JPH0363816B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体装置に用いるウエハを鉛直
に保持して顕微鏡で観察し検査するウエハ表面検
査装置に関するものである。

〔従来の技術〕

第２図は従来のウエハ表面検査装置の一例を示
す斜視図で、１は台座、Ｍは顕微鏡、２は前記顕
微鏡Ｍの焦点制御部、３はジヨイステイツク、４
はウエハ送出部およびウエハ受取部を形成するロ
ーラ、５はＯリング、６はウエハ固定台座として
の真空チヤツク、７は接眼レンズ、８は鏡筒、９
は光源ランプ、１０は対物レンズ、１１はローラ
台、１２はレボルバ、１３はキヤリア、１４は被
検査物としてのウエハである。

通常、第２図の装置を使用してウエハ１４の表
面を検査する場合、次の手順で行う。

まず、ウエハ送出用のキヤリア１３に被検査物
としてのウエハ１４を収納してウエハ送出側に載
置し、一方、空のキヤリア１３をウエハ受取側に
載置する。次いで、光源ランプ９、焦点制御部２
およびローラ４用の電源を入れる。このとき、真
空チヤツク６のバキユームラインを動作させる。

次に、ウエハ１４を検査するには、まず、ウエ
ハ送出部のキヤリア１３に収納されているウエハ
１４を搬送系であるローラ４を回転させ、Ｏリン
グ５によつて真空チヤツク６の上に載置してから
バキユームを使用してウエハ１４を吸い付けて固
定する。その後、ウエハ１４の表面を接眼レンズ
７、鏡筒８、対物レンズ１０からなる顕微鏡Ｍで
観察し検査するが、このとき、プロセス中の所要
工程あるいはパターン寸法に応じてレボルバ１２
を回わして対物レンズ１０の倍率を選定する。こ
の検査の段階でパターン切れの悪いもの、エツチ
ング状態の悪いウエハ１４、あるいは欠陥密度の
多いウエハ１４は抜き取り、写真製版のやり直
し、エツチングの追加あるいは脱落ウエハとして
取り扱い、検査に合格したウエハ１４のみをウエ
ハ受取部の空のキヤリア１３へ搬送系であるロー
ラ４を回転させてＯリング５で送り込む。

このウエハ検査作業では焦点制御部２でもつて
ウエハ１４への焦点を合わせ、ジヨイステイツク
３で真空チヤツク６をｘ、ｙ方向に移動させ、ウ
エハ１４の表面を任意に観察し検査する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記のような従来のウエハ表面検査装置では、
ウエハ１４を検査する場合、ウエハ１４の送り出
しからウエハ１４の観察、検査、ウエハ１４の受
け取りの搬送過程までウエハ１４の表面が台座１
と平行であつて、水平の状態で搬送されるため、
ウエハ１４の搬送時やウエハ検査時において、作
業者等から発生する塵埃等の異物がウエハ１４の
表面に付着し、パターン欠陥を引きおこしてい
た。これにより、次段の工程で行うところのエツ
チングの仕上りが不完全となり、集積回路の製造
歩留りを大幅に低下させる等の問題点があつた。

この発明は、上記の問題点を解消するためにな
されたもので、ウエハを鉛直に保持して搬送し、
観察・検査することにより、周囲から発生する塵
埃がウエハ表面に付着しないようにしたウエハ表
面検査装置を得ることを目的とする。

〔問題点を解消するための手段〕

この発明にかかるウエハ表面検査装置は、ウエ
ハ送出部にウエハを鉛直に収納するキヤリアと、
ウエハをキヤリアから鉛直に取り出す手段とを設
け、ウエハ固定台座にウエハを観察し検査するた
めに鉛直に吸着する吸着手段を設け、ウエハ受取
部に検査終了後のウエハをウエハ固定台座から鉛
直に受け取り空のキヤリアに鉛直収納する手段と
を設けたものである。

〔作用〕

この発明においては、キヤリア内のウエハを鉛
直に取り出してウエハをウエハ固定台座に鉛直に
吸着する。次いで顕微鏡で観察し検査した後のウ
エハをウエハ固定台座から鉛直に受け取り空のキ
ヤリアへ鉛直に収納する。

〔実施例〕 第１図ａ，ｂ，ｃはこの発明の一実施例を示す
側面図、正面図、平面図で、第２図と同一符号は
同一部分を示し、顕微鏡Ｍはこの実施例において
は反射用のミラーを増設したものである。１５は
前記顕微鏡Ｍの支柱、１６は前記真空チヤツク６
の台座、１７はウエハ送出部に設けた送出用可動
真空チヤツク、１８は前記送出用可動真空チヤツ
ク１７を支持する支柱、１９はウエハ送出部に設
けられウエハが鉛直に収納されたキヤリア１３を
移動する送出用キヤリア搬送台、２０は前記ウエ
ハ１４のウエハ上下バー、２１はウエハ受取部に
設けられウエハを鉛直に収納する空のキヤリア１
３を移動する受取用キヤリア搬送台、２２はウエ
ハ受取部に設けた受取用可動真空チヤツクで、支
柱１８に支持されている。２３は前記支柱１８が
スライドする搬送スリツトである。

次に、動作について説明する。

第１図ａ〜ｃにおいて、ウエハ１４を鉛直に収
納したキヤリア１３を台座１に向かつて左側の送
出用キヤリア搬送台１９に装着する。同時に右側
に受取用キヤリア搬送台２１にも空のキヤリア１
３を装着する。次に、送出用のキヤリア１３に収
納されているウエハ１４のうち端部のウエハ１４
から順次ウエハ上下バー２０によつて上方に押し
上げる。このとき、送出用可動真空チヤツク１７
でウエハ１４の裏面を鉛直に吸着する。そして、
送出用可動真空チヤツク１７に吸着された後、ウ
エハ上下レバー２０でウエハ１４をわずかに持ち
上げてウエハ１４の下端をキヤリア１３の上端か
ら離す。その後、真空チヤツク６の面に平行とな
る位置まで送出用可動真空チヤツク１７を移動
し、搬送スリツト２３に案内されながら移動し、
ウエハ１４を真空チヤツク６に固定する。この場
合、真空チヤツク６は左右から水平に切り込みが
あり、この切込部分に送出用可動真空チヤツク１
７が入るようになるので、ウエハ１４の受渡しに
は支障がない。受取用可動真空チヤツク２２につ
いても同様である。たゞし、ウエハ１４の中心か
らずれた位置で両真空チヤツク１７，２２は吸着
を行うことになる。次いで、対物レンズ１０の倍
率を、例えば80倍に固定した後、焦点制御部２、
ジヨイステイツク３を操作し、検査基準に従い、
ウエハ１４の表面を観察する。その結果、パター
ンに何等かの異常がある場合は写真製版のやり直
し、あるいは脱落ウエハとして取り除き、検査基
準に合格したウエハ１４のみを受取用可動真空チ
ヤツク２２へ送り込む。そして、上記と逆の操作
で受取用可動真空チヤツク２２でウエハ１４を空
のキヤリア１３へ鉛直に収納する。

なお、この発明のウエハ表面検査装置は、鉛直
層流型のクリーンベンチまたはクリーンルームの
中に設置して使用するのが一般的である。このた
め、台座１の不用な表面はパンチング状にしてお
くことが垂直層流の流れを乱さずウエハ表面検査
装置の周辺の清浄度を維持する上で重要なことで
ある。

また、この発明においては、ウエハ表面検査装
置を例にして説明したが、この発明で実施してい
るウエハ１４の各可動真空チヤツク１７，２２の
鉛直吸着、鉛直搬送は、ウエハ１４の表面の塗布
前後のベーク炉内の搬送あるいはドライエツチン
グ装置に見られる枚葉式のエツチングチヤンバ等
のウエハを固定する場合にも使用できることはも
ちろんである。

〔発明の効果〕

この発明は以上説明したとおり、ウエハ送出部
にウエハを鉛直に収納するキヤリアと、ウエハを
キヤリアから鉛直に取り出す手段とを設け、ウエ
ハ固定台座にウエハを観察し検査するために鉛直
に吸着する手段を設け、ウエハ受取部に検査終了
後のウエハをウエハ固定台座から鉛直に受け取り
空のキヤリアに鉛直に収納する手段とを設けたの
で、ウエハを鉛直に保持した状態で搬送し、ウエ
ハの表面検査ができるため、ウエハの観察・検査
時において、ウエハの表面に塵埃等の異物の付着
がなくなつて集積回路に対する歩留りを飛躍的に
向上させることができる利点を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図ａ，ｂ，ｃはこの発明の一実施例を示す
側面図、正面図、平面図、第２図は従来のウエハ
表面検査装置の一例を示す斜視図である。 図において、１は台座、２は焦点制御部、３は
ジヨイステイツク、６は真空チヤツク、１３はキ
ヤリア、１４はウエハ、１７は送出用可動真空チ
ヤツク、１８は支柱、２０はウエハ上下バー、２
２は受取用可動真空チヤツクである。なお、各図
中の同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 台座の上面に、ウエハ送出部と、ウエハ固定
   台座と、ウエハ受取部と、ウエハ観察・検査用の
   顕微鏡と、前記ウエハ固定台座可動用のジヨイス
   テイツクと、前記顕微鏡の焦点制御部とを設けた
   ウエハ表面検査装置において、前記ウエハ送出部
   にウエハを鉛直に収納したキヤリアと、前記ウエ
   ハを前記キヤリアから鉛直に取り出す手段とを設
   け、前記ウエハ受取部に空のキヤリアを備え、前
   記ウエハ固定台座に前記ウエハを観察し検査する
   ために前記ウエハを鉛直に吸着する吸着手段を設
   け、前記ウエハ受取部に前記検査終了後のウエハ
   を前記ウエハ固定台座から鉛直に受け取り前記空
   のキヤリアに鉛直に収納する手段とを設けたこと
   を特徴とするウエハ表面検査装置。