JPH055555Y2 - - Google Patents

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JPH055555Y2
JPH055555Y2 JP1990088449U JP8844990U JPH055555Y2 JP H055555 Y2 JPH055555 Y2 JP H055555Y2 JP 1990088449 U JP1990088449 U JP 1990088449U JP 8844990 U JP8844990 U JP 8844990U JP H055555 Y2 JPH055555 Y2 JP H055555Y2
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temperature
film
power
drying
lamp
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03DAPPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D15/00Apparatus for treating processed material
    • G03D15/02Drying; Glazing
    • G03D15/022Drying of filmstrips

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は水を含んだ写真フイルムを乾燥するた
めの新規な装置、および写真処理機械に関するも
のである。特に、前記装置を有するレントゲン写
真機械またはグラフイツク・アート機械に関する
ものである。
露光された写真フイルムは写真処理浴、例えば
レントゲンフイルムの場合には現像浴、定着浴お
よび水洗浴といつた処理浴が行なわれ、そしてそ
れから、処理の後、含まれた水分を除去するため
に乾燥されることはよく知られている。
この乾燥工程は写真工程全体の中で重要な段階
であり、得られる最終的な像の品質に影響を与え
ることもまた知られている。この乾燥工程は、高
温の空気がその中に吹込まれている乾燥室の中で
実行されるか、または搬送装置がそなえられてい
るならば、フイルムが乾燥室の中を通過すること
によつて実行されるかのいずれかである。後者の
場合、搬送装置の少なくとも一部分は通常乾燥室
の中に配置される。これらの搬送装置は一般にロ
ーラを有している。これらのローラは自分自身の
軸のまわりに回転し、そしてこの回転により、ロ
ーラと接触しているフイルムを、これらのローラ
とフイルムとの接点によつて定まる搬送面に沿つ
て移動させる。特に、米国特許第3025779号に記
載されているように、前記ローラは対向形にまた
は食違い形に並べて配置される。
第2の形の搬送装置は一般にフアンを有してい
る。このフアンは熱源に向つて空気を送り、そし
てそれから乾燥すべきフイルムが乾燥室を通る間
このフイルムの両面にこの空気を吹きつける。フ
イルムに吹きつけられた空気の温度が高ければ高
い程、この高温の空気流はフイルムをより速く乾
燥させる。(この高温空気源は従来の電気ヒータ
素子であるか、または英国特許第1131681号に記
載されている赤外線放射源のような他の熱源であ
る。)前記高温空気の温度は通常50〜70℃である。
またはこのような装置は、フイルムの近くに配
置された赤外線光源を有している。この赤外線光
源は、加熱されていない空気と組合わせて、赤外
線でフイルムを直接に照射する。この加熱されて
いない空気はフアン装置によつて流れており、こ
の空気の流れは、米国特許第3900959号に記載さ
れているように、フイルムから蒸発する湿気を取
去ると共に、フイルムを冷却する。
第2の形の前記装置は水を含んだ写真フイルム
を乾燥する技術では進歩していると考えられる
が、運転の経済性に加えて、許容処理範囲が大き
いことおよび運転の効率および容易さを有する乾
燥装置が得られれば、さらにまた進歩があつたと
考えられる。
本考案を開発するにさいして、乾燥室内の温度
を測定するためのプローブと、この機械の中にフ
イルムがあることを指示する入口のところにある
センサ装置と、(後で詳細に記述される)オン・
オフ制御される赤外線ランプと、この機械の速度
を変えるための装置と、この速度を測定するため
の装置とを有する市場で手に入れることができる
機械を用いた。前記測定装置および制御装置のお
のおのはマイクロプロセツサと関連して動作す
る。
基本的な考えは、乾燥室内の空気の温度が予め
定められた値よりも高い(または低い)時、ラン
プが自動的にオフ(またはオン)になるというこ
とである。けれども、この考えは乾燥室から出て
くるフイルムがなお湿つた部分を有しているとい
う多くの失敗例の基本的考えであつた。
空気の温度の測定に従つて赤外線光源への電力
供給を調節するという考えに、基本的な誤りがあ
るかも知れないという心配はあつた。この空気の
温度は、温度に関しては、乾燥工程(赤外線によ
つて主として実行されている)の本質的な部分で
はないと考えられる心配があつた。逆に、フイル
ムの乾燥が加熱された空気を通して行なわれる
時、よく知られているように、空気ヒータは乾燥
温度を予め定められた値、例えば50〜70℃の範囲
内のある値に保つために、オンとオフの間で切替
えることができる。
主周波数(外から加えられた電圧の周波数)の
電圧を用いて電力を次第に変えることにより、ラ
ンプへの電力をオンおよびオフに切替えてランプ
への電力を制御するのにマイクロプロセツサをそ
なえることは、このことは赤外線光源に衝撃をあ
たえないために本出願人によつて導入されたので
あるが、定められた値を越える温度測定があつた
場合に、赤外線光源への電力の減少にある限界を
設定することを可能にする。この変更により、写
真フイルムの乾燥を本考案に従つて実行すること
を可能にする。
このことに関して、本考案により、赤外線光源
に供給される平均動作電力でもつて良好な乾燥結
果のえられることがわかつた。この平均動作電力
は、もしこの電力が乾燥室内の温度測定装置によ
つて次のように制御されるならば、すなわち、予
め定められた作業温度以下の温度の場合にはこの
電力が大きくされ、そして前記温度以上の場合に
は減少されるというように制御されるならば、通
常の場合よりも大幅に小さい。ただし、制御のさ
いの前記電力の減少は、予め定められた前記温度
に対応する空気温度でフイルムを十分に乾燥する
最小電力閾値を下まわらないものとする。
換言すれば、写真フイルムを乾燥するのにはそ
れ自身不十分なある温度にある空気とある最小電
力で放射された赤外線を組合わせることにより、
前記温度の測定された減少毎に、もしこの電力が
自動装置によつて増加されるならば、フイルムが
乾燥する。
この「最小」電力は、設定された作業温度で着
目するフイルム(または多数のフイルムがある場
合には最もきわどいフイルム)を乾燥させるのに
十分な電力として定義される。(設定された前記
作業温度は、機械の熱容量および処理されるフイ
ルムの熱容量に対応する値だけ、例えばいまの機
械とフイルムに対し約1℃と計算される範囲内の
ある値だけ低い実際の作業温度である。) 本考案は、入口および出口を有する乾燥室と、
前記乾燥室内に少なくとも部分的に配置されたフ
イルム運搬装置と、フイルムの運搬面に対面して
いる細長い形の赤外線放射源と(フイルムが乾燥
室内を移動していく間にフイルムの全面を乾燥さ
せるという本考案の目的に対して細長い形の赤外
線ランプを用いることは本質的であると思われ
る。)前記乾燥室内の空気を循環させるための装
置とを有し、 (イ) 乾燥室内を循環する空気の温度の測定装置
と、 (ロ) 赤外線放射源に供給される電力を(この電力
の電圧を変えることなく)変えるための装置
と、 (ハ) 空気温度の測定結果により、この測定された
温度が予め定められた温度よりも低いかまたは
高いかによりこの供給される電力をそれぞれ増
加または減少させる装置、 とを有することと、乾燥すべきフイルムがある場
合に、電力が減少しても実際の作業温度にある空
気との組合わせにおいて前記フイルムを乾燥させ
ることのできる最小闘値電力値以下にはならない
こととを特徴とする、水を含んだ写真フイルムの
乾燥装置に関するものである。
本考案は、予め定められた前記乾燥温度が35℃
〜40℃の範囲内にある、より好ましくは38℃の付
近にある、前記乾燥装置に関するものである。
本考案は特に、前記放射源である赤外線ランプ
の全電力出力がランプに供給される前記最小電力
閾値の2倍の電力にほぼ対応する、前記乾燥装置
に関するものである。
付随的に好ましい点として、本考案は最小電力
が最大電力の30%〜80%の範囲内にある前記装置
に関するものである。
本考案は写真フイルム、好ましくはレントゲン
写真およびグラフイツク・アートで用いられる写
真フイルムシート、の処理機械に関するものであ
る。この処理機械は、水溶液の中で前記フイルム
を処理する(水洗を含む)複数個の処理部と、前
記装置によつて特徴づけられる乾燥部を有する。
前記機械は、乾燥室内の温度を、異なる2つの
温度差と比べることができる装置を有することが
好ましい。この2つの温度値のうちの低い温度は
フイルムがない場合に存在する温度であつて、こ
の機械の待機温度であり、そして高い温度は機械
の中にフイルムがある場合の温度であつて、作業
温度または乾燥温度である。
前記のように、設定された作業温度は、予め選
定された閾値電力が供給されている赤外線放射源
と共同して、フイルムを乾燥させ得る乾燥室内空
気温度(実際の温度)であり、一方、機械の待機
温度はそれより低い温度であつて、フイルムが機
械の入口から入つて、前記処理部を通り、この乾
燥部に達するのに要する時間(この時間は機械の
運転速度による)の間この温度に保たれ、赤外線
放射源からの放射線によつて前記作業温度が容易
に得られる。
この装置が処理機械の中に用いられる時、本考
案の目的を達成するために用いられるランプの
数、およびこれらのランプに供給される電力は、
機械の特性、例えばフイルムの速度や乾燥室の熱
容量特性、によつて明らかに変わる。これらはま
た、この機械で処理されるフイルムによつて変わ
り、そして外の空気温度によつて変わる。本考案
の目的のために、市販されているいろいろなレン
トゲンフイルムのいろいろなフオーマツトのも
の、いろいろな露光量のものおよびいろいろな硬
さ状態のもの(より一般的にはいろいろな含水量
のもの)を、確実にそして要求された場合に、乾
燥させることができる乾燥装置をつくることが要
求された。いくつかの実施例の中で記述された本
考案を、応用する具体的条件の下で変更すること
は当業者にとつてすぐにできる。
本考案は予め定められた速度および予め定めら
れたランプ数を有する既存の機械に応用して、電
力を大幅に節約することもできるし、または新し
い処理機械の設計のさいにも用いることができ
る。
ここに記述された説明から、本考案の結果に利
点をもたらすために、この機械の中にマイクロプ
ロセツサを有することは本質的ではなく、従来の
装置でも、前述のように、温度測定にしたがつて
赤外線ランプに供給される電力を制御すること、
および予め定められた最小電力および乾燥温度閾
値を制御するように構成すれば十分であることが
わかるであろう。
当業者は、自分自分の機械の特性と乾燥すべき
フイルムの特性に基づいて、作業温度、待機温
度、最大ランプ電力および最小ランプ電力を選定
できることは明らかであろう。
本考案を用いて作業を実行するさいに、良好な
技術的結果と機械の経済性もよく調和させるため
に、当業者は装置の熱容量に関連した変数を考慮
することが必要であると考えられる。
特に、予め定められた作業温度に対して、最小
ランプ電力に対する最大ランプ電力を決定するさ
いに、当業者にとつて、閾値電力を越える過剰電
力を保持しておくことは、待機温度を予め定めら
れた時間内に作業温度にまで上昇させるのにそれ
を有効に使えることばかりでなく、作業温度が予
め定められた値以下に降下する傾向がある時、こ
の装置の熱惰性に対抗してこの保持電力をすぐに
使えるということも考えるべきである。
前記のように、実際の作業温度が設定された温
度から大幅に変わらないように、この装置は温度
に応答すべきである。このことは利用可能な最大
電力に対する最小電力の比に大きく依存する。前
記のように、最小電力は最大電力の30〜80%の範
囲内にあることが好ましく、そして50%付近であ
ることがさらに好ましい。
本考案による装置の乾燥特性を条件の変化に適
合させるために、特にフイルムの含水量の変化ま
たはフイルムがこの装置の中を移動する速さの変
化に適合するために、最小電力およびまたは作業
温度を変更できることが好ましい。例えば、タイ
プHフイルム、タイプXDフイルム、タイプRフ
イルムおよびタイプSフイルムのようなレントゲ
ン写真に用いられる3Mエツクス線フイルムはそ
れぞれ1平方メートル当り15〜35グラムの範囲の
異なる水を含んでいる。
いずれの場合にも、本考案を用いることによ
り、写真フイルムを乾燥するのに要する消費電力
を大幅に節約することができた。
本考案の赤外線放射源は、東芝QIRランプ、フ
イリツプス13381ランプ、ゼネラル・エレクトリ
ツク赤外線ランプ、またはハナウ・コルツエン・
ランペンのランプのようなホトリプロダクシヨン
装置に用いられるランプと類似の色をもつた高温
タングステン石英ランプであることが好ましい。
ランプとフイルム搬送面との間の距離は、比較
的近い距離からフイルムを照射できるように、お
よび間にある空気それ自身の温度にも作用するよ
うに選定される。約3cmの距離が妥当なように思
われるが、もつと大きな距離またはもつと小さな
距離(例えば、2〜4cm)を選定しても本考案に
よる装置の動作は何等損われることはない。
前記機械で行なわれた実験を記述する前に、赤
外線ランプの電源電圧を主電圧に近い電圧に保つ
たまま、赤外線ランプへの電力を変える方法を説
明しよう。
主周波数における電圧を用いて、正弦波電流列
が、それらの実際の電圧で次々のパルスをサンプ
リングすることにより、分割される。各パルスは
一定数、例えば10個、の波または周期を有してい
る。そして、ランプに電力が供給されている「オ
ン」周期の数と、ランプに電力が供給されていな
い「オフ」周期の数とを各パルスの中で識別する
装置がそなえられる。この際、オン+オフは一定
であり、例えば10に等しい。したがつて、電源電
圧を一定として、(主周波数を10周期のパルスに
分割することにより)供給される電力を0%から
100%まで10%のステツプで変えることができる。
主周波数が50Hz(または60Hz)の場合、周期T
は20ms(または16.6ms)である。もしTpoをラン
プに電力が供給されている時間とするならば、そ
してTpffをランプに電流が供給されていない時間
であるとするならば、サイクル時間Tc=Tpo
Tpff=200ms(または166ms)がえられる。この時
間は、乾燥効率の理由からは短いサイクルが好ま
しいということと、電力を段階づけるという要請
に従つてランプを点燈したり消燈したりする容易
さとを、適度に調和させた値であることがわかつ
た。このサイクルは本考案の目的に対して明らか
に短か過ぎるかまたは長過ぎるかのいずれかであ
りうる。もしフイルムがそれに間欠的に入射する
エネルギーを持続的に吸収しないならば長いサイ
クルは不必要である。特に本考案の目的に対して
は、赤外線エネルギは平均エネルギとしてフイル
ムに吸収されると仮定しなければならない。(こ
こで、赤外線ランプのエネルギという時は、平均
エネルギの意味である。) ゼロを通る主周波数電圧、および電圧がゼロを
通る時に(その微分が正である時に)始まるおよ
び終了する「オン」周期および「オフ」周期によ
り、電流に不連続が生じなく、したがつて、ラジ
オ波の妨害が防がれるばかりでなく、またランプ
のプログラムされた点燈を行なう装置をゼロ交差
検出器によつて単に制御することを可能にする。
第1図は本考案による放射線写真処理装置の縦
断面図である。第2図は第1図の処理装置の線A
−Aに沿つての部分断面図であつて、運搬装置を
除いた乾燥装置を特に示している。この第1図と
第2図において、番号1はフイルム入口、2は現
像部、3は定着部、4は水洗部、5は乾燥部、6
は空気温度プローブ、7はフイルム出口、8は入
つてくるフイルムのホトリーダ、および9はフア
ンである。記号L1〜L8は赤外線ランプ、記号
C1〜C8は空気をフイルムに分配する導管であ
る。利用できる最大電力とランプの位置の両方を
変えるために、これらのランプのいくつかを点燈
することができる。この処理装置を特徴づけるパ
ラメータは次の通りである。
フイルム経路長で表されたこの処理装置の全長
2300mm 乾燥室の長さ 252mm 利用しうるランプの最大数 8 IRランプの型 (Original Hanau Quarzen Lampen)
550W/110V フアンの数 2 ワーキング・ヘツド 10mmH2O 各フアンの能力 (20mm/H2Oで) 200m3/hr 電源電圧(直列接続された4ランプの両端で)
220ボルト この処理装置は第3図のブロツク線図に示された
諸素子を有している。すなわち、プローブSと、
増幅器AMPと、入力信号サンプラMPXとアナロ
グ変換器ADCとの組立体と、CPUマイクロプロ
セツサと、ゼロ交差検出器と、駆動器と、入つて
くるフイルムのためのホトリーダとを有してい
る。プローブSは乾燥室内の空気温度TAを測定
するためのものであつて、例えばモトローラ
MT102である。増幅器AMPは、方程式ΔT=0
−64℃→ΔVADC0/−5ボルトに従つて、センサ信
号をアナログ・デジタル変換器が受取るのに適当
な電圧レベルにする。入力信号サンプラMPXと
アナログ変換器ADCとの組立体は信号を連続値
からデジタル値に変換し、そしていろいろなプロ
ーブ(着目しているプローブを含む)からこの装
置に入り、そしてCPUに向かういろいろな信号
を切替えることができ、この装置は例えばナシヨ
ナル・セミコンダクタADC 0816である。CPUマ
イクロプロセツサは第4図の流れ図に示されたプ
ログラムを記憶しており、例えばシグネテイクス
2650 AI CHIPである。ゼロ交差検出器は、主電
圧の微分係数が正である時間内でこの主電圧がゼ
ロを通過する時刻をCPUに知らせ、それでゼロ
を通過する瞬間に用いられているTRIACSがト
リガされる。駆動器はCPUが生ずる信号と現像
部への電力供給との間のインタフエイスとして働
き、例えばフイリツプス BT 137 TRIACSで
ある。ホトリーダはマイクロコンピユータに接続
され、互いに10mmの距離にある43個のジーメンス
LD271発光器と8mmの距離にあるほぼ同数のジ
ーメンス BP 103 BII受光器を組で有する面積
測定器である。この装置は透過光(前記発光器と
受光器の間の信号が中断されることによつてフイ
ルムが指示される)で動作し、そしてフイルムが
あることを指示する信号は少なくとも3対のセン
サが通過するフイルムによつて覆われる時に生ず
る。第4図は前記CPUによつて実行されるプロ
グラムを示したものである。当業者には周知であ
るように、シグネテイクス2650マニユアルおよび
2650アセンブラ・ランゲージ。マニユアルに記載
されている命令を用いることにより、この流れ図
のプログラムを、用いられているAI2650CHIPに
適切なプログラミング言語に、翻訳することがで
きる。(この点に関する完全な情報については次
のシグネテイクス社の出版物を参照されたい。
「テストウエア・インストルーメント2650アセン
ブリ・ランゲージ・マニユアル・オーダ第
TW09005000号」、「オペレータズ・ガイド
TW09003000」、「シグネテイツク・システム・レ
フアレンスTW9004000」)第4図は乾燥部のため
のサブルーチンの動作を示す流れ図である。ポテ
シオメータを操作することにより、オペレータは
この処理装置制御パネル上の待機温度T1を選定
し、そしてこれは、アナログ・デジタル変換の
後、RAMセルT1RAMに記憶される。オペレー
タはまた乾燥部作業温度T2を設定し、そのデジ
タル値がメモリセルT2RAMに記憶される。マイ
クロプロセツサは乾燥部内の実際の空気温度TA
を測定し、そしてこの値をTARAMに記憶する。
もしフイルムがないならば、マイクロプロセツサ
は待機T1RAMとメモリセルTARAMを、方程式
(1)ΔT=TARAM−T1RAMによつて、比較する。
もしΔTがゼロより大きいならば、マイクロプロ
セツサはIRランプを消えたままにしておく。も
しΔTがゼロより小さいならば、10個の主周期を
サンプリングすることにより、マイクロプロセツ
サは、1ランプ電力供給周期(オン)に始まり9
中断周期(オフ)まで、ランプを徐々に点燈す
る。次に段階では、すなわち10個のの主周期の
後、もし前記状態(ΔT<0)が持続しているな
らば、オン/オフ関係が変更され、10に2電力供
給周期が実行され、以後このように動作が行なわ
れる。ある時刻tにおいて、乾燥部空気の実際の
温度TAが設定待機温度T1を越える、すなわち、
TA>T1となるであろう。Nをランプを制御する
ためのサンプリング周期の数(いまの場合10)と
し、M1を活動周期の数、M2を非活動周期の数と
する。したがつて、(2)M1+M2=N=10である。
したがつて、前記時刻tに、(3)Mt 1+Mt 2=N=10
である。ここで、tは主周期の倍数である。次に
主周期において、(4)Mt+1 1+Mt+1 2=Nである。
TAがT1より小さくなるまで、マイクロプロセ
ツサは関係式(5) Mt+1 1=Mt 1−1およびMt+1 2=Mt 2+1を設定す
る。もし温度変化に対するこの装置の惰性が非常
に大きく、条件TA>T1が少なくとも2秒間(50
Hzで10サイクル周期tcに対応する)続くならば、
マイクロプロセツサはランプが消えている状態を
設定する、すなわち、前期関係式(5)および(6)に従
つて引続く段階に対しM1=0およびM2=10を設
定する。(流れ図に示されているように、ゼロ以
下である関係式(5)の結果はゼロに等しいとして読
取られるということであり、そして10以上の結果
は10に等しいとして読取られるということであ
る。)もしフイルムがあるならば、マイクロプロ
セツサは前記関係式において温度T1を温度T2
置換え、しかし、次の制約が付加される。すなわ
ち、温度TA>T2に対し、関係式(7)M1=k(この
場合には5に等しい)が成り立つ。考察している
装置において、前記制約は10kパーセント(この
場合には50パーセント)に等しい最小電力供給閾
値を導入することに対応する。「乾燥器制御」プ
ログラムは乾燥以外の処理の制御部分としてつく
られた主プログラム(その詳細は記述されない)
のサブルーチンとして記述された。このような乾
燥器制御プログラムは、フイルムがある場合に、
温度が許容できる最小レベルT2よりも低いとい
う信号に基づいて電力を付加供給するようにラン
プへの電力出力を最低に保つ機能を有する。フイ
ルムがない場合には、この乾燥器制御プログラム
は、温度が設定された待機温度T1よりも低い場
合には次第に大きな電力を、または温度がより高
い場合には次第に減少する電力(次第にゼロに近
づく電力)をランプに供給する機能を有する。主
プログラムの第1段階であるスイツチング・オン
のさいに、条件オン=0およびオフ=10が設定さ
れることを特に示すために、この主プログラムは
そのサブルーチン乾燥器制御についてのみ記述さ
れた。このような制御プログラムは、次の条件1
+3=4および0−E=0に応答して、1に等し
いかまたは1より大きい数Eと共に動作する。
ON,OFF,SON,SOFF,T,RAM,T2
RAM,TARAMは転送するデータを有するメモ
リセルである。SONおよびSOFFは、それぞれ、
関与するメモリセルによつて記憶される時、オン
時間およびオフ時間を示す。このサブルーチンプ
ログラムは、第1データ取入れ部と、フイルムの
有無に依る第2決定部と、第3演算部とに事実上
分割される。プログラムは次の順序で進行し、そ
して指示される変更された順序で進行する。すな
わち、ブロツク1では、このシステムはT1設定
(待機)のためのアナログチヤンネルを設定し、
これはアナログ・デジタル変換を実行し、そして
このデジタル値をメモリセルT1RAMに記憶す
る。ブロツク2はブロツク1と同じように動作
し、そしてT2がメモリセルT2RAMに記憶され
る。ブロツク3では、乾燥部の空気に対する温度
センサのためのアナログチヤンネルが選定され、
アナログ・デジタル変換が実行され、そしてこの
値がメモリセルTARAMに記憶される。ブロツク
4では、入口センサ装置により、マイクロプロセ
ツサはフイルムの有無を検出し、そしてこの機械
のサイクル時間が終了するまで(最後に入れられ
たフイルムが出てくるまで)、この記憶された状
態を保つ。
フイルムがもしないならば、プログラムはブロ
ツク5に進む。ブロツク5ではTARAM<T1
RAMであるかどうかを検査する。もしこの条件
が満されているならば、プログラムはブロツク6
およびブロツク7に進む。ブロツク6およびブロ
ツク7ではSONが10を越える値を持つことがで
きないという条件が導入される。ブロツク8で
は、ランプ点燈時間に対する1の増加(ON+
1)が決定され、それに対応して中断時間減少
(OFF−1)が決定され、そしてこれらの変動で
えられた値(SONおよびSOFF)が記憶される。
ブロツク12では、マイクロプロセツサは主電圧
がゼロを通過するのを判定する。主電圧がゼロを
通過する時、プログラムはブロツク13に進み、
このブロツク13でSONがRAMセル内でゼロに
等しいかどうかの検査が行なわれる。ブロツク8
でみたように、このことは可能ではない(ON=
OFF+1≠0)。この時、プログラムはブロツク
16に進む。ブロツク16では、負荷、すなわ
ち、ランプが作動し、そしてそれと共にフアンが
作動する。(フアンはランプ電力を制御する
ON/OFF関係とは独立に付勢され、そしてON
がゼロに等しい時に消勢される。)ブロツク18
では、SONメモリセルが1だけ減じられる。そ
れから、このプログラムはブロツク12に戻り、
このブロツク12は前記のように動作し、そして
それからブロツク13に進み、以下同様である。
ブロツク13では、条件SON=0が得られるま
でサイクルが繰返される。この条件が得られた
時、プログラムはブロツク14に進む。ブロツク
14内では、RAMメモリセル内でSOFF=0で
あるかどうかが検査される。もしこの条件が成り
立つていないならば、プログラムはブロツク17
およびブロツク19に進む。ブロツク17では
IRランプは消燈され、そしてブロツク19では
SOFFメモリセルは1でけ減じられる。それから
ブロツク12に戻り、ブロツク12からブロツク
13に進む。ブロツク13では、この状態を変え
ることは何も起つていないから、SON=0であ
る。この時、プログラムは直接ブロツク14に進
む。この状態では、制御は主プログラムに進む。
ブロツク8において、条件SON+OFF=10が常
に存在することを断つておく。したがつて、前記
記述から、IRランプがSONに等しい数の周期の
間付勢されたままであり、そして10−SON周期
の間消勢されたままである。ブロツク8を最初に
通る時は、SONは1に等しく、そしてSOFFは9
に等しいであろう。2回目に通る時には、プログ
ラムはブロツク5およびブロツク6から生ずる
(温度が上昇する)と常に仮定して、SONは2に
等しくそしてSOFFは8に等しいであろう。もし
ブロツク5およびブロツク6によつて要請される
通りならば、値SON=10およびSOFF=0を得る
ことができ、これは100%電力供給に対応する。
平衡条件はここでは、TARAM≧T1RAMのよう
に仮定され、これは例えばSON=7およびSOFF
=3の時に得られ、この時プログラムはブロツク
5からブロツク9に進む。これらの条件の下で、
SONは1だけ減少し、SOFFは1だけ増加し、そ
してそれからプログラムはブロツク12に進む。
SON=6およびSOFF=4に対して既に見た状態
が繰返され、そしてプログラムは主プログラムに
戻る。ブロツク5に存在する条件に従つて、この
ことが周期的に繰返される。したがつて、前記記
述に従つて、電力供給が変化するであろう。(フ
イルムがない場合には、SONはゼロに等しくす
ることができる。)もしフイルムがあるならば、
判定ブロツク4はプログラムをブロツク10に進
める。ブロツク10では、TARAM<T2RAMの
関係が検査される。もしこの不等式が成立するな
らば、プログラムはブロツク8に進み、電力の変
調が前述のように継続して行なわれる。前記不等
式が成立している間、この状態が持続する。条件
TARAM≧T2RAMは成立する時、マイクロプロ
セツサはプログラムをブロツク11に進める。ブ
ロツク11では、パーマネント条件SON=5、
SOFF=5が設定される。これらの条件の下で
は、ブロツク6、ブロツク7およびブロツク8が
除外され、プログラムはブロツク12に直接進
み、IRランプは全電力の50%で付勢される。実
効的に、本出願人によりつくり上げられた機械で
は、安全上の理由により、10周期のサイクルは1
つの固定された休止周期を有することが好まし
く、したがつて、利用可能な最大電力は理論上可
能な最大電力の90%である。(ブロツク線図では、
点6および7において、条件「ON=10?、ON
=9」はしたがつて条件「ON=9?、ON=8」
に変更された。)明らかに実験上の目的のために、
ブロツク11のSON値は第4図の流れ図で示さ
れた実施例では5に等しいけれども(すなわち、
最小閾値電力は利用可能電力の50%に等しい)、
それに異なる値を与えることができ、前記一般則
(特にSOFF=10−SON)はなお成立している。
第5図は第3図および第4図のシステムと類似
の方法で動作する制御システムの概略電気回路図
である。しかし、この回路図にはマイクロプロセ
ツサは含まれていない。この概略図において、
IC1はナシヨナル・セミコンダクタNE555集積
回路、IC2,IC3,IC4およびIC5はモトロー
ラμ741演算増幅器、SはモトローラMT102温度
プローブ、DZ1はフイリツプス9CV1ツエナダイ
オード、D1およびD2はITT IN 914ダイオー
ド、OPIはフエアチヤイルド 4N26光電アイソ
レータ、TRはナシヨナル・セミコンダクタ
2N2905トランジスタ、およびTRIACはフイリツ
プスBT 137トライアツクである。Rは抵抗器を
示し、そしてCはコンデンサを示す。IC1は単
安定回路として動作する。この回路は、もしピン
4が12Vの正電源電圧に保たれているならば、ピ
ン2に負電圧が入ると始動する。単安定の持続時
間はRC回路の時定数によつて定まる。この持続
時間は10主サイクルに等しいように、すなわち、
(50Hzの周波数の場合に)200msに設定される。
再びTpoおよびTpffの定義を思い出せば、Tc=Tpo
+Tpff=200ミリ秒である。IC1のピン6のとこ
ろに、直線出力電圧ランプが生じ、この電圧ラン
プはt=200msで最大値に達し、そしてピン2の
主同期がゼロを通る時に開始する。IC1のピン
3はIC2に電力を供給し、これは前記ランプと
R7の可動接点の電圧との間にヒステリシスをも
つ比較器として接続される。前記可動接点の位置
は最小取出電力閾値を決定する。ブリツヂPがな
いならば、発生したランプはIC2に電力を供給
し、その出力は光アイソレータCP1を作動させ、
そしてIRランプに電力を供給するTRIACSを制
御する。中央のR7接触子によつて取出された電
圧がランプ電圧以下になつて比較器IC2が作動
されなくなるまで、この状態が持続する。ランプ
電圧がゼロに戻る時、IC2の出力はそれが電力
の供給を受けないためにゼロのままである。この
状態はIC1のピン2に次の負電圧が入ると繰返
される。TRIACの固有の性質は半波で動作する
ことであるために、5の段階においてIR電力を
変えることが可能であり、そのおのおのは全体で
10波の中の半波に対応する。けれども、もしブリ
ツヂPが接続されているならば、実際には接続さ
れているのであるが、プローブSは空気温度TA
に逆比例する電圧を生ずる。IC3とIC4は直列
接続された増幅器であつて、IC4はΔV=5−0/
→T=0−50℃のような出力電圧を有している。
IC5は増幅器および単位加算器である。もしプ
ローブによつて測定された温度がR22によつて
設定された作業温度よりも高いならば、IC5の
出力は負になり、そしてその出力にダイオードが
あるために、ランプ制御回路に影響を与えること
はなく、ランプ制御回路はR7によつて設定され
た最小電力を供給されるままである。もし逆にこ
のような温度がより低いならば、IC5の出力は
温度差に比例した量だけ正になる。発生した電圧
は選定された最小電力に関して加算的である。そ
の結果、R22の位置に基づきIC5によつて決
定された電力で、IC2およびOP1を経由して、
ランプはTRIACSにより電力が供給される。
実施例 1 3M医療用X線フイルム タイプ R2および
3M医療用X線トリマツクス フイルムXDが、
3M XAD 90/M現像液および3M XF 2定着液
を用いて、第1図、第2図、第3図および第4図
に記載された機械で処理された。第4図の流れ図
のブロツク11のSONとSOFFに異なる値を選定
することにより、赤外線ランプに対し異なる最小
乾燥電力閾値を設定して検査が行なわれた。同じ
実験上の理由により、温度T1およびT2すなわち、
待機温度と作業温度が電力の供給を受けるランプ
の位置により変えられた。特に、第4図のブロツ
ク11においてSONを2に等しく置くことによ
り(最小電力閾値が利用可能電力の20%である)、
位置L3,L4,L7およびL8にある4個のラ
ンプが対で電力の供給を受ける場合に、そして温
度T1が30℃、そして温度T2が38℃である場合に、
実験aが行なわれた。フオーマツト30×120cmの
3MタイプR2レントゲンフイルムがこの機械の
中に入れられた。フイルムが入る前に、乾燥部温
度は作業温度に到達していた。フイルムが通過す
るさい、赤外線ランプはパルス的に電力の供給を
受け、色を発するのが見られた。フイルムは乾燥
しない領域をもつて乾燥部を出ていつた。作業温
度を40℃にあげた場合、タイプR2フイルムは全
く同じように振舞つた。同じフオーマツトのタイ
プXDフイルムがまたこの2つの温度で処理され
た。38℃の温度では、前記の場合よりは小さな範
囲であつたが、不完全乾燥領域があつた。一方、
40℃の温度では、不完全乾燥領域の他にわずかの
グレージングがあつた。最小電力閾値を30%に増
すと(第4図の流れ図のブロツク11において
SONを3と置いた場合)、XDに対し改良された
乾燥結果が得られ(40℃で存在していたグレージ
ングもなく、38℃で乾燥された)、しかしR2に
対してはこのような改良された乾燥結果は得られ
なかつた。最小電力閾値を50%に増し、そして
T2を38℃に保つた場合、R2フイルムとXDフイ
ルムの両方に対し優れた結果(グレージングのな
い完全乾燥)が得られた。50%最小電力閾値でこ
の他の検査が行なわれた。この検査は位置L2,
L4,L6およびL8の4個のランプに電力が供
給された場合、および待機温度が30℃の場合につ
いて行なわれた。T2を32℃に保つた場合、2つ
のタイプのフイルムはこの機械を出てきた時なお
湿つていた。T2が35℃の場合には、フイルムXD
は乾燥して出てきたが、フイルムR2は湿つたま
まで出てきた。T2が38℃の場合には、2種のフ
イルムは乾燥してそしてグレージングもなく出て
きた。しかし、T2が40℃の場合には、XDはわず
かのグレージングがあつた。
実施例 2 本考案のXP507処理機械(220Vの電源から
付勢される直列接続された3群から成る6個の
IR400W/110Vランプを有する)の中に(本考案
のXP510処理機械の中にあるタイプの)電気
機械温度制御によつて、待機温度が30℃設定され
た。第5図の装置はまたこの機械に適合してお
り、そしてフイルム入口で作動するセンサ装置に
よつて運転された。(前記センサ装置は前記ホト
リーダを構成する装置と同じような3個の発光素
子とそれぞれに取付けられた3個の受光素子を有
している)。プローブのところの温度計によつて
計られた作業温度は、可変抵抗器R22により、
38℃に近い値に設定された。最小電力閾値は、可
変抵抗器R7により、最大電力の50%に設定され
た。タイプR2,XDおよびMの3Mレントゲン
フイルムがこの機械の中を通過すると、それらは
乾燥してそしてグレージングなしに出てきた。最
初の実験データによれば、対で付勢されるランプ
の数を6個から4個に減らすことが可能であり、
したがつて、機械のコストを下げることができ
る。
第5図に用いられた記号の値と意味は次の通り
である。
R1=2.2KΩ R2=470KΩ R3=680KΩ R4=10KΩ R5=10KΩ R6=220Ω R7=220Ω R8=220Ω R9=1.5KΩ R10=1KΩ R11=1KΩ R12=220Ω R13=470Ω R14=100KΩ R15=1.7KΩ R16=220Ω R17=220Ω R18=1.8Ω R19=36Ω R20=22KΩ R21=330Ω R22=220Ω R23=22KΩ R24=22KΩ R25=10KΩ R26=1.8KΩ C1=10nF C2=220nF C3=100nF C4=100nF DZ1=C9VIフイリツプス D1=1N914ITT D2=1N914ITT OP1=4N26フエアチヤイルド Tr=2N2905ナシヨナル TRIAC=BT137フイリツプス IC1=NE555ナシヨナル IC2=μ741モトローラ IC3=μ741モトローラ IC4=μ741モトローラ IC5=μ741モトローラ S=MT102モトローラ 実施例 3 同じ処理浴を有する実施例1の処理機械がL
1,L3,L5およびL7の位置に赤外線ランプ
を持ち、そして50パーセントの最小閾値電力をも
つようにつくられた。作業温度は、3MタイプR
フイルム、3MタイプXDフイルムおよび3Mタイ
プSフイルム等のいろいろなX線フイルムをいろ
いろな速さで処理し、乾燥するために、いろいろ
な値に設定された。次の4つの乾燥温度値(およ
び対応する乾燥時間)により、4つの異なる対応
する速さで、良好な乾燥が得られた。
cm/S 1.0 2.0 2.4 3.2 ℃ 30 35〜37 40〜42 44〜46 秒 42.0 21.0 17.5 13.1 前記のように、X線フイルム処理機械における
乾燥段階は現像段階、定着段階、水洗段階および
乾燥段階を含む全処理段階の中の一部分である。
全処理時間は、近代的X線フイルム処理機械で
は、180秒以下である、より好ましくは120秒以下
である。このような時間は、処理機械それ自身の
中のフイルムの速さを変えることにより、変える
ことが可能であることがまた要求される。現像時
間と定着時間は温度を少し変えることによつて大
幅に変えることが可能であるが(実施例3の処理
機械では、現像浴の温度を30℃から37℃まで7℃
変え、そして定着浴の温度を2℃変えると、対応
する速さは1cm/Sから3.2cm/Sに変わる)、乾
燥時間は、もし本考案に従つて乾燥が行なわれる
のでなければ、対応して変えることはできず、も
し無理に変えるならばフイルムに重大な損傷を与
えることになる。
本考案の乾燥器を有する処理機械により、50℃
より大幅に高い温度を用いることなく、25℃以下
の対応する温度でもつて、50秒〜10秒の範囲の時
間でレントゲンフイルムを円滑に乾燥することが
できる。
本考案の処理機械は、50℃〜30℃の作業温度で
12秒〜45秒の時間範囲内で、より好ましくは35℃
〜40℃の温度で22秒以下の時間内に、乾燥を実行
する乾燥器を有することが好ましい。
もちろん、乾燥時間が定まるとそれに応じてこ
のような限界内の1つの温度値が選定される。温
度値が高くなるのに対応して時間値は小さくな
る。同様に、それぞれの乾燥時間に対し、もし大
量の水を含んだフイルムが処理されるのでないな
らば、温度は指定された範囲内でより低く選定す
ることができる。
もし基準点として3MフイルムタイプSをとる
ならば、そしてこのフイルムが市販されている他
の3Mフイルムより多くの水を含んでいるならば
(もつと正確にいえば32〜35グラム/平方メート
ル、一方3MフイルムタイプRおよびタイプXD
の水の量はそれぞれ29〜30グラム/平方メートル
および23〜25グラム/平方メートルである。)、約
38℃の温度で約20秒の乾燥時間がそれを乾燥させ
るのに十分である。もし15〜16グラム/平方メー
トルの水分をもつ3MフイルムタイプMを基準点
としてとるならば、十分な乾燥を行なうための温
度値およびまたは時間値は前記値より大幅に小さ
くなるであろう。けれども、現在市販されている
各フイルムを処理するための乾燥条件を設定する
ことは、この技術の分野では普通である。本考案
によるフイルム乾燥を実行する時、前記のよう
に、当業者により時々提出される緊急の要請が容
易に満足されるであろう。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案による処理機械の全体断面図、
第2図は第1図の線A−Aに沿つての部分断面
図、第3図は乾燥部の動作を示したブロツク線
図、第4図はCPU(中央処理装置)またはマイク
ロプロセツサの動作方法を示した流れ図、第5図
は従来の装置(ただし、コンピユータはない)で
制御される乾燥部の動作を説明する概略電気回路
図である。 5……乾燥室、運搬装置、L1〜L8……赤外
線放射源、9……空気循環装置、6……温度測定
装置。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 入口および出口を有する乾燥室と、前記乾燥
    室内に少なくとも部分的に配置された運搬装置
    と、フイルム運搬面と対面した細長い形の赤外
    線放射源ランプと、前記乾燥室内の空気の循環
    装置とを有し、 (イ) 前記乾燥室内を循環する空気の温度の測定
    装置と、 (ロ) 前記赤外線放射源ランプに供給される電力
    を変えるための装置と、 (ハ) 前記空気温度の測定結果により、もし前記
    温度が予め定められた値よりも低いかまたは
    高いことがわかつたならば、前記供給電力を
    それぞれ増加または減少させる装置、 とを有することと、乾燥するべきフイルムが存在
    する場合に前記ランプへの電力が減少しても実際
    の作業温度にある空気の温度影響下で前記フイル
    ムの乾燥を行なうことができる所定最小電力閾値
    以下の電力値に前記ランプ電力は減少しないこと
    とを特徴とし、予め定められた前記乾燥温度が35
    ℃〜40℃の範囲内にあり、乾燥するべきフイルム
    が存在する場合に前記赤外線ランプに供給できる
    前記最小電力閾値が前記赤外線ランプに供給でき
    る最大電力の30〜80パーセントの範囲内の値に対
    応するように前記赤外線ランプの全電力が選定さ
    れる、水を含んだ写真フイルムの乾燥装置。 (2) 実用新案登録請求の範囲第1項において、前
    記フイルムが前記入口から前記乾燥装置に向つ
    て運搬される間に赤外線加熱により到達できる
    値の作業温度より低い予め定められた大気温度
    を空気に与えるための装置を有することを特徴
    とする乾燥装置。
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