JP2726903B2 - 熱処理炉用基板保持具の搬送装置 - Google Patents
熱処理炉用基板保持具の搬送装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、熱処理炉用基板保持具の搬送装置に関す
る。
る。
（従来の技術） 従来、半導体ウエハ等の被処理基板を加熱して薄膜形
成、熱拡散等の処理を施す加熱処理装置としては、反応
管をほぼ水平に配設した横型熱処理装置が主に用いられ
ていたが、近年は、反応管へのボートの搬送技術やクリ
ーンルームの有効利用の点から反応管をほぼ垂直に配設
した縦型熱処理装置が用いられるようになってきた。
成、熱拡散等の処理を施す加熱処理装置としては、反応
管をほぼ水平に配設した横型熱処理装置が主に用いられ
ていたが、近年は、反応管へのボートの搬送技術やクリ
ーンルームの有効利用の点から反応管をほぼ垂直に配設
した縦型熱処理装置が用いられるようになってきた。
すなわち、このような縦型熱処理装置では、石英等か
らなる円筒状の反応管およびその周囲を囲繞する如く設
けられた筒状ヒータ、均熱管、断熱材等から構成された
反応炉本体はほぼ垂直に配設されている。そして、石英
等からなる基板保持具、いわゆるウエハボートに間隔を
設けて同軸的に積層する如く多数の半導体ウエハを配置
して、例えば上下動可能とされた搬送装置によって、反
応管内へ下方又は上方から半導体ウエハをロード・アン
ロードするよう構成されている。
らなる円筒状の反応管およびその周囲を囲繞する如く設
けられた筒状ヒータ、均熱管、断熱材等から構成された
反応炉本体はほぼ垂直に配設されている。そして、石英
等からなる基板保持具、いわゆるウエハボートに間隔を
設けて同軸的に積層する如く多数の半導体ウエハを配置
して、例えば上下動可能とされた搬送装置によって、反
応管内へ下方又は上方から半導体ウエハをロード・アン
ロードするよう構成されている。
このような縦型熱処理装置では、反応管内壁とウエハ
ボートとを非接触でロード・アンロード可能である、占
有面積が少ない、処理半導体ウエハの大口径化が容易で
ある等の利点を有する。
ボートとを非接触でロード・アンロード可能である、占
有面積が少ない、処理半導体ウエハの大口径化が容易で
ある等の利点を有する。
（発明が解決しようとする課題） しかしながら、このような縦型熱処理装置において
も、さらに設置面積の縮小化、処理能力の向上あるいは
レイアウト上のフレキシビリティーの向上等が当然要求
される。
も、さらに設置面積の縮小化、処理能力の向上あるいは
レイアウト上のフレキシビリティーの向上等が当然要求
される。
本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもの
で、従来に較べて設置面積の縮小化、処理能力の向上あ
るいはレイアウト上のフレキシビリティーの向上等を実
現した縦型熱処理装置システムを構築可能とする熱処理
炉用基板保持具の搬送装置を提供しようとするものであ
る。
で、従来に較べて設置面積の縮小化、処理能力の向上あ
るいはレイアウト上のフレキシビリティーの向上等を実
現した縦型熱処理装置システムを構築可能とする熱処理
炉用基板保持具の搬送装置を提供しようとするものであ
る。
［発明の構成］ （課題を解決するための手段） すなわち本発明は、複数の基板を保持して縦型熱処理
炉内に挿入される熱処理炉用基板保持具を略垂直な状態
に保持し、予め設けられた搬送路上を水平方向に搬送す
る熱処理炉用基板保持具の搬送装置であって、 前記縦型熱処理炉の一台分の幅に応じた長さを有し少
なくとも所定の停止位置を検出する停止位置検出センサ
を有する搬送路ユニットと、前記搬送路ユニットを駆動
するための駆動機構を有する駆動用搬送路ユニットとを
具備し、 前記搬送路ユニットを前記縦型熱処理炉の数に応じた
数だけ接続するとともに、これらの搬送路ユニットの端
部に前記駆動用搬送路ユニットを接続して、複数台連設
された前記縦型熱処理炉の前方に、前記搬送路を形成す
るよう構成されたことを特徴とする。
炉内に挿入される熱処理炉用基板保持具を略垂直な状態
に保持し、予め設けられた搬送路上を水平方向に搬送す
る熱処理炉用基板保持具の搬送装置であって、 前記縦型熱処理炉の一台分の幅に応じた長さを有し少
なくとも所定の停止位置を検出する停止位置検出センサ
を有する搬送路ユニットと、前記搬送路ユニットを駆動
するための駆動機構を有する駆動用搬送路ユニットとを
具備し、 前記搬送路ユニットを前記縦型熱処理炉の数に応じた
数だけ接続するとともに、これらの搬送路ユニットの端
部に前記駆動用搬送路ユニットを接続して、複数台連設
された前記縦型熱処理炉の前方に、前記搬送路を形成す
るよう構成されたことを特徴とする。
（作 用） 上記構成の本発明の熱処理炉用基板保持具の搬送装置
では、従来に較べて設置面積の縮小化、処理能力の向上
あるいはフレキシビリティーの向上等を実現した縦型熱
処理装置システムを構築することができる。
では、従来に較べて設置面積の縮小化、処理能力の向上
あるいはフレキシビリティーの向上等を実現した縦型熱
処理装置システムを構築することができる。
（実施例） 以下本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第１図において筐体1a〜1dは、例えば前方がクリーン
ルーム２側となるように、クリーンルーム２とメンテナ
ンスルーム３との境界に沿って一列に複数、例えば４列
縦型炉が並べて配列されている。これらの筐体1a〜1d内
の上部には、それぞれ例えば石英等から円筒状に構成さ
れた縦型反応管およびその周囲を囲繞する如く設けられ
た筒状ヒータ、このヒータおよび上記反応管外壁面間に
設けられた均熱管、上記ヒータの外側に設けられた断熱
材等から構成された反応炉本体（図示せず）がほぼ垂直
に配設されている。これらの各構成は縦型炉として当業
者において周知である。また、これらの筐体1a〜1d内の
下部には、反応炉本体内に被処理物例えばウエハボート
上に配列された半導体ウエハをロード・アンロードする
ための機構としてボートエレベータ4a〜4d（第１図では
4dのみ示す）およびこれらのボートエレベータ4a〜4dと
後述する基板保持具の搬送装置11との間でウエハボート
の受け渡しを行うハンドリングアーム5a〜5dがそれぞれ
収納されている。
ルーム２側となるように、クリーンルーム２とメンテナ
ンスルーム３との境界に沿って一列に複数、例えば４列
縦型炉が並べて配列されている。これらの筐体1a〜1d内
の上部には、それぞれ例えば石英等から円筒状に構成さ
れた縦型反応管およびその周囲を囲繞する如く設けられ
た筒状ヒータ、このヒータおよび上記反応管外壁面間に
設けられた均熱管、上記ヒータの外側に設けられた断熱
材等から構成された反応炉本体（図示せず）がほぼ垂直
に配設されている。これらの各構成は縦型炉として当業
者において周知である。また、これらの筐体1a〜1d内の
下部には、反応炉本体内に被処理物例えばウエハボート
上に配列された半導体ウエハをロード・アンロードする
ための機構としてボートエレベータ4a〜4d（第１図では
4dのみ示す）およびこれらのボートエレベータ4a〜4dと
後述する基板保持具の搬送装置11との間でウエハボート
の受け渡しを行うハンドリングアーム5a〜5dがそれぞれ
収納されている。
一方、これらの筐体1a〜1dの前方すなわちクリーンル
ーム２内には、前工程から搬送されたウエハカセット内
に収容された半導体ウエハを、水平に置かれた熱処理炉
用ウエハボート（基板保持具）上に移載するための移載
装置10と、このウエハが移載されたウエハボートを垂直
に保持し、各筐体1a〜1dが前方へ搬送する如く各筐体1a
〜1dの前面に配設された基板保持具の搬送装置11と、上
記移載装置10と搬送装置11との間に介在し、これらの間
のウエハボートを受け渡しおよび水平垂直変換を行う水
平垂直変換装置12とから構成された搬送システムが設け
られている。
ーム２内には、前工程から搬送されたウエハカセット内
に収容された半導体ウエハを、水平に置かれた熱処理炉
用ウエハボート（基板保持具）上に移載するための移載
装置10と、このウエハが移載されたウエハボートを垂直
に保持し、各筐体1a〜1dが前方へ搬送する如く各筐体1a
〜1dの前面に配設された基板保持具の搬送装置11と、上
記移載装置10と搬送装置11との間に介在し、これらの間
のウエハボートを受け渡しおよび水平垂直変換を行う水
平垂直変換装置12とから構成された搬送システムが設け
られている。
また、上記搬送装置11は、第２図にも示すように、各
筐体1a〜1dの前方に設けられた搬送路20と、この搬送路
20上を移動する搬送台21とから構成されている。そし
て、この搬送路20は、所定搬送路長、例えば筐体1a〜1d
1つの横幅分の搬送路長（例えば920mm）を有する搬送
路ユニット22a〜22dを直線状に４つ（筐体と同数）接続
し、これらの搬送路ユニット22a〜22dの端部に駆動用搬
送路ユニット23を接続して構成されている。
筐体1a〜1dの前方に設けられた搬送路20と、この搬送路
20上を移動する搬送台21とから構成されている。そし
て、この搬送路20は、所定搬送路長、例えば筐体1a〜1d
1つの横幅分の搬送路長（例えば920mm）を有する搬送
路ユニット22a〜22dを直線状に４つ（筐体と同数）接続
し、これらの搬送路ユニット22a〜22dの端部に駆動用搬
送路ユニット23を接続して構成されている。
上記駆動用搬送路ユニット23内には、駆動用ベルト24
を駆動するためのモータおよびエンコーダ等からなる駆
動機構25が設けられている。また、搬送路ユニット22a
〜22dには、それぞれ両側にガイドレール26、これらの
間に駆動用ベルト24をガイドするための上部ガイドロー
ラ27および下部ガイドローラ28、停止位置検出用フォト
センサ29が設けられている。そして、搬送台21は、ガイ
ドレール26上を駆動機構25によって駆動される駆動用ベ
ルト24によって移動し、停止位置検出用フォトセンサ29
によって検出される所定の受け渡し位置に停止して各ボ
ートエレベータ4a〜4dにハンドリングアーム5a〜5dを介
してウエハボートの受け渡しを行うよう構成されてい
る。
を駆動するためのモータおよびエンコーダ等からなる駆
動機構25が設けられている。また、搬送路ユニット22a
〜22dには、それぞれ両側にガイドレール26、これらの
間に駆動用ベルト24をガイドするための上部ガイドロー
ラ27および下部ガイドローラ28、停止位置検出用フォト
センサ29が設けられている。そして、搬送台21は、ガイ
ドレール26上を駆動機構25によって駆動される駆動用ベ
ルト24によって移動し、停止位置検出用フォトセンサ29
によって検出される所定の受け渡し位置に停止して各ボ
ートエレベータ4a〜4dにハンドリングアーム5a〜5dを介
してウエハボートの受け渡しを行うよう構成されてい
る。
すなわち、上記搬送装置11の数は、例えば反応炉数
が、３の場合は３、反応炉数が４の場合は４と、反応炉
数（筐体数）に応じた数だけ搬送路ユニット22a,22b,…
…を接続することによって搬送路20を構成することがで
きるような構造とされている。すなわち、縦型炉の増設
にともなって組立式に搬送路を増設できるように構成さ
れていることが特徴である。
が、３の場合は３、反応炉数が４の場合は４と、反応炉
数（筐体数）に応じた数だけ搬送路ユニット22a,22b,…
…を接続することによって搬送路20を構成することがで
きるような構造とされている。すなわち、縦型炉の増設
にともなって組立式に搬送路を増設できるように構成さ
れていることが特徴である。
なお、筐体1a〜1dの後方のメンテナンスルーム３内に
は、筐体1a〜1dと所定間隔、例えば120cm隔てて、各反
応炉本体に対応して所定のガスおよび電力を供給するた
めの制御部および真空ポンプ（いずれも図示せず）等の
制御系が配設されており、これらの間から反応炉本体お
よび制御部等のメンテナンスを行うことができるように
構成されている。
は、筐体1a〜1dと所定間隔、例えば120cm隔てて、各反
応炉本体に対応して所定のガスおよび電力を供給するた
めの制御部および真空ポンプ（いずれも図示せず）等の
制御系が配設されており、これらの間から反応炉本体お
よび制御部等のメンテナンスを行うことができるように
構成されている。
上記構成のこの実施例の縦型熱処理装置では、移載機
構10により、ウエハカセット内に収容された半導体ウエ
ハをウエハボート上に移載し、水平垂直変換装置12によ
ってこのウエハボートを垂直に立てて搬送装置11の搬送
台21上に載置する。この後、この搬送装置11によってウ
エハボートを各筐体1a〜1dの前方へ搬送し、ハンドリン
グアーム5a〜5dによりボートエレベータ4a〜4d上に載置
する。そして、このボートエレベータ4a〜4dによってウ
エハボートを反応炉本体内に挿入し、この反応炉本体内
に所定のガスを流通させるとともに、電力を供給して反
応炉本体内を所定温度に加熱し、半導体ウエハの処理、
例えばCVDによる成膜を行う。一つのウエハ移換え器で
複数個の反応炉間のボートのロード・アンロードが実行
できるよう構成したものである。
構10により、ウエハカセット内に収容された半導体ウエ
ハをウエハボート上に移載し、水平垂直変換装置12によ
ってこのウエハボートを垂直に立てて搬送装置11の搬送
台21上に載置する。この後、この搬送装置11によってウ
エハボートを各筐体1a〜1dの前方へ搬送し、ハンドリン
グアーム5a〜5dによりボートエレベータ4a〜4d上に載置
する。そして、このボートエレベータ4a〜4dによってウ
エハボートを反応炉本体内に挿入し、この反応炉本体内
に所定のガスを流通させるとともに、電力を供給して反
応炉本体内を所定温度に加熱し、半導体ウエハの処理、
例えばCVDによる成膜を行う。一つのウエハ移換え器で
複数個の反応炉間のボートのロード・アンロードが実行
できるよう構成したものである。
すなわち、この実施例では、クリーンルーム２とメン
テナンスルームの境界に沿って一列に配列された筐体1a
〜1d内の反応炉に、移載装置10と水平垂直変換装置12お
よび基板保持具の搬送装置11によってウエハボートを搬
送し処理を行うよう構成されている。したがって、４つ
の反応炉により多数の半導体ウエハの処理を行うことが
できるとともに、設置に必要となる床面積、特にクリー
ンルーム２の設置面積を従来の縦型熱処理装置を４台設
ける場合に較べて大幅に縮小することができ、スペース
を有効に利用することができる。また、搬送システム
が、移載装置10、基板保持具の搬送装置11、水平垂直変
換装置12によって構成されており、基板保持具の搬送装
置11は、筐体数（反応炉数）によって任意に搬送路長さ
を設定可能に構成されているので、例えば筐体数（反応
炉数）の変更等、レイアウトの変更を行う場合等も柔軟
に対応することができる。
テナンスルームの境界に沿って一列に配列された筐体1a
〜1d内の反応炉に、移載装置10と水平垂直変換装置12お
よび基板保持具の搬送装置11によってウエハボートを搬
送し処理を行うよう構成されている。したがって、４つ
の反応炉により多数の半導体ウエハの処理を行うことが
できるとともに、設置に必要となる床面積、特にクリー
ンルーム２の設置面積を従来の縦型熱処理装置を４台設
ける場合に較べて大幅に縮小することができ、スペース
を有効に利用することができる。また、搬送システム
が、移載装置10、基板保持具の搬送装置11、水平垂直変
換装置12によって構成されており、基板保持具の搬送装
置11は、筐体数（反応炉数）によって任意に搬送路長さ
を設定可能に構成されているので、例えば筐体数（反応
炉数）の変更等、レイアウトの変更を行う場合等も柔軟
に対応することができる。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の熱処理炉用基板保持具
の搬送装置によれば、従来に較べて設置面積の縮小化、
処理能力の向上あるいはフレキシビリティーの向上等を
実現した拡散炉、酸化炉等縦型熱処理装置システムを構
築することができる。
の搬送装置によれば、従来に較べて設置面積の縮小化、
処理能力の向上あるいはフレキシビリティーの向上等を
実現した拡散炉、酸化炉等縦型熱処理装置システムを構
築することができる。
第１図は本発明の一実施例の熱処理炉用基板保持具の搬
送装置を用いた縦型熱処理装置システム示す斜視図、第
２図は第１図の基板保持具の搬送装置を示す透視図であ
る。 1a〜1d……筐体（縦型反応炉を収容）、10……移載装
置、11……基板保持具の搬送装置、12……水平垂直変換
装置、20……搬送路、21……搬送台、22a〜22d……搬送
路ユニット、23……駆動用搬送路ユニット。
送装置を用いた縦型熱処理装置システム示す斜視図、第
２図は第１図の基板保持具の搬送装置を示す透視図であ
る。 1a〜1d……筐体（縦型反応炉を収容）、10……移載装
置、11……基板保持具の搬送装置、12……水平垂直変換
装置、20……搬送路、21……搬送台、22a〜22d……搬送
路ユニット、23……駆動用搬送路ユニット。
Claims (1)
- 【請求項１】複数の基板を保持して縦型熱処理炉内に挿
入される熱処理炉用基板保持具を略垂直な状態に保持
し、予め設けられた搬送路上を水平方向に搬送する熱処
理炉用基板保持具の搬送装置であって、 前記縦型熱処理炉の一台分の幅に応じた長さを有し少な
くとも所定の停止位置を検出する停止位置検出センサを
有する搬送路ユニットと、前記搬送路ユニットを駆動す
るための駆動機構を有する駆動用搬送路ユニットとを具
備し、 前記搬送路ユニットを前記縦型熱処理炉の数に応じた数
だけ接続するとともに、これらの搬送路ユニットの端部
に前記駆動用搬送路ユニットを接続して、複数台連設さ
れた前記縦型熱処理炉の前方に、前記搬送路を形成する
よう構成されたことを特徴とする熱処理炉用基板保持具
の搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1692089A JP2726903B2 (ja) | 1989-01-26 | 1989-01-26 | 熱処理炉用基板保持具の搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1692089A JP2726903B2 (ja) | 1989-01-26 | 1989-01-26 | 熱処理炉用基板保持具の搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02197119A JPH02197119A (ja) | 1990-08-03 |
| JP2726903B2 true JP2726903B2 (ja) | 1998-03-11 |
Family
ID=11929563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1692089A Expired - Fee Related JP2726903B2 (ja) | 1989-01-26 | 1989-01-26 | 熱処理炉用基板保持具の搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2726903B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3258748B2 (ja) * | 1993-02-08 | 2002-02-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置 |
| US20050095087A1 (en) * | 2003-10-30 | 2005-05-05 | Sullivan Robert P. | Automated material handling system |
| JP5440924B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-03-12 | 株式会社村田製作所 | 搬送装置の支持構造 |
| WO2016059718A1 (ja) * | 2014-10-17 | 2016-04-21 | 富士機械製造株式会社 | 加工機械のベース構造及び加工機械ラインを構築するベース設置方法 |
| JP6415591B2 (ja) * | 2014-11-12 | 2018-10-31 | 株式会社Ｆｕｊｉ | オートローダ |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49132678A (ja) * | 1973-04-25 | 1974-12-19 | ||
| JPH0732142B2 (ja) * | 1986-02-14 | 1995-04-10 | 株式会社ディスコ | 縦型半導体熱処理装置の外気混入防止装置 |
| JPS6380888A (ja) * | 1986-09-22 | 1988-04-11 | スピ−ドファム株式会社 | 洗浄装置 |
| JPS63229836A (ja) * | 1987-03-19 | 1988-09-26 | Nikon Corp | ウエハ検査装置 |
| JPS63244856A (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-12 | Toshiba Corp | ウエハボ−トの移送装置 |
-
1989
- 1989-01-26 JP JP1692089A patent/JP2726903B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02197119A (ja) | 1990-08-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |