JPH048707A - α―オレフィン重合用触媒成分 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、α−オレフィン重合用触媒成分に関する。
従来の技術
マグネシウム、チタン、ハロゲン及び電子供与性化合物
を含有すα−オレフィン重合用触媒成分は知られている
。
を含有すα−オレフィン重合用触媒成分は知られている
。
触媒成分の粒子強度が低いと、重合により生成するポリ
マーは破壊され、微粉化する。これを防ぐ典型的な手法
として、触媒成分を予めオレフィンと接触させ、そこで
生成するポリマーを触媒成分内に取り込ませて、触媒成
分粒子の強度を高める、いわゆる予備重合がある。この
予備重合時に、珪素化合物等の電子供与性化合物を添加
することにより、粒子強度の向上と共に、最終ポリα−
オレフィンの立体規則性をも高めようとする試みがなさ
れている。
マーは破壊され、微粉化する。これを防ぐ典型的な手法
として、触媒成分を予めオレフィンと接触させ、そこで
生成するポリマーを触媒成分内に取り込ませて、触媒成
分粒子の強度を高める、いわゆる予備重合がある。この
予備重合時に、珪素化合物等の電子供与性化合物を添加
することにより、粒子強度の向上と共に、最終ポリα−
オレフィンの立体規則性をも高めようとする試みがなさ
れている。
しかし、通常予備重合時の電子供与性化合物の添加は、
触媒活性の低下、或いは触媒の保存中の性能劣化を引き
起す等の影響をもたらす。
触媒活性の低下、或いは触媒の保存中の性能劣化を引き
起す等の影響をもたらす。
又、予備重合時に用いられる珪素化合物としては、その
性能の点から、芳香族基を持つ化合物が多く用いられて
いるが、ポリマーの使用目的によっては芳香族基を有す
る珪素化合物が有害になることがある。
性能の点から、芳香族基を持つ化合物が多く用いられて
いるが、ポリマーの使用目的によっては芳香族基を有す
る珪素化合物が有害になることがある。
発明が解決しようとする課題
本発明は、触媒粒子強度の増大、得られるポリマーの立
体規則性の向上、触媒高活性の維持、触媒の保存中の性
能劣化防止等を計ることを目的とする。
体規則性の向上、触媒高活性の維持、触媒の保存中の性
能劣化防止等を計ることを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明者らは鋭意研究を行った結果、予備重合時に添加
する珪素化合物として、特定の化合物を用いれば、芳香
族基を有する有機珪素化合物と同等又はそれ以上の性能
でポリα−オレフィンが得られ、かつ本発明の目的が達
成できることを見出して本発明を完成した。
する珪素化合物として、特定の化合物を用いれば、芳香
族基を有する有機珪素化合物と同等又はそれ以上の性能
でポリα−オレフィンが得られ、かつ本発明の目的が達
成できることを見出して本発明を完成した。
発明の要旨
すなわち、本発明の要旨は、
(A)マグネシウム、チタン、ハロゲン及び電子(C)
一般式 〔但し、R’、 R’およびR5は同一か異なる炭素数
1〜10個の炭化水素基、R2は炭素数1〜10個の炭
化水素基若しくはR’0 、R’は炭素数1〜10個の
炭化水素基若しくはR70であり、Xは2若しくは3、
R6及びR7は同一か異なる炭素数1〜10個の炭化水
素基である。〕で表わされる有機珪素化合物の存在下、
(D)オレフィン と接触させてなるα−オレフィン重合用触媒成分にある
。
一般式 〔但し、R’、 R’およびR5は同一か異なる炭素数
1〜10個の炭化水素基、R2は炭素数1〜10個の炭
化水素基若しくはR’0 、R’は炭素数1〜10個の
炭化水素基若しくはR70であり、Xは2若しくは3、
R6及びR7は同一か異なる炭素数1〜10個の炭化水
素基である。〕で表わされる有機珪素化合物の存在下、
(D)オレフィン と接触させてなるα−オレフィン重合用触媒成分にある
。
固体成分
本発明で用いられる固体成分(以下、成分Aという)は
、マグネシウム、チタン、ハロゲン及び電子供与性化合
物を必須成分とするが、このような成分は通常マグネシ
ウム化合物、チタン化合物及び電子供与性化合物、更に
前記各化合物がハロゲンを有しない化合物の場合は、ハ
ロゲン含有化合物を、それぞれ接触することにより調製
される。
、マグネシウム、チタン、ハロゲン及び電子供与性化合
物を必須成分とするが、このような成分は通常マグネシ
ウム化合物、チタン化合物及び電子供与性化合物、更に
前記各化合物がハロゲンを有しない化合物の場合は、ハ
ロゲン含有化合物を、それぞれ接触することにより調製
される。
(1)マグネシウム化合物
マグネシウム化合物は、一般式MgR’R2で表わされ
る。式において、R1及びR2は同一か異なる炭化水素
基、OR基(Rは炭化水素基)、ハロゲン原子を示す。
る。式において、R1及びR2は同一か異なる炭化水素
基、OR基(Rは炭化水素基)、ハロゲン原子を示す。
より詳細には、R1及びR2の炭化水素基としては、炭
素数1〜20個のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アルアルキル基が、OR基としては、Rが炭素
数1〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルアルキル基が、ハロゲン原子としては塩素、
臭素、ヨウ素、弗素等である。
素数1〜20個のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アルアルキル基が、OR基としては、Rが炭素
数1〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルアルキル基が、ハロゲン原子としては塩素、
臭素、ヨウ素、弗素等である。
それら化合物の具体例を下記に示すが、化学式1こおい
て、Me=メチル、日東:エチル、Pr:プロビル、B
uニブチル、He:ヘキシル、Oct :オクチル、P
h:フェニル、cyHeニジクロヘキシルをそれぞれ示
す。
て、Me=メチル、日東:エチル、Pr:プロビル、B
uニブチル、He:ヘキシル、Oct :オクチル、P
h:フェニル、cyHeニジクロヘキシルをそれぞれ示
す。
MgMe2. MgBtz 、 Mg1−Pr2. M
gBu2. MgHez 。
gBu2. MgHez 。
Mg0ctz 、 MgBtBu 、 MgP
hz 、 MgcyHe2 。
hz 、 MgcyHe2 。
Mg(OMe)z 、 Mg(OBt)2. Mg(O
Bu)2. Mg(OHe)2゜Mg(00ct)s
、 Mg(OPh)2. Mg(OcyHe)z 。
Bu)2. Mg(OHe)2゜Mg(00ct)s
、 Mg(OPh)2. Mg(OcyHe)z 。
BtMgCl 、 BuMgCl 、 fleMgcl
、 i−BuMgCl 、 t−BuMgCl 、
PhMgC1、PhCLMgCl 、 BtMgBr
。
、 i−BuMgCl 、 t−BuMgCl 、
PhMgC1、PhCLMgCl 、 BtMgBr
。
BuMgBr 、 PhMgBr 、 BuMgl 、
BtOMgCl 。
BtOMgCl 。
BuOMgCI 、 He0MgC1、Ph0MgCl
、 BtOMgBr 。
、 BtOMgBr 。
BuOMgBr 、 Bt[1Mg1 、 MgCl2
. Mg8rz 、 MgL。
. Mg8rz 、 MgL。
上記マグネシウム化合物は、成分Aを調製する際に、金
属マグネシウム又はその他のマグネシウム化合物から調
製することも可能である。
属マグネシウム又はその他のマグネシウム化合物から調
製することも可能である。
その−例として、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水
素及び一般式X、M(OR)、、のアルコキシ基含有化
合物〔式において、Xは水素原子、ハロゲン原子又は炭
素数1〜20個の炭化水素基、Mは硼素、炭素、アルミ
ニウム、珪素又は燐原子、Rは炭素数1〜20個の炭化
水素基、mはMの原子価、m > n≧0を示す。〕を
接触させる方法が挙げられる。該アルコキシ基含有化合
物の一般式のX及びRの炭化水素基としては、メチル(
Me) エチル(Bt) プロピル(Pr)、i−
プロピル(1−Pr) ブチル(Bu)i−ブチル(
i−Bu) 、ヘキシル(He)、オクチル(Oct)
等のアルキル基、シクロヘキシル(cyHe) 、メチ
ルシクロヘキシル等のシクロアルキル基、アリル、プロ
ペニル、ブテニル等のアルケニル基、フェニル(Ph)
)!Jル、キシリル基のアリール基、フェネチル
、3−フェニルプロピル等のアルアルキル等が挙げられ
る。
素及び一般式X、M(OR)、、のアルコキシ基含有化
合物〔式において、Xは水素原子、ハロゲン原子又は炭
素数1〜20個の炭化水素基、Mは硼素、炭素、アルミ
ニウム、珪素又は燐原子、Rは炭素数1〜20個の炭化
水素基、mはMの原子価、m > n≧0を示す。〕を
接触させる方法が挙げられる。該アルコキシ基含有化合
物の一般式のX及びRの炭化水素基としては、メチル(
Me) エチル(Bt) プロピル(Pr)、i−
プロピル(1−Pr) ブチル(Bu)i−ブチル(
i−Bu) 、ヘキシル(He)、オクチル(Oct)
等のアルキル基、シクロヘキシル(cyHe) 、メチ
ルシクロヘキシル等のシクロアルキル基、アリル、プロ
ペニル、ブテニル等のアルケニル基、フェニル(Ph)
)!Jル、キシリル基のアリール基、フェネチル
、3−フェニルプロピル等のアルアルキル等が挙げられ
る。
これらの中でも、特に炭素数1〜10個のアルキル基が
望ましい。以下、アルコキシ基含有化合物の具体例を挙
げる。
望ましい。以下、アルコキシ基含有化合物の具体例を挙
げる。
0Mが炭素の場合の化合物
式C(OR)、に含まれる C(OMe)、 、 C(
OBt)、。
OBt)、。
C(OPr)< 、 C(OBuL 、 C(Ot−B
uL 、 C(OHeL 。
uL 、 C(OHeL 。
C(00ct)a ’ 式 XC(OR) 、に含ま
れる)Ic (OMe) s。
れる)Ic (OMe) s。
1(C(GBt)s 、 HC(OPr)s 、 ti
c(OBu)、 、 HC(OHe)s 。
c(OBu)、 、 HC(OHe)s 。
HC(OPh)s ; MeC(OMe)s 、 Me
C(OBt)s 、 BtC(OMe)s。
C(OBt)s 、 BtC(OMe)s。
Btc(OBt)s 、 cyHeC(OBt)s 、
PhC(OMe)s 。
PhC(OMe)s 。
Ph[:(OBt)a 、 CLCIC(OBt)、
、 MeCHBrC(OBt)、 。
、 MeCHBrC(OBt)、 。
MeCtlCIC(OBt)s ; CIC(OMe)
a 、 CIC(OBt)a 。
a 、 CIC(OBt)a 。
CIC(Di−Bu)s 、 BrC(OBt)s ;
式X2C(OR)2に含まれるMeCH(OMe)2.
MeCH(OBt)z 、 CH2(口Me) 2゜
CH2(OBt)2 、 CH2CICH(OBt)
2 、 CllCl□CH(OBt) 2 。
式X2C(OR)2に含まれるMeCH(OMe)2.
MeCH(OBt)z 、 CH2(口Me) 2゜
CH2(OBt)2 、 CH2CICH(OBt)
2 、 CllCl□CH(OBt) 2 。
CC15CH((llllt)z 、 CHJrCH(
OBt)2. PhCH(OBt)2゜0Mが珪素の場
合の化合物 式5i(OR)=に含まれる Si(OMe)a 、
5i(OBt)*。
OBt)2. PhCH(OBt)2゜0Mが珪素の場
合の化合物 式5i(OR)=に含まれる Si(OMe)a 、
5i(OBt)*。
5i(OBu)* 、 5i(Di−Bu)t 、 5
i(OHe)* 。
i(OHe)* 。
5i(OOct)4.3i(OPh14: 式X5i
(OR)s ニ含マれるH3i(DBt)s 、 )l
si(DBu)s 、 H3i(C1)le)、 。
(OR)s ニ含マれるH3i(DBt)s 、 )l
si(DBu)s 、 H3i(C1)le)、 。
H5i(OPh)s ; MeSi(OMe)、 、
MeSi(OBt)s 。
MeSi(OBt)s 。
MeSi(OBu)s 、 BtSi(OBt)s 、
Ph5i(OBt)s 。
Ph5i(OBt)s 。
BtSi(OPh)s ; CISiCl5i(O,C
l5i(OBtL 。
l5i(OBtL 。
Cl5i(OBu)3. Cl5i(OPh)s 、
Br5i(OBt)3;式X2Si(OR)、に含まれ
るMe2Si(口Me)z。
Br5i(OBt)3;式X2Si(OR)、に含まれ
るMe2Si(口Me)z。
MezSt(OBt)a 、 BtaSt(OBt)2
; MeCISi(OBt)2:CHClzSiH(O
Bt)z ; CC15SiH(Oat)2;MeBr
Si(OBt)2: X5SiORに含まれるMe、S
iOMe 。
; MeCISi(OBt)2:CHClzSiH(O
Bt)z ; CC15SiH(Oat)2;MeBr
Si(OBt)2: X5SiORに含まれるMe、S
iOMe 。
Me3SiOBt 、 MesSiOBu 、 Mes
SiOPh 、 BtsSiOBt 。
SiOPh 、 BtsSiOBt 。
Ph5SiOBt 0
0Mが硼素の場合の化合物
弐〇 (OR)、に含まれるB(DBt)s 、 B(
[]OBus 。
[]OBus 。
B (OHe) = 、 B (OPh) s。
0Mがアルミニウムの場合の化合物
式^1 (OR)、に含まれるA1(OMe)s 、
AI(OBt)s 。
AI(OBt)s 。
A1(OPr)s 、A1 (O1−Pr) s 、A
1 (OBu) s 。
1 (OBu) s 。
AI(Ot−Bu)s 、A1(OHe)s *^1
(OPh) s。
(OPh) s。
0Mが燐の場合の化合物
式P (OR)、に含まれるP(QMa)s 、 P(
(lBt)s 。
(lBt)s 。
P(OBu)s 、 P(OHe)s 、 P(OPh
)s 0更に、前記マグネシウム化合物は、周期表第■
族又は第1IIa族金属(M)の有機化合物との錯体も
使用することができる。該錯体は一般式Mgl’l’R
2・n(MR’、)で表わされる。該金属としては、ア
ルミニウム、亜鉛、カルシウム等であり、R3は炭素数
1〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アルアルキル基である。
)s 0更に、前記マグネシウム化合物は、周期表第■
族又は第1IIa族金属(M)の有機化合物との錯体も
使用することができる。該錯体は一般式Mgl’l’R
2・n(MR’、)で表わされる。該金属としては、ア
ルミニウム、亜鉛、カルシウム等であり、R3は炭素数
1〜12個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アルアルキル基である。
又、mは金属Mの原子価を、nは0.1〜10の数を示
す。MR’、で表わされる化合物の具体例としては、^
IMes 、 A11l!ts 、 A11−Bu3.
AlPh3゜ZnMez 、 ZnBtz 、 Zn
Bu2. ZnPhz 、 Cart2゜CaPh2等
が挙げられる。
す。MR’、で表わされる化合物の具体例としては、^
IMes 、 A11l!ts 、 A11−Bu3.
AlPh3゜ZnMez 、 ZnBtz 、 Zn
Bu2. ZnPhz 、 Cart2゜CaPh2等
が挙げられる。
(2)チタン化合物
チタン化合物は、二価、三価及び四価のチタンの化合物
であり、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チ
タン、トリクロルエトキシチタン、トリクロルブトキシ
チタン、ジクロルジェトキシチタン、ジクロルジブトキ
シチタン、ジクロルジフェノキシチタン、クロルトリエ
トキシチタン、クロルトリブトキシチタン、テトラブト
キシチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。こ
れらの中でも、四塩化チタン、トリクロルエトキシチタ
ン、ジクロルジブトキシチタン、ジクロルジフェノキシ
チタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に
四塩化チタンが望ましい。
であり、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チ
タン、トリクロルエトキシチタン、トリクロルブトキシ
チタン、ジクロルジェトキシチタン、ジクロルジブトキ
シチタン、ジクロルジフェノキシチタン、クロルトリエ
トキシチタン、クロルトリブトキシチタン、テトラブト
キシチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。こ
れらの中でも、四塩化チタン、トリクロルエトキシチタ
ン、ジクロルジブトキシチタン、ジクロルジフェノキシ
チタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に
四塩化チタンが望ましい。
(3)電子供与性化合物
電子供与性化合物としては、カルボン酸類、カルボン酸
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート類
、有機基と炭素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ素
およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエーテ
ル類、チオエステル類、炭酸エステル等が挙げられる。
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート類
、有機基と炭素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ素
およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエーテ
ル類、チオエステル類、炭酸エステル等が挙げられる。
これのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カルボン
酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコール類
、エーテル類が好ましく用いられる。
酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコール類
、エーテル類が好ましく用いられる。
カルボン酸の具体例としては、ギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、ピバリン酸
、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の脂肪族モ
ノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸等の脂肪族
ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシカルボン酸、シ
クロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘキセンモノカル
ボン酸、シス−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、
シス−4−メチルシクロヘキセン−1,2−ジカルボン
酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、トルイル酸、アニ
ス酸、p−第三級ブチル安息香酸、ナフトエ酸、ケイ皮
酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸
、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメリド酸、ヘミメリ
ト酸、トリメシン酸、ピロノIJ )酸、メリト酸等の
芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。
酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、ピバリン酸
、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の脂肪族モ
ノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸等の脂肪族
ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシカルボン酸、シ
クロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘキセンモノカル
ボン酸、シス−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、
シス−4−メチルシクロヘキセン−1,2−ジカルボン
酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、トルイル酸、アニ
ス酸、p−第三級ブチル安息香酸、ナフトエ酸、ケイ皮
酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸
、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメリド酸、ヘミメリ
ト酸、トリメシン酸、ピロノIJ )酸、メリト酸等の
芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。
カルボン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の酸無
水物が使用し得る。
水物が使用し得る。
カルボン酸エステルとしては、上記のカルボン酸類のモ
ノ又は多価エステルが使用することができ、その具体例
として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、イソ酪
酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピバリン酸イソブ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸イソブチル、マロン酸ジエ
チル、マロン酸ジイソブチル、コハク酸ジエチル、コハ
ク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチル、グルタル酸ジエ
チル、グルタル酸ジブチル、グルタル酸ジイソブチル、
アジピン酸ジイソブチル、セバシン酸ジブチル、セバシ
ン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、マレイン酸ジイソブチル、フマル酸モノメチル
、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソブチル、酒石酸ジ
エチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジイソブチル、シクロ
ヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸
エチル、p−)ルイル酸メチル、p−第三級ブチル安息
香酸エチル、p−アニス酸エチル、α−ナフトエ酸エチ
ル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケイ皮酸エチル、フタ
ル酸モノメチル、フタル酸モノブチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジヘキシル、フタ
ル酸ジオクチル、フタル酸ジ2−エチルヘキシル、フタ
ル酸ジアリル、フタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジエ
チル、イソフタル酸ジイソブチル、テレフタル酸ジエチ
ル、テレフタル酸ジブチル、ナフタル酸ジエチル、ナフ
タル酸ジブチル、トリ メ リ ト酸 ト リ エチル
、 ト リ メ リ ト西虻ト リ ブチル、ピロメ
リト酸テトラメチル、ピロメリト酸テトラエチル、ピロ
メリト酸テトラブチル等が挙げられる。
ノ又は多価エステルが使用することができ、その具体例
として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、イソ酪
酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピバリン酸イソブ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸イソブチル、マロン酸ジエ
チル、マロン酸ジイソブチル、コハク酸ジエチル、コハ
ク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチル、グルタル酸ジエ
チル、グルタル酸ジブチル、グルタル酸ジイソブチル、
アジピン酸ジイソブチル、セバシン酸ジブチル、セバシ
ン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、マレイン酸ジイソブチル、フマル酸モノメチル
、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソブチル、酒石酸ジ
エチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジイソブチル、シクロ
ヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸
エチル、p−)ルイル酸メチル、p−第三級ブチル安息
香酸エチル、p−アニス酸エチル、α−ナフトエ酸エチ
ル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケイ皮酸エチル、フタ
ル酸モノメチル、フタル酸モノブチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジヘキシル、フタ
ル酸ジオクチル、フタル酸ジ2−エチルヘキシル、フタ
ル酸ジアリル、フタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジエ
チル、イソフタル酸ジイソブチル、テレフタル酸ジエチ
ル、テレフタル酸ジブチル、ナフタル酸ジエチル、ナフ
タル酸ジブチル、トリ メ リ ト酸 ト リ エチル
、 ト リ メ リ ト西虻ト リ ブチル、ピロメ
リト酸テトラメチル、ピロメリト酸テトラエチル、ピロ
メリト酸テトラブチル等が挙げられる。
カルボン酸ハロゲン化物としては、上記のカルボン酸類
の酸ハロゲン化物を使用することができ、その具体例と
して、酢酸クロリド、酢酸プロミド、酢酸アイオダイド
、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、酪酸プロミド
、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリド、ピバリン酸
プロミド、アクリル酸クロリド、アクリル酸プロミド、
アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸クロリド、メタ
クリル酸プロミド、メタクリル酸アイオダイド、クロト
ン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロン酸プロミド、
コハク酸クロリド、コハク酸プロミド、グルタル酸クロ
リド、グルタル酸プロミド、アジピン酸クロリド、アジ
ピン酸プロミド、セバシン酸クロリド、セバシン酸フロ
ミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸プロミド、フマ
ル酸クロリド、フマル酸プロミド、酒石酸クロリド、酒
石酸プロミド、シクロヘキサンカルボン酸クロリド、シ
クロヘキサンカルボン酸プロミド、1−シクロヘキセン
カルボン酸クロリド、シス−4−メチルシクロヘキセン
カルボン酸クロリド、シス−4−メチルシクロヘキセン
カルボン酸プロミド、塩化ベンゾイル、臭化ベンゾイル
、p−)ルイル酸クロリド、p−トルイル酸プロミド、
p−アニス酸クロリド、p−アニス酸プロミド、α−ナ
フトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、ケイ皮酸プロミ
ド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブロミド、イソフ
タル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロミド、テレフタ
ル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリドが挙げられる。
の酸ハロゲン化物を使用することができ、その具体例と
して、酢酸クロリド、酢酸プロミド、酢酸アイオダイド
、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、酪酸プロミド
、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリド、ピバリン酸
プロミド、アクリル酸クロリド、アクリル酸プロミド、
アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸クロリド、メタ
クリル酸プロミド、メタクリル酸アイオダイド、クロト
ン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロン酸プロミド、
コハク酸クロリド、コハク酸プロミド、グルタル酸クロ
リド、グルタル酸プロミド、アジピン酸クロリド、アジ
ピン酸プロミド、セバシン酸クロリド、セバシン酸フロ
ミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸プロミド、フマ
ル酸クロリド、フマル酸プロミド、酒石酸クロリド、酒
石酸プロミド、シクロヘキサンカルボン酸クロリド、シ
クロヘキサンカルボン酸プロミド、1−シクロヘキセン
カルボン酸クロリド、シス−4−メチルシクロヘキセン
カルボン酸クロリド、シス−4−メチルシクロヘキセン
カルボン酸プロミド、塩化ベンゾイル、臭化ベンゾイル
、p−)ルイル酸クロリド、p−トルイル酸プロミド、
p−アニス酸クロリド、p−アニス酸プロミド、α−ナ
フトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、ケイ皮酸プロミ
ド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブロミド、イソフ
タル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロミド、テレフタ
ル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリドが挙げられる。
又、アジピン酸モノメチルクロリド、マレイン酸モノエ
チルクロリド、マレイン酸モノメチルクロリド、フタル
酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸のモノアルキル
ハロゲン化物も使用し得る。
チルクロリド、マレイン酸モノメチルクロリド、フタル
酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸のモノアルキル
ハロゲン化物も使用し得る。
アルコール類は、一般式ROHで表わされる。
式においてRは炭素数1〜12個のアルキル、アルケニ
ル、シクロアルキル、アリール、アルアルキルである。
ル、シクロアルキル、アリール、アルアルキルである。
その具体例としては、メタノール、エタノール、プロパ
ツール、イソプロパツール、ブタノール、イソブタノー
ル、ペンタノール、ヘキサノール、オクタツール、2−
エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルア
ルコール、アリルアルコール、フェノール、クレゾール
、キシレノール、エチルフェノール、イソプロピルフェ
ノール、p−ターシャリ−ブチルフェノール、n−オク
チルフェノール等である。エーテル類は、一般式ROR
’で表わされる。式においてR,R’は炭素数1〜12
個のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール
、アルアルキルであり、RとR1はは同じでも異っても
よい。その具体例としては、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエ
ーテル、ジイソアミルエーテル、ジー2−エチルヘキシ
ルエーテル、ジアリルエーテル、エチルアリルエーテル
、ブチルアリルエーテル、ジフェニルエーテル、アニソ
ール、エチルフェニルエーテル等テアル。
ツール、イソプロパツール、ブタノール、イソブタノー
ル、ペンタノール、ヘキサノール、オクタツール、2−
エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルア
ルコール、アリルアルコール、フェノール、クレゾール
、キシレノール、エチルフェノール、イソプロピルフェ
ノール、p−ターシャリ−ブチルフェノール、n−オク
チルフェノール等である。エーテル類は、一般式ROR
’で表わされる。式においてR,R’は炭素数1〜12
個のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール
、アルアルキルであり、RとR1はは同じでも異っても
よい。その具体例としては、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエ
ーテル、ジイソアミルエーテル、ジー2−エチルヘキシ
ルエーテル、ジアリルエーテル、エチルアリルエーテル
、ブチルアリルエーテル、ジフェニルエーテル、アニソ
ール、エチルフェニルエーテル等テアル。
成分Aの調製法としては、■マグネシウム化合物(成分
工)、チタン化合物(成分2)及び電子供与性化合物(
成分3)をその順序に接触させる。■成分1と成分3を
接触させた後、成分2を接触させる。■成分1.成分2
及び成分3を同時に接触させる等の方法が採用し得る。
工)、チタン化合物(成分2)及び電子供与性化合物(
成分3)をその順序に接触させる。■成分1と成分3を
接触させた後、成分2を接触させる。■成分1.成分2
及び成分3を同時に接触させる等の方法が採用し得る。
又、成分2を用いて接触させる前にハロゲン含有化合物
と接触させることもできる。
と接触させることもできる。
ハロゲン含有化合物としては、ハロゲン化炭化水素、ハ
ロゲン含有アルコール、水素−珪素結合を有するハロゲ
ン化珪素化合物、周期表第11a族、I’Va族、Va
族元素のハロゲン化物(以下、金属ハライドという。)
等が挙げられる。
ロゲン含有アルコール、水素−珪素結合を有するハロゲ
ン化珪素化合物、周期表第11a族、I’Va族、Va
族元素のハロゲン化物(以下、金属ハライドという。)
等が挙げられる。
ハロゲン化炭化水素としては、炭素数1〜12個の飽和
又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素のモノ
及びポリハロゲン置換体である。それら化合物の具体的
な例は、脂肪族化合物では、メチルクロライド、メチル
ブロマイド、メチルアイオダイド、メチレンクロライド
、メチレンブロマイド、メチレンアイオダイド、クロロ
ホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四塩化炭素、四
臭化炭素、四状化炭素、エチルクロライド、エチルブロ
マイド、エチルアイオダイド、1.2−ジクロルエタン
、1.2−ジブロムエタン、1.2−ショートエタン、
メチルクロロホルム、メチルブロモホルム、メチルヨー
ドホルム、1.1.2−)ジクロルエチレン、1.1.
2−)リブロモエチレン、1.1.2゜2−テトラクロ
ルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキサクロルエタン
、ヘキサブロモエタン、n−プロピルクロライド、1.
2−ジクロルプロパン、ヘキサクロロプロピレン、オク
タクロロプロパン、デカブロモブタン、塩素化パラフィ
ンが、脂環式化合物ではクロロシクロプロパン、テトラ
クロルシクロペンタン、ヘキサクロロシクロペンタジェ
ン、ヘキサクロルシクロヘキサンが、芳香族化合物では
クロルベンゼン、ブロモベンゼン、○−ジクロルベンゼ
ン、p−ジクロルベンゼン、ヘキサクロロベンセン、ヘ
キサブロモベンゼン、ベンシトリクロライド、p−クロ
ロベンシトリクロライド等が挙げられる。これらの化合
物は、一種のみならず二種以上用いてもよい。
又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素のモノ
及びポリハロゲン置換体である。それら化合物の具体的
な例は、脂肪族化合物では、メチルクロライド、メチル
ブロマイド、メチルアイオダイド、メチレンクロライド
、メチレンブロマイド、メチレンアイオダイド、クロロ
ホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四塩化炭素、四
臭化炭素、四状化炭素、エチルクロライド、エチルブロ
マイド、エチルアイオダイド、1.2−ジクロルエタン
、1.2−ジブロムエタン、1.2−ショートエタン、
メチルクロロホルム、メチルブロモホルム、メチルヨー
ドホルム、1.1.2−)ジクロルエチレン、1.1.
2−)リブロモエチレン、1.1.2゜2−テトラクロ
ルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキサクロルエタン
、ヘキサブロモエタン、n−プロピルクロライド、1.
2−ジクロルプロパン、ヘキサクロロプロピレン、オク
タクロロプロパン、デカブロモブタン、塩素化パラフィ
ンが、脂環式化合物ではクロロシクロプロパン、テトラ
クロルシクロペンタン、ヘキサクロロシクロペンタジェ
ン、ヘキサクロルシクロヘキサンが、芳香族化合物では
クロルベンゼン、ブロモベンゼン、○−ジクロルベンゼ
ン、p−ジクロルベンゼン、ヘキサクロロベンセン、ヘ
キサブロモベンゼン、ベンシトリクロライド、p−クロ
ロベンシトリクロライド等が挙げられる。これらの化合
物は、一種のみならず二種以上用いてもよい。
ハロゲン含有アルコールとしては、−分子中に一個又は
二個以上の水酸基を有するモノ又は多価アルコール中の
、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の水素原子がハ
ロゲン原子で置換された化合物を意味する。ハロゲン原
子としては、塩素、臭素、ヨウ素、弗素原子が挙げられ
るが、塩素原子が望ましい。
二個以上の水酸基を有するモノ又は多価アルコール中の
、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の水素原子がハ
ロゲン原子で置換された化合物を意味する。ハロゲン原
子としては、塩素、臭素、ヨウ素、弗素原子が挙げられ
るが、塩素原子が望ましい。
それら化合物を例示すると、2−クロルエタノール、1
−クロル−2−プロパツール、3−クロル−1−プロパ
ツール、1−クロル−2−メチル−2−プロパツール、
4−クロル−1−ブタノール、5−クロル−1−ペンタ
ノール、6−クロル−1−ヘキサノール、3−クロル−
1,2−プロパンジオール、2−クロルシクロヘキサノ
ール、4−クロルベンズヒドロール、([0,o、p)
−クロルベンジルアルコール、4−クロルカテコール、
4−クロル−(m、o)−クレゾール、6−クロル−(
m、o)−クレゾール、4−クロル−3,5−ジメチル
フェノール、クロルハイドロキノン、2−ベンジル−4
−クロルフェノール、4−クロル−1−ナフトール、(
m、o、p)−クロルフェノール、p−クロル−α−メ
チルベンジルアルコール、2−クロル−4−フェニルフ
ェノール、6−クロルチモール、4−クロルレゾルシン
、2−ブロムエタノール、3−ブロム−1−プロパツー
ル、1ブルムー2−プロパツール、1−ブロム−2−ブ
タノール、2−ブロム−p−クレゾール、1−ブロム−
2−ナフトール、6−ブロム−2−ナフトール、(m、
o、p)−ブロムフェノール、4−ブロムレゾルシン、
(m、o、p)フロロフェノール、p−イオドフェノー
ル=2゜2−ジクロルエタノール、2. 3−シクロル
ー1−プロパツール、1,3−ジクロル−2−プロパツ
ール、3−クロル−1−(α−クロルメチル)−1−プ
ロパツール、2.3−ジブロム−1−プロパツール、1
,3−ジブロム−2−プロパツール、2,4−ジブロム
フェノール、2.4〜ジブロム−1−ナフトール:2,
2゜2−トリクロルエタノール、1,1.1−トリクロ
ル−2−プロパツール、β、β、β−トリクロルーte
rt−ブタノール、2,3.4−トリクロルフェノール
、2.4.5−トリクロルフェノール、2,4.6−)
リブロムフェノール、2.4.6−)リブロムフェノー
ル、2,3゜5−トリブロム−2−ヒドロキシトルエン
、2゜3.5−1Jブロム−4−ヒドロキシトルエン、
2.2.2−)リフルオロエタノール、α、α。
−クロル−2−プロパツール、3−クロル−1−プロパ
ツール、1−クロル−2−メチル−2−プロパツール、
4−クロル−1−ブタノール、5−クロル−1−ペンタ
ノール、6−クロル−1−ヘキサノール、3−クロル−
1,2−プロパンジオール、2−クロルシクロヘキサノ
ール、4−クロルベンズヒドロール、([0,o、p)
−クロルベンジルアルコール、4−クロルカテコール、
4−クロル−(m、o)−クレゾール、6−クロル−(
m、o)−クレゾール、4−クロル−3,5−ジメチル
フェノール、クロルハイドロキノン、2−ベンジル−4
−クロルフェノール、4−クロル−1−ナフトール、(
m、o、p)−クロルフェノール、p−クロル−α−メ
チルベンジルアルコール、2−クロル−4−フェニルフ
ェノール、6−クロルチモール、4−クロルレゾルシン
、2−ブロムエタノール、3−ブロム−1−プロパツー
ル、1ブルムー2−プロパツール、1−ブロム−2−ブ
タノール、2−ブロム−p−クレゾール、1−ブロム−
2−ナフトール、6−ブロム−2−ナフトール、(m、
o、p)−ブロムフェノール、4−ブロムレゾルシン、
(m、o、p)フロロフェノール、p−イオドフェノー
ル=2゜2−ジクロルエタノール、2. 3−シクロル
ー1−プロパツール、1,3−ジクロル−2−プロパツ
ール、3−クロル−1−(α−クロルメチル)−1−プ
ロパツール、2.3−ジブロム−1−プロパツール、1
,3−ジブロム−2−プロパツール、2,4−ジブロム
フェノール、2.4〜ジブロム−1−ナフトール:2,
2゜2−トリクロルエタノール、1,1.1−トリクロ
ル−2−プロパツール、β、β、β−トリクロルーte
rt−ブタノール、2,3.4−トリクロルフェノール
、2.4.5−トリクロルフェノール、2,4.6−)
リブロムフェノール、2.4.6−)リブロムフェノー
ル、2,3゜5−トリブロム−2−ヒドロキシトルエン
、2゜3.5−1Jブロム−4−ヒドロキシトルエン、
2.2.2−)リフルオロエタノール、α、α。
α−トリプルオローm−クレゾール、2,4゜6−ドリ
イオドフエノール:2,3.4.6−チトラクロルフエ
ノール、テトラクロルハイドロキノン、テトラクロルビ
スフェノールA1テトラブロムビスフエノールA、2,
2,3.3=テトラフルオロ−1−プロパツール、2.
3゜5.6−チトラフルオロフエノール、テトラフルオ
ロレゾルシン等が挙げられる。
イオドフエノール:2,3.4.6−チトラクロルフエ
ノール、テトラクロルハイドロキノン、テトラクロルビ
スフェノールA1テトラブロムビスフエノールA、2,
2,3.3=テトラフルオロ−1−プロパツール、2.
3゜5.6−チトラフルオロフエノール、テトラフルオ
ロレゾルシン等が挙げられる。
水素−珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物としては
、HSiCIs 、 )12sic12. )lssj
cl 。
、HSiCIs 、 )12sic12. )lssj
cl 。
HCH35IC12、HCH35IC12,H(t−C
’4)1り5iC1□。
’4)1り5iC1□。
HCH35IC12,l’l([”l’1a)2sic
1 、 H(i−CsH7)zsi[’l 。
1 、 H(i−CsH7)zsi[’l 。
HzCJ5SiCI If2(ローC4HIl
)SICI 、 L(Cl4[’Hs)SICI
、 H3ICI(CaHs)z等が挙げられる。
)SICI 、 L(Cl4[’Hs)SICI
、 H3ICI(CaHs)z等が挙げられる。
金属ハライドとしては、B、^1.Ga、In。
TI 、 Si 、 Ge、 Sn、 Pb、 As、
Sb、 Biの塩化物、弗化物、臭化物、ヨウ化物が
挙げられ、特にBCIs 、 Bars 、 81s
、 AlC15、AlBr5 。
Sb、 Biの塩化物、弗化物、臭化物、ヨウ化物が
挙げられ、特にBCIs 、 Bars 、 81s
、 AlC15、AlBr5 。
GaC1+ 、 GaBr5 、 InCl5 、 T
lC15、5iCIa 。
lC15、5iCIa 。
5nCI4.5bll”ls 、 5bFs 等が好
適である。
適である。
成分1.成分2及び成分3、更に必要に応じて接触させ
ることのできるハロゲン含有化合物との接触は、不活性
媒体の存在下、又は不存在下、混合攪拌するが、機械的
に共粉砕することによりなされる。接触は40〜150
℃の加熱下で行うことができる。
ることのできるハロゲン含有化合物との接触は、不活性
媒体の存在下、又は不存在下、混合攪拌するが、機械的
に共粉砕することによりなされる。接触は40〜150
℃の加熱下で行うことができる。
不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等
の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素が使用し得る。
の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素が使用し得る。
本発明における成分Aの望ましい調製法は、特開昭63
−264607号、同58−198503号、同62−
146904号公報等に開示されている方法である。よ
り詳細には、■ (イ)金属マグネシウム、(rl)ハ
ロゲン化炭化水素、(ハ)一般式XfiM(OR) 、
−1の化合物(前記のアルコキシ基含有化合物と同じ)
を接触させることにより得られるマグネシウム含有固体
を(ニ)ハロゲン含有アルコールと接触させ、次いで(
ネ)電子供与性化合物及び(へ)チタン化合物と接触さ
せる方法(特開昭63−264607号公報) ■ (イ)マグネシウムジアルコキシドと(ロ)水素−
珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物を接触させた後
、(ハ)ハロゲン化チタン化合物を接触させ、次いで(
ニ)電子供与性化合物と接触させ(必要に応じて更にハ
ロゲン化チタン化合物と接触させる)る方法(特開昭6
2−146904号公報)、 ■ (イ)マグネシウムジアルコキシドと(0)水素−
珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物を接触させた後
、(八)電子供与性化合物と接触させ、次いで(ニ)チ
タン化合物と接触させる方法(特開昭58−19850
3号公報)である。
−264607号、同58−198503号、同62−
146904号公報等に開示されている方法である。よ
り詳細には、■ (イ)金属マグネシウム、(rl)ハ
ロゲン化炭化水素、(ハ)一般式XfiM(OR) 、
−1の化合物(前記のアルコキシ基含有化合物と同じ)
を接触させることにより得られるマグネシウム含有固体
を(ニ)ハロゲン含有アルコールと接触させ、次いで(
ネ)電子供与性化合物及び(へ)チタン化合物と接触さ
せる方法(特開昭63−264607号公報) ■ (イ)マグネシウムジアルコキシドと(ロ)水素−
珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物を接触させた後
、(ハ)ハロゲン化チタン化合物を接触させ、次いで(
ニ)電子供与性化合物と接触させ(必要に応じて更にハ
ロゲン化チタン化合物と接触させる)る方法(特開昭6
2−146904号公報)、 ■ (イ)マグネシウムジアルコキシドと(0)水素−
珪素結合を有するハロゲン化珪素化合物を接触させた後
、(八)電子供与性化合物と接触させ、次いで(ニ)チ
タン化合物と接触させる方法(特開昭58−19850
3号公報)である。
これらの内でも特に■の方法が最も望ましい。
上記のようにして成分Aは調製されるが、成分Aは必要
に応じて前記の不活性媒体で洗浄しても°よく、更に乾
燥してもよい。
に応じて前記の不活性媒体で洗浄しても°よく、更に乾
燥してもよい。
有機アルミニウム化合物
有機アルミニウム化合物(以下、成分Bという。)は、
一般式 R,AlX3−、 (但し、Rはアルキル基
又はアリール基、Xはハロゲン原子、アルコキシ基又は
水素原子を示し、nは1≦n≦3の範囲の任意の数であ
る。)で示されるものであり、例えばトリアルキルアル
ミニウム、ジアルキルアルミニウムモノハライド、モノ
アルキルアルミニウムシバライド、アルキルアルミニウ
ムセスキハライド、ジアルキルアルミニウムモノアルコ
キシド及びジアルキルアルミニウムモノハイドライドな
どの炭素数1ないし18個、好ましくは炭素数2ないし
6個のアルキルアルミニウム化合物又はその混合物もし
くは錯化合物が特に好ましい。具体的には、トリメチル
アルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピル
アルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリブ
チルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ
ヘキシルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム
、ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウ
ムクロリド、ジエチルアルミニウムプロミド、ジエチル
アルミニウムアイオダイド、ジイソブチルアルミニウム
クロリドなどのジアルキルアルミニウムモノハライド、
メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジ
クロリド、メチルアルミニウムジクロリド、エチルアル
ミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジアイォダイ
ド、イソブチルアルミニウムジクロリドなどのモノアル
キルアルミニウムシバライド、エチルアルミニウムセス
キクロリドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド
、ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニ
ウムエトキシド、ジエチルアルミニウムフェノキシド、
ジプロピルアルミニウムエトキシド、ジイソブチルアル
ミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウムフェノ
キシドなどのジアルキルアルミニウムモノアルコキシド
、ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミ
ニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドラ
イド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのジ
アルキルアルミニウムハイドライドが挙げられる。これ
らの中でも、トリアルキルアルミニウムが、特にトリエ
チルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが望ま
しい。
一般式 R,AlX3−、 (但し、Rはアルキル基
又はアリール基、Xはハロゲン原子、アルコキシ基又は
水素原子を示し、nは1≦n≦3の範囲の任意の数であ
る。)で示されるものであり、例えばトリアルキルアル
ミニウム、ジアルキルアルミニウムモノハライド、モノ
アルキルアルミニウムシバライド、アルキルアルミニウ
ムセスキハライド、ジアルキルアルミニウムモノアルコ
キシド及びジアルキルアルミニウムモノハイドライドな
どの炭素数1ないし18個、好ましくは炭素数2ないし
6個のアルキルアルミニウム化合物又はその混合物もし
くは錯化合物が特に好ましい。具体的には、トリメチル
アルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピル
アルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリブ
チルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ
ヘキシルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム
、ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウ
ムクロリド、ジエチルアルミニウムプロミド、ジエチル
アルミニウムアイオダイド、ジイソブチルアルミニウム
クロリドなどのジアルキルアルミニウムモノハライド、
メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジ
クロリド、メチルアルミニウムジクロリド、エチルアル
ミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジアイォダイ
ド、イソブチルアルミニウムジクロリドなどのモノアル
キルアルミニウムシバライド、エチルアルミニウムセス
キクロリドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド
、ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニ
ウムエトキシド、ジエチルアルミニウムフェノキシド、
ジプロピルアルミニウムエトキシド、ジイソブチルアル
ミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウムフェノ
キシドなどのジアルキルアルミニウムモノアルコキシド
、ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミ
ニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドラ
イド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのジ
アルキルアルミニウムハイドライドが挙げられる。これ
らの中でも、トリアルキルアルミニウムが、特にトリエ
チルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが望ま
しい。
有機珪素化合物
本発明の触媒の一成分である有機珪素化合物(以下、成
分Cという。)は、前記一般式で表わされる。該式にお
いて、R1−R5の炭化水素基及びOR’ OR’に
おけるR11 、 [?の炭化水素基としては、アルキ
ル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、
アルアルキル基等が挙げられる。
分Cという。)は、前記一般式で表わされる。該式にお
いて、R1−R5の炭化水素基及びOR’ OR’に
おけるR11 、 [?の炭化水素基としては、アルキ
ル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、
アルアルキル基等が挙げられる。
アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、i−
プロピル、ブチル、i−ブチル、S−ブチル、t−ブチ
ル、了ミル、i−丁ミル、t−アミル、ヘキシル、オク
チル、2−エチルヘキシル、デシル基等が、アルケニル
基としては、ビニル、アリル、プロペニル、1−ブテニ
ル、1−ペンテニル、1−へキセニル、1−オクテニル
、1−ブテニル、1−メチル−1−ペンチニル、1−メ
チル−1−ヘプテニル等が、シクロアルキル基としては
、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキ
シル差等カ、アリール基としては、フェニル、トリル、
キシリル基等が、アルアルキル基としては、ベンジル、
フェネチル、3−フェニルプロピル基等が挙げられる。
プロピル、ブチル、i−ブチル、S−ブチル、t−ブチ
ル、了ミル、i−丁ミル、t−アミル、ヘキシル、オク
チル、2−エチルヘキシル、デシル基等が、アルケニル
基としては、ビニル、アリル、プロペニル、1−ブテニ
ル、1−ペンテニル、1−へキセニル、1−オクテニル
、1−ブテニル、1−メチル−1−ペンチニル、1−メ
チル−1−ヘプテニル等が、シクロアルキル基としては
、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキ
シル差等カ、アリール基としては、フェニル、トリル、
キシリル基等が、アルアルキル基としては、ベンジル、
フェネチル、3−フェニルプロピル基等が挙げられる。
これらの中でも、アルキル基、アルケニル基等の脂肪族
炭化水素基が望ましく、アルキル基が特に望ましい。更
にR4の炭化水素基にあっては、メチル、エチル基が最
も望ましい。
炭化水素基が望ましく、アルキル基が特に望ましい。更
にR4の炭化水素基にあっては、メチル、エチル基が最
も望ましい。
成分Cは、通常一般式R’R’R’5iOHで表わされ
る化合物と一般式 (R’0)X、、5iR53−ウで
表わされる化合物をアミン化合物の存在下に反応させる
ことによって合成することができる。
る化合物と一般式 (R’0)X、、5iR53−ウで
表わされる化合物をアミン化合物の存在下に反応させる
ことによって合成することができる。
以下、成分Cの具体例を列挙する。なお、以下において
、Me=メチル、Bt=エチル、Pr−プロピル、Bu
=ブチル、^my=アミル、Hex二ヘキシルをそれぞ
れ示す。
、Me=メチル、Bt=エチル、Pr−プロピル、Bu
=ブチル、^my=アミル、Hex二ヘキシルをそれぞ
れ示す。
OR’R2R’5iO3i (OR’) 、で表わされ
、R’、 R3が炭化水素基の場合(R’/R2/R3
10R’と示す。
、R’、 R3が炭化水素基の場合(R’/R2/R3
10R’と示す。
但し、R’、 R”又はR3が同一の時は、R13゜R
’2/R’等と表示する。) Ne3/ OMe 、 ME!3/ OBt 、
Bts/ OMe 、 f!ts/ OEt 、
Ne2/ n−Pr/ OMe 、 Mez/ n−
Pr/ OBt 。
’2/R’等と表示する。) Ne3/ OMe 、 ME!3/ OBt 、
Bts/ OMe 、 f!ts/ OEt 、
Ne2/ n−Pr/ OMe 、 Mez/ n−
Pr/ OBt 。
Mez/ t BuloMe 、 Mea/ t−B
uloBt 、 Btz/Me/ OMe 、 B
t2/ Me/ OBt 0OR’R2R’5iO3i
(口R’) 2R’ で表わされ、R2,R3が炭化
水素基の場合(R’/R2/R’10R’ /It’と
示す。但し、R’、 R2又はR3が同一の時は、R’
、 、 R’、/R’等と表示する。)Mes 10
Me /Me 、 MesloBt / Me 、 M
e3/口Me /Bt 、 WasloBt
/Bt 、 MesloMe / 1−Pr。
uloBt 、 Btz/Me/ OMe 、 B
t2/ Me/ OBt 0OR’R2R’5iO3i
(口R’) 2R’ で表わされ、R2,R3が炭化
水素基の場合(R’/R2/R’10R’ /It’と
示す。但し、R’、 R2又はR3が同一の時は、R’
、 、 R’、/R’等と表示する。)Mes 10
Me /Me 、 MesloBt / Me 、 M
e3/口Me /Bt 、 WasloBt
/Bt 、 MesloMe / 1−Pr。
Mes 10Bt / 1−Pr 、 Mes/[]M
e / t−Bu 、 Me、10Bt / t−Bu
、 MesloMe / n−Bu 、 Meslo
Bt /n−Bu 、 MesloMe /5−Bu
、 MesloBt /5−Bu 。
e / t−Bu 、 Me、10Bt / t−Bu
、 MesloMe / n−Bu 、 Meslo
Bt /n−Bu 、 MesloMe /5−Bu
、 MesloBt /5−Bu 。
Bts 10Me /Me 、 Btsloat /M
e、 Bts/[]Me/ 1−Pr 、 Btsl
oBt / 1−Pr 、 Ne2/ n−Pr/ O
Me/Me 、 New/n−Pr10Bt /Me
、 Ne2/l−BuloMe / Bt、 Met
/ t−Bu/ DBt / Bt 、 Mea/ n
−Bu/ OBt / Me、 Ne2/ n−Bu
/ Oat / Me、 Mez/ n−Hex 1
0Ma / Me 、 Me、/ n−Hew 10B
t /Me 。
e、 Bts/[]Me/ 1−Pr 、 Btsl
oBt / 1−Pr 、 Ne2/ n−Pr/ O
Me/Me 、 New/n−Pr10Bt /Me
、 Ne2/l−BuloMe / Bt、 Met
/ t−Bu/ DBt / Bt 、 Mea/ n
−Bu/ OBt / Me、 Ne2/ n−Bu
/ Oat / Me、 Mez/ n−Hex 1
0Ma / Me 、 Me、/ n−Hew 10B
t /Me 。
Me、/s−Amy 10Me / Me 、 Ne2
/ s−^my10Bt/Me。
/ s−^my10Bt/Me。
○R’R’R’5iOSi(OR’)sテ表t) サt
L、R2が炭化水素基、R3がR’0の場合(R’/R
”/R’010R’と示す。但し、R’、 R’が同一
の時は、RI、と表示する。) Ne2/ MeO10Me 、 Ne2/ MeO/
[lBt 、 Ne2/BtO/DMe 、 M+、
/BtO10Bt 、 Ne2/1−PrO10Me
、 Ne2/ 1−PrO/DEt 、 Mez
/1−BuO/ OMe 、 Mez/ t−Bun
/ OEt 、 Ne2/ n−HexOloMe
、 Ne2/ n−HexO/ OBt 、 E
t2/ Men / OMe 。
L、R2が炭化水素基、R3がR’0の場合(R’/R
”/R’010R’と示す。但し、R’、 R’が同一
の時は、RI、と表示する。) Ne2/ MeO10Me 、 Ne2/ MeO/
[lBt 、 Ne2/BtO/DMe 、 M+、
/BtO10Bt 、 Ne2/1−PrO10Me
、 Ne2/ 1−PrO/DEt 、 Mez
/1−BuO/ OMe 、 Mez/ t−Bun
/ OEt 、 Ne2/ n−HexOloMe
、 Ne2/ n−HexO/ OBt 、 E
t2/ Men / OMe 。
Bt2/ MeD/ [lBt 、 Me/ t−Bu
/ Men / DMe 、 Me/ t−Bu/ M
eO/ OBt 、 (i−Pr) 2/ Men
/ OMe 。
/ Men / DMe 、 Me/ t−Bu/ M
eO/ OBt 、 (i−Pr) 2/ Men
/ OMe 。
(i−Pr)2/MeO/ [lBt 、 Me/ s
−Amy / Men 10Me 、 Me/ s−A
+my / Men / DBt 。
−Amy / Men 10Me 、 Me/ s−A
+my / Men / DBt 。
OR’R2R’5iO3l(OR’) 2R5で表わさ
れ、R2が炭化水素基 14sがR’Oの場合(It’
/R2/R60/[IR’ /R5と示す。但し、R1
とR2が同一の時はR12と表示する。) Ne2 / Men 10Me / Me 、 Ne2
/ MeO10Bt /Me 、 Ne2/ BtO/
[1Me / Me 、 Ne2/ BtO10Bt/
Me 、 Ne2/ 1−PrO10Me / Me
、 Ne2/ 1−PrOloBt / Me 、
Ne2/ 5−Bu[] 10Me / Me 、
Ne2/ 5−BuD / OBt / Me 、 M
E!2/ t−^myO/ OMe / Me。
れ、R2が炭化水素基 14sがR’Oの場合(It’
/R2/R60/[IR’ /R5と示す。但し、R1
とR2が同一の時はR12と表示する。) Ne2 / Men 10Me / Me 、 Ne2
/ MeO10Bt /Me 、 Ne2/ BtO/
[1Me / Me 、 Ne2/ BtO10Bt/
Me 、 Ne2/ 1−PrO10Me / Me
、 Ne2/ 1−PrOloBt / Me 、
Ne2/ 5−Bu[] 10Me / Me 、
Ne2/ 5−BuD / OBt / Me 、 M
E!2/ t−^myO/ OMe / Me。
Mez / t−^myo/ OBt / Me 、
Ne2/ n−HexO/ OMe/ Me 、 M
ez/ n−HexO/ OBt / Me 、 B
tz/ 1ieO10Me /Me 、 Bt、
/Men 10Bt / Me 、 Me/
n−Pr/MeO10Me / Bt 、 Me/
n−Pr/Men /DBt /Bt 、 Me/
1−Bu/MeO10Me /Me 、 Me/1−
Bu/MeO10Bt /Me 、 Me2/ME!
010Me /Et 。
Ne2/ n−HexO/ OMe/ Me 、 M
ez/ n−HexO/ OBt / Me 、 B
tz/ 1ieO10Me /Me 、 Bt、
/Men 10Bt / Me 、 Me/
n−Pr/MeO10Me / Bt 、 Me/
n−Pr/Men /DBt /Bt 、 Me/
1−Bu/MeO10Me /Me 、 Me/1−
Bu/MeO10Bt /Me 、 Me2/ME!
010Me /Et 。
Mez /MeO10Bt /Bt 、 Me2/M
en 10Me / 1−Pr 、 Mez/MeO
/ OBt / 1−Pr 、 Mez/ Men
10Me / t−Bu 、 Mez/ Men /
08t / t−Bu○R’R2R’5iO3i(O
R’) sで表わされ、R2がR’01R3がR70の
場合(R’/R’0 /R7010R’と示す。但し、
Rs、 R”rが同一の時は、(li’0)2と表示す
る。) Me/ (MeO)210Me 、 Me/ (Men
)210Bt 、 Bt/(Men) 2/ OMe
、 Bt/ (Men) 2/ OBt 、 Me/
(Btu) 210Me 、 Me/ (BtO)2
10Bt 、 Me/ (n−PrO)210Me
、 Me/ (n−PrO) / OBt 、 Me/
(Men) / (t−BuO)10Me 、 Me
/ (Men) / (t−Bun) 108t 00
R’R’R’5jO3i(OR’)sR’ で表わ
され、R2がR’0 、R’がR’0の場合(R’/R
’0 /R”010R’ /R’と示す。但し、R6と
R7が同一の時は、(R’口)2と表示する。) Me/ (Men) 2/ OMe/ Me 、 Me
/ (Men) 2/ OBt/Me 、 Bt/
(MeOL10Me/Me 、 Bt/ (BtOL
10Et/Me 、 1−Pr/(MeO)210M
e/Me 、 1−Pr/ (MeO)a10Bt/
Me 、 n−Bu/ (MeO)210Ma/Me
。
en 10Me / 1−Pr 、 Mez/MeO
/ OBt / 1−Pr 、 Mez/ Men
10Me / t−Bu 、 Mez/ Men /
08t / t−Bu○R’R2R’5iO3i(O
R’) sで表わされ、R2がR’01R3がR70の
場合(R’/R’0 /R7010R’と示す。但し、
Rs、 R”rが同一の時は、(li’0)2と表示す
る。) Me/ (MeO)210Me 、 Me/ (Men
)210Bt 、 Bt/(Men) 2/ OMe
、 Bt/ (Men) 2/ OBt 、 Me/
(Btu) 210Me 、 Me/ (BtO)2
10Bt 、 Me/ (n−PrO)210Me
、 Me/ (n−PrO) / OBt 、 Me/
(Men) / (t−BuO)10Me 、 Me
/ (Men) / (t−Bun) 108t 00
R’R’R’5jO3i(OR’)sR’ で表わ
され、R2がR’0 、R’がR’0の場合(R’/R
’0 /R”010R’ /R’と示す。但し、R6と
R7が同一の時は、(R’口)2と表示する。) Me/ (Men) 2/ OMe/ Me 、 Me
/ (Men) 2/ OBt/Me 、 Bt/
(MeOL10Me/Me 、 Bt/ (BtOL
10Et/Me 、 1−Pr/(MeO)210M
e/Me 、 1−Pr/ (MeO)a10Bt/
Me 、 n−Bu/ (MeO)210Ma/Me
。
n−Bu/ (Men) 2/ OBt/ Me 、
Me/ (n−Pro) 2/ OMe/ Me 、
Me/ (n−PrO) a/ OBt/ Me
、 Me/ (s−BLIO)210Me/Me 、
Me/ (s−Bun)210at/Me 。
Me/ (n−Pro) 2/ OMe/ Me 、
Me/ (n−PrO) a/ OBt/ Me
、 Me/ (s−BLIO)210Me/Me 、
Me/ (s−Bun)210at/Me 。
Me/ Men/ n−HexO/ OMe/ Me
、 Me/ Man/ n−HexO/ OBt/
Me 、 Bt/ (Men) */ OMe/ B
t 、 Bt/(Me(1) 2/ []flt/
at 、ビニル/ (Men) 、/ []Me/ビニ
ル、ビニル/ (Btu) 2/ OBt/ビニル予備
重合 固体成分(成分A)の予備重合は、有機アルミニウム化
合物(成分B)及び有機珪素化合物(成分C)の存在下
、オレフィンと接触させることによりなされる。
、 Me/ Man/ n−HexO/ OBt/
Me 、 Bt/ (Men) */ OMe/ B
t 、 Bt/(Me(1) 2/ []flt/
at 、ビニル/ (Men) 、/ []Me/ビニ
ル、ビニル/ (Btu) 2/ OBt/ビニル予備
重合 固体成分(成分A)の予備重合は、有機アルミニウム化
合物(成分B)及び有機珪素化合物(成分C)の存在下
、オレフィンと接触させることによりなされる。
オレフィンとしては、エチレンの他、プロピレン、1−
ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン等の
α−オレフィンが使用し得る。
ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン等の
α−オレフィンが使用し得る。
予備重合は、前記の不活性媒体の存在下で行うのが望ま
しい。予備重合は、通常100℃以下の温度、望ましく
は一30℃〜+30℃、更に望ましくは一20℃〜+1
5℃の温度で行なわれる。重合方式としては、バッチ式
、連続式のいずれでもよく、又二段以上の多段で行って
もよい。多段で行う場合、重合条件をそれぞれ変え得る
ことは当然である。
しい。予備重合は、通常100℃以下の温度、望ましく
は一30℃〜+30℃、更に望ましくは一20℃〜+1
5℃の温度で行なわれる。重合方式としては、バッチ式
、連続式のいずれでもよく、又二段以上の多段で行って
もよい。多段で行う場合、重合条件をそれぞれ変え得る
ことは当然である。
成分Bは、予備重合系での濃度が50〜500ミリモル
/I!、望ましくは80〜200ミリモル/lになるよ
うに用いられ、又成分A中のチタン1グラム原子当り、
4〜50.000モル、望ましくは6〜1.000モル
となるように用いられる。
/I!、望ましくは80〜200ミリモル/lになるよ
うに用いられ、又成分A中のチタン1グラム原子当り、
4〜50.000モル、望ましくは6〜1.000モル
となるように用いられる。
成分Cは、予備重合系での濃度が1〜100ミリモル/
1.望ましくは5〜50ミリモル/lになるように用い
られる。
1.望ましくは5〜50ミリモル/lになるように用い
られる。
予備重合により成分A中にオレフィンポリマーが取り込
まれるが、そのポリマー量を成分A1g当り0.1〜2
00g、特に0.5〜50gとするのが望ましい。
まれるが、そのポリマー量を成分A1g当り0.1〜2
00g、特に0.5〜50gとするのが望ましい。
上記のようにして調製された本発明の触媒成分は、前記
の不活性媒体で希釈或いは洗浄することができるが、触
媒成分の保存劣化を防止する観点からは、特に洗浄する
のが望ましい。洗浄後、必要に応じて乾燥してもよい。
の不活性媒体で希釈或いは洗浄することができるが、触
媒成分の保存劣化を防止する観点からは、特に洗浄する
のが望ましい。洗浄後、必要に応じて乾燥してもよい。
又、触媒成分を保存する場合は、出来る丈低温で保存す
るのが望ましく、−50℃〜+30℃、特に−20℃〜
+5℃の温度範囲が推奨される。
るのが望ましく、−50℃〜+30℃、特に−20℃〜
+5℃の温度範囲が推奨される。
α−オレフィンの重合
上記のようにして得られた本発明の触媒成分は、有機金
属化合物、更には必要に応じて電子供与性化合物と組み
合せて炭素数3〜10個のα−オレフィンの単独重合又
は他のモノオレフィン若しくは炭素数3〜10個のジオ
レフィンとの共重合の触媒として有用であるが、特に炭
素数3ないし6個のα−オレフィン、例えばプロピレン
、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、l−ヘキセ
ン等の単独重合又は上記のα−オレフィン相互及び/又
はエチレンとのランダム及びブロック共重合の触媒とし
て極めて優れた性能を示す。
属化合物、更には必要に応じて電子供与性化合物と組み
合せて炭素数3〜10個のα−オレフィンの単独重合又
は他のモノオレフィン若しくは炭素数3〜10個のジオ
レフィンとの共重合の触媒として有用であるが、特に炭
素数3ないし6個のα−オレフィン、例えばプロピレン
、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、l−ヘキセ
ン等の単独重合又は上記のα−オレフィン相互及び/又
はエチレンとのランダム及びブロック共重合の触媒とし
て極めて優れた性能を示す。
用い得る有機金属化合物は、周期表第■族ないし第■族
金属の有機化合物である。該化合物としては、リチウム
、マグネシウム、カルシウム、亜鉛及びアルミニウムの
有機化合物が使用し得る。これらの中でも特に、有機ア
ルミニウム化合物が好適である。用い得る有機アルミニ
ウム化合物としては、前記固体成分(成分A)の予備重
合の際に用いられる化合物の中から適宜選ばれるが、ト
リアルキルアルミニウム、特にトリエチルアルミニウム
、トリイソブチルアルミニウムが望ましい。又、これら
トリアルキルアルミニウムは、その他の有機アルミニウ
ム化合物、例えば、工業的に入手し易いジエチルアルミ
ニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチ
ルアルミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウム
エトキシド、ジエチルアルミニウムハイドライド又はこ
れらの混合物若しくは錯化合物等と併用することができ
る。
金属の有機化合物である。該化合物としては、リチウム
、マグネシウム、カルシウム、亜鉛及びアルミニウムの
有機化合物が使用し得る。これらの中でも特に、有機ア
ルミニウム化合物が好適である。用い得る有機アルミニ
ウム化合物としては、前記固体成分(成分A)の予備重
合の際に用いられる化合物の中から適宜選ばれるが、ト
リアルキルアルミニウム、特にトリエチルアルミニウム
、トリイソブチルアルミニウムが望ましい。又、これら
トリアルキルアルミニウムは、その他の有機アルミニウ
ム化合物、例えば、工業的に入手し易いジエチルアルミ
ニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチ
ルアルミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウム
エトキシド、ジエチルアルミニウムハイドライド又はこ
れらの混合物若しくは錯化合物等と併用することができ
る。
又、酸素原子や窒素原子を介して2個以上のアルミニウ
ムが結合した有機アルミニウム化合物も使用可能である
。そのような化合物としては、例えば(C2H5) 2
A10A1 (C2H5) 2 。
ムが結合した有機アルミニウム化合物も使用可能である
。そのような化合物としては、例えば(C2H5) 2
A10A1 (C2H5) 2 。
C,H。
等を例示できる。
アルミニウム金属以外の金属の有機化合物としては、ジ
エチルマグネシウム、エチルマグネシウムクロリド、ジ
エチル亜鉛等の他 LIAI (CaHs) 4. LIAI (CJ+
5) 4 等の化合物が挙げられる。
エチルマグネシウム、エチルマグネシウムクロリド、ジ
エチル亜鉛等の他 LIAI (CaHs) 4. LIAI (CJ+
5) 4 等の化合物が挙げられる。
本発明の触媒成分及び有機金属化合物と必要に応じて組
み合せることができる電子供与性化合物としては、前記
成分Aを調製する際に用いられる化合物及び前記予備重
合の際に用いられる有機珪素化合物(成分C)の中から
適宜選ばれる他、該珪素化合物以外の有機珪素化合物か
らなる電子供与性化合物や、窒素、イオウ、酸素、リン
等のへテロ原子を含む電子供与性化合物も使用可能であ
る。
み合せることができる電子供与性化合物としては、前記
成分Aを調製する際に用いられる化合物及び前記予備重
合の際に用いられる有機珪素化合物(成分C)の中から
適宜選ばれる他、該珪素化合物以外の有機珪素化合物か
らなる電子供与性化合物や、窒素、イオウ、酸素、リン
等のへテロ原子を含む電子供与性化合物も使用可能であ
る。
有機珪素化合物の具体例としては、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テ
トライソブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テ
トラ(p−メチルフェノキシ)シラン、テトラベンジル
オキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルト
リフエノキシシラン、エチルトリエトキシシラン、二チ
ルトリイソブトキシシラン、エチルトリフエノキシシラ
ン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシ
ラン、ブチルトリブトキシシラン、ブチルトリフエノキ
シシラン、イソブチルトリイソブトキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジメ
チルジイソプロポキシシラン、ジメチルジブトキシシラ
ン、ジメチルジへキシルオキシシラン、ジメチルジフェ
ノキシシラン、ジエチルジェトキシシラン、ジエチルジ
イソブトキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン、ジ
ブチルジイソプロポキシシラン、ジブチルジブトキシシ
ラン、ジブチルジフェノキシシラン、ジイソブチルジェ
トキシシラン、ジイソブチルジイソブトキシシラン、ジ
フェニルジメトキシシラン、ジフェニルジェトキシシラ
ン、ジフェニルジブトキシシラン、ジベンジルジェトキ
シシラン、ジビニルジフェノキシシラン、ジアリルジプ
ロポキシシラン、ジエチル亜鉛りルオキシシラン、メチ
ルフエニルジメトキシシラン、クロロフエニルジエトキ
シシラン等が挙げられる。
ン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テ
トライソブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テ
トラ(p−メチルフェノキシ)シラン、テトラベンジル
オキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルト
リフエノキシシラン、エチルトリエトキシシラン、二チ
ルトリイソブトキシシラン、エチルトリフエノキシシラ
ン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシ
ラン、ブチルトリブトキシシラン、ブチルトリフエノキ
シシラン、イソブチルトリイソブトキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジメ
チルジイソプロポキシシラン、ジメチルジブトキシシラ
ン、ジメチルジへキシルオキシシラン、ジメチルジフェ
ノキシシラン、ジエチルジェトキシシラン、ジエチルジ
イソブトキシシラン、ジエチルジフェノキシシラン、ジ
ブチルジイソプロポキシシラン、ジブチルジブトキシシ
ラン、ジブチルジフェノキシシラン、ジイソブチルジェ
トキシシラン、ジイソブチルジイソブトキシシラン、ジ
フェニルジメトキシシラン、ジフェニルジェトキシシラ
ン、ジフェニルジブトキシシラン、ジベンジルジェトキ
シシラン、ジビニルジフェノキシシラン、ジアリルジプ
ロポキシシラン、ジエチル亜鉛りルオキシシラン、メチ
ルフエニルジメトキシシラン、クロロフエニルジエトキ
シシラン等が挙げられる。
ヘテロ原子を含む電子供与性化合物の具体例としては、
窒素原子を含む化合物として、2゜2.6.6−チトラ
メチルピペリジン、2.6−シメチルビペリジン、2.
6−ジニチルピペリジン、2,6−ジイツブロピルピペ
リジン、2.6−ジイツブチルー4−メチルピペリジン
、1.2.2.6.6−ペンタメチルピペリジン、2.
2.5.5−テトラメチルピロリジン、2゜5−ジメチ
ルピロリジン、2.5−ジエチルピロリジン、2.5−
ジイソプロピルピロリジン、1.2,2,5.5−ペン
タメチルピロリジン、2.2.5−)ジメチルピロリジ
ン、2−メチルピリジン、3−メチルピリジン、4−メ
チルピリジン、2,6−ジイツブロビルピリジン、2.
6−ジイツブチルビリジン、1.2.4−トリメチルピ
ペリジン、2.5−ジメチルピペリジン、ニコチン酸メ
チル、ニコチン酸エチル、ニコチン酸アミド、安息香酸
アミド、2−メチルビロール、2.5−ジメチルピロー
ル、イミダゾール、トルイル酸アミド、ベンゾニトリル
、アセトニトリル、アニリン、パラトルイジン、オルト
トルイジン、メタトルイジン、トリエチルアミン、ジエ
チルアミン、ジブチルアミン、テトラメチレンジアミン
、トリブチルアミン等が、イオウ原子を含む化合物とし
て、チオフェノール、チオフェン、2−チオフェンカル
ボン酸エチル、3−チオフェンカルボン酸エチル、2−
メチルチオフェン、メチルメルカプタン、エチルメルカ
プタン、イソプロピルメルカプタン、ブチルメルカプタ
ン、ジエチルチオエーテル、ジフェニルチオエーテル、
ベンゼンスルフオン酸メチル、メチルサルファイド、エ
チルサルファイド等が、酸素原子を含む化合物として、
テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、
3−メチルテトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒド
ロフラン、2.2.5.5−テトラエチルテトラヒドロ
フラン、2.2,5゜5−テトラメチルテトラヒドロフ
ラン、2,2゜6.6−チトラエチルテトラヒドロピラ
ン、2゜2.6.6−チトラヒドロピラン、ジオキサン
、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエー
テル、ジイソアミルエーテル、ジフェニルエーテル、ア
ニソール、アセトフェノン、アセトン、メチルエチルケ
トン、アセチルアセトン、0−トリル−t−ブチルケト
ン、メチル−2,6−ジt−ブチルフェニルケトン、2
−フラル酸エチル、2−フラル酸イソアミル、2−フラ
ル酸メチル、2−フラル酸プロピル等が、リン原子を含
む化合物として、トリフェニルホスフィン、トリブチル
ホスフィン、トリフェニルホスファイト、トリベンジル
ホスファイト、ジエチルホスフェート、ジフェニルホス
フェート等が挙げられる。
窒素原子を含む化合物として、2゜2.6.6−チトラ
メチルピペリジン、2.6−シメチルビペリジン、2.
6−ジニチルピペリジン、2,6−ジイツブロピルピペ
リジン、2.6−ジイツブチルー4−メチルピペリジン
、1.2.2.6.6−ペンタメチルピペリジン、2.
2.5.5−テトラメチルピロリジン、2゜5−ジメチ
ルピロリジン、2.5−ジエチルピロリジン、2.5−
ジイソプロピルピロリジン、1.2,2,5.5−ペン
タメチルピロリジン、2.2.5−)ジメチルピロリジ
ン、2−メチルピリジン、3−メチルピリジン、4−メ
チルピリジン、2,6−ジイツブロビルピリジン、2.
6−ジイツブチルビリジン、1.2.4−トリメチルピ
ペリジン、2.5−ジメチルピペリジン、ニコチン酸メ
チル、ニコチン酸エチル、ニコチン酸アミド、安息香酸
アミド、2−メチルビロール、2.5−ジメチルピロー
ル、イミダゾール、トルイル酸アミド、ベンゾニトリル
、アセトニトリル、アニリン、パラトルイジン、オルト
トルイジン、メタトルイジン、トリエチルアミン、ジエ
チルアミン、ジブチルアミン、テトラメチレンジアミン
、トリブチルアミン等が、イオウ原子を含む化合物とし
て、チオフェノール、チオフェン、2−チオフェンカル
ボン酸エチル、3−チオフェンカルボン酸エチル、2−
メチルチオフェン、メチルメルカプタン、エチルメルカ
プタン、イソプロピルメルカプタン、ブチルメルカプタ
ン、ジエチルチオエーテル、ジフェニルチオエーテル、
ベンゼンスルフオン酸メチル、メチルサルファイド、エ
チルサルファイド等が、酸素原子を含む化合物として、
テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、
3−メチルテトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒド
ロフラン、2.2.5.5−テトラエチルテトラヒドロ
フラン、2.2,5゜5−テトラメチルテトラヒドロフ
ラン、2,2゜6.6−チトラエチルテトラヒドロピラ
ン、2゜2.6.6−チトラヒドロピラン、ジオキサン
、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエー
テル、ジイソアミルエーテル、ジフェニルエーテル、ア
ニソール、アセトフェノン、アセトン、メチルエチルケ
トン、アセチルアセトン、0−トリル−t−ブチルケト
ン、メチル−2,6−ジt−ブチルフェニルケトン、2
−フラル酸エチル、2−フラル酸イソアミル、2−フラ
ル酸メチル、2−フラル酸プロピル等が、リン原子を含
む化合物として、トリフェニルホスフィン、トリブチル
ホスフィン、トリフェニルホスファイト、トリベンジル
ホスファイト、ジエチルホスフェート、ジフェニルホス
フェート等が挙げられる。
これら電子供与性化合物は、二種以上用いてもよい。又
、これら電子供与性化合物は、有機金属化合物を触媒成
分と組合せて用いる際に用いてもよく、予め有機金属化
合物と接触させた上で用いてもよい。
、これら電子供与性化合物は、有機金属化合物を触媒成
分と組合せて用いる際に用いてもよく、予め有機金属化
合物と接触させた上で用いてもよい。
本発明の触媒成分に対する有機金属化合物の使用量は、
該触媒成分中のチタン1グラム原子当り、通常1〜2.
000グラムモル、特に20〜500グラムモルが望ま
しい。
該触媒成分中のチタン1グラム原子当り、通常1〜2.
000グラムモル、特に20〜500グラムモルが望ま
しい。
又、有機金属化合物と電子供与性化合物の比率は、電子
供与性化合物1モルに対して有機金属化合物がアルミニ
ウムとして0.1〜40、好茸しくは1〜25グラム原
子の範囲で選ばれる。
供与性化合物1モルに対して有機金属化合物がアルミニ
ウムとして0.1〜40、好茸しくは1〜25グラム原
子の範囲で選ばれる。
α−オレフィンの重合反応は、気相、液相のいずれでも
よく、液相で重合させる場合は、ノルマルブタン、イソ
ブタン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、シクロへ牛サン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の不活性炭化水素中及び液状千ツマー
中で行うことができる。重合温度は、通常−80℃〜+
150℃、好ましくは40〜120℃の範囲である。重
合圧力は、例えば1〜60気圧でよい。又、得られる重
合体の分子量の調節は、水素若しくは他の公知の分子量
調節剤を存在せしめることにより行われる。又、共重合
においてα−オレフィンに共重合させる他のオレフィン
の量は、α−オレフィンに対して通常30重量%迄、特
に0.3〜15重量%の範囲で選ばれる。重合反応は、
連続又はバッチ式反応で行い、その条件は通常用いられ
る条件でよい。又、共重合反応は一段で行ってもよく、
二段以上で行ってもよい。
よく、液相で重合させる場合は、ノルマルブタン、イソ
ブタン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、シクロへ牛サン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の不活性炭化水素中及び液状千ツマー
中で行うことができる。重合温度は、通常−80℃〜+
150℃、好ましくは40〜120℃の範囲である。重
合圧力は、例えば1〜60気圧でよい。又、得られる重
合体の分子量の調節は、水素若しくは他の公知の分子量
調節剤を存在せしめることにより行われる。又、共重合
においてα−オレフィンに共重合させる他のオレフィン
の量は、α−オレフィンに対して通常30重量%迄、特
に0.3〜15重量%の範囲で選ばれる。重合反応は、
連続又はバッチ式反応で行い、その条件は通常用いられ
る条件でよい。又、共重合反応は一段で行ってもよく、
二段以上で行ってもよい。
発明の効果
本発明は、上記の構成を採ることにより、触媒成分の強
度を向上することができると共に、該触媒成分はα−オ
レフィンの(共)重合において、高活性を維持しつつ、
高立体規則性を示し、かつ特に洗浄した触媒成分は、触
媒の保存において性能の劣化を抑制できるという優れた
効果を発揮する。
度を向上することができると共に、該触媒成分はα−オ
レフィンの(共)重合において、高活性を維持しつつ、
高立体規則性を示し、かつ特に洗浄した触媒成分は、触
媒の保存において性能の劣化を抑制できるという優れた
効果を発揮する。
実施例
本発明を実施例及び応用例により具体的に説明する。な
お、例におけるパーセント(%)は特に断らない限り重
量による。
お、例におけるパーセント(%)は特に断らない限り重
量による。
ポリマー中の結晶性ポリマーの割合を示すヘプタン不溶
分−(以下HIと略称する。)は、改良型ソックスレー
抽出器で沸騰n−ヘプタンにより6時間抽出した場合の
残量である。
分−(以下HIと略称する。)は、改良型ソックスレー
抽出器で沸騰n−ヘプタンにより6時間抽出した場合の
残量である。
実施例1
成分Aの調製
還流冷却器をつけた11の反応容器に、窒素ガス雰囲気
下、チップ状の金属マグネシウム(純度99.5%、平
均粒径1.6Iol) 8.3 g及びn−ヘキサン2
50献を入れ、68℃で1時間攪拌後、金属マグネシウ
ムを取出し、65℃で減圧乾燥するという方法で予備活
性化した金属マグネシウムを得た。
下、チップ状の金属マグネシウム(純度99.5%、平
均粒径1.6Iol) 8.3 g及びn−ヘキサン2
50献を入れ、68℃で1時間攪拌後、金属マグネシウ
ムを取出し、65℃で減圧乾燥するという方法で予備活
性化した金属マグネシウムを得た。
次に、この金属マグネシウムに、n−ブチルエーテル1
4〇−及びn−ブチルマグネシウムクロリドのn−ブチ
ルエーテル溶液(175モル/A)を0.5−加えた懸
濁液を55℃に保ち、更にn−ブチルエーテル50艷に
n−ブチルクロライド38.5 dを溶解した溶液を5
0分間で滴下した。攪拌下70℃で4時間反応を行った
後、反応液を25℃に保持した。
4〇−及びn−ブチルマグネシウムクロリドのn−ブチ
ルエーテル溶液(175モル/A)を0.5−加えた懸
濁液を55℃に保ち、更にn−ブチルエーテル50艷に
n−ブチルクロライド38.5 dを溶解した溶液を5
0分間で滴下した。攪拌下70℃で4時間反応を行った
後、反応液を25℃に保持した。
次いで、この反応液に)Ic(OC2H3)、 55
.7 mfを1時間で滴下した。滴下終了後、60℃で
15分間反応を行ない、反応生成固体をn−ヘキサン各
300−で6回洗浄し、室温で1時間減圧乾燥し、マグ
ネシウムを19.0%、塩素を28.9%を含むマグネ
シウム含有固体31.6 gを回収した。
.7 mfを1時間で滴下した。滴下終了後、60℃で
15分間反応を行ない、反応生成固体をn−ヘキサン各
300−で6回洗浄し、室温で1時間減圧乾燥し、マグ
ネシウムを19.0%、塩素を28.9%を含むマグネ
シウム含有固体31.6 gを回収した。
還流冷却器、攪拌機及び滴下ロートを取付けた3 00
m1i!の反応容器に、窒素ガス雰囲気下マグネシウム
含有固体6.3g及びn−へブタン50rnI!を入れ
懸濁液とし、室温で攪拌しながら2.2.2−トリクロ
ルエタノール2〇−(0,02ミリモル)とn−ヘプタ
ン11rnlの混合溶液を滴下ロートから30分間で滴
下し、更に80℃で1時間攪拌した。得られた固体を濾
別し、室温のn−ヘキサン各100−で4回洗浄し、更
にトルエン各1001nlで2回洗浄して固体成分を得
た。
m1i!の反応容器に、窒素ガス雰囲気下マグネシウム
含有固体6.3g及びn−へブタン50rnI!を入れ
懸濁液とし、室温で攪拌しながら2.2.2−トリクロ
ルエタノール2〇−(0,02ミリモル)とn−ヘプタ
ン11rnlの混合溶液を滴下ロートから30分間で滴
下し、更に80℃で1時間攪拌した。得られた固体を濾
別し、室温のn−ヘキサン各100−で4回洗浄し、更
にトルエン各1001nlで2回洗浄して固体成分を得
た。
上記の面体成分にトルエン40mgを加え、更に四塩化
チタン/トルエンの体積比が372になるように四塩化
チタンを加えて90℃に昇温した。攪拌下、フタル酸ジ
n−ブチル2艷とトルエン5dの混合溶液を5分間で滴
下した後、120℃で2時間攪拌した。得られた固体状
物質を90℃で濾別し、トルエン各100mI!で2回
、90℃で洗浄した。更に、新らたに四塩化チタン/ト
ルエンの体積比が372になるように四塩化チタンを加
え、120℃で2時間攪拌した。得られた固体状物質を
110℃で濾別し、室温の各100−のn−へキサンに
て7回洗浄して成分A 5.5 gを得た。
チタン/トルエンの体積比が372になるように四塩化
チタンを加えて90℃に昇温した。攪拌下、フタル酸ジ
n−ブチル2艷とトルエン5dの混合溶液を5分間で滴
下した後、120℃で2時間攪拌した。得られた固体状
物質を90℃で濾別し、トルエン各100mI!で2回
、90℃で洗浄した。更に、新らたに四塩化チタン/ト
ルエンの体積比が372になるように四塩化チタンを加
え、120℃で2時間攪拌した。得られた固体状物質を
110℃で濾別し、室温の各100−のn−へキサンに
て7回洗浄して成分A 5.5 gを得た。
予備重合
攪拌機を取付けた5 00rnlの反応器に、窒素ガス
雰囲気下、上記で得られた成分A 2.3 g及びn−
へブタン280−を入れ、攪拌しながら5℃に冷却した
。次にトリイソブチルアルミニウム(以下T I BA
Lと略称する。)のn−へブタン溶液(2,0モル/1
)及び1,1−ジメトキシ−1−イソプロピル−3,3
,3−)リメチルジシロキサン(MOPDMS)のn−
へブタン溶液(1,0モル/i)を、反応系におけるT
IBAL及びMOPDMSの濃度がそれぞれ150ミリ
モル/I!及び15ミリモル/1になるように添加し、
5分間攪拌した。次いで、系内を40mmHgに減圧し
た後、プロピレンガスを連続的に供給し、プロピレンを
90分間重合させた。重合終了後、気相のプロピレンを
窒素ガスでパージし、各100艷のn−へキサンで3回
、室温にて固相部を洗浄した。更に、面相部を室温で1
時間減圧乾燥して、触媒成分を調製した。触媒成分に含
まれるマグネシウム量を測定した結果、予備重合量は成
分A 1 g当り12、3 gであった。
雰囲気下、上記で得られた成分A 2.3 g及びn−
へブタン280−を入れ、攪拌しながら5℃に冷却した
。次にトリイソブチルアルミニウム(以下T I BA
Lと略称する。)のn−へブタン溶液(2,0モル/1
)及び1,1−ジメトキシ−1−イソプロピル−3,3
,3−)リメチルジシロキサン(MOPDMS)のn−
へブタン溶液(1,0モル/i)を、反応系におけるT
IBAL及びMOPDMSの濃度がそれぞれ150ミリ
モル/I!及び15ミリモル/1になるように添加し、
5分間攪拌した。次いで、系内を40mmHgに減圧し
た後、プロピレンガスを連続的に供給し、プロピレンを
90分間重合させた。重合終了後、気相のプロピレンを
窒素ガスでパージし、各100艷のn−へキサンで3回
、室温にて固相部を洗浄した。更に、面相部を室温で1
時間減圧乾燥して、触媒成分を調製した。触媒成分に含
まれるマグネシウム量を測定した結果、予備重合量は成
分A 1 g当り12、3 gであった。
なお、こ\でMOFDMSは次のようにして調製した。
すなわち、300m12三ロフラスコにトリメチルシラ
ノール0.451モル、トリメトキシミープロピルシラ
ン0.452モルおよびn−ブチルアミン20.5 ミ
IJモルを入れ窒素雰囲気下、80℃で1時間加熱攪拌
した。反応終了後、蒸留により1.1−ジメトキシ−1
−イソプロピル−3,3,3−)リメチルジシロキサン
を得た。沸点は187℃であった。
ノール0.451モル、トリメトキシミープロピルシラ
ン0.452モルおよびn−ブチルアミン20.5 ミ
IJモルを入れ窒素雰囲気下、80℃で1時間加熱攪拌
した。反応終了後、蒸留により1.1−ジメトキシ−1
−イソプロピル−3,3,3−)リメチルジシロキサン
を得た。沸点は187℃であった。
実施例2〜4
実施例1の予備重合において、MOPDMSの代りに、
第1表に示す有機珪素化合物を、又TIBALもしくは
TIBALの代りにトリエチルアルミニウム(TEAL
)をそれぞれ第1表に示す濃度で用い、かつ予備重合条
件を第1表に示す通りにした以外は、実施例1と同様に
して成分Aの予備重合を行い、触媒成分を調製した。
第1表に示す有機珪素化合物を、又TIBALもしくは
TIBALの代りにトリエチルアルミニウム(TEAL
)をそれぞれ第1表に示す濃度で用い、かつ予備重合条
件を第1表に示す通りにした以外は、実施例1と同様に
して成分Aの予備重合を行い、触媒成分を調製した。
比較例1
予備重合を行なわなかった以外は、実施例1と同様にし
て触媒成分(成分A)を調製した。
て触媒成分(成分A)を調製した。
比較例2
実施例1の予備重合において、有機珪素化合物を用いず
、かつ予備重合条件を第1表に示す通りにした以外は実
施例1と同様にして成分Aの予備重合を行い、触媒成分
を調製した。
、かつ予備重合条件を第1表に示す通りにした以外は実
施例1と同様にして成分Aの予備重合を行い、触媒成分
を調製した。
比較例3
実施例1の予備重合において、MOPDMSの代りに、
ジメチルジメトキシシランを用い、かつ予備重合条件を
第1表に示す通りにした以外は、実施例1と同様にして
成分Aの予備重合を行い、触媒成分を調製した。
ジメチルジメトキシシランを用い、かつ予備重合条件を
第1表に示す通りにした以外は、実施例1と同様にして
成分Aの予備重合を行い、触媒成分を調製した。
参考例1.2
実施例1の予備重合において、MOPDMSの代りに、
ジフェニルジメトキシシラン又はジフェニルジメトキシ
シランを用い、かつ予備重合条件を第1表に示す通りに
した以外は、実施例1と同様にして成分Aの予備重合を
行い、触媒成分を調製した。
ジフェニルジメトキシシラン又はジフェニルジメトキシ
シランを用い、かつ予備重合条件を第1表に示す通りに
した以外は、実施例1と同様にして成分Aの予備重合を
行い、触媒成分を調製した。
応用例1
プロピレンの重合
攪拌機を設けた1、 51!のステンレス製オートクレ
ーブに、窒素ガス雰囲気下、TEA 1のn−へブタン
溶液(0,1モル/1)2WIl及びMOPDMSのn
−へブタン溶液(0,01モル/1)2rILlを混合
し5分間保持したものを入れた。次いで、分子量制御剤
としての水素ガス600ml及び液体プロピレン11を
圧入した後、反応系を70℃に昇温した。実施例1で得
られた触媒成分40■を反応系に装入した後、1時間プ
ロピレンの重合を行った。重合終了後、未反応のプロピ
レンをパージし、HI97.7%の白色ポリプロピレン
粉末を得た。成分A1g・1時間当りのポリプロピレン
生成量(CE)は47.2眩であった。
ーブに、窒素ガス雰囲気下、TEA 1のn−へブタン
溶液(0,1モル/1)2WIl及びMOPDMSのn
−へブタン溶液(0,01モル/1)2rILlを混合
し5分間保持したものを入れた。次いで、分子量制御剤
としての水素ガス600ml及び液体プロピレン11を
圧入した後、反応系を70℃に昇温した。実施例1で得
られた触媒成分40■を反応系に装入した後、1時間プ
ロピレンの重合を行った。重合終了後、未反応のプロピ
レンをパージし、HI97.7%の白色ポリプロピレン
粉末を得た。成分A1g・1時間当りのポリプロピレン
生成量(CE)は47.2眩であった。
応用例2〜7
実施例1で得られた触媒成分に代えて、実施例2〜4で
得られた触媒成分を用い、かつMOPDMSの代りに第
2表に示す電子供与性化合物を用いるか用いない以外は
、応用例1と同様にしてプロピレンの重合を行い、それ
らの結果を第2表に示した。
得られた触媒成分を用い、かつMOPDMSの代りに第
2表に示す電子供与性化合物を用いるか用いない以外は
、応用例1と同様にしてプロピレンの重合を行い、それ
らの結果を第2表に示した。
応用例8〜15
実施例1で得られた触媒成分に代えて、比較例1〜3及
び参考例1.2で得られた触媒成分を用い、かつMOP
DMSの代りに第2表に示す電子供与性化合物を用いる
か用いない以外は、応用例1と同様にしてプロピレンの
重合を行い、それらの結果を第2表に示した。
び参考例1.2で得られた触媒成分を用い、かつMOP
DMSの代りに第2表に示す電子供与性化合物を用いる
か用いない以外は、応用例1と同様にしてプロピレンの
重合を行い、それらの結果を第2表に示した。
応用例 触媒成分
実施例1
〃 2
〃 2
〃 2
〃 3
〃 3
〃 4
比較例1
〃 2
〃 2
〃 2
〃 3
〃 3
参考例1
〃 2
第2表
電子供与性化合物
CE旧
(にg/g・成分A) (%)
MesSiOSi (OMe) ai−PrMesSi
O3i (OMe) zMeMasSiO3i (OB
t) s MasSiO3i (014a) s MasSi (OMe) z n−PrSi (OBt)s n−PrSi (OBt) s MesSiOSi (OBt) 5 n−PrSi (DBt) s MesSiOSi (OMe) s MaaSi (OMe) z (CJs) aSi (0勧)。
O3i (OMe) zMeMasSiO3i (OB
t) s MasSiO3i (014a) s MasSi (OMe) z n−PrSi (OBt)s n−PrSi (OBt) s MesSiOSi (OBt) 5 n−PrSi (DBt) s MesSiOSi (OMe) s MaaSi (OMe) z (CJs) aSi (0勧)。
C@HsSI (OBt) s
47.2
47.4
42.9
48.8
46.9
24.3
29.7
22、5”+
40.5
32.4
35.4
21.6
16.8
33.4
28.1
97.7
97.9
98.3
93.8
98.2
94.7
96.3
93.6
94.0
65.1
93.5
93.4
86.3
97.2
97.0
第1図は、本発明の触媒成分の調製工程を示すフローチ
ャート図である。
ャート図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (A)マグネシウム、チタン、ハロゲン及び電子供与性
化合物を必須成分とする固体成分を、 (B)有機アルミニウム化合物及び (C)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R^1、R^4およびR^5は同一か異なる炭
素数1〜10個の炭化水素基、R^2は炭素数1〜10
個の炭化水素基若しくはR^6O、R^3は炭素数1〜
10個の炭化水素基若しくはR^7Oであり、xは2若
しくは3、R^6及びR^7は同一か異なる炭素数1〜
10個の炭化水素基である。〕で表わされる有機珪素化
合物の存在下、 (D)オレフィン と接触させてなるα−オレフィン重合用触媒成分。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10874990A JP2772574B2 (ja) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | α―オレフィン重合用触媒成分 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10874990A JP2772574B2 (ja) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | α―オレフィン重合用触媒成分 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH048707A true JPH048707A (ja) | 1992-01-13 |
JP2772574B2 JP2772574B2 (ja) | 1998-07-02 |
Family
ID=14492535
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10874990A Expired - Fee Related JP2772574B2 (ja) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | α―オレフィン重合用触媒成分 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2772574B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE1017695A3 (fr) * | 2005-09-30 | 2009-04-07 | Samsung Total Petrochemicals | Procede de production de polymere de propylene en utilisant un compose d'alcoxysilane contenant un groupement trialkylsilyle dans la structure moleculaire. |
-
1990
- 1990-04-26 JP JP10874990A patent/JP2772574B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE1017695A3 (fr) * | 2005-09-30 | 2009-04-07 | Samsung Total Petrochemicals | Procede de production de polymere de propylene en utilisant un compose d'alcoxysilane contenant un groupement trialkylsilyle dans la structure moleculaire. |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2772574B2 (ja) | 1998-07-02 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |