JPH05310698A - 3−アミノ―2―シクロアルキルオキシピリジンの製造方法 - Google Patents
3−アミノ―2―シクロアルキルオキシピリジンの製造方法Info
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- JPH05310698A JPH05310698A JP4120947A JP12094792A JPH05310698A JP H05310698 A JPH05310698 A JP H05310698A JP 4120947 A JP4120947 A JP 4120947A JP 12094792 A JP12094792 A JP 12094792A JP H05310698 A JPH05310698 A JP H05310698A
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Pyridine Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】解熱、鎮痛、抗炎症剤などとして有用なスルホ
ンアミドピリジン化合物の合成原料の重要な中間体ので
ある3―アミノ―2―シクロヘキシルオキシピリジンを
高収率で、工業的な製造方法を提供する。 【構成】下記式(I) (式中、Rは炭素原子数3〜8個のシクロアルキル基を
表す。)で示される6―クロロ―2―シクロアルキルオ
キシ―3―ニトロピリジンをパラジウム―炭素触媒存在
下、加圧および/または加熱条件により接触還元を行
い、 下記式(II) で示される3−アミノ―2―シクロアルキルオキシピリ
ジンを得ることを特徴とする3−アミノ―2―シクロア
ルキルオキシピリジンの製造方法。
ンアミドピリジン化合物の合成原料の重要な中間体ので
ある3―アミノ―2―シクロヘキシルオキシピリジンを
高収率で、工業的な製造方法を提供する。 【構成】下記式(I) (式中、Rは炭素原子数3〜8個のシクロアルキル基を
表す。)で示される6―クロロ―2―シクロアルキルオ
キシ―3―ニトロピリジンをパラジウム―炭素触媒存在
下、加圧および/または加熱条件により接触還元を行
い、 下記式(II) で示される3−アミノ―2―シクロアルキルオキシピリ
ジンを得ることを特徴とする3−アミノ―2―シクロア
ルキルオキシピリジンの製造方法。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特願平3―28426
7号公報に記載されている解熱剤、鎮痛剤、抗炎症剤な
どとして有用なスルホンアミドピリジン化合物の合成原
料として重要な中間体3−アミノ―2―シクロアルキル
オキシピリジンの製造方法に関する。
7号公報に記載されている解熱剤、鎮痛剤、抗炎症剤な
どとして有用なスルホンアミドピリジン化合物の合成原
料として重要な中間体3−アミノ―2―シクロアルキル
オキシピリジンの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】3−アミノ―2―シクロアルキルオキシ
ピリジンの製造方法としては、本発明者らが、特願平3
―284267号公報において、2―シクロアルキルオ
キシ―3―ニトロピリジンを還元する方法を記載してい
る。
ピリジンの製造方法としては、本発明者らが、特願平3
―284267号公報において、2―シクロアルキルオ
キシ―3―ニトロピリジンを還元する方法を記載してい
る。
【0003】しかし、6―クロロ―2―シクロアルキル
オキシ―3―ニトロピリジンを還元することにより製造
する方法は知られていない。
オキシ―3―ニトロピリジンを還元することにより製造
する方法は知られていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の特願平3―28
4267号公報に記載した2―シクロアルキルオキシ―
3―ニトロピリジンの還元する3−アミノ―2―シクロ
アルキルオキシピリジンの製造方法では、2―クロロ―
3―ニトロピリジンを出発原料として用いているが、こ
の化合物は2―クロロピリジンをニトロ化することによ
り得られる目的の2―クロロ―3―ニトロピリジンと主
生成物として得られる2―クロロ―5―ニトロピリジン
を分離精製することにより製造しているため、大量の製
造方法としては問題があった。
4267号公報に記載した2―シクロアルキルオキシ―
3―ニトロピリジンの還元する3−アミノ―2―シクロ
アルキルオキシピリジンの製造方法では、2―クロロ―
3―ニトロピリジンを出発原料として用いているが、こ
の化合物は2―クロロピリジンをニトロ化することによ
り得られる目的の2―クロロ―3―ニトロピリジンと主
生成物として得られる2―クロロ―5―ニトロピリジン
を分離精製することにより製造しているため、大量の製
造方法としては問題があった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
の解決を目的に鋭意検討し、安価で入手可能な2,6−
ジクロロピリジンを出発原料として用いる以下の反応経
路に示す製造方法を検討し、2,6−ジクロロピリジン
より簡便な方法で製造できる6―クロロ―2―シクロア
ルキルオキシ―3―ニトロピリジン(特願平3―284
267号公報に記載)の接触還元により3−アミノ―2
―シクロアルキルオキシピリジンが簡便かつ高収率で得
られることを見い出し、本発明を完成した。
の解決を目的に鋭意検討し、安価で入手可能な2,6−
ジクロロピリジンを出発原料として用いる以下の反応経
路に示す製造方法を検討し、2,6−ジクロロピリジン
より簡便な方法で製造できる6―クロロ―2―シクロア
ルキルオキシ―3―ニトロピリジン(特願平3―284
267号公報に記載)の接触還元により3−アミノ―2
―シクロアルキルオキシピリジンが簡便かつ高収率で得
られることを見い出し、本発明を完成した。
【0006】〈反応経路〉
【0007】すなわち本発明は、式I
【0008】(式中、Rは炭素原子数3〜8個のシクロ
アルキル基を表す。)で示される6―クロロ―2―シク
ロアルキルオキシ―3―ニトロピリジンをパラジウム―
炭素触媒存在下、加圧および/または加熱条件により接
触還元を行い、
アルキル基を表す。)で示される6―クロロ―2―シク
ロアルキルオキシ―3―ニトロピリジンをパラジウム―
炭素触媒存在下、加圧および/または加熱条件により接
触還元を行い、
【0009】式II
【0010】(式中、Rは前記と同意義である。)で示
される3−アミノ―2―シクロアルキルオキシピリジン
を得ることを特徴とする3−アミノ―2―シクロアルキ
ルオキシピリジンの製造方法および、
される3−アミノ―2―シクロアルキルオキシピリジン
を得ることを特徴とする3−アミノ―2―シクロアルキ
ルオキシピリジンの製造方法および、
【0011】式Iで示される6―クロロ―2―シクロア
ルキルオキシ―3―ニトロピリジンをヒドラジンおよび
パラジウム―炭素触媒存在下接触還元を行うことにより
式IIで示される3−アミノ―2―シクロアルキルオキ
シピリジンを得ることを特徴とする3−アミノ―2―シ
クロアルキルオキシピリジンの製造方法である。
ルキルオキシ―3―ニトロピリジンをヒドラジンおよび
パラジウム―炭素触媒存在下接触還元を行うことにより
式IIで示される3−アミノ―2―シクロアルキルオキ
シピリジンを得ることを特徴とする3−アミノ―2―シ
クロアルキルオキシピリジンの製造方法である。
【0012】以下、本発明の製造方法を説明する。
【0013】本発明における接触還元とは、パラジウ
ム、白金、ラネーニッケル、ロジウム等の金属またはそ
の塩類を触媒として用い、水素、ヒドラジン、メチルヒ
ドラジン等のヒドラジン誘導体、シクロヘキセン等で還
元する方法である。
ム、白金、ラネーニッケル、ロジウム等の金属またはそ
の塩類を触媒として用い、水素、ヒドラジン、メチルヒ
ドラジン等のヒドラジン誘導体、シクロヘキセン等で還
元する方法である。
【0014】本反応は、水、酢酸、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、酢酸エチル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、ベンゼン、キシレン、ヘキサン、シ
クロヘキセン等の溶媒中において、室温から溶媒の沸点
で、好ましくは50℃から各溶媒の沸点までの反応温度
において行うことができる。本反応は塩酸、硫酸等の酸
の添加、また水素を用いる場合は、加圧下で行うことに
より反応を促進することができる。
ール、イソプロパノール、酢酸エチル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、ベンゼン、キシレン、ヘキサン、シ
クロヘキセン等の溶媒中において、室温から溶媒の沸点
で、好ましくは50℃から各溶媒の沸点までの反応温度
において行うことができる。本反応は塩酸、硫酸等の酸
の添加、また水素を用いる場合は、加圧下で行うことに
より反応を促進することができる。
【0015】
【発明の効果】本発明により、N−(2―シクロアルキ
ルオキシ―3―ピリジル)メタンスルホンアミドを高収
率で、簡便に製造することが可能になり、解熱、鎮痛、
抗炎症剤などとして有用なスルホンアミドピリジン化合
物の合成原料の重要な中間体の工業的な提供が可能とな
った。
ルオキシ―3―ピリジル)メタンスルホンアミドを高収
率で、簡便に製造することが可能になり、解熱、鎮痛、
抗炎症剤などとして有用なスルホンアミドピリジン化合
物の合成原料の重要な中間体の工業的な提供が可能とな
った。
【0016】
【実施例】次に、実施例および参考例を挙げ本発明を更
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
【0017】実施例1 (1)6―クロロ―シクロヘキシルオキシ―3―ニトロ
ピリジンの製造 2,6―ジクロロ―3―ニトロピリジン19.3gおよ
びシクロヘキサノール15.0gを含むトルエン180
ml溶液に、反応温度を20〜30℃に保ちながら、粉
末の水酸化ナトリウム20.0gを15分間かけて加え
た。
ピリジンの製造 2,6―ジクロロ―3―ニトロピリジン19.3gおよ
びシクロヘキサノール15.0gを含むトルエン180
ml溶液に、反応温度を20〜30℃に保ちながら、粉
末の水酸化ナトリウム20.0gを15分間かけて加え
た。
【0018】室温で4時間攪拌した後、水を加え、トル
エンで抽出、トルエン層を水洗、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を濃縮して得られた残渣をトルエン―
n―ヘキサンで再結晶することにより、6―クロロ―2
−シクロヘキシルオキシ―3―ニトロピリジン17.1
gを得た。
エンで抽出、トルエン層を水洗、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を濃縮して得られた残渣をトルエン―
n―ヘキサンで再結晶することにより、6―クロロ―2
−シクロヘキシルオキシ―3―ニトロピリジン17.1
gを得た。
【0019】m.p.77〜79℃
【0020】(2)3―アミノ―2―シクロヘキシルオ
キシピリジンの製造 6―クロロ―2−シクロヘキシルオキシ―3―ニトロピ
リジン2.6gを含むエタノール25ml溶液に、80
%ヒドラジン水溶液5.1mlおよび5%パラジウム―
炭素0.26gを加え3時間還流した。
キシピリジンの製造 6―クロロ―2−シクロヘキシルオキシ―3―ニトロピ
リジン2.6gを含むエタノール25ml溶液に、80
%ヒドラジン水溶液5.1mlおよび5%パラジウム―
炭素0.26gを加え3時間還流した。
【0021】反応液を室温に戻した後、パラジウム―炭
素を濾過して除き、濾液を濃縮、エタノールより再結晶
することにより無色針状晶の3―アミノ―2―シクロヘ
キシルオキシピリジン1.8gを得た。 m.p.67〜69℃
素を濾過して除き、濾液を濃縮、エタノールより再結晶
することにより無色針状晶の3―アミノ―2―シクロヘ
キシルオキシピリジン1.8gを得た。 m.p.67〜69℃
【0022】参考例1 (1)N―(2―シクロヘキシルオキシ―3―ピリジ
ル)メタンスルホンアミドの製造 3―アミノ―2―シクロヘキシルオキシピリジン16.
8gを含むピリジン88ml溶液に、氷冷下メタンスル
ホニルクロリド11.0gを9分間かけて加え、同温度
で15分間攪拌後、さらに室温で1時間攪拌した。反応
液に攪拌しながら水を加え、析出した結晶を濾取し、水
で洗浄した。
ル)メタンスルホンアミドの製造 3―アミノ―2―シクロヘキシルオキシピリジン16.
8gを含むピリジン88ml溶液に、氷冷下メタンスル
ホニルクロリド11.0gを9分間かけて加え、同温度
で15分間攪拌後、さらに室温で1時間攪拌した。反応
液に攪拌しながら水を加え、析出した結晶を濾取し、水
で洗浄した。
【0023】得られた粗結晶をエタノール―n―ヘキサ
ンで再結晶して無色プリズム晶のN―(2―シクロヘキ
シルオキシ―3―ピリジル)メタンスルホンアミド1
9.9gを得た。
ンで再結晶して無色プリズム晶のN―(2―シクロヘキ
シルオキシ―3―ピリジル)メタンスルホンアミド1
9.9gを得た。
【0024】m.p.100〜102℃
【0025】(2)N―(2―シクロヘキシルオキシ―
6―ニトロ―3―ピリジル)メタンスルホンアミドの製
造 N―(2―シクロヘキシルオキシ―3―ピリジル)メタ
ンスルホンアミド19.5gを含む酢酸72ml溶液
に、95℃に加熱下60%硝酸8.0gを2時間かけて
加え、さらに同温度で1時間攪拌した。反応液を室温に
戻し、攪拌しながら水を加え、析出した結晶を濾取し、
水で洗浄した。得られた粗結晶をジクロロメタンに溶解
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、エタノールで
再結晶して淡黄色プリズム晶のN―(2―シクロヘキシ
ルオキシ―6―ニトロ―3―ピリジル)メタンスルホン
アミド12.3gを得た。
6―ニトロ―3―ピリジル)メタンスルホンアミドの製
造 N―(2―シクロヘキシルオキシ―3―ピリジル)メタ
ンスルホンアミド19.5gを含む酢酸72ml溶液
に、95℃に加熱下60%硝酸8.0gを2時間かけて
加え、さらに同温度で1時間攪拌した。反応液を室温に
戻し、攪拌しながら水を加え、析出した結晶を濾取し、
水で洗浄した。得られた粗結晶をジクロロメタンに溶解
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、エタノールで
再結晶して淡黄色プリズム晶のN―(2―シクロヘキシ
ルオキシ―6―ニトロ―3―ピリジル)メタンスルホン
アミド12.3gを得た。
【0026】m.p.155〜156℃
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柏 真理子 東京都豊島区高田3丁目24番1号 大正製 薬株式会社内 (72)発明者 畑山 勝男 東京都豊島区高田3丁目24番1号 大正製 薬株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】式 (式中、Rは炭素原子数3〜8個のシクロアルキル基を
表す。)で示される6―クロロ―2―シクロアルキルオ
キシ―3―ニトロピリジンをパラジウム―炭素触媒存在
下、加圧および/または加熱条件により接触還元を行
い、式 (式中、Rは前記と同意義である。)で示される3−ア
ミノ―2―シクロアルキルオキシピリジンを得ることを
特徴とする3−アミノ―2―シクロアルキルオキシピリ
ジンの製造方法。 - 【請求項2】式 (式中、Rは炭素原子数3〜8個のシクロアルキル基を
表す。)で示される6―クロロ―2―シクロアルキルオ
キシ―3―ニトロピリジンをヒドラジンおよびパラジウ
ム―炭素触媒存在下接触還元を行うことにより、式 (式中、Rは前記と同意義である。)で示される3−ア
ミノ―2―シクロアルキルオキシピリジンを得ることを
特徴とする3−アミノ―2―シクロアルキルオキシピリ
ジンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4120947A JPH05310698A (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | 3−アミノ―2―シクロアルキルオキシピリジンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4120947A JPH05310698A (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | 3−アミノ―2―シクロアルキルオキシピリジンの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05310698A true JPH05310698A (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=14798912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4120947A Pending JPH05310698A (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | 3−アミノ―2―シクロアルキルオキシピリジンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05310698A (ja) |
-
1992
- 1992-05-14 JP JP4120947A patent/JPH05310698A/ja active Pending
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