JP4323409B2 - 位置決めシステム及び位置決め方法 - Google Patents
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Description
制御電流に応答して第1方向に物体に力を加える第1アクチュエータであって、このアクチュエータがアクチュエータ・ゲインを有し、生成される力が制御電流及びアクチュエータ・ゲインの関数であり、このアクチュエータが、
磁界を誘起する磁石と、
前記磁界中のコイルとを備え、これらの磁石とコイルが相互に移動可能である第1アクチュエータと、
制御信号に応答してアクチュエータに制御電流を供給する電源と、
電源に制御信号を供給することによってアクチュエータが生成する力を制御する制御システムとを備え、制御信号がアクチュエータ・ゲインに適合され、このゲインが少なくとも1つのパラメータの関数としてあらかじめ決定される、目標位置に物体を移動させる位置決めシステムにおいて達成される。
放射投影ビームを提供する照明システムと、
投影ビームの横断面にパターンを付与する働きをするパターン化手段を支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
基板の目標部分にパターン化されたビームを投影する投影システムとを備えるリソグラフィ機器であって、本発明による少なくとも1つの位置決めシステム、具体的には、支持構造、又は基板テーブル、或いはその両方の動きを制御する位置決めシステムをさらに備えることを特徴とするリソグラフィ機器が提供される。
少なくとも1つのパラメータの関数として、アクチュエータのアクチュエータ・ゲインを決定するステップであって、このアクチュエータが、電源から供給された制御電流に応答して、第1方向に前記物体に力を加えるように適合され、この力が制御電流及びアクチュエータ・ゲインの関数であるステップと、
少なくとも1つのパラメータの値を決定するステップであって、この少なくとも1つのパラメータの関数としてアクチュエータ・ゲインがあらかじめ決定されるステップと、
電源に制御信号を供給することによってアクチュエータが生成する力を制御するステップであって、この制御信号が、少なくとも1つのパラメータの関数としてあらかじめ決定されたアクチュエータ・ゲインに適合され、この少なくとも1つのパラメータの値が前のステップで決定されるステップと、
制御信号に応答して電源からアクチュエータに制御電流を供給するステップとを含む。
基板を提供するステップと、
照明システムを使用して放射投影ビームを提供するステップと、
パターン化手段を使用して投影ビームの横断面にパターンを付与するステップと、
基板の目標部分にパターン化された放射ビームを投影するステップとを含むデバイスの製造方法であって、本発明による位置決め方法に従って動きを制御すること、具体的には、パターン化手段、又は基板、或いはその両方の動きを制御することを特徴とする方法が提供される。
図1に、本発明の特定の実施例によるリソグラフィ機器を概略的に示す。この機器は、
放射投影ビーム(例えば、UV放射)PBを提供する照明システム(照明器)ILと、
パターン化手段(例えば、マスク)MAを支持し、要素PLに対してパターン化手段を正確に位置決めする第1位置決め手段PMに連結された第1支持構造(例えば、マスク・テーブル)MTと、
基板(例えば、レジストを塗布したウエハ)Wを保持し、要素PLに対して基板を正確に位置決めする第2位置決め手段PWに連結された基板テーブル(例えば、ウエハ・テーブル)WTと、
基板Wの(例えば、1つ又は複数のダイを含む)目標部分Cに、パターン化手段MAによって投影ビームPBに付与されたパターンを結像する投影システム(例えば、屈折型投影レンズ)PLとを備える。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは本質的に固定したまま、投影ビームに付与されたパターン全体を目標部分Cに1回で投影する(すなわち、1回の静止露光)。次いで、基板テーブルWTをX方向及び/又はY方向に移動して、異なる目標部分Cを露光することができる。ステップ・モードでは、露光領域の最大サイズが、1回の静止露光で画像形成される目標部分Cのサイズを制限する。
2.スキャン・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを同期して走査しながら、投影ビームに付与されたパターンを目標部分Cに投影する(すなわち、1回の動的な露光)。マスク・テーブルMTに対する相対的な基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの倍率(縮小率)及び像の反転特性によって決まる。スキャン・モードでは、露光領域の最大サイズが、1回の動的な露光における目標部分の(非走査方向の)幅を制限し、走査移動長により、目標部分の(走査方向の)高さが決まる。
3.別のモードでは、プログラム可能なパターン化手段を保持するマスク・テーブルMTを本質的に固定したまま、基板テーブルWTを移動すなわち走査し、投影ビームに付与されたパターンを目標部分Cに投影する。一般に、このモードでは、パルス化された放射源を用い、基板テーブルWTの各移動動作後に、或いは走査中に連続放射パルス間で、プログラム可能なパターン化手段が必要に応じて更新される。この動作モードは、上記で言及したタイプのプログラム可能なミラー・アレイなどのプログラム可能なパターン化手段を利用するマスクなしリソグラフィに容易に適用し得る。
4 コイル
6 磁力線
8 電流
10 制御システム
12 導線
14 座標系
20 アクチュエータ
22 磁石
24 コイル
26 磁力線、磁界
30 制御システム
32 導線
34 座標系
36 補償回路
42 磁石
44 コイル
46 磁界
50 制御システム
56 補償回路
60 アクチュエータ
62 磁石アセンブリ
64 磁力線
66 コイル
68 制御システム
70 電源
72 目標位置入力
74 接続部
76 記憶装置
78 第2アクチュエータ
80 制御入力
82 z入力
84 機械式インターフェース
92 設定値入力、指令位置
94 相対移動信号、誤差
96 位置コントローラ
98 位置コントローラ信号、制御信号
100 アクチュエータ
102 物体の加速
104 測定システム
106 実際の絶対位置の測定値、測定位置信号
108 アクチュエータ・ゲイン記憶装置
AM 調節手段
BD ビーム送達システム
C 目標部分
CO コンデンサ
Fy y方向の力
Fz z方向の力
IF 位置センサ
IL 照明システム、照明器
IN 統合器
MA パターン化手段
MT 第1支持構造
M1 マスク位置合わせマーク
M2 マスク位置合わせマーク
PB 放射投影ビーム
PL 投影システム、レンズ
PM 第1位置決め手段
PW 第2位置決め手段
P1 基板位置合わせマーク
P2 基板位置合わせマーク
SO 放射源
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (13)
- 目標位置に物体を移動させる位置決めシステムであって、
制御電流に応答して第1方向に前記物体に力を加える第1アクチュエータであって、前記アクチュエータがアクチュエータ・ゲインを有し、前記生成される力が、前記制御電流及び前記アクチュエータ・ゲインの関数であり、前記アクチュエータが、
磁界を誘起する磁石と、
前記磁界中のコイルとを備え、前記磁石と前記コイルが相互に移動可能である第1アクチュエータと、
制御信号に応答して前記アクチュエータに前記制御電流を供給する電源と、
前記電源に前記制御信号を供給することによって前記アクチュエータが生成する前記力を制御する制御システムとを備え、前記制御信号が前記アクチュエータ・ゲインに適合され、前記アクチュエータ・ゲインが、少なくとも1つのパラメータの関数としてあらかじめ決定され、
前記アクチュエータ・ゲインが、前記コイルと前記磁石の距離の関数としてあらかじめ決定され、前記制御システムが、前記磁石と前記コイルの距離に前記制御信号を適合させる、
位置決めシステム。 - 前記制御システムにより、前記目標位置に前記物体を移動させるために前記物体に加えられる時変力が決まり、前記時変力は対応する制御電流を時間の関数として、所定のアクチュエータ・ゲインを用いて計算したものであり、前記力を発生させるために少なくとも1つの時変制御信号が前記電源に出力される、請求項1に記載の位置決めシステム。
- 前記アクチュエータ・ゲインがさらに、前記アクチュエータに供給される前記制御電流の関数としてあらかじめ決定され、前記制御システムが、前記制御電流に前記制御信号を適合させる、請求項1または2に記載の位置決めシステム。
- 前記制御システムが第2アクチュエータを備え、前記第2アクチュエータが、前記第1アクチュエータの一部に補償力を加えて、前記第1アクチュエータの前記部分に作用する寄生力を補償することができる、請求項1から3までのいずれかに記載の位置決めシステム。
- 前記アクチュエータ・ゲインが、前記第1方向と前記コイルの伸びた方向とにほぼ直交する第2方向にあらかじめ決定され、前記制御システムが、前記第2アクチュエータに制御信号を供給して、前記第2方向に発生した力を補償する、請求項4に記載の位置決めシステム。
- 前記第2アクチュエータへの前記制御信号が、フィード・フォワード回路を介して供給される、請求項5に記載の位置決めシステム。
- 放射投影ビームを提供する照明システムと、
前記投影ビームの横断面にパターンを付与する働きをするパターン化手段を支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板の目標部分に前記パターン化されたビームを投影する投影システムとを備えるリソグラフィ機器であって、請求項1から6までのいずれかに記載の少なくとも1つの位置決めシステム、具体的には、前記支持構造、又は前記基板テーブル、或いはその両方の動きを制御する位置決めシステムをさらに備えることを特徴とする、リソグラフィ機器。 - 目標位置に物体を移動させる位置決め方法であって、
少なくとも1つのパラメータの関数として、アクチュエータのアクチュエータ・ゲインを決定するステップであって、前記アクチュエータが、電源から供給された制御電流に応答して、第1方向に前記物体に力を加えるように適合され、前記力が前記制御電流及び前記アクチュエータ・ゲインの関数であるステップと、
前記少なくとも1つのパラメータの値を決定するステップであって、前記少なくとも1つのパラメータの関数として前記アクチュエータ・ゲインがあらかじめ決定されるステップと、
電源に制御信号を供給することによって前記アクチュエータが生成する前記力を制御するステップであって、前記制御信号が、前記少なくとも1つのパラメータの関数として前記あらかじめ決定されたアクチュエータ・ゲインに適合され、前記少なくとも1つのパラメータの値が前記ステップで決定されるステップと、
前記制御信号に応答して前記電源から前記アクチュエータに前記制御電流を供給するステップと、
を含み、
前記アクチュエータ・ゲインが、前記コイルと前記磁石の距離の関数としてあらかじめ決定され、前記制御信号が前記磁石と前記コイルの距離に適合される、
位置決め方法。 - 前記アクチュエータ・ゲインがさらに、前記アクチュエータに供給される前記制御電流の関数としてあらかじめ決定され、前記制御信号が前記制御電流に適合される、請求項8に記載の位置決め方法。
- 前記アクチュエータとは別の第2アクチュエータにより、前記アクチュエータの一部に補償力を加えて、前記アクチュエータの前記部分に作用する寄生力を補償する、請求項8または9に記載の位置決め方法。
- 前記アクチュエータ・ゲインが、前記第1方向と前記コイルの伸びた方向とにほぼ直交する第2方向にあらかじめ決定され、前記制御信号が前記第2アクチュエータに供給されて、前記第2方向に発生した力を補償する、請求項10に記載の位置決め方法。
- 前記第2アクチュエータへの前記制御信号が、フィード・フォワード回路を介して供給される、請求項11に記載の位置決め方法。
- 基板を提供するステップと、
照明システムを使用して放射投影ビームを提供するステップと、
パターン化手段を使用して前記投影ビームの横断面にパターンを付与するステップと、
前記基板の目標部分に前記パターン化された放射ビームを投影するステップとを含むデバイスの製造方法であって、請求項8から12までのいずれかに記載の位置決め方法に従って物体を位置決めすること、具体的には、前記パターン化手段、又は前記基板、或いはその両方を位置決めすることを特徴とする、方法。
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