JPH0433566B2 - - Google Patents
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- JPH0433566B2 JPH0433566B2 JP10947386A JP10947386A JPH0433566B2 JP H0433566 B2 JPH0433566 B2 JP H0433566B2 JP 10947386 A JP10947386 A JP 10947386A JP 10947386 A JP10947386 A JP 10947386A JP H0433566 B2 JPH0433566 B2 JP H0433566B2
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- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 52
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 32
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 16
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 description 6
- 238000009763 wire-cut EDM Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
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- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
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- Automatic Control Of Machine Tools (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、加工槽に加工液を充満し、被加工
物を浸漬加工する放電加工装置の高精度化に関す
るものである。
物を浸漬加工する放電加工装置の高精度化に関す
るものである。
第４図は従来の被加工物を浸漬加工するワイヤ
放電加工装置の説明図である。図において、１０
はワイヤ電極、１２はワーク取付定盤１４上に設
置された被加工物である。１６は加工用電源であ
り、ワイヤ電極１０及びワーク取付定盤１４を介
して被加工物１２に放電電力を供給する。１８，
２０は各々上、下ワイヤガイドであり、ワイヤ電
極１０を被加工物１２の上、下で摺動自在に保持
するとともに、微少間隙に加工液タンク２２より
ポンプ２４により供給される加工液を噴出供給す
る。２６は加工槽であり、上、下ワイヤガイド１
８，２０から噴出される加工液をうけると共に、
被加工物１２を浸漬するために、加工液を満たす
ように形成されている。２８はＸ−Ｙクロステー
ブルであり、加工槽２６、ワーク取付定盤１４、
被加工物１２を積載すると共に、ボールネジ３０
によりそれに直結されたモータ３２の回転力が直
線移動力に変換され、ワイヤ電極１０に対してＸ
−Ｙ方向に相対移動可能に形成されている。３４
は検出器で、テーブル２８の移動速度と座標位置
を検出し、NC制御装置３６にフイードバツクし
ている。３８はベツドであり、テーブル移動機構
を積載保持している。図では簡単のために１軸の
みの構造を示す。又符号Ａ，Ｂ，Ｃは加工槽２６
にレベルを変えて加工液を満した時のそれぞれの
液面高さを示している。
放電加工装置の説明図である。図において、１０
はワイヤ電極、１２はワーク取付定盤１４上に設
置された被加工物である。１６は加工用電源であ
り、ワイヤ電極１０及びワーク取付定盤１４を介
して被加工物１２に放電電力を供給する。１８，
２０は各々上、下ワイヤガイドであり、ワイヤ電
極１０を被加工物１２の上、下で摺動自在に保持
するとともに、微少間隙に加工液タンク２２より
ポンプ２４により供給される加工液を噴出供給す
る。２６は加工槽であり、上、下ワイヤガイド１
８，２０から噴出される加工液をうけると共に、
被加工物１２を浸漬するために、加工液を満たす
ように形成されている。２８はＸ−Ｙクロステー
ブルであり、加工槽２６、ワーク取付定盤１４、
被加工物１２を積載すると共に、ボールネジ３０
によりそれに直結されたモータ３２の回転力が直
線移動力に変換され、ワイヤ電極１０に対してＸ
−Ｙ方向に相対移動可能に形成されている。３４
は検出器で、テーブル２８の移動速度と座標位置
を検出し、NC制御装置３６にフイードバツクし
ている。３８はベツドであり、テーブル移動機構
を積載保持している。図では簡単のために１軸の
みの構造を示す。又符号Ａ，Ｂ，Ｃは加工槽２６
にレベルを変えて加工液を満した時のそれぞれの
液面高さを示している。
上記のような従来のワイヤ放電加工装置で被加
工物１２を加工する場合、あらかじめ設定された
プログラムに従つてNC制御装置３６から移動指
令をモータ３２に送り、ボールネジ３０によりモ
ータ３２の回転角を直線移動量に変換し、Ｘ−Ｙ
クロステーブル２８、加工槽２６、ワーク取付定
盤１４を介して載置された被加工物１２を、上、
下のワイヤガイド１８，２０間に張架、送給され
ているワイヤ電極１０に対して相対的に移動させ
る。そして、その際上、下ワイヤガイド１８，２
０から噴出される加工液を介して、ワイヤ電極１
０と被加工物１２の間に電源１６より放電電力を
供給し、放電を発生させて被加工物１２を上記プ
ログラム形状に従つて切断加工する。
工物１２を加工する場合、あらかじめ設定された
プログラムに従つてNC制御装置３６から移動指
令をモータ３２に送り、ボールネジ３０によりモ
ータ３２の回転角を直線移動量に変換し、Ｘ−Ｙ
クロステーブル２８、加工槽２６、ワーク取付定
盤１４を介して載置された被加工物１２を、上、
下のワイヤガイド１８，２０間に張架、送給され
ているワイヤ電極１０に対して相対的に移動させ
る。そして、その際上、下ワイヤガイド１８，２
０から噴出される加工液を介して、ワイヤ電極１
０と被加工物１２の間に電源１６より放電電力を
供給し、放電を発生させて被加工物１２を上記プ
ログラム形状に従つて切断加工する。
又高精度加工を実施する場合、放電エネルギに
よる発熱の影響で被加工物１２が熱変形すること
を防止するため、加工槽２６に被加工物１２が浸
漬されるまで加工液を充満させ（第４図のＡのレ
ベル）て放電加工する。さらに従来のワイヤ放電
加工装置は、上記のように加工槽２６の加工液の
レベルＡ，Ｂ，Ｃを変えて放電加工されると、加
工液重量が変化する。第５図は加工槽２６に加工
液を各々のレベルＡ，Ｂ，Ｃまで満してＸ−Ｙク
ロステーブル２８を送つた場合、ワイヤ電極１０
に対する被加工物１２の相対移動量がNC指令値
と実際位置との間で生ずる誤差を示す線図であ
る。図において、横軸はＸ−Ｙクロステーブル２
８のＸ軸方向を示し、縦軸は送り誤差を示す。
よる発熱の影響で被加工物１２が熱変形すること
を防止するため、加工槽２６に被加工物１２が浸
漬されるまで加工液を充満させ（第４図のＡのレ
ベル）て放電加工する。さらに従来のワイヤ放電
加工装置は、上記のように加工槽２６の加工液の
レベルＡ，Ｂ，Ｃを変えて放電加工されると、加
工液重量が変化する。第５図は加工槽２６に加工
液を各々のレベルＡ，Ｂ，Ｃまで満してＸ−Ｙク
ロステーブル２８を送つた場合、ワイヤ電極１０
に対する被加工物１２の相対移動量がNC指令値
と実際位置との間で生ずる誤差を示す線図であ
る。図において、横軸はＸ−Ｙクロステーブル２
８のＸ軸方向を示し、縦軸は送り誤差を示す。
なお、符号A1、B1、C1で示す曲線は、加工液
をレベルＡ，Ｂ，Ｃまでがそれぞれ満たしてＸ−
Ｙクロステーブル２８を送つた場合を示す。第５
図の結果から加工液のレベルが高く、その重量が
大きいとＸ−Ｙクロステーブル２８、ベツド３８
の静的変形量も大きくなつて、送り誤差も大きく
なることを示す。
をレベルＡ，Ｂ，Ｃまでがそれぞれ満たしてＸ−
Ｙクロステーブル２８を送つた場合を示す。第５
図の結果から加工液のレベルが高く、その重量が
大きいとＸ−Ｙクロステーブル２８、ベツド３８
の静的変形量も大きくなつて、送り誤差も大きく
なることを示す。
従来のワイヤ放電加工装置においては、加工槽
に満たす加工液重量が変化して、Ｘ−Ｙクロステ
ーブル２８、ベツド３８の静的変形量が変化して
も、その状態でＸ−Ｙクロステーブル２８を送る
から、ワイヤ電極１０に対する被加工物１２の実
際の相対移動量とNC指令値との間で誤差を生
じ、安定した高精度加工ができないという問題が
あつた。
に満たす加工液重量が変化して、Ｘ−Ｙクロステ
ーブル２８、ベツド３８の静的変形量が変化して
も、その状態でＸ−Ｙクロステーブル２８を送る
から、ワイヤ電極１０に対する被加工物１２の実
際の相対移動量とNC指令値との間で誤差を生
じ、安定した高精度加工ができないという問題が
あつた。
この発明は、かかる問題点を解決するためにな
されたもので、NC指令値を補正して高精度加工
が可能となる放電加工装置を得ることを目的とす
る。
されたもので、NC指令値を補正して高精度加工
が可能となる放電加工装置を得ることを目的とす
る。
この発明は、加工槽内で被加工物と電極との微
小間隙に加工液を介在させながら放電させ、NC
指令により上記被加工物と電極とを相対移動させ
ながら、上記被加工物を所望の形状に加工する放
電加工装置において、上記の問題点を解決するた
めに、上記加工槽内の加工液の液面を検出する液
面検出手段と、この液面検出手段により検出され
た加工液面に相当する加工液重量に応じた上記被
加工物と電極との相対移動時の各座標値での送り
誤差に対応した補正値を記憶する補正値記憶手段
と、上記補正値記憶手段に記憶された補正値を呼
び出してこの補正値によりNC指令値を補正し、
上記被加工物と電極との相対移動を制御する制御
手段とを備えたものである。
小間隙に加工液を介在させながら放電させ、NC
指令により上記被加工物と電極とを相対移動させ
ながら、上記被加工物を所望の形状に加工する放
電加工装置において、上記の問題点を解決するた
めに、上記加工槽内の加工液の液面を検出する液
面検出手段と、この液面検出手段により検出され
た加工液面に相当する加工液重量に応じた上記被
加工物と電極との相対移動時の各座標値での送り
誤差に対応した補正値を記憶する補正値記憶手段
と、上記補正値記憶手段に記憶された補正値を呼
び出してこの補正値によりNC指令値を補正し、
上記被加工物と電極との相対移動を制御する制御
手段とを備えたものである。
この発明においては、加工槽の液量（重量）に
応じて生じる被加工物と電極との相対移動時の各
座標位置での送り誤差に対応した補正値が、あら
かじめNC制御装置の補正値記憶手段に入力さ
れ、放電加工に際して補正値記憶手段から呼び出
された補正値によりNC指令値を補正しながら被
加工物と電極との相対移動を制御するので、ワイ
ヤ電極と被加工物との相対位置関係は加工液の液
量（重量）に関係なく一定になり、高精度の位置
決めができる。
応じて生じる被加工物と電極との相対移動時の各
座標位置での送り誤差に対応した補正値が、あら
かじめNC制御装置の補正値記憶手段に入力さ
れ、放電加工に際して補正値記憶手段から呼び出
された補正値によりNC指令値を補正しながら被
加工物と電極との相対移動を制御するので、ワイ
ヤ電極と被加工物との相対位置関係は加工液の液
量（重量）に関係なく一定になり、高精度の位置
決めができる。
第１図はこの発明の一実施例の構成図である。
図において、第４図に示す従来の放電加工装置と
同一符号はこれと同等のものを示す。５０は液面
検出手段であり、液面を検知することにより液量
を検出するように構成されている。そしてその検
出液量はNC制御装置３６ａにフードバツクされ
るようになつている。
図において、第４図に示す従来の放電加工装置と
同一符号はこれと同等のものを示す。５０は液面
検出手段であり、液面を検知することにより液量
を検出するように構成されている。そしてその検
出液量はNC制御装置３６ａにフードバツクされ
るようになつている。
第２図ａはNC制御装置３６ａ内部の処理の概
略を示すブロツク図である。５２は液面レベルカ
ウンターであり、液面検出手段５０の検出信号を
受けてCPU５４に現在の加工槽２６の液量情報
を送信する。５６は現在値カウンターであり、Ｘ
軸、Ｙ軸モータ３２に直結されているそれぞれの
検出器３４からの信号を受け、CPU５４にテー
ブル２８の現在位置情報を伝達する。５８は補正
値記憶装置であり、あらかじめ液面レベルカウン
タ５２、現在値カウンタ５６の各データに対応し
たテーブル２８の各座標位置の送り誤差を測長器
６０（第２図ｂ参照）で測定し、その結果より作
成された補正値を記憶する。６２は駆動ユニツト
であり、CPU５４から出された移動指令に応じ
た出力を各モータ３２に送り、テーブル２８を駆
動する。
略を示すブロツク図である。５２は液面レベルカ
ウンターであり、液面検出手段５０の検出信号を
受けてCPU５４に現在の加工槽２６の液量情報
を送信する。５６は現在値カウンターであり、Ｘ
軸、Ｙ軸モータ３２に直結されているそれぞれの
検出器３４からの信号を受け、CPU５４にテー
ブル２８の現在位置情報を伝達する。５８は補正
値記憶装置であり、あらかじめ液面レベルカウン
タ５２、現在値カウンタ５６の各データに対応し
たテーブル２８の各座標位置の送り誤差を測長器
６０（第２図ｂ参照）で測定し、その結果より作
成された補正値を記憶する。６２は駆動ユニツト
であり、CPU５４から出された移動指令に応じ
た出力を各モータ３２に送り、テーブル２８を駆
動する。
第２図ｂは、測長器６０の斜視図である。
上記のように構成されたワイヤ放電加工装置に
おいて、従来と同様にワイヤ電極１０に対して被
加工物１２を相対移動させながら放電加工する。
おいて、従来と同様にワイヤ電極１０に対して被
加工物１２を相対移動させながら放電加工する。
その際、加工槽２６に満たされた加工液量は液
面検出器５０で検出され、液面レベルカウンタ５
２から液量情報としてNC制御装置３６ａのCPU
５４に送られる。さらに、順次変化するテーブル
２８の各座標位置は検出器３４により検出され、
現在値カウンタ５６によりテーブル２８の現在値
情報としてCPU５４に送られる。CPU５４では
前記液量情報とテーブル現在値情報を比較し、そ
れに対応した補正値を補正値記憶装置５８から呼
び出す。次にCPU５４では、プログラムによる
移動指令に補正値を加えて、ワイヤ電極１０と被
加工物１２との相対位置がプログラム指定通りに
なるよるに駆動ユニツト６２に指令し、Ｘ軸、Ｙ
軸の駆動を制御する。
面検出器５０で検出され、液面レベルカウンタ５
２から液量情報としてNC制御装置３６ａのCPU
５４に送られる。さらに、順次変化するテーブル
２８の各座標位置は検出器３４により検出され、
現在値カウンタ５６によりテーブル２８の現在値
情報としてCPU５４に送られる。CPU５４では
前記液量情報とテーブル現在値情報を比較し、そ
れに対応した補正値を補正値記憶装置５８から呼
び出す。次にCPU５４では、プログラムによる
移動指令に補正値を加えて、ワイヤ電極１０と被
加工物１２との相対位置がプログラム指定通りに
なるよるに駆動ユニツト６２に指令し、Ｘ軸、Ｙ
軸の駆動を制御する。
第３図はこのようにしてＸ−Ｙクロステーブル
２８を制御した場合の送り誤差を表わす線図であ
る。図において、縦軸は送り誤差、横軸はＸ−Ｙ
クロステーブル２８のＸ軸方向を示す。符号A1、
B1、C1は加工槽２６にレベルＡ、Ｂ、Ｃまで、
それぞれ加工液を満たして放電加工した場合を示
す。
２８を制御した場合の送り誤差を表わす線図であ
る。図において、縦軸は送り誤差、横軸はＸ−Ｙ
クロステーブル２８のＸ軸方向を示す。符号A1、
B1、C1は加工槽２６にレベルＡ、Ｂ、Ｃまで、
それぞれ加工液を満たして放電加工した場合を示
す。
第３図の結果から、送り誤差はほとんど無くな
ることが明らかである。又第３図はＸ軸について
示しているが、Ｙ軸についても同様の結果が得ら
れる。
ることが明らかである。又第３図はＸ軸について
示しているが、Ｙ軸についても同様の結果が得ら
れる。
上記実施例ではワイヤ放電加工装置について説
明したが、型彫放電加工装置でもよい。又、第１
図の液面検出レベルは３段階で検出する場合を示
したが、検出レベル数を増加すればさらに細かい
補正をすることができ、より安定した高精度加工
が可能となる効果がある。
明したが、型彫放電加工装置でもよい。又、第１
図の液面検出レベルは３段階で検出する場合を示
したが、検出レベル数を増加すればさらに細かい
補正をすることができ、より安定した高精度加工
が可能となる効果がある。
以上説明したように、この発明によれば、加工
槽の液量（重量）に応じて生じる被加工物と電極
との相対移動時の各座標位置での送り誤差に対応
した補正値を予め記憶しておき、この補正値によ
つてNC指令値を補正しながら被加工物と電極の
相対移動を制御するので、加工槽の液量によら
ず、高精度の加工を安定して行なうことができる
効果がある。
槽の液量（重量）に応じて生じる被加工物と電極
との相対移動時の各座標位置での送り誤差に対応
した補正値を予め記憶しておき、この補正値によ
つてNC指令値を補正しながら被加工物と電極の
相対移動を制御するので、加工槽の液量によら
ず、高精度の加工を安定して行なうことができる
効果がある。
第１図はこの発明の一実施例の説明図、第２図
ａはNC制御装置内部の処理の概略を示すブロツ
ク図、第２図ｂは測長器の斜視図、第３図は送り
誤差を表わす線図、第４図は従来のワイヤ放電加
工装置の説明図、第５図は送り誤差を表わす線図
である。 図において、１０はワイヤ電極、１２は被加工
物、１８，２０はワイヤガイド部分、２６は加工
槽、１８はＸ−Ｙクロステーブル、３６ａはNC
制御装置、５０は液面検出手段、５２は液面レベ
ルカウンター、５４はCPU、５６は現在値カウ
ンター、５８は補正値記憶装置、６０は測長器、
６２は駆動ユニツトである。なお各図中、同一符
号は同一又は相当部分を示す。
ａはNC制御装置内部の処理の概略を示すブロツ
ク図、第２図ｂは測長器の斜視図、第３図は送り
誤差を表わす線図、第４図は従来のワイヤ放電加
工装置の説明図、第５図は送り誤差を表わす線図
である。 図において、１０はワイヤ電極、１２は被加工
物、１８，２０はワイヤガイド部分、２６は加工
槽、１８はＸ−Ｙクロステーブル、３６ａはNC
制御装置、５０は液面検出手段、５２は液面レベ
ルカウンター、５４はCPU、５６は現在値カウ
ンター、５８は補正値記憶装置、６０は測長器、
６２は駆動ユニツトである。なお各図中、同一符
号は同一又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 加工槽内で被加工物と電極との微小間隙に加
工液を介在させながら放電させ、NC指令により
上記被加工物と電極とを相対移動させながら、上
記被加工物を所望の形状に加工する放電加工装置
において、 上記加工槽内の加工液の液面を検出する液面検
出手段と、 この液面検出手段により検出された加工液面に
相当する加工液重量に応じた上記被加工物と電極
との相対移動時の各座標値での送り誤差に対応し
た補正値を記憶する補正値記憶手段と、 上記補正値記憶手段に記憶された補正値を呼び
出してこの補正値によりNC指令値を補正し、上
記被加工物と電極との相対移動を制御する制御手
段とを備えたことを特徴とする放電加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10947386A JPS62271633A (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 放電加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10947386A JPS62271633A (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 放電加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62271633A JPS62271633A (ja) | 1987-11-25 |
| JPH0433566B2 true JPH0433566B2 (ja) | 1992-06-03 |
Family
ID=14511124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10947386A Granted JPS62271633A (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 放電加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62271633A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4850316B1 (ja) | 2011-04-11 | 2012-01-11 | 三菱電機株式会社 | 放電加工装置 |
| JP5226839B2 (ja) | 2011-08-17 | 2013-07-03 | ファナック株式会社 | 位置決め精度補正機能を備えたワイヤ放電加工機 |
| JP6567853B2 (ja) * | 2015-03-30 | 2019-08-28 | ファナック株式会社 | 軸送り特性を変更する放電加工機 |
| JP6250897B2 (ja) | 2015-07-28 | 2017-12-20 | ファナック株式会社 | 被加工物の重量を自動算出する機能を有する放電加工機 |
-
1986
- 1986-05-15 JP JP10947386A patent/JPS62271633A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62271633A (ja) | 1987-11-25 |
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