JPH05121294A - 力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置 - Google Patents

力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置

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JPH05121294A
JPH05121294A JP4081687A JP8168792A JPH05121294A JP H05121294 A JPH05121294 A JP H05121294A JP 4081687 A JP4081687 A JP 4081687A JP 8168792 A JP8168792 A JP 8168792A JP H05121294 A JPH05121294 A JP H05121294A
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optical lithographic
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 駆動力と位置決め装置によって、マシンフレ
ームが底面に対して搖れて精度に悪影響を及ぼすと言う
欠点を可能な限り除去した光リソグラフ装置。 【構成】 垂直光学主軸13を有するレンズシステム11に
固定されているマシンフレームを有する光学リソグラフ
装置。位置決め装置35は支持部材３に固定されていて、
ガイド面５に渡ってレンズシステム11に対してオブジェ
クトテーブル27の変移が可能となる。またフィードフォ
ワード制御システムによって制御される力アクチュエー
タシステム67が設けられている。力アクチュエータシス
テム67は、位置決め装置35により支持部材３に同時に発
生する反力の方向と反対の方向でかつ当該反力の値に実
質上等しい値で支持部材３に補償力を発生させる。制御
システムは更に加速度の負帰還を有し、これにより支持
部材３の加速度により決まる制御力を発生させ望ましく
ない動きが防止される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ｚ方向に平行な垂直光
学主軸を有しかつこの光リソグラフ装置のマシンフレー
ムに固定されているレンズ系と、前記レンズ系の下に位
置しかつ前記位置決め装置に結合されている支持部材の
前記ｚ方向に垂直に延在しているガイド面に渡って前記
レンズ系に対してオブジェクトテーブルの変移を可能と
する位置決め装置とを有する光リソグラフ装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】この第一パラグラフで述べたような光リ
ソグラフ装置は米国特許第4,737,823号により知られて
いる。この既知の光リソグラフ装置の場合、支持部材は
この装置のマシンフレームのベースとなる長方形の花崗
岩スラブである。ｚ方向に延在するマシンフレームの4
本の柱は、花崗岩スラブの上面が形成するガイド面に固
定されている。このレンズ系は花崗岩スラブよりある距
離上にある水平マウント板により4本の柱に固定されて
いる。花崗岩スラブの下面には各々スプリング部材とダ
ンピング部材を備えた下側フレーム支持体が設けられて
いる。この既知の光リソグラフ装置のマシンフレーム
は、この装置が下側フレーム支持体により位置決めされ
ている底面に対してｚ方向に平行な方向とｚ方向を横切
る方向とに振動数の低いスプリングでマウントされてい
て、マシンフレームと下側フレーム支持体とにより形成
されているマススプリング系は2〜4Hzの機械的固有振動
数を有している。下側フレーム支持体の使用により底面
の不必要な振動数の高い振動が下側フレーム支持体を介
してマシンフレームに伝達されることが防止される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この既知の光リソグラ
フ装置の欠点は、マシンフレームと下側フレーム支持体
によって形成されるマススプリング系の機械的固有振動
数が、動作中位置決め装置によって与えられる交互の駆
動力のもとでオブジェクトテーブルにより実行される階
段状の移動の周波数よりも低い点である。駆動力及び位
置決め装置によってマシンフレームに与えられる交互反
力により、マシンフレームが底面に対して搖れてしま
い、これが光リソグラフ装置の精度に悪影響を及ぼす。
【０００４】本発明の目的は前述した欠点を可能な限り
除去した光リソグラフ装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明の光リソ
グラフ装置がこの目的に対して特徴とする点は、前記装
置の参照フレームに固定されていてかつフィードフォワ
ード制御システムによって制御される力アクチュエータ
システムが、前記装置に設けられていて、動作中前記力
アクチュエータシステムが前記位置決め装置により前記
支持部材に同時に発生する反力の方向と反対の方向でか
つ当該反力の値に実質上等しい値で前記マシンフレーム
に補償力を発生させる点である。位置決め装置が支持部
材に与える反力によるマシンフレームの動きは当該力ア
クチュエータシステムの使用により出来る限り阻止され
る。参照フレームはこの装置が載置される底面に対して
固定された位置に配置されている。補償力の値に関して
使用される用語「実質的に」は、装置の機械的及び電気
的部品の両方における許容度の結果として補償力と反力
との間に現実に発生する差を考慮する時に使用される。
用語「等しい」は、以後この関連で使用される時は常に
上述した意味「実質的に等しい」を意味するものと解さ
れるべきである。前記支持部材が前記マシンフレームの
ベースを形成しかつ前記補償力が実際的でかつ実効的な
位置で前記マシンフレームに与えられる本発明の前記光
リソグラフ装置の特別な実施例が特徴とする点は、前記
力アクチュエータシステムが前記支持部材に補償力を発
生させる点である。
【０００６】前記レンズ系が前記マシンフレームに属す
るマウント部材に底面の近くで固定されていてかつ前記
補償力が前記マシンフレームに与えられ、これが実際上
かつ実質上の位置において前記ｚ方向で見てコンパクト
な構成になっている本発明の前記光リソグラフ装置の別
の実施例が特徴とする点は、前記力アクチュエータシス
テムが前記マウント部材から吊されている、前記位置決
め装置と前記支持部材とが一体に設けられているキャリ
アに補償力を与える点である。
【０００７】前記マシンフレームに対して前記参照フレ
ームのコンパクトな配置を与える本発明の前記光リソグ
ラフ装置の更に別の実施例が特徴とする点は、前記参照
フレームが、前記マウント部材が下側のフレーム支持体
によって固定されている前記光リソグラフ装置のベース
によって形成されている点である。
【０００８】前記制御システムの大きなバンド幅と安定
でかつ正確な動作を与える本発明の前記光リソグラフ装
置の特別な実施例が特徴とする点は、前記制御システム
が加速度の負帰還を有し、前記力アクチュエータシステ
ムが、加速度トランスデューサによって測定される前記
マシンフレームの加速度によって決定される値と方向を
有する制御力を前記マシンフレームに与える点である。
加えて加速度の負帰還の使用により、オブジェクトテー
ブルに位置決め装置によって与えられる、例えばハンド
リング力のような駆動力以外の力によって発生するマシ
ンフレームの動きを防止することが可能である。
【０００９】本発明の前記光リソグラフ装置の別の実施
例が特徴とする点は、前記力アクチュエータシステム
が、前記光学主軸に垂直な前記位置決め装置の第一変移
方向と平行に各々動作する第一及び第二力アクチュエー
タと、前記第一変移方向に垂直でかつ前記光学主軸に垂
直な前記位置決め装置の第二変移方向に平行に動作する
第三力アクチュエータとを有している点である。３個の
力アクチュエータを備えたこのような力アクチュエータ
システムの使用により、位置決め装置の２個の変移方向
内でマシンフレームの望ましくない動きが防止されるの
みならず光学主軸に平行である回転軸についてのマシン
フレームの不必要な回転も防止される。
【００１０】前記力アクチュエータシステムの単純な構
成を提供する本発明の前記光リソグラフ装置の別の実施
例が特徴とする点は、前記力アクチュエータの各々に前
記参照フレームに固定されている電気モータが設けられ
ていてかつ関連する変移方向に平行に延在する結合ロッ
ドが設けられていて、第一ロッドの端が前記電気モータ
の出力シャフトに偏芯的にピボット支持されていてかつ
第二ロッドの端が前記マシンフレームにピボット支持さ
れている点である。
【００１１】機械的摩耗が無い頑強な力アクチュエータ
システムを提供する本発明の前記光リソグラフ装置の特
別な実施例が特徴とする点は、前記力アクチュエータシ
ステムが磁気フラックス密度センサを有する少なくとも
１個の電磁石を有し、前記電磁石が発生する力を制御す
る事が出来る電子制御回路の電気入力端に前記磁気フラ
ックス密度センサの電気出力端が接続されている点であ
る。更にこのような力アクチュエータシステムの使用に
より、不必要な機械的な振動が参照フレームを介してマ
シンフレームに伝達されることが防止される。
【００１２】本発明の光リソグラフ装置の別の実施例が
特徴とする点は、前記制御回路にその入力信号が前記制
御回路の入力信号によって形成されかつ前記電磁石によ
って与えられる所望の電磁力によって決定される値を有
している電子平方根エクストラクタが設けられている点
である。電子平方根エクストラクタの使用により電磁石
は線形力アクチュエータを形成し、電磁石によって与え
られる電磁力は制御回路の入力信号に比例する値を有す
る様になる。
【００１３】本発明の前記光リソグラフ装置の別の実施
例が特徴とする点は、前記力アクチュエータシステムが
前記光学主軸に垂直な面内で前記装置の参照フレームに
対して三角形に固定されている３個の電磁石を有し、前
記電磁石の各々が前記力アクチュエータシステムの他の
２個の電磁石がアクティブである方向から120゜回転し
ている方向にアクティブである点である。３個の当該力
アクチュエータの使用により単純な構成の力アクチュエ
ータシステムが得られ、これにより位置決め装置の２個
の互いに垂直な変移方向のマシンフレームの望ましくな
い動きが阻止される。
【００１４】
【実施例】本発明を添付の図面を参照してより詳細に説
明する。
【００１５】図1〜図3に示す光リソグラフ装置の第一実
施例には、長方形の花崗岩スラブとして構成されている
支持部材3を有するマシンフレーム1が設けられている。
この支持部材3は図1及び図2に示される垂直ｚ方向に垂
直に延在する上側面5を有している。マシンフレーム1の
4本の柱7は、各々ｚ方向に平行に上側面5に固定されて
いる。図1には2本の柱7しか示されていないが、図3には
4本の柱7の断面が示されている。支持体3からある距離
で柱7は、ｚ方向に横切って延在する長方形の板として
構成されているマウント部材9に固定されている。この
光リソグラフ装置には、更に図1及び図2で線図的にのみ
示されている、ｚ方向に一致する光学主軸13を有しかつ
下側でマウント部材9に固定されている光学レンズ系11
が設けられている。
【００１６】レンズ系11の上端近傍に於いて、光リソグ
ラフ装置にはマスク17をレンズ系11に対して位置決めし
支持するためのマスクマニュプレータ15が設けられてい
る。動作中、光源19からの光ビームは鏡21及び23によ
り、例えば集積回路のパターンを有するマスク17に誘導
され、かつ光リソグラフ装置のオブジェクトテーブル27
上に置かれている、例えば半導体基板25の様な基板上に
レンズ系11の手段によりフォーカスされる。この様にし
て当該パターンが半導体基板25上に縮小されて画像化さ
れる。オブジェクトテーブル27は、ｚ方向に垂直である
図1及び図3に示されるｘ方向と、ｚ方向とｘ方向とに垂
直なｙ方向とに変移可能である。半導体基板25はｘ方向
とｙ方向に平行に様々な照射位置にオブジェクトテーブ
ル27を階段状に変移させることにより全く同一の集積回
路に対応する数多くの位置で照射を行うことが出来る。
【００１７】図1に示されるように支持部材3には、光リ
ソグラフ装置が平坦なベース面に位置決めされる様に4
個のフレーム支持体31が下側面29に設けられている。図
1に2本の下側フレーム支持体31のみが示されている。光
リソグラフ装置は、ベース面に対してｚ方向に平行とｚ
方向を横切る方向とに下側フレーム支持部材31によって
低い振動数でスプリング支持されている。これらの支持
部材の各々には、図1においては詳細に示されていない
スプリング部材とダンピング部材が設けられていて、マ
シンフレーム1と下側フレーム31によって形成されるマ
ススプリング系は1〜ほぼ20Hzの間に6個の機械的固有振
動数を有している。このようにして光リソグラフ装置の
正確な動作に悪影響を与えるベース面の望ましくない高
い振動数の振動が、下側フレーム支持体31を介してマシ
ンフレーム1とレンズ系11とに伝達することが防止され
る。
【００１８】図2に示されるようにオブジェクトテーブ
ル27は、静的ガスベアリングが設けられているいわゆる
静的空気脚33により支持部材3の上側面5上に誘導され
る。オブジェクトテーブル27は、3個のリニア電気モー
タ37、39及び41を有する位置決め装置35により上側面5
に渡って移動可能である。図2に示されるようにリニア
モータ37は、ｘ方向に平行に延在するｘステータ43とオ
ブジェクトテーブル27をｘ方向に平行にｘステータ43に
沿って変移可能とするオブジェクトテーブル27に固定さ
れているｘトランスレータ45とを有している。リニアモ
ータ39と41は、ｘステータ43の第一端49に固定されてい
るｙトランスレータ51を有するｙ方向に平行に延在する
ｙステータ47と、ｘステータ43の第二端55に固定されて
いるｙトランスレータ57を有するｙ方向に平行に延在す
るｙステータ53とを各々有している。ｙステータ47と53
はマウントブロック59、61及びマウントブロック63、65
により各々支持部材3の上側面5に固定されている。オブ
ジェクトテーブル27は、ｙ方向に平行に変移可能でかつ
リニアモータ39及び41の手段によりｚ方向に平行に延在
する回転軸について非常に限定された角度回転可能であ
る。静的空気脚33と互いにＨ型に配置されているリニア
モータ37、39、41を有する位置決め装置35それ自身は、
米国特許第4,737,823号から知られている。
【００１９】動作中、前述したようにオブジェクトテー
ブル27は位置決め装置35によりｘ方向とｙ方向に階段状
に変移する。この階段状の変移は2Hz〜4Hzの振動数で行
われる。これにより、位置決め装置35のリニアモータ3
7、39、41は、マシンフレーム1の支持部材3にリニアモ
ータ37、39、41がオブジェクトテーブル27に与える駆動
力に対向する低振動数の反力を発生させる。前述したよ
うに光リソグラフ装置は、下側フレーム31によりベース
面に対して振動数の低いスプリングで支持されているの
で、当該反力は新たな手段が講じられない限り、下側フ
レーム支持体31にマシンフレーム1の振動数の低い正し
くダンプされていない搖れを発生させる。マシンフレー
ム1のこのような動きは位置決め装置30の精度に悪影響
を与える。
【００２０】図1〜図3の光リソグラフ装置の場合、前述
したマシンフレーム1の搖れは、図2と図3に線図的に示
されている力アクチュエータシステム67の使用により防
止出来る。力アクチュエータシステム67には、各々ｘ方
向に平行に動作する第一及び第二力アクチュエータ69及
び71とｙ方向に動作する第三の力アクチュエータ73とが
設けられている。図2が示すように力アクチュエータ6
9、71、73の各々には、ｚ方向に平行に延在しかつ一端
の近くでトランクアーム79が設けられているアウトプッ
トシャフト77を有するブラッシュレス電気サーボモータ
75が設けられている。第一及び第二力アクチュエータ69
及び71のクランクアーム79はｙ方向に平行に向けられて
いて、第三の力アクチュエータ73のクランクアーム79は
ｘ方向に平行に向けられている。サーボモータ75は、ベ
ース面に対して固定された位置を占める参照フレーム83
の一部分を形成するマウントブロック81に各々固定され
ている。更に第一及び第二力アクチュエータ69及び71に
は各々ｘ方向に平行に延在する結合ロッド85が設けられ
ていて、第三の力アクチュエータ73には実質上ｙ方向に
延在する結合ロッド87が設けられている。結合ロッド8
5、87の各々の第一端89は支持部材3にピボット支持され
ていて、結合ロッド85、87の各々の第二端91はヒンジピ
ン93にピボット支持されていて、これはアウトプットシ
ャフト77に対して偏芯させて対応するサーボモータ75の
クランクアーム79に固定されている。
【００２１】動作中、力アクチュエータ69、71、73を有
する力アクチュエータシステム67は、図3に線図的に示
されているフィードフォワード制御システム95によりそ
の値と方向が制御されている補償力を支持部材3上に発
生させる。制御システム95には入力信号uxset及びｕ
yset（電圧信号）を有する第一電子コントローラ97が設
けられている。これらの値がｘ及びｙ方向でレンズ系11
に対しオブジェクトテーブル27の所望の変移の値に比例
していてかつ（図3に示されていない）装置のリソグラ
フ工程を制御する装置のコンピュータシステムにより供
給される信号ｕxset及びｕys etは、各々動作中増幅ユニ
ット101、増幅ユニット103及び増幅ユニット105を介し
て位置決め装置35のリニアモータ37、39及び41を制御す
る電子制御ユニット99に対する入力信号をも形成する。
ｘ方向とｙ方向におけるレンズ系11に対するオブジェク
トテーブル27の実際の変移を測定し、かつ制御ユニット
101にこれをフィードバックさせるトランスデューサシ
ステムは、単純化のために図3には表示されていない。
【００２２】第一コントローラ97は、入力信号ｕxset及
びｕysetから、連続的にｘ方向及びｙ方向に平行なオブ
ジェクトテーブル27の各々の加速度の値、当該加速度か
ら生じかつ位置決め装置35により支持部材3に与えられ
るｘ方向及びｙ方向に平行な各々の反力Ｆrx及びＦryの
値、及び反力Ｆrx及びＦryが発生させる光学主軸13につ
いての機械モーメントＭrxyの値を計算する。第一コン
トローラ97の第一及び第二出力信号ｕc1及びｕc2（電圧
信号）は、各々ｘ方向に比例する第一力アクチュエータ
69により供給される補償力Ｆc1に比例する値及び第二力
アクチュエータ71により供給される補償力Ｆc2に比例す
る値第一コントローラ97の第三出力信号ｕc3（電圧信
号）はｙ方向の第三力アクチュエータ73によって供給さ
れる補償力Ｆc3に比例する値を有している。出力信号ｕ
c1及びｕc2の値は、補償力Ｆc1及びＦc2の合計が反力Ｆ
rxに値が同じで方向が反対でかつ補償力Ｆc1及びＦc2が
発生させる光学主軸13についての機械モーメントＭcxy
が機械モーメントＭrxyの値と等しくかつ方向が反対と
なるような値である。出力信号ｕc3の値は、補償力Ｆc3
が反力Ｆryに値が等しくかつ方向が反対となるような値
である。補償力Ｆc3は光学主軸13を通る面内で動作しか
つ光学主軸13については何等の機械モーメントを発生さ
せないことに注意すべきである。このようにしてフィー
ドフォワード制御システム95により制御される力アクチ
ュエータシステム67により、支持部材3とマシンフレー
ム1が位置決め装置35のリニアモータ37、39、41によっ
て支持部材3に与えられる反力の影響により不必要な動
きをすることが防止される。
【００２３】図3に示されるように制御システム95は、
入力信号ｕa1、ｕa2及びｕa3（電圧信号）を有する第二
電子コントローラ109が設けられている負帰還107を更に
有している。入力信号ｕa1及びｕa2は、各々第一加速度
トランスデューサ111及び第二加速度トランスデューサ1
13から導出され、かつ当該加速度トランスデューサ11
1、113によって測定されるｘ方向に平行な方向に於ける
支持部材3の絶対加速度に比例する値を各々有してい
る。入力信号ｕa3は、第三加速度トランスデューサ115
から導出され、そして加速度トランスデューサ115によ
って測定されるｙ方向の支持部材3の絶対加速度に比例
する値を有している。第二コントローラ109は、入力信
号ｕa1、ｕa2、ｕa3からｘ方向及びｙ方向の支持部材3
の加速度及び光学主軸13についての支持部材3の角加速
度を計算する。第二コントローラ109の第一及び第二出
力信号ｕr1及びｕr2（電圧信号）は、両方ともｘ方向に
向いている、各々第一力アクチュエータ69によって供給
される制御力Ｆr1及び第二力アクチュエータ71によって
供給される制御力Ｆr2に比例する値を有し、一方第二コ
ントローラ109の第三出力信号ｕr3（電圧信号）はｙ方
向の第三力アクチュエータ73によって供給される制御力
Ｆr3に比例する値を有している。出力信号ｕr1、ｕr2、
ｕr3の値は、加速度トランスデューサ111、113、115に
よって測定されるｘ方向及びｙ方向の支持部材3の加速
度と光学主軸13についての支持部材3の測定された角加
速度とが、制御力Ｆr1、Ｆr2及びＦr3の影響のもとにダ
ンプされる様な値である。負帰還107の使用により、例
えば上述した位置決め装置35のハンドリング力のような
反力以外の力の影響またはベース面の振動数の低い振動
の影響のもとに発生する支持部材3とマシンフレーム1の
ｘ方向及びｙ方向に平行な不必要な動きや振動が防止さ
れる。図3に更に示されるように制御システム95には出
力信号ｕs1の第一総和回路117が設けられていて、出力
信号ｕsiその値は信号ｕc1及びｕr1の合計に等しくかつ
増幅器ユニット119によって第一力アクチュエータ67を
流れる電流ｉ1に増幅される。制御システム95の第二及
び第三加算回路121及び123の各出力信号ｕs2及びｕ
s3は、合計ｕc2＋ｕr2及びｕc3＋ｕr3に等しい。信号ｕ
s2及びｕs3は、増幅器ユニット125と127により第二力ア
クチュエータ71を流れる電流ｉ2と第三力アクチュエー
タ73を流れる電流ｉ3とに各々増幅される。総和回路11
7、121、123の使用により、力アクチュエータ69、71、7
3の各々が、補償力Ｆc1、Ｆc2、Ｆc3と各々の力アクチ
ュエータ69、71、73が発生する制御力Ｆr1、Ｆr2、Ｆr3
との総和に等しい力を支持部材3に発生させる事が可能
となる。
【００２４】図4〜図8は本発明の光リソグラフ装置の第
二実施例を示している。図1〜図3に示される光リソグラ
フ装置の第一実施例に対応する部品には同一の参照番号
が付されている。この光リソグラフ装置の第二実施例に
は、ｚ方向に一致する光学主軸13を有しかつ下側でマウ
ント部材9に固定されている光学レンズ系11が設けられ
ている。装置のマシンフレーム1の部分を形成するマウ
ント部材9は、ｚ方向に垂直な面内に延在する三角形の
板として構成されている。この装置には、レンズ系11の
上端の近傍で、例えば半導体集積回路のパターンを有す
るマスク17に対するマスクマニュプレータ15、光源19、
及び2個の鏡21及び23が設けられている。第一実施例の
装置と同様に第二実施例の装置にも更に、例えば半導体
基板25のような基板を置くことが出来るオブジェクトテ
ーブル27が設けられている。オブジェクトテーブル27は
ｚ方向に垂直なｘ方向と、ｚ方向とｘ方向とに垂直であ
るｙ方向とに平行に階段状に変移可能であるので、数多
くの照射位置での半導体基板25に対する照射が可能とな
る。
【００２５】三角形のマウント部材9には、各々が下側
フレーム支持体31に載置されている3個のコーナー部分1
29が設けられている。図4には2個のコーナー部分129と2
個の下側フレーム支持体31のみが示されている。下側フ
レーム支持体31は、マシンフレーム1のベース131に位置
決めされていて、そのベースは調整部材133によって平
坦な基台に位置決めされている。この装置は、ｚ方向に
平行な方向とｚ方向に横切る方向に、図4には詳細には
説明されていない各々にスプリング部材とダンピング部
材が設けられている下側フレーム支持体31によって基台
に対して低周波数でスプリング支持されているので、下
側フレーム支持体31を介してマウント部材9とレンズ系1
1に基板の不必要な高い振動数の振動が伝わることが防
止される。
【００２６】図1〜図3の光リソグラフ装置における場合
と同様に、図4〜図8の装置のオブジェクトテーブル27
は、長方形花崗岩スラブとして構成されている支持部材
3の上側面5に示されかつ静的ガスベアリングが設けられ
ている静的空気脚33により誘導される。オブジェクトテ
ーブル27は、既に前述した米国特許第4,737,823号によ
り公知でありかつＨ型に互いに位置決めされているリニ
アモータ37、39及び41が設けられている位置決め装置35
により上側面5に渡って変移可能で、図5に示されるよう
にリニアモータ39と41は支持部材3の上側面でそのコー
ナーの近くに固定されている位置決め装置35のフレーム
135に固定されている。オブジェクトテーブル27はリニ
アモータ37によってｘ方向に平行に変移可能であり、オ
ブジェクトテーブル27はリニアモータ39及び41によりｙ
方向に平行に変移可能でかつｚ方向に平行な回転軸につ
いて非常に限られた角度回転可能である。
【００２７】図4及び図5に示されるように第二実施例の
光リソグラフ装置内の支持部材3と位置決め装置35は、
マシンフレーム1のキャリア139に設けられているユニッ
ト137を構成している。図6は、キャリア139がｚ方向に
垂直に延在しかつ2個の下側フレームキャリア31の間に
各々が延在する実質上長方形の板によって形成されてい
ることを示す。支持部材3は、図6において線図的にのみ
に示されている3個の締め付け部品143によりキャリア13
9の上側面145に固定されている。キャリア139は、3個の
板状スチールサスペンション部品147、149及び151によ
り図4に示されているマウント部材9の下側面153から吊
り下げられている。図4に於いてはサスペンション部品1
49と151のみが部分的に示されているが、図6はサスペン
ション部品147、149及び151の断面を示している。サス
ペンション部品147、149及び151は各々ｚ方向に平行な
互いに60゜の角度をなす垂直面に延在する板により形成
されている。サスペンション部品147、149及び151の使
用によりマウント部材9からキャリア139の吊り下げられ
た構成が得られ、これにより支持部材3と位置決め装置3
5により形成されるユニットが下側フレーム支持体31の
間に位置決めされる。この様にしてｚ方向でもｚ方向に
垂直な方向で見てもコンパクトで堅固な構成の光リソグ
ラフ装置が得られる。
【００２８】ｘ方向とｙ方向とに平行な方向にオブジェ
クトテーブル27を階段状に変移させることは、図1に示
した装置の場合と同様に図4に示した装置に於いても振
動数2Hz〜4Hzで行われる。この時位置決め装置35のリニ
アモータ37、39及び41は、支持部材3を介してマシンフ
レーム1のキャリア139に、リニアモータ37、39及び41が
オブジェクトテーブル27に与える駆動力に対して反対向
きの低振動数の反力を発生させる。図4〜図8に示された
光リソグラフ装置の場合当該反力から生ずるマシンフレ
ーム1の望ましくない動きは、図6に線図的に示される力
アクチュエータ155の使用により防止される。力アクチ
ュエータシステム155には、各々3個の下側フレーム支持
体31の一つの下にマシンフレーム1のベース131に固定さ
れている3個の電磁石157、159及び161が設けられてい
る。調整部材133の手段により基台に対し固定された位
置にセットされるベース131は、この様にして力アクチ
ュエータシステム155を固定するための装置の参照フレ
ームとなる。図6に示されるように電磁石159はｘ方向に
作動し、電磁石157と161は各々光学主軸13を横切る水平
面内に存在し、かつｘ方向に対して120゜回転した位置
にある方向に各々作動する。動作中電磁石157、159及び
161は、光学主軸13から離れた各サスペンション部品14
7、149、151の一面に引き付ける電磁力を発生させる。
電磁石157、159、161と各サスペンション部品147、14
9、151との間の空気間隙のサイズは、ほぼ1mmである。
図6から明らかであるように、電磁石157、159及び161に
よってキャリア139に与えられる力の合計は常に光学主
軸13を通る面内で作動するので、ｘ方向の補償力Ｆcxと
ｙ方向の補償力Ｆcyは力アクチュエータシステム155に
より与えられ、その光学主軸13についての機械的モーメ
ントを常に0に等しくかつ光学主軸13についてのマシン
フレーム1の望ましくない回転の動きを阻止させること
が出来る。
【００２９】力アクチュエータシステム155によりキャ
リア139に与えられる補償力Ｆcx及びＦcyの値と方向
は、図6に線図的に示されるフィードフォワード制御シ
ステム165により制御される。制御システム165には入力
信号ｕxset及びｕyset（電圧信号）を有する電子コント
ローラ167が設けられている。それらの値がｘ方向とｙ
方向の支持部材3に渡ってオブジェクトテーブル27の所
望の変移の程度に比例している信号ｕxset及びｕ
ysetは、図6に示される装置のリソグラフ工程を制御す
るコンピュータシステムにより供給され、かつ同時にこ
れは動作中各々増幅器ユニット171、173及び175（図6参
照）を介して位置決め装置35のリニアモータ37、39及び
41を制御する電子制御ユニット169に対する入力信号を
各々形成する。ｘ方向とｙ方向のレンズ系11に対するオ
ブジェクトテーブル27の実際の変移を測定するトランス
デューサシステムは、簡単化のため図6には示されてい
ない。
【００３０】電子コントローラ167は、入力信号ｕxset
及びｕysetから各々ｘ方向とｙ方向のオブジェクトテー
ブル27の加速度の値を計算し、そして当該加速度により
決められかつ支持部材3を介して位置決め装置35により
キャリア139に各々与えられるｘ方向及びｙ方向に平行
な反力Ｆrx及びＦryの値を計算する。コントローラ167
の第一及び第二出力信号ｕfx+及びｕfx-（電圧信号）
は、力アクチュエータシステム155により各々正及び負
のｘ方向に供給される反力Ｆrxと同じ値でかつ向きが反
対の補償力Ｆcxに比例する値を有している。コントロー
ラ167の第三及び第四出力信号ｕfy+及びｕfy-は、力ア
クチュエータシステム155により供給される各々正及び
負のｙ方向の、反力Ｆryと同じ値で向きが反対の補償力
Ｆcyに比例する値を有している。この様にしてフィード
フォワード制御システム165により制御される力アクチ
ュエータシステム155は、反力Ｆrx及びＦryから生じる
ｘ方向及びｙ方向に平行なマシンフレーム1の不必要な
動きのみを阻止する。
【００３１】図6に示されるように信号ｕfx+、ｕfx-、
ｕfy+及びｕfy-は、各々出力信号ｕf 1、ｕf2及びｕf3を
有する電子総和回路177に対する入力信号を形成する。
総和回路177は、信号ｕfx+、ｕfx-、ｕfy+及びｕfy-か
ら出発して各々電磁石157、159及び161によって与えら
れる電磁力Ｆem1、Ｆem2及びＦem3の値を計算する。こ
の時、出力信号ｕf1、ｕf2及びｕf3は当該電磁力に比例
する値を有している。
【００３２】図7のａは総和回路177の詳細を示し、図7
のｂは電磁力Ｆem1、Ｆem2及びＦem3に対する力のダイ
アグラムを示す。図7のｂから明らかなように、力Ｆem2
が0でかつ力Ｆem1及びＦem3が各々所望の力Ｆcx (+)に等
しい値を有している場合には、正のｘ方向の補償力Ｆcx
(+)は力Ｆem1とＦem3の重畳によって得られ、それ故図7
のａに示される総和回路177に於いて入力信号ｕfx+は、
ブランチ179を介して出力信号として信号ｕf1を有して
いる加算器181に与えられ、かつブランチ183を介して出
力信号として信号ｕf3を有する加算器185に与えられ
る。図7のｂから、力Ｆem 1と力Ｆem3が0の場合負のｘ方
向の補償力Ｆcx (-)は力Ｆem2により得られることも明ら
かである。それ故総和回路177（図7のａ参照）の場合、
入力信号ｕ fx-は出力信号として信号ｕf2を有している
加算器187にのみに与えられる。力Ｆem3が0の場合正の
ｙ方向の補償力Ｆcy (+)は、力Ｆem1とＦem2との重畳に
より得られ、そして力Ｆem1とＦem2は所望の力Ｆcy (+)
より各々ファクタ2／√3及び1／√3だけ大きい。従っ
て、総和回路177の場合入力信号ｕfy+は、ブランチ189
を介して加算器181に、かつブランチ191を介して加算器
187に加えられる。ブランチ189は信号ｕfy+にファクタ2
／√3を乗算する増幅器193を有し、ブランチ191は信号
ｕfy+にファクタ1／√3を乗算する増幅器195を有してい
る。最後に図7のｂは、力Ｆem1が0の場合負のｙ方向の
補償力Ｆcy (-)は力Ｆem2とＦem3の重畳によって得ら
れ、かつ力Ｆem2とＦem3は所望の力Ｆcy (-)より各々フ
ァクタ1／√3及びファクタ2／√3よりも大きい事を示し
ている。従って、総和回路177の入力信号ｕfy-はブラン
チ197を介して加算器187にかつブランチ199を介して加
算器185に与えられる。ブランチ197はｕfy-にファクタ1
／√3を乗算する増幅器201を有し、かつブランチ199は
信号ｕf y-にファクタ2／√3を乗算する増幅器203を有し
ている。
【００３３】電磁石157、159及び161の各々によって得
られる電磁力の値は、当該電磁石157、159、161を流れ
る電流の値の2乗に比例しかつ空気間隙163のサイズの2
乗に反比例するものと考えられる。もし空気間隙163の
サイズがベース131に対するキャリア139の小さな動きに
より変化する場合には、電磁力の値は別の手段が採用さ
れない限り変化するであろう。従って、電磁石157、159
及び161の各々が制御システム165のコントローラ167に
よりその値が決まる力をベース131に与える様に、電磁
石157、159及び161を力アクチュエータとして使用する
事は、電磁石157、159及び161を流れる電流が制御され
ている場合にのみ可能である。図6に示されるように制
御システム165には、この目的のために、電磁石157、15
9及び161の電圧ｕ1、ｕ2及びｕ3の各々を制御する3個の
同一の電子制御回路205、207及び209が設けられてい
る。制御回路205、207及び209は、それらの入力信号に
対し各々信号ｕf1、ｕf 2及びｕf3を有している。制御回
路205、207及び209の別の入力信号が各々信号ｕmf1、ｕ
mf2及びｕmf3（電圧信号）によって形成される。これら
の信号は、図8に示すように電磁石157の磁気フラックス
密度トランスデューサ211の出力信号であり、電磁石159
の磁気フラックス密度トランスデューサ213及び電磁石1
61の磁気フラックス密度トランスデューサ215の出力信
号である。制御回路205の出力信号ｕu1（電圧信号）
は、電磁石157の電流ｉ1を決定する電圧ｕ1にまで増幅
器ユニット217によって増幅される。同様に制御回路207
の出力信号ｕu2は増幅器ユニット219により電磁石159の
電流ｉ2を決定する電圧ｕ2にまで増幅され、制御回路20
9の出力信号ｕu3は増幅器ユニット221により電磁石161
の電流ｉ3を決定する電圧ｕ3にまで増幅される。
【００３４】図8は電磁石157の電子制御回路205を示
す。制御回路207および209も同様に構成されている。図
8が示すように電磁石157によって与えられる力Ｆem1に
比例する値を有する制御回路205の入力信号ｕf1は、電
子平方根エクストラクタ223に与えられる。この平方根
エクストラクタ223の出力信号ｕsqr（電圧信号）は信号
ｕf1の平方根に等しい値を有している。
【数１】ｕsqr＝√ｕf1 平方根エクストラクタ223の電子出力は、出力信号ｕ
hdf1を有する第一電子ハイパスフィルタ225の電子入力
端に接続されている。制御回路205の第一ハイパスフィ
ルタ225の機能を以下に詳細に説明する。
【００３５】図8に示されるように信号ｕhdf1は、コン
パレータ227の第一電気入力端に与えられる。コンパレ
ータ227の第二電気入力端は、負帰還ライン229を介して
電磁石157の二次電気コイルによって形成される磁気フ
ラックス密度トランスデューサ211の電気出力端に接続
される。フラックス密度トランスデューサ211の出力信
号ｕmf1（電圧信号）は二次コイル内の電磁石157の電磁
フィールドによって生じた電圧によって決定されそして
その値は電磁石157の空気間隙163内の磁気フラックス密
度Ｂm1の値の変化に比例するとみなされる。
【数２】ｕmf1＝Ｃtransducer・（δＢm1／δｔ） この式でＣtransducerは、例えば二次電気コイルの巻数
の数のようなフラックス密度トランスデューサ211の多
くの特性値によって決定される定数である。空気間隙16
3内の磁気フラックス密度Ｂm1は電磁石157の電流ｉ1の
値に比例し、かつ空気間隙163のサイズに反比例するも
のと考えられるので、電磁石157によって与えられる力
Ｆem1は磁気フラックス密度Ｂm1の値の2乗に比例する。
【数３】Ｂm1＝Ｃmagnet1・（ｉ1／ｈ1）
【数４】Ｆem1＝Ｃmagnet2・（Ｂm1）2
【数５】Ｂm1＝√（Ｆem1／Ｃmagnet2） これらの式に於いて、Ｃmagnet1及びＣmagnet2は、例え
ば電磁石157の巻数の数及び電磁石157に使用される磁気
鉄の透磁率のような電磁石157の数多くの特性値によっ
て決定される定数である。更にｈ1は図8に示されるよう
に空気間隙163のサイズである。
【００３６】図8は又、負帰還ライン229が、電子インテ
グレータ231を有していることを示し、これによりフラ
ックス密度トランスデューサ211の出力信号ｕmf1が、そ
の値が磁気フラックス密度Ｂm1に比例する信号ｕb1に積
分される。従ってコンパレータ227の入力信号ｕb1は、
その値がフラックス密度Ｂm1の特定された値に比例する
信号であり、一方その値が所望の力Ｆem1の平方根に等
しい入力信号ｕhdf1はフラックス密度Ｂm1の所望の値に
比例している。コンパレータ227の出力信号ｕcomはコン
パレータ227の2個の入力信号の差ｕhdf1−ｕb1に等し
い。
【００３７】前述したように信号ｕmf1は電子インテグ
レータ231により信号ｕb1に積分される。このようなイ
ンテグレータの積分機能は理想的には行かず有限時間間
隔のみで行われる。その結果、特に非常に低周波数（10
-4Hzより小）の入力信号ｕmf1においては出力信号ｕb1
の不正確さが発生し、これは制御回路205の不正確な動
作を導く。制御回路205のこの様な不正確な動作を防止
するために、制御回路205には入力信号ｕf1の非常に低
い周波数の成分をフィルタ除去する前述の第一ハイパス
フィルタ225と、それの電気入力端がコンパレータ227の
出力端に接続されていて、かつそれにより出力信号ｕ
comの非常に低い周波数成分をフィルタ除去する出力信
号がｕhdf2の第二ハイパスフィルタ233とが設けられて
いる。
【００３８】図8に示されるように出力信号ｕhdf2は、
比例制御アクション（増幅率Ｋp＝100のオーダ）を有す
る電子コントローラ235に与えられる。コントローラ235
の出力信号ｕu1はＫp・ｕhdf2に等しい値を有しかつ図6
に制御回路205の出力信号として示されている。動作中
フラックス密度Ｂm1（信号ｕhdf1）の所望の値とフラッ
クス密度Ｂm1（信号ｕb1）の測定された値の間に差が生
じた場合、電磁石157の電圧ｕ1は、コントローラ235の
比例制御アクションによって空気間隙163の所望のフラ
ックス密度と測定されたフラックス密度とが実質上等し
くなるような平衡状態が形成される様な値とされる。電
磁石157によって与えられる力Ｆbm1の値はフラックス密
度Ｂm1の値の2乗に比例するので、平方根エクストラク
タ223の使用により力Ｆem1を制御回路205の入力信号ｕ
f1に比例する値とすることが可能となる。この様にして
制御回路205により制御される電磁石157は線形力アクチ
ュエータを構成する。電磁石の力はこの様にして空気間
隙163のサイズに依存しなくなるので、ベース131の機械
的な振動が電磁石157、159及び161を介してキャリア139
に伝達されることがなくなる。更に電磁石157、159及び
161の使用により機械的摩耗の無い力アクチュエータシ
ステム155が得られる。
【００３９】ｘ方向とｙ方向のマシンフレーム1の望ま
しくない動き及び主軸13についてのマシンフレーム1の
望ましくない回転の動きは、力アクチュエータシステム
67と図1〜図3に示されている光リソグラフ装置の第一実
施例の加速度トランスデューサ111、113及び115によっ
て阻止することが出来る。力アクチュエータと加速度ト
ランスデューサを数多く使用することにより、ｚ方向の
望ましくない動き及び／又はｘ方向又はｙ方向に平行な
回転軸についての回転の動きを阻止することが可能であ
る。この場合、適用された制御システムは力アクチュエ
ータシステムとして使用されなければならないであろ
う。
【００４０】力アクチュエータシステム155のみがｘ方
向とｙ方向とにマシンフレーム1に補償力を与え、この
力が、図4〜図8に図示されている光リソグラフ装置の第
二実施例の位置決め装置35によって当該方向にキャリア
139に与えられる反力に等しい値を有していることに注
意すべきである。制御システム165にキャリア139に固定
されている加速度トランスデューサから負帰還を与える
ことにより、上述した反力以外の力によって生ずる当該
方向内の望ましくない動きをも防止することが可能であ
る。更にマシンフレーム1の他の望ましくない動き、例
えば光学主軸13についての回転のような動きも、又、非
常に多くの電磁石の使用により第二実施例に於いて阻止
することも可能である。しかしながら現実的には装置の
精度は主にｘ及びｙ方向のレンズ系11に対するキャリア
139の望ましくない動きによって悪化することが発見さ
れた。電磁石157、159及び161を3個しか使用しない事に
よってコンパクトで簡単な力アクチュエータ155が得ら
れる。
【００４１】図1〜図3に示される光リソグラフ装置の第
一実施例において、力アクチュエータシステム67が、力
アクチュエータ69、71及び73の各々が当該方向で互いに
向いている一対の電磁石により、又は、例えば永久磁石
又は機械的なスプリングのようなプリテンショニング部
材と協動しかつ当該方向に1個の電磁石により置換され
ている電磁石を有する別の力アクチュエータシステムを
使用することも可能である点にも注意されたい。図4〜
図8に示される光リソグラフ装置の第二実施例に於て、
力アクチュエータシステム155の代わりに第一実施例で
使用されている力アクチュエータ69、71及び73に対応す
る3個の力アクチュエータが設けられている力アクチュ
エータシステムを使用することも可能である。この際結
合ロッド85は、各々、例えばキャリア139の主面141の一
面に平行に向けられている。
【００４２】磁気フラックス密度トランスデューサ211
に代えて、それ自身は公知のホールトランスデューサを
図8に示される制御回路205に使用することが可能である
ことにも注意されたい。その様なホールトランデューサ
の出力信号は磁気フラックス密度Bmに比例する値を有す
るので、ホールトランスデューサの使用によりインテグ
レータ231とハイパスフィルタ225と233を不要とする。
しかしながら多くの場合ホールトランデューサの使用は
マウント空間が必要となる点から不利である。
【００４３】上述した力アクチュエータシステム67、15
5は、基板上の各々の集積回路が部分的に示されている
光リソグラフ装置内においても使用することが可能であ
ることにも注意されたい。相対的にコンパクトなレンズ
系を有するこの様な光リソグラフ装置の場合は、レンズ
系はマシンフレームに固定されているが、位置決め装置
とマスクマニュプレータを有する支持部材はレンズ系と
マシンフレームに対して移動可能なキャリアに設けられ
ている。支持部材上の位置決め装置によって与えられる
反力は、その種の装置内のマシンフレームにキャリアを
介して伝達され、そしてオブジェクトテーブルに対する
レンズ系の望ましくない動きの原因となる。加えてその
様な装置の場合、オブジェクトテーブルに対するレンズ
系の望ましくない動きが、キャリアがマシンフレームに
対して変移する間に発生する。その様な望ましくない動
きは参照フレームに固定されていてかつマシンフレーム
に制御力又は補償力を与える力アクチュエータシステム
の使用により減少させることが出来る。
【００４４】上述した本発明の光リソグラフ装置の2個
の実施例は、集積化された電子回路の製造の間に半導体
基板を照射するのに特に適している。しかしながらこの
様な装置はマスクパターンがこの装置により基板上に画
像化されるようなマイクロメータの領域の微細な寸法を
有する構造を備えた、他の製造物の製造にも使用するこ
とが出来る。それらの例は、集積化された光学システ
ム、コンダクタ及び磁気ドメインメモリの検知パター
ン、及び液晶画像パターンの構造である。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の光リソグラフ装置の第一実施例を示
す。
【図２】 図1の第一実施例の一部の斜視図である。
【図３】 図1の線III−IIIについての第一実施例の断
面図を線図的に示す。
【図４】 本発明の光リソグラフ装置の第二実施例の斜
視図を示す。
【図５】 図4の第二実施例の位置決め装置と支持部材
によって形成されるユニットを示す。
【図６】 図4の第二実施例の断面図を線図的に示す。
【図７】 ａは図4の光リソグラフ装置の電子制御シス
テムの部品の加算回路を示し、ｂは図4の光リソグラフ
装置の力アクチュエーターシステムの力のダイアグラム
を示す。
【図８】 図4の光リソグラフ装置の電子制御システム
の部品の電子制御回路を示す。
【符号の説明】
1：マシンフレーム、 3：支持部材、 5：上側面、7：
柱、 9：マウント部材、11：レンズ系、13：光学主軸、
15：マスクマニュプレータ、17：マスク、19：光源、2
1、23：鏡、25：半導体基板、27：オブジェクトテーブ
ル、29：下側面、31：下側フレーム支持体、 33：静
的空気脚、35：位置決め装置、37、39、41：リニア電気
モータ、43：ｘステータ、45：ｘトランスレータ、47、
53：ｙステータ、49：ｘステータの第一端、55：ｘステ
ータの第二端、59、61、63、65：マウントブロック、6
7：力アクチュエータシステム、69：第一力アクチュエ
ータ、71：第二力アクチュエータ、73：第三力アクチュ
エータ、75：電気サーボモータ、77：アウトプットシャ
フト、79：クランクアーム、81：マウントブロック、
83：参照フレーム、85、87：結合ロッド、95：制御シ
ステム、 97：第一コントローラ、99：電子制御
ユニット、101、103、105：増幅ユニット、 107：負
帰還、109：第二電子コントローラ、111：第一加速度ト
ランスデューサ、113：第二加速度トランスデューサ、1
15：第三加速度トランスデューサ、131：ベース、133：
調整部材、 135：フレーム、137：ユニット、139：キャ
リア、143：締め付け部品、147、149、151：板状スチー
ルサスペンション、153：下側面、155：力アクチュエー
タシステム、 157、159、161：電磁石、163：空気間
隙、165：フィードフォワード制御システム、167：電子
コントローラ、169：電子制御ユニット、171、173、17
5：増幅器ユニット、177：総和回路、179、183、189、1
91、197、199：ブランチ、181、185、187：加算器、19
3、195、201、203：増幅器、 205、207、20
9：制御回路、211、213、215：磁気フラックス密度トラ
ンスデューサ、217、219、221：増幅器ユニット、223：
平方根エクストラクタ、225：第一電子ハイパスフィル
タ、227：コンパレータ、229：負帰還ライン、231：電
子インテグレータ、 233：第二ハイパスフィル
タ、235：電子コントローラ。
フロントページの続き (72)発明者 ゲラルド フアン エンゲレン オランダ国 アインドーフエン フルーネ ヴアウツウエツハ １ (72)発明者 ヘンドリクス ヘルマン マリー コクス オランダ国 アインドーフエン フルーネ ヴアウツウエツハ １ (72)発明者 ヘンリクス エルネスト ベークマン オランダ国 アインドーフエン フルーネ ヴアウツウエツハ １ (72)発明者 フランシスカス マテイス ヤコブス オランダ国 アインドーフエン フルーネ ヴアウツウエツハ １

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ｚ方向に平行な垂直光学主軸を有しかつ
    この光リソグラフ装置のマシンフレームに固定されてい
    るレンズ系と、前記レンズ系の下に位置しかつ前記位置
    決め装置に結合されている支持部材の前記ｚ方向に垂直
    に延在しているガイド面に渡って前記レンズ系に対して
    オブジェクトテーブルの変移を可能とする位置決め装置
    とを有する光リソグラフ装置において、前記装置の参照
    フレームに固定されていてかつフィードフォワード制御
    システムによって制御される力アクチュエータシステム
    が前記装置に設けられていて、動作中前記力アクチュエ
    ータシステムが、前記位置決め装置により前記支持部材
    に同時に発生する反力の方向と反対の方向でかつ当該反
    力の値に実質上等しい値で前記マシンフレームに補償力
    を発生させることを特徴とする光リソグラフ装置。
  2. 【請求項２】 前記力アクチュエータシステムが前記支
    持部材に前記補償力を発生させることを特徴とする前記
    支持部材が前記マシンフレームのベースを形成している
    請求項１に記載の光リソグラフ装置。
  3. 【請求項３】 前記力アクチュエータシステムが、前記
    マウント部材から吊されている、前記位置決め装置と前
    記支持部材とが一体に設けられているキャリアに補償力
    を与えることを特徴とする前記レンズ系が前記マシンフ
    レームに属するマウント部材に底面の近くで固定されて
    いる請求項１に記載の光リソグラフ装置。
  4. 【請求項４】 前記参照フレームが、前記マウント部材
    が下側のフレーム支持体によって固定されている前記光
    リソグラフ装置のベースによって形成されていることを
    特徴とする請求項３に記載の光リソグラフ装置。
  5. 【請求項５】 前記制御システムが加速度の負帰還を有
    し、前記力アクチュエータシステムが、加速度トランス
    デューサによって測定される前記マシンフレームの加速
    度によって決定される値と方向を有する制御力を前記マ
    シンフレームに与えることを特徴とする前記請求項の何
    れかに記載の光リソグラフ装置。
  6. 【請求項６】 前記力アクチュエータシステムが、前記
    光学主軸に垂直な前記位置決め装置の第一変移方向と平
    行に各々動作する第一及び第二力アクチュエータと、前
    記第一変移方向に垂直でかつ前記光学主軸に垂直な前記
    位置決め装置の第二変移方向に平行に動作する第三力ア
    クチュエータとを有していることを特徴とする前記請求
    項の何れかに記載の光リソグラフ装置。
  7. 【請求項７】 前記力アクチュエータの各々に前記参照
    フレームに固定されている電気モータが設けられていて
    かつ関連する変移方向に平行に延在する結合ロッドが設
    けられていて、第一ロッドの端が前記電気モータの出力
    シャフトに偏芯的にピボット支持されていてかつ第二ロ
    ッドの端が前記マシンフレームにピボット支持されてい
    ることを特徴とする請求項６に記載の光リソグラフ装
    置。
  8. 【請求項８】 前記力アクチュエータシステムが磁気フ
    ラックス密度センサを有する少なくとも１個の電磁石を
    有し、前記電磁石が発生する力を制御する事が出来る電
    子制御回路の電気入力端に前記磁気フラックス密度セン
    サの電気出力端が接続されていることを特徴とする請求
    項１、２、３、４または５に記載の光リソグラフ装置。
  9. 【請求項９】 前記制御回路に、その入力信号が前記制
    御回路の入力信号によって形成されかつ前記電磁石によ
    って与えられる所望の電磁力によって決定される値を有
    している電子平方根エクストラクタが設けられているこ
    とを特徴とする請求項８に記載の光リソグラフ装置。
  10. 【請求項１０】 前記力アクチュエータシステムが前記
    光学主軸に垂直な面内で前記装置の参照フレームに対し
    て三角形に固定されている３個の電磁石を有し、前記電
    磁石の各々が前記力アクチュエータシステムの他の２個
    の電磁石がアクティブである方向から120゜回転してい
    る方向にアクティブであることを特徴とする請求項８、
    ９に記載の光リソグラフ装置。
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