部４とは異なる箇所に備えるようにしてもよい。
（３） 上記実施の形態では、収納容器搬送装置８として、収納棚５に対応して装備される収納棚用の収納容器搬送部１０と、複数の収納棚５の夫々における複数の入出庫部９の間で収納容器２を搬送する棚間用の収納容器搬送部１１、１２とを設けたが、収納容器搬送装置８として、収納棚５に対応して装備される収納棚用の収納容器搬送部１０のみを設けるようにしてもよい。
また、上記実施の形態では、収納棚用の収納容器搬送部としてのスタッカークレーン１０を対向する一対の収納棚５に対して１台備えたが、スタッカークレーン１０を対向する一対の収納棚５に対して複数台備えてもよい。
（４） 上記実施の形態では、浄化空気通風手段２３を備えて、複数の基板処理装置３、収納棚５、基板搬送装置７、及び、収納容器搬送装置８を装備した空間を、浄化空気を天井部より床部に通風するダウンフローのクリーン空間としたが、浄化空気通風手段２３を備えずに、複数の基板処理装置３、収納棚５、基板搬送装置７、及び、収納容器搬送装置８を装備した空間をクリーン空間としなくてもよい。
（５） 上記実施の形態では、基板入出部６を、床部より高い位置に設置したが、スタッカークレーン１０を床部より低い箇所を走行させた場合等において、基板入出部６を床部と同じ高さの位置や床部より低い位置に設置してもよい。
また、上記実施の形態では、収納棚５をクリーン空間１３の床部（グレーティング床１４）上に設けたが、床部より低い吸気室１６の底部上に設けてもよい。
（６） 上記実施の形態では、クリーン空間１３の天井部をエアーフィルタにて形成したが、クリーン空間１３の天井部を天井部用のファンフィルタユニットにて形成してもよい。
（７） 上記実施の形態では、容器本体６６の両横側部を、外面部材９８と内面部材９９とを備えて２重構造としたが、内面部材のみを備えて、上側部や下側部と同様に１重構造としてもよい。
（８） 上記実施の形態では、リンク部材７９の基端部を、上下方向に沿う姿勢の蓋形成部材７７の夫々に後ろ下方に延設される形態で一体回転するように連結して、リンク部材７９の夫々の遊端部が回転自在に連結される連結棒８０が、蓋形成部材７７の回転軸芯より後方側（容器本体側）に位置するようにしたが、リンク部材７９の基端部を、上下方向に沿う姿勢の蓋形成部材７７の夫々に前下方に延設される形態で一体回転するように連結して、リンク部材７９の夫々の遊端部が回転自在に連結される連結棒８０が、蓋形成部材７７の回転軸芯より前方側（容器本体が存在する側とは反対側）に位置するようにしてもよい。
（９） 上記実施の形態では、基板入出部６において収納容器２を収納容器搬送装置８にて上下に移動させることによって、操作部８０が操作されて蓋６５が開き状態と閉じ状態とに切り換えられるように構成したが、蓋６５に操作部８０を操作する電動モータ等の駆動手段を備え、駆動手段にて操作部８０を操作することによって、蓋６５を開き状態と閉じ状態とに切り換えるように構成してもよい。
（１０） 上記実施の形態では、複数の蓋形成部材７７の全てを一体的に回転操作するように構成したが、蓋６５を開き状態とした状態において、一部の蓋形成部材７７を前後方向に沿う姿勢とし、残りの蓋形成部材７７を上下方向に沿う姿勢として、開き状態においても、上下方向に沿う姿勢の蓋形成部材７７を存在させておいて、排出される浄化空気の風速をより速くすることができるように、複数の蓋形成部材７７を個別に又は複数枚のグループ単位で回転操作するように構成してもよい。
つまり、例えば、複数の蓋形成部材７７を複数枚のグループ単位で回転操作するように構成した場合では、複数の蓋形成部材７７における上半分の蓋形成部材７７には、横幅方向一方側端部にリンク部材７９を介して一方側の連結棒８０を連結し、複数の蓋形成部材７７における下半分の蓋形成部材７７には、横幅方向他方側端部にリンク部材７９を介して他方側の連結棒８０を連結して、一方側の連結棒８０の操作により上半分の蓋形成部材７７を前後方向に沿う姿勢として収納容器２の上半分で基板１の出し入れを行い、他方側の連結棒８０の操作により下半分の蓋形成部材７７を前後方向に沿う姿勢として収納容器２の下半分で基板１の出し入れを行うように構成してもよい。
（１１） 上記実施の形態では、ＦＦＵ用突起部１０６による検出片１０７の昇降移動に基づいてファンフィルタユニット６４の通風量を変更するように構成したが、蓋用突起部８１による連結棒８０の昇降移動に基づいてファンフィルタユニット６４の通風量を変更するように構成してもよい。
つまり、蓋用枠体７８に、連結棒８０の昇降移動を検出してその検出信号を制御部１０９に向けて送信する検出手段を備え、制御部１０９を、蓋６５が開き状態となる連結棒８０が上昇移動した状態では、ファンフィルタユニット６４の通風量を増大させ、蓋６５が閉じ状態となる連結棒８０が下降移動した状態では、ファンフィルタユニット６４の通風量を減少させるべく、検出手段の検出情報に基づいてファンフィルタユニット６４の作動を制御するように構成してもよい。
ちなみに、検出手段から制御部１０９への検出情報の送信は、蓋用枠体７８側及びＦＦＵ用枠体９０側と分離可能に接続したケーブルを容器本体６６に設けて有線で行ってもよく、また、蓋用枠体７８に送信機を設け、ＦＦＵ用枠体９０に受信機を設けて無線で行ってもよい。
物品処理設備の斜視図 基板収納設備の正面図 基板収納設備の側面図 浄化空気通風手段を示す図 物品収納棚における一段目の収納部を示す図 基板搬送エリアを示す側面図 物品収納棚における三段目の収納部を示す図 スタッカークレーンの側面図 物品移載装置の平面図 容器本体の分解斜視図 収納容器の分解斜視図 収納容器の斜視図 収納容器の縦断正面図 蓋の着脱を示す側面図 ファンフィルタユニットの着脱を示す側面図 蓋の閉じ状態と開き状態とを示す側面図 蓋の閉じ状態と開き状態とを示す側面図 ファンフィルタユニットの制御部を示す側面図
符号の説明
１ 基板
２ 収納容器
３ 基板処理装置
４ 収納部
５ 収納棚
６ 基板入出部
７ 基板搬送装置
８ 収納容器搬送装置
９ 入出庫部
１０ 収納棚用の収納容器搬送部
１１ 棚間用の収納容器搬送部
１２ 棚間用の収納容器搬送部
１３ クリーン空間
２４ 基板搬送エリア
２５ 搬送エリア用の浄化空気通風手段
６４ ファンフィルタユニット
６５ 蓋
７２ 出入り口

Claims (5)

  1. 矩形状の基板を処理する複数の基板処理装置と、
    前記基板を上下方向に間隔を隔てて並べる状態で複数枚保持する収納容器を収納する複数の収納部を備えた収納棚と、
    複数の前記基板処理装置の夫々に対する基板入出部に位置する前記収納容器から基板を一枚ずつ取り出して前記基板処理装置に供給し且つ前記基板処理装置から搬出される基板を前記基板入出部に位置する前記収納容器に収納する基板搬送装置と、
    前記収納容器を前記複数の基板処理装置の夫々における前記基板入出部及び前記収納棚における前記収納部に搬送する収納容器搬送装置とを備えさせて、
    前記収納容器を前記収納棚に保管しながら、保管した前記収納容器を前記複数の基板処理装置の夫々における前記基板入出部に順次搬送することにより、前記基板を複数の前記基板処理装置にて順次処理して処理済み基板を製造する基板処理方法であって、
    前記収納容器が、横倒れ姿勢の四角筒状に形成されて、その収納容器の一端側の開口が前記基板を出し入れするための出入り口とされ、
    前記収納容器の他端側の開口から前記出入り口に向けて通風するファンフィルタユニットが、前記収納容器における他端側の開口部に装備され、
    前記収納容器の前記出入り口を開閉する蓋が、閉じ状態において一部を開口し、且つ、開き状態において前記基板搬送装置による前記基板の搬送を許容する状態で、前記収納容器の出入り口部に装備されて、
    前記収納棚に保管するとき及び前記収納容器搬送装置にて搬送するときには、前記収納容器の前記蓋を閉じ状態として前記ファンフィルタユニットにて通風することにより、前記基板の清浄度を維持し、且つ、
    前記基板入出部において前記基板搬送装置にて前記基板を搬送するときには、前記収納容器の前記蓋を開き状態として前記ファンフィルタユニットにて通風することにより、前記基板の清浄度を維持することを特徴とする基板処理方法。
  2. 前記基板搬送装置によって前記基板入出部と前記基板処理装置との間で前記基板を搬送する基板搬送エリアの清浄度を維持するために浄化空気を通風する搬送エリア用の浄化空気通風手段が備えられ、
    前記基板入出部において前記基板搬送装置にて前記基板を搬送するときには、前記基板搬送エリア用の浄化空気通風手段によって前記基板搬送エリアの清浄度を維持することにより、前記基板搬送エリア内において搬送される前記基板の清浄度を維持することを特徴とする請求項１記載の基板処理方法。
  3. 前記蓋を開き状態としたときには、前記ファンフィルタユニットの通風量を増大させるようにする請求項１又は２記載の基板処理方法。
  4. 前記収納棚が複数の前記基板処理装置に対応させる状態で複数設けられて、それら収納棚が備える複数の収納部のうちの一部が、前記基板入出部とされ、
    前記収納容器搬送装置として、前記収納棚に対応して装備される収納棚用の収納容器搬送部と、複数の前記収納棚の夫々における複数の入出庫部の間で前記収納容器を搬送する棚間用の収納容器搬送部とが設けられている請求項１〜３のいずれか1項に記載の基板処理方法。
  5. 浄化空気を天井部より床部に通風するダウンフローのクリーン空間内に、前記複数の基板処理装置、前記収納棚、前記基板搬送装置、及び、前記収納容器搬送装置が装備され、
    前記基板入出部が、前記床部よりも高い位置に設置されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板処理方法。
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Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050038134A (ko) * 2003-10-21 2005-04-27 삼성전자주식회사 기판 스토킹 시스템
US7513822B2 (en) 2005-06-18 2009-04-07 Flitsch Frederick A Method and apparatus for a cleanspace fabricator
US9457442B2 (en) 2005-06-18 2016-10-04 Futrfab, Inc. Method and apparatus to support process tool modules in a cleanspace fabricator
US9159592B2 (en) 2005-06-18 2015-10-13 Futrfab, Inc. Method and apparatus for an automated tool handling system for a multilevel cleanspace fabricator
US9339900B2 (en) 2005-08-18 2016-05-17 Futrfab, Inc. Apparatus to support a cleanspace fabricator
US10651063B2 (en) 2005-06-18 2020-05-12 Frederick A. Flitsch Methods of prototyping and manufacturing with cleanspace fabricators
US10627809B2 (en) 2005-06-18 2020-04-21 Frederick A. Flitsch Multilevel fabricators
US11024527B2 (en) 2005-06-18 2021-06-01 Frederick A. Flitsch Methods and apparatus for novel fabricators with Cleanspace
US9059227B2 (en) 2005-06-18 2015-06-16 Futrfab, Inc. Methods and apparatus for vertically orienting substrate processing tools in a clean space
US7467024B2 (en) * 2005-08-26 2008-12-16 Flitsch Frederick A Method and apparatus for an elevator system for a multilevel cleanspace fabricator
DE102007051726A1 (de) * 2007-10-25 2009-04-30 Hänel & Co. Lageranordnung mit vorgebbarer Lagerungsatmosphäre
KR101110621B1 (ko) * 2008-09-12 2012-02-28 가부시키가이샤 다이후쿠 기판용 수납 용기와 기판용 수납 용기를 위한 기판 반송 설비
JP5429523B2 (ja) * 2008-09-12 2014-02-26 株式会社ダイフク 基板用収納容器
CH699754B1 (de) * 2008-10-20 2020-11-13 Tec Sem Ag Speichervorrichtung für eine Zwischenlagerung von Objekten für die Produktion von Halbleiterbauelementen
JP5562759B2 (ja) * 2009-11-04 2014-07-30 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP5398595B2 (ja) * 2010-03-04 2014-01-29 東京エレクトロン株式会社 基板収納装置
TW201207250A (en) * 2010-04-30 2012-02-16 Tae Sung Eng Co Ltd Air supplying apparatus
JP5741946B2 (ja) * 2011-09-22 2015-07-01 株式会社ダイフク 清浄気送風ユニット
US20130123966A1 (en) * 2011-11-14 2013-05-16 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Spatial three-dimensional inline handling system
JP5545498B2 (ja) * 2011-12-21 2014-07-09 株式会社ダイフク 物品保管設備及び物品保管設備におけるメンテナンス方法
JP5716968B2 (ja) * 2012-01-04 2015-05-13 株式会社ダイフク 物品保管設備
DK2620389T3 (en) * 2012-01-26 2016-03-07 Siemens Ag Attachment for the blades of a wind turbine and method of transporting blades of a wind turbine thus
KR101331067B1 (ko) * 2012-06-01 2013-11-19 한국미쯔보시다이아몬드공업(주) 취성 재료 기판의 수직 공급 로더 컨베이어 장치
JP5928304B2 (ja) 2012-11-07 2016-06-01 株式会社ダイフク 基板搬送設備
JP5884779B2 (ja) * 2013-06-26 2016-03-15 株式会社ダイフク 物品保管設備
JP2015023048A (ja) * 2013-07-16 2015-02-02 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
JP6217598B2 (ja) * 2014-11-12 2017-10-25 株式会社ダイフク 物品収納設備
JP6414525B2 (ja) * 2015-09-02 2018-10-31 株式会社ダイフク 保管設備
JP6428575B2 (ja) * 2015-11-18 2018-11-28 株式会社ダイフク 搬送設備
CN108226384B (zh) * 2016-12-14 2022-01-25 盟立自动化股份有限公司 侦测设备及有机化合物侦测器
CN108226385B (zh) 2016-12-14 2020-09-08 盟立自动化股份有限公司 环境侦测***
JP6648725B2 (ja) * 2017-03-22 2020-02-14 株式会社ダイフク 参拝設備
CN113169103A (zh) * 2018-11-28 2021-07-23 昕芙旎雅有限公司 晶片储存器
CN111703798B (zh) * 2020-06-09 2024-01-02 北京极智嘉科技股份有限公司 一种搬运机器人、取箱方法、上货方法及仓储物流***

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2158074A (en) * 1936-05-09 1939-05-16 Francis C Kilb Air circulating device
US3073039A (en) * 1960-07-21 1963-01-15 Williams Mary Blair Drying cabinet
US4860163A (en) * 1988-08-05 1989-08-22 American Telephone And Telegraph Company Communication equipment cabinet cooling arrangement
JP2905857B2 (ja) * 1989-08-11 1999-06-14 東京エレクトロン株式会社 縦型処理装置
US5162047A (en) * 1989-08-28 1992-11-10 Tokyo Electron Sagami Limited Vertical heat treatment apparatus having wafer transfer mechanism and method for transferring wafers
US5221201A (en) * 1990-07-27 1993-06-22 Tokyo Electron Sagami Limited Vertical heat treatment apparatus
JPH0660758B2 (ja) * 1990-09-21 1994-08-10 近藤工業株式会社 クリーンストッカー装置
US5261935A (en) * 1990-09-26 1993-11-16 Tokyo Electron Sagami Limited Clean air apparatus
US5165770A (en) * 1991-03-29 1992-11-24 Richard Hahn Electronic equipment modular cabinet system
TW245823B (ja) * 1992-10-05 1995-04-21 Tokyo Electron Co Ltd
JP3258748B2 (ja) * 1993-02-08 2002-02-18 東京エレクトロン株式会社 熱処理装置
US5527390A (en) * 1993-03-19 1996-06-18 Tokyo Electron Kabushiki Treatment system including a plurality of treatment apparatus
KR100221983B1 (ko) * 1993-04-13 1999-09-15 히가시 데쓰로 처리장치
JP3239977B2 (ja) * 1994-05-12 2001-12-17 株式会社日立国際電気 半導体製造装置
US5464475A (en) * 1994-05-20 1995-11-07 Advanced Micro Devices, Inc. Work-in-process storage pod
JPH08213446A (ja) * 1994-12-08 1996-08-20 Tokyo Electron Ltd 処理装置
JP3654684B2 (ja) * 1995-05-01 2005-06-02 東京エレクトロン株式会社 処理方法及び処理装置
JP3478364B2 (ja) * 1995-06-15 2003-12-15 株式会社日立国際電気 半導体製造装置
JPH10279011A (ja) 1997-03-31 1998-10-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 基板用カセット
JP3977491B2 (ja) 1997-07-16 2007-09-19 淀川ヒューテック株式会社 基板用カセット
JP3305663B2 (ja) * 1997-11-28 2002-07-24 株式会社荏原製作所 半導体基板用搬送ボックス
JPH11204630A (ja) 1998-01-07 1999-07-30 Advanced Display Inc 基板収納装置
KR100646906B1 (ko) * 1998-09-22 2006-11-17 동경 엘렉트론 주식회사 기판처리장치 및 기판처리방법
NL1010317C2 (nl) * 1998-10-14 2000-05-01 Asm Int Sorteer/opslaginrichting voor wafers en werkwijze voor het hanteren daarvan.
US6641349B1 (en) * 1999-04-30 2003-11-04 Tdk Corporation Clean box, clean transfer method and system
JP2001060610A (ja) * 1999-06-17 2001-03-06 Tokyo Electron Ltd 基板搬送装置、処理装置、基板の処理システム、搬送方法、収納装置および収容ボックス
JP3916380B2 (ja) * 1999-07-06 2007-05-16 株式会社荏原製作所 基板搬送容器待機ステーション
JP2001130708A (ja) * 1999-11-05 2001-05-15 Murata Mach Ltd 自動倉庫システム
JP3526808B2 (ja) * 2000-04-18 2004-05-17 株式会社カープ カセット用ボックス
KR100741186B1 (ko) * 2000-08-23 2007-07-19 동경 엘렉트론 주식회사 피처리체의 처리시스템
JP3939101B2 (ja) * 2000-12-04 2007-07-04 株式会社荏原製作所 基板搬送方法および基板搬送容器
JP2003017376A (ja) * 2001-07-02 2003-01-17 Sanki Eng Co Ltd 半導体製造装置および半導体製造方法
TW555947B (en) * 2001-10-19 2003-10-01 Chi Mei Optoelectronics Corp Air cleaning device for stock article conveying system
JP2003300574A (ja) 2002-04-10 2003-10-21 Shinwa Giken Co Ltd 薄板状品のコンテナ
JP4246507B2 (ja) * 2002-05-07 2009-04-02 コーニングジャパン株式会社 大型薄板用コンテナーおよび大型薄板給排装置
JP4218260B2 (ja) * 2002-06-06 2009-02-04 東京エレクトロン株式会社 被処理体の収納容器体及びこれを用いた処理システム
JP4124449B2 (ja) 2003-03-28 2008-07-23 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP4397646B2 (ja) * 2003-07-30 2010-01-13 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置および基板処理方法
JP2005322854A (ja) 2004-05-11 2005-11-17 Olympus Corp 基板処理装置及び基板処理システム

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