JPH0296591A - プレグナン誘導体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、免疫調節作用及び腫瘍細胞の分化誘導能を有
することから、医薬、例えば抗アレルギ剤、抗リウマチ
剤又は抗腫瘍剤として有用なことが知られている９、１
０−セコ−５，７，１０（１９）＝プレグナ）　ｌ）エ
ン誘導体の合成中間体として有用な新規なプレグナン誘
導体及びその製造方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、９，１０−セコ−５，７，１０（１９）−プレグ
ナ）　ｌ）エン誘導体の製造方法としては、例えば、フ
レグネノロン又はデヒドロエビアンドロメチロンを原料
として使用し、５−ブレグイ・ン誘導体を中間体として
製造する方法が知られている（特開昭６１−２６７５５
０号公報参照）。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記の通り、９．１０−セコ−ｓ、　７．１０　（１９
）ブレブナトリエン誘導体の製造方法は知られているが
、その合成中間体である５−プレグネン誘導体から５，
７−プレグナジェン誘導体を製造するに際し、４，６−
プレグナジェン誘導体が副成するために、繁雑な分離工
程が必要となっている。

しかして、本発明の１つの目的ｆｌ、５．７−プレグナ
ジェン誘導体を繁雑な分離工程を必要とすることなく、
選択的に製造するための合成中間体として有用な新規な
化合物を提供することにるる。

更に本発明の他の目的は、該新規な化合物の製造方法を
提供することＫろる。

〔課題を解決するための手段〕

不発明番でよれば、上記の目的は 〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ及びＹは前記定義の通りであり
、Ｒ３は水素原子、ア／ル基又はアルコキンカルボニル
基を表わす〕 で示されるプレグナン誘導体及び 〔式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素原子又は水酸基の
保護基を表わし、Ｘ及びＹは一緒になってオキソ基（二
〇）を表わすか、又はＸは水素原子を表わし、Ｙは水酸
基、３−メチルブトキン基又は３位の水酸基が保護され
ていても良い３−ヒドロキシ−３〜メチルブトキシ基を
表わす〕で示されるプレグナン誘導体、 ■一般式 チルジメチルシリル基を表わす場合には、Ｘ及びＹは一
緒になってオキソ基を表わす〕 で示されるプレグナン誘導体並びに 〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ及びＹは前記定義の通りでろり
、Ｒ’ｌｄアンル基又はアルコキンカルボニル基金表わ
す、〕 で示されるプレグナン誘導体を、パラジウム触媒の存在
下に７位の置換基をβ脱離させることを特徴とする、−
形式 〔式中、Ｒ１，Ｒ２、Ｘ及びＹは前記定義の通りである
。〕 で示されるプレグナン誘導体の製造方法を提供すること
によって達成される。

る０ Ｒ１及びＲ２がそれぞれ表わす水酸基の保護基としては
、水酸基の保護の目的を達成するかぎシ、通常用いられ
ているいずれの保護基でも良いが、具体的にはアシル基
、アルコキンカルボニル基、三置換シリル基、置換基を
有していても良いアルコキンメチル基などがめげられる
。ここで、アシル基としては、アセチル基、グロピオニ
ル基、ブチリル基、インブチリル基、バレリル基、イン
バレリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、モノクロル
アセチル基、トリフルオロアセチル基などが挙ケラれ、
アルコキンカルボニル基としては、メトギンカルボニル
基、エトキシカルボニル基、イノプロピルオキ／カルボ
ニル基などの低級アルコフキ力ルボニル基、フェノキ７
カルボニル基、ｐメトキ７フエノキ７カルボニル基など
のアレツキ７カルボニル基、ベンジルオキシカルボニル
基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基などのアラ
ルキルオキシカルボニル基などが挙げられ、三置換シリ
ル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル
基、トリイノプロビルシリル基、Ｌ−プチルジメチルン
リル基などのトリアルキル置換フリル基、し−ブチルジ
フェニル／ｌ）　ル基；ｌｘどのモノアルキルジアリー
ル置換シリル基などがめげられ、置換基を有していても
良いアルコキンメチル基としては、ノトキ／メチル基、
メトキンエトキノメチル基などのアルコキンメチル基、
エトキノエチル基、ノトキンイングロビル基などのアル
キル置換アルコキシメチル基、２−テトラヒドロピラニ
ル基、２−テトラヒドロフラニル基などの環状エーテル
−２−イル基などが挙げられる。

Ｒ３及びＲ４がそれぞれ表わすアシル基としては上記の
アシル基に２いて例示された基が同様に挙げラレ、Ｒ３
及びＲ４が表わすアルコキシカルボニル基としては上記
のアルコキンカルボニル基に２いい３−ヒドロキン−３
−メチルブトキシ基が有することのめる水酸基の保護基
としては、水酸基の保護の目的を達成するかぎり、通常
用いられているいずれの保護基でも良いが、具体的には
アシル基、アルコキンカルボニル基、三置換ノリル基、
置換基を有していても良いアルコキシメチル基などが挙
げられる。ここで、アシル基としては、アセチル基、グ
ロビオニル基、ブチリル基、イソバレリル基、バレリル
基、イソバレリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、モ
ノクロルアセチル基、トリフルオロアセチル基などが挙
げられ、アルコキシカルボニル基としては、メトギンカ
ルボニル基、エトキノカルボニル基、イノプロピルオキ
／カルボニル基などの低級アルコキノカルボニル基、フ
ェノキンカルボニル基、ｐ−メトキ／′フェノキ７カル
ホニノに基などのアルコキシカルボニル基、ベンジルオ
キシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル基すどのアラルキルオキシカルボニル基などが挙げら
れ、三置換シリル基としては、トリメチルシリル基、ト
リエチルノリル基、トリイノブロビルンリル基、Ｌ−ブ
チルジメチル／リル基などのトリアルキル置換フリル基
、Ｌブテルジフェニルンリル基などのモノアルキルジア
リール置換フリル基などがあげられ、置換基を有シてい
ても良いアルコキシメチル基としては、メトキンメチル
基、メトキ７エトキ７メチル基などのアルコキシメチル
基、エトキシエチル基、メトキシイソグロビル基などの
アルキル置換アルコキシメチル基、２−テトラヒドロピ
ラニル基、２テトラヒドロフラニル基などの環状エーテ
ル−２−イル基などが挙げられる。

一般式（１）、　（ｎ）又は（１）で示される本発明の
グレグナン誘導体は例えば次の方法により製造すること
ができる。

以下余白 なお、「化合物（ｍ−２）及びＣ化合物（ＩＩＩ−３）
のなかで、Ｒ′及びＲ２が氷水酸基が保護されていても
良い３−ヒドロキ・／−で示される化合物を以後下記の
ように称することがある。

式 ％式％（） また、−形式（１−２）、−形式（［３）、−形式（Ｔ
−４）、−形式（ｌｌ−１）、−形式（ｆｆ−２）、−
形式（ト３）、−形式（［１）、−形式（１−２）、又
は−形式（ト３）で示される化合物をそれぞれ総称して
以後下記のように称することがある。

とによって示される化合物をそれぞれ化合物（ｍ−２’
）、化合物（ｍ−３’）−形式 ％式％２） ［１） ［２） ［１３） さらに、上記−形式（１−２）において　Ｒ１及びＲ２
が下記の基を表わすことによって示される化合物を以後
下記の如く称することがある。

Ｒ１及びＲ２ ア　　シ　　ル アルコキジカルボニル 三置換シリル アルコキシメチル 略称名 化合物（１−２−１） 化合物（１−２−２） 化合物（Ｉ−２−３） 化合物（１−２−４） Ｒ３が下記の原子又は基を表わすことによって示される
化合物を以後下記の如く称することがある。

−形式 原子又は基 略称名 （［１−１，）　　　　水　素　原　子　　　　化合物
（ｎ−１−１）アシル基　　化合物（ＩＩ−１−２） アルフキ／カルボニル基　　化合物（ＩＩ−１−３）（
１−２）　　水素原子　　化合物（ＩＩ−２−１）アシ
ル基　　化合物（■−２−２） アルフキ／カルボニル基　　化合物（１１−２−３）（
Ｕ−３’）　　　　水　素　原　子　　　　化合物（ｌ
ｌ−３−１）アシル基　　化合物（ＩＩ−３−２） アルコキシメルボニル基　　化合物ｌ−３−３）ｉ　ス
、　Ａ　　Ｆｕｒｓｔらの方法〔ヘルベチカ・キミ力・
アクタ（Ｈｅ１ｖ、　Ｃｈｉｍ、　Ａｃｔａ　）　６４
巻１８７０〜１８９２ページ（１９８１年〕参照〕に従
って調製した化合物（ＩＶ）から化合物（Ｖ）への変換
は、３位のケトン官能基を還元することにより行われる
。この還元反応は常法に従って実施される。例えば、化
合物（ＩＶ）をメタノール、エタノールなどのアルコー
ル系溶媒中で水素化ホウ素ナトリウムなどの還元剤に接
触させることにより行われる。使用する還元剤の量は通
常化合物（■）１モルに対して約０２５〜２０モル、好
ましくは約０５〜５モルである。溶媒の使用量は通常化
合物（■）１モルに対して約１０〜２００倍重量である
。この還元反応は通常−１０〜３０°Ｃの範囲内の温度
で行われる。反応時間は反応温度によっても異なるが、
通常約１５分〜６時間である。

この様にして得られた化合物（Ｖ）の反応混合物からの
単離・精製は通常の有機反応において行われている単離
・精製法と同様にして行われる。例えば、反応液に冷希
塩酸を加え、過剰の還元剤を分解した後、減圧下濃縮し
、残渣に水を加え、ジエチルエーテル、塩化メチレンな
どの有機溶媒で抽出し、抽出液を重曹水、食塩水で洗浄
し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグ
ラフィーなどにより精製することにより化合物（■）を
得ることができる。

化合物（Ｖ）の化合物（■）への変換は常法に従いエポ
キン化することＫより行われる。例えば、化合物（■）
を塩化メチレン、クロロホルムなどの有機溶媒中でｍ−
クロル過安息香酸などの過酸と接触させることにより行
われる。この反応において使用されろ過酸の量は化合物
（■）１モルに対して、通常約０．５〜５モル、好まし
くは約０．８〜２モルである。使用する溶媒の量（は化
合物（Ｖ）に対して通常約１０〜２００倍重量である。

この反応において、生成する酸を中和するために、重曹
水などを緩衝液として用いることもできる。

この様にして得られた化合物（■）の反応混合物からの
単離・精製は、通常の有機反応において行われている単
離・精製法と同様にして行われる。

例えば、反応液をジエチルエーテルで希釈し、二層に分
離し、水層を酢酸エチル、ジエチルエーテルなどの有機
溶媒で抽出し、抽出液を重曹水、食塩水で洗浄し、乾燥
後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマトグラフィー
などにより精製して化合物（■）を得ることができる。

化合物（Ｖｌ）の化合物（■）への変換は、３位の水酸
基を酸化することにより行われる。この酸化反応に用い
られる酸化剤としては、反応系が酸性になり、基質が分
解しないかき゛りどのような酸化剤でも構わないが、パ
ラジウム、ルテニウムなどの遷移金属の触媒下にアミン
オキシドなどの酸化剤により酸化するのが好ましい。こ
の反応で用いられる遷移金属触媒としては、例えば塩化
パラジウム、塩化ルテニウム、テトラブチルアンモニウ
ムベルルテナート、テトラプロピルアンモニウムベルル
ｆ＋−ト、ト’）ス（トＩＪフェニルホスフィ／）ルテ
ニウム（［１）クロリド、トリルテニウムドデカカルボ
ニルなどが挙げられ、その使用量は化合物（■）１モル
に対して約００１〜０．５モル、好ましくは約００２〜
０２モルである。用いられる酸化剤としては、Ｎ−メチ
ルモルホリン−Ｎ−オキシド、Ｎ、　Ｎ−ジメチルアニ
リン−Ｎ−オキ／ｌ″、トリメチルアミン−Ｎ−オギ／
ド、ＮＮ−ジメチルｎ−ドデノルアミンーＮ−オキシド
などの第級アミ／のＮ−オキシドなどが挙げられ、その
使用量は化合物（■）１モルに対して約０．８〜５０モ
ル、好ましくは約１．２〜１０モルである。この反応は
通常溶媒中で行われ、使用される溶媒としては、塩化メ
チレン、　Ｎ、　Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトン
などの反応に関与しない溶媒が挙げられ、その使用量は
化合物（■）に対して約５〜２００倍重量である。この
反応においては、触媒の配位子として、トリフェニルホ
スフィン、トリブチルホスフィン、１，２−ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）エタンなどのホスフィノを遷移金属
触媒１モルに対して約１〜５モル加えることもできる。

また、モレキュラシーフスなどの脱水剤を共存させるこ
ともできる。反応は通常約−１０〜８０°Ｃの範囲内の
温度、好ましくは約０〜３０℃の範囲内の温度で行われ
る。

このよう傾して得られた化合物（■）の単離・精製は、
通常の有機反応で用いられている単離・精製法と同様に
して行われる。例えば、反応液をジエチルエーテル、酢
酸エチルなどの有機溶媒で希釈し、不溶物を戸別した後
に、必要に応じて、減圧下に濃縮し、水を加え、ジエチ
ルエーテル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出し、抽
出液を硫酸銅水溶液、チオ硫酸す）　ＩＪウム水溶液、
食塩水などで洗浄し、乾燥後濃縮して、残漬を再結晶、
クロマトグラフィーなどにより精製することにより化合
物（Ｘｌ）を得ることができるが１．精製せずに次の反
応に用いることもできる。

化合物（Ｘｌ）は還元反応に付することにより化合物（
■）に変換することができる。この反応に用いられる還
元剤としては１例えば水素化アルミニウムリチウム、水
素化ビス（メトキシエトキノ〕アルミニウムナトリウム
などの水素化金属錯体などが挙げられ、その使用量は化
合物（■）１モルに対して約０．７５〜２０モルである
。この反応ｉ４　通常溶媒中で行われ、用いられる溶媒
としてはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどが
挙げられ、その使用量は化合物（１１）に対して通常約
５〜２００倍雪景である。反応は通常約−８０〜７０℃
の範囲内の温度、好ましくは約−３０〜２０℃の範囲内
の温度で行われる。

このようにして得られた化合物（■）の単離・精製は通
常の有機反応で行われている単離・精製法と同様にして
行うことができる。例えば反応液を水冷下に飽和硫酸ナ
トリウム水溶液を加え、過剰の還元剤を分解し、不溶物
を戸別後、残渣を酢酸エチルで洗浄し、洗浄液をＦ液に
合わせて濃縮し、残渣を再結晶、クロマトグラフィーな
どにより精製することにより化合物（■）を得ることが
できる。

化合物（■）は脱アセタール化することにより。

化合物（１−１）へ変換することができる。脱アセター
ル化反応は例えば常法に従い、酸触媒の存在下に低級ケ
トンとアセタール変換するか、加水分解することにより
行われる。用いられる酸触媒としては、例え−１ｄｐ−
）ルエンスルホン酸、カンフルスルホン酸などのスルホ
ン酸、硫酸、塩酸などの鉱酸、酢酸、トリフルオロ酢酸
などのカルボン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウ
ムなどのこれらの酸の塩などがあげられ、その使用量は
用いる酸触媒の性質によっても異なるが、通常化合物（
〜ＩＩＩ）　１モルに対して約０．０１〜１００モルで
ある。使用される低級ケトンとしては、アセトン。

２−ブタノンなどが挙げられる。この反応は、通常溶媒
中で行われるが、使用される溶媒としては、通常使用さ
れる低級ケトン又は水が溶媒として使用され、また溶解
度を増すためにメタノール、エタノール、テトラヒドロ
フランなどが補助溶媒として用いられる。反応は通常約
０〜１００℃の範囲内の温度で行われる。

このようにして得られた化合物（１−１）の反応混合物
からの単離・精製は、通常の有機反応において行われて
いる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応
液を中和した後に、必要に応じて減圧下に濃縮し、ジエ
チルエーテル、塩イヒメチレンなどの有機溶媒で抽出し
、抽出液を食塩水で洗浄し、乾燥後濃縮し、残渣を再結
晶、クロマトグラフィーなどで精製することにより化合
物（ｌ−１）が得られる。

このようにして得られた化合物（＋　−１，）は必要に
応じて、常法に従い１位及び３位の水酸基の保護を行い
、化合物（［−２）に変換することができる。この際、
１位又は３位の水酸基を選択的に保護し、トリオールの
モノ保護体を得た後に、さらに保護反応を行うことによ
り、化合物（１−２）に変換することができる。

化合物（１−１）から化合物（１−２−１）への変換は
、塩基性物質の存在下にカルボン酸の無水物あるいはハ
ロゲン化物を作用させることにより行われる。この反応
に用いられるカルボン酸無水物としては、無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水酪酸、無水トリフルオロ酢酸など
が挙げられ、カルボン酸・・ロゲン化物としては、塩化
アセチル、塩化プロピオニル、塩ｆヒブチリル、塩化イ
ソブチリル、塩化インバレリル、塩化ピバロイル、塩化
ベンンイルなどが挙げられる。酸無水物あるいは酸ハロ
ゲン化物の使用量は、通常化合物（１−１）１モルに対
して約２〜２０モル、好ましくは約２５〜１０モルであ
る。この反応に用いられる塩基性物質としては、ピリジ
ン、トリエチルアミン、ジイソフロビルエチルアミン、
ジエチルアニリンなどの有機塩基、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水素化ナトリウム
などの金属水素化物などが挙げられる。塩基性物質の使
用量は。

使用する塩基性物質の性質によっても異なるが、通常化
合物（１−１）１モルに対して約２〜２００モルであり
、好ましくは約５〜１００モルでちる。

またジメチルアミノピリジン、ピロリジノピリジンなど
のアフル化触媒の存在下で行うことも可能である。触媒
の使用量は、通常化合物（１−１）１モルに対して約０
．０５〜０２モルである。この反応は通常溶媒中で行わ
れるが、使用する有機塩基を溶媒として用いることも可
能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフランなど
の反応に関与しない溶媒を使用することも可能である。

溶媒の使用量は、通常化合物（Ｉ−１）に対して、約５
〜２００倍重量である。反応は通常約−２０〜１００℃
の範囲内の温度、好ましくは約Ｏ〜３０℃の範囲内の温
度で行われる。

この様にして得られた化合物（１−２−１）の反応混合
物からの単離・精製は、通常の有機反応において用いら
れている単離・精製法と同様にして行うことができる。

例えば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルな
どの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸、重曹水、食塩水で順
次洗浄し、乾燥後濃縮し、残渣を再結晶、クロマトグラ
フィーなどにより精製することにより化合物（１−２−
１）が得られる。

化合物（１−１）から化合物（Ｉ−２−２）への変換は
、例えば塩基性物質の存在下にクロル炭酸エステルを作
用させることにより行われる。反応に用いられるクロル
炭酸エステルとしては、クロル炭酸メチル、クロル炭酸
エチル、クロル炭酸アリル、クロル炭酸ト’）クロルエ
チル、クロル炭酸フェニルなどが挙げられる。クロル炭
酸エステルの使用量は、通常化合物（１−１）１モルに
対して、約２〜５０モル、好ましくは約５〜２０モルで
ある。

反応に用いられる塩基性物質としては、化合物（１−１
）から化合物（１−２−１）への変換の際に用いられる
塩基性物質などが挙げられ、その使用量は使用する塩基
性物質によっても異なるが、通常化合物（１−１）１モ
ルに対して、約２〜２００モル、好ましくは約５〜１０
０モルである。またジメチルアミノピリジン、ピロリジ
ノピリジンなどのエステル化触媒の存在下で実施するこ
ともできる。

触媒の使用機は５通常化合物（１−１）１モルに対して
約０．０５〜０．２モルである。この反応は通常溶媒中
で行われるが、使用する有機塩基を溶媒として用いるこ
とも可能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラ
ンなど反応に関与しない溶媒を使用することもできる。

溶媒の使用量は、通常化合物（１−１）に対して、約５
〜２００倍重量である。反応は１通常約−２０〜１００
℃の範囲内の温度、好ましくは約０〜３０℃の範囲内の
温度で行われる。

この様にして得られた化合物（１−２−２）の反応混合
物からの単離・精製は化合物（ｌ−２〜１）の単離・精
製法に準じて行うことができる。

化合物（１−１）から化合物（１−２−３）への変換は
、塩基性物質の存在下に三置換／リルクロリドを作用さ
せることにより行われる。反応に用いられる三置換シリ
ルクロリドとしては、塩化トリメチルシリル、塩化トリ
エチルシリル、塩化トリイソプロピルシリル、塩化ｔ−
ブチルジメチルンリルなどの塩化トリアルキル置換シリ
ル、塩化ｔ−フナルジフェニルノリルなどの塩化アリー
ルジアルキルシリルなどが挙げられる。三置換シリルク
０１Ｊドの使用量は、通常化合物（１−１）１モルに対
して約２〜５０モル、好ましくは約５〜２０モルである
。反応に用いられる塩基性物質としては、ピリジノ、ト
リエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジエチルアニ
リン、イミダゾールなどの有機アミン、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水素化ナトリ
ウムなどの金属水素化物などが挙げられ、その使用量は
、使用する塩基性物質によっても異なるが、通常化合物
（１−１）１モルに対して約２〜２００モル、好ましく
は約５〜１００モルである。この反応は通常溶媒中で行
わ九るが、使用する有機塩基を溶媒として用いることも
可能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラン、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドなど反応に関与しない溶
媒を用いることも可能である。溶媒の使用量は、通常化
合物Ｃｌ−１）に対して、約５〜２００倍重量である。

反応は通常約−２０〜１００°Ｃの範囲内の温度、好ま
しくは約０〜３０°Ｃの範囲内の温度で行われる。

この様にして得られた化合物（１−２−３）の反応混合
物からの単離・精製は、通常の有機反応において行われ
ている単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応混合物を氷水にろけ、ジエチルエーテルなどの有機溶
媒で抽出し、冷希塩酸、重曹水、食塩水で洗浄し、乾燥
後濃縮した後、残渣を再結晶、クロマトグラフィーなど
で精製することより化合物（１−２−３）を得ることが
できる。

化合物（＋−１）から化合物（１−２−４）への変換は
、例えば塩基性物質の存在下にクロルメチルエーテルを
作用させるか、ろるいは酸触媒下にビニルエーテルを作
用させることにより行われる。反応に用いられるクロル
メチルエーテルとしては、タロルメテルメチルエーテル
、メトキシエトキ／メテルクａリドなどが挙げられ、ビ
ニルエーテルとしては、エチルビニルエーテル、メチル
イノフロベニルエーテル、ジヒドロビランなどが挙げら
れる。クロルメチルエーテルまたはビニル二一テルの使
用量は、通常化合物（＋−１）１モルに対して約２〜５
０モル、好ましくは約５〜２０モルでめる。反応に用い
られる塩基性物質としては、例えば、ピリジン、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルア
ニリン、イミダゾールなどの有機塩基、水素化ナトリウ
ムなどの金属水素化物などが挙げられる。塩基性物質の
使用量は使用する塩基性物質によっても異なるが、通常
化合物（１−１）１モルに対して約２〜２００モル、好
ましくは約５〜１００モルである。使用する酸触媒とし
ては、ｐ−トルエンスルホン酸、カンフルスルホン酸な
どのスルホン１ｐ−）ルエンスルホン酸ピリジニウムな
どのスルホン酸塩、塩酸、硫酸などの鉱酸などが挙げら
れる。酸触媒の使用量は、化合物（１−１）１モルに対
して通常約００５〜０２モルである。この反応は通常溶
媒中で行われるが、使用する有機塩基またはビニルエー
テルを溶媒として用いることも可能でろシ、また塩化メ
チレン、テトラヒドロフラン、　Ｎ、Ｎジメチルホルム
アミドなどの反応に関与しない溶媒を用いることも可能
である。溶媒の使用量は、通常化合物（１−１’）に対
して、約５〜２００倍重量である。反応は通常約−２０
〜１００℃の範囲内の温度、好ましくは約Ｏ〜３０℃の
範囲内の温度で行われる。

この様にして得られた化合物（１−２−４）の反応混合
物からの単離・精製は、通常の有機反応において行われ
る単離・精製法と同様にして行われる。

例えば１反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエテルなど
の有機溶媒で抽出し、有機塩基を用いている場合には冷
希塩酸で洗浄し、重１水、食塩水で洗浄した後、乾燥濃
縮し、残渣を再結晶、クロマトグラフィーなどにより精
製し、化合物（ｌ−２４）を得ることができる。

化合物（１−２）から化合物（＋−３）への夏換は化合
物（１−２）’％−還元反応に付することにより行うこ
とができる。この反応に用いられる還元剤としては、例
えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素亜鉛、水素
化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化アル
ミニウムリチウム、水素化ビス（メトキンエトキン）ア
ルミニウムナトリウム、水素化トリ５ｅｃ−ブチルホウ
素リチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化
トリエチルホウ素リチウムなどの金属水素化物錯体など
が挙げられる。還元剤の使用量は、用いる還元剤によっ
ても異なるが、化合物（１−２）１モルに対して通常約
０．２５〜２０モルである。反応は、通常溶媒中で行わ
れ、用いられる溶媒としては、還元剤によっても異なる
が、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−
ジメトキシエタンなどのエーテル系の６媒、エタノール
、メタノールなどのアルコール系の溶媒などが挙げられ
、その使用量は、化合物（＋−２）に対して通常約５〜
２００倍重量である。反応温度は、使用する還元剤によ
っても異なるが、通常約−１００〜３０℃の範囲内の＠
度である。

この様にして得られた化合物（１−３）の反応混合物か
らの単離・精製は、通常の有機反応において用いられる
単離・精製法と同様にして行われる。

例えば、反応混合物に、水、希塩酸などを加えて過剰の
還元剤を分解し、必要に応じて減圧下濃縮した後に、残
渣を水で希釈し、ジエチルエーテル、塩化メチレンなど
の有機溶媒で抽出し、抽出液を食塩水で洗浄した後、乾
燥濃縮し、残渣を再結晶、クロマトグラフィーなどによ
り精製することによシ化合物（１−３）を得ることがで
きる。

化合物（＋−３）ｌ″を必要に応じて常法に従い２０位
の水酸基をエーテル化することにより、化合物（１−４
）に変換することができる。例えば、塩基性物質の存在
下、対応するハロゲン化アルキルを作用させることによ
シ行われる。使用される塩基性物質としては、水素化ナ
トリウムなどの金属水素化物、ｎ−ブチルリチウムなど
のアルキル金属、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムな
どの金属水酸化物などがあげられ、その使用量は、用い
る塩基性物質によっても異なるが、化合物（１−３）ｚ
モルに対して、通常約０．８〜２０モルである。この反
応は通常溶媒中で行われ、使用される溶媒としてＵ、キ
シレン、トルエン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジ
メトキシエタン、ジメチルスルホキ／ト、ジメチルホル
ムアミドなど反応に関与しない溶媒があげられる。

以下余白 化合物（Ｉ−３）は常法に従い２０位の水酸基をエーテ
ル化することにより、化合物（Ｉ　−４）に変換するこ
とができる８例えば、塩基性物質の存在下、対応するハ
ロゲン化アルキルを作用させることにより行われる。使
用される塩基性物質としては、水素化ナトリウムなどの
金属水素ｆヒ物、ｎ−ブチルリチウムなどのアルキル金
工、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどの金属水酸
化物などが挙げられ、その使用量は、用いる塩基性物質
によっても異なるが、化合物（Ｉ−３１１モルに対して
、通常約０．８〜２０モルである。この反応は通電溶媒
中で行われ、使用される７容媒としては、キシレン、ト
ルエン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドな
ど反応に関与しない溶媒が挙げられる。使用されるハロ
ゲン化アルキルとしては、例えば臭化イソアミル、ヨウ
化インアミルなどのハロゲン化インアミル、４−ブロモ
−２−テトラヒドロピラニルオキシ−２−メチルブタン
、４−ヨウビー２−エトキシエチルオキノー２−メチル
ブタン、４−ブロモ−２−しフチルンメチルンリルオキ
シー２−メチルブタンなどの４−ハロゲン−２−メチル
−ブタン−２−オール誘導体などが挙げられ、その使用
量は、通爪化合物（Ｉ−３）　１モルに対して約１〜５
０モル、好ましくは約１２〜２０モルである０反応は通
常約−２０〜２００℃の範囲内の温度、好ましくは約１
０〜１５０℃の範囲内の温度で行われる。

この様にして得られた化合物（Ｉ−４）の反応混合物か
らの単離　精製は通常の有機化合物の単離　精製法と同
様にして行うことができる０例えば、反応混合液を氷水
にあけ、ジエチルエーテル、塩化メチレンなどの有機溶
媒で抽出し、抽出液をＪｔ塩水で洗浄し、乾燥？＆ｄ％
縮し、残渣を再結晶、クロマトグラフィーなどにより精
製することにより、化合物（Ｉ　−４）を得ることがで
きる。

化合物（Ｉ−２）または化合物（Ｉ−４）は酸触媒下に
５位の水酸基を転位させ、更に必要に応じてエステル化
することによりることにより、それぞれ化合物（ｎ−１
）または化合物（ＩＩ−３）へ変換される。この際炭酸
エステル、カルボン酸、カルボン酸無水物などを共存さ
せることにより、転位と同時にエステル化された化合物
が得られる。

酸触媒としては、酢酸、プロピオン酸、モノクロル酢酸
、ジクロル酢酸、トリフルオロ酢酸などのカルボン酸、
Ｐ　−１−ルエンスルホン醗、カンフルスルホン酸など
のスルホン酸、ｐ−１−ルエンスルホン酸ピリジニウム
などのスルボン酸塩、塩酸、硫酸などの鉱酸などが用い
られ、その使用量は使用する酸触媒によっても異なるが
、化合物（Ｉ［−１）または化合物（］ｌ−３）１モル
に対して約０゜０１〜５モルである。炭酸エステルとし
ては、炭酸ジメチル、炭酸ジエチルなどの炭酸のジ低級
アルキルエステルなどが挙げられ、その使用量は化合物
（Ｉ［−１）または化合物（ｎ　　３）１モルに対して
約５〜１０００モルである。共存されるカルボン酸とし
ては、酸触媒として用いられるカルボン酸におけると同
じものが例示され、その使用量は約１〜５０モルである
。カルボン酸無水物としては、無水酢酸、無水１０ピオ
ン酸、無水トリフルオロ酢酸などが用いられ、その使用
量は化合物（ＩＩ−１）または化合物（Ｉ［−３）１モ
ルに対して約０５〜２０モルである。この際、カルボン
酸またはカルボン酸無水物をエステル化剤として用いる
場合には、そのカルボン酸０１本またはカルボン酸無水
物に少量台まれるカルボン酸が酸触媒となるので、更に
酸触媒を加える！ピ・要はない反応は、用いられる酸触
媒によっても異なるが、約−２０〜１５０℃の範囲内の
温度、好ましくは約０〜１００°Ｃの範囲内の温度で行
われる。またこの際、エステル化剤としてカルボン酸又
は炭酸エステルを用いた場合にはエステル化されていな
いｆ化合物（ｎ−１−１）又は化合物（ＩＩ−３−１ン
とエステル化された化合物（ＩＩ−１−２又は−３）又
は化合７ｋ　（ＩＩ　−３−２又は−３）との混合物が
得られる。

このようにして得られた化合物（ｎ−１）または化合物
（ＩＴ−３）の反応混合物からの単Ｎ　精製は、通常の
有機反応において用いられている単離　精製法と同様に
して行われる０例えば、反応混合物を氷水にあけ、ジエ
チルエーテルなどの有機溶媒で抽出し、重曹水、食塩水
で洗浄し、乾燥後濃縮し、残渣分再結晶、クロマトグラ
フィーなどにより精製することにより化合’Ｊｌｌｌ　
（ｎ　−１）または化合ｆｌａ　（ＩＩ　−３＞を得る
ことができる。

二のようにして得られた１ヒ合物（ｎ−１）又は１ヒ合
物（ＩＩ−３）のうち、化合物（ＩＩ−１−１）又はｆ
化合物（ＩＴ−３−１）は常法に従いエステル化するこ
とにより、それぞれＣ化合物（Ｉ［−１−２又は３）又
は１ヒ合物（Ｈ−３−２スは３）へ変換することができ
る０例えば、化合物（Ｈ−１−１）又は化合物（ＩＩ−
３−１）の化合物（Ｈ−１−２）又は化合７勿（■−３
−２）への変換は、Ｃ化合物（Ｉ−１）の化合物（Ｉ−
２−１）への変換と同様の操作を行うことにより実施さ
れ、また、化合物（ｎ−１−１）又はＣ化合物（Ｉｔ−
３−１）の化合物（ＩＩ−１−３）又は化合物（ＩＩ　
−３−３）への変換は、化合物（Ｉ−１）の化合物（ニ
ー２２）への変換と同様の操作を行うことにより実施さ
れる。

（化合物（ＩＩ−１）は、化合物（Ｉ−２）３１ヒ含物
（Ｉ−３）へ変換したと同様の操ｆヤを行い、２０位の
オキソ基を還元することにより化合Ｔｈ（ＩＩ２）へ変
換することができる。

（化合物（ＩＩ−１−２又は−３）、化き物（■２−２
又は−３）又は化合物（ＩＩ−３−２又は−３）はパラ
ジウム触媒の存在下に、７位の置換基金脱離させること
によりそれぞれ対応する４、６ジ工ン誘導体と副生ずる
ことなく、化合物（ｌｉｔｌ）、化合物（ＩＩＩ−２）
又は化合物（ＩＩＩ−３）へ変換さｈる。使用されるパ
ラジウム触媒としては、トリス（ジベンジリデンアセト
ン）２パラジウムクロロホルム銘１水、ビス（ジベンジ
リデンアセトン）パラジウム、酢酸パラジウム、硝酸パ
ラジウム、塩化パラジウム、ビス（アセチルアセトナ１
−）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン
）パラジウムなどが挙げられ、その使用量は化合物（Ｔ
［−１−２又は−３）、化合物（■２−２又は−３）又
はＣ化合物（ＩＴ−３−２又は３）１モルに対して約０
０］〜０５モルである。このパラジウム触媒は反応系中
にＪ〕いて第三級ホスフィンと配位結合を形成している
ことが望ましく、必要に応じて反応系に第三級ボスフィ
ンを添加しても良い、第三級ホスフィンとしては、トリ
ブチルホスフィン、トリエチルポ、スフィントリフェニ
ルホスフィン、トリトリルポスフィン、１２−ビス（ジ
フェニルホスフィノ）エタンなどが使用され、その使用
量は通常パラジウム触媒１モルに対して約１〜２０モル
で、ちる、この反応は通常溶媒中で行われ、使用される
。δ媒としては、１．４−ジオキサン、テｌ〜ラヒドロ
フラン、アセトニトリルなど反応に関与しない溶媒が挙
げられ、その使用量は、化合物（１１−１−２又は−３
）化合物（ＩＩ−２−２又は−３）又は化合物（■３−
２又は−３）に対して約５〜２００倍重装である０反応
は通常的２０〜１５０℃の範囲内の温度で行われる。

この様にして得られた化合物（１−１）ｉ化合物（［１
ｌ−２）又は１ヒ合物（Ｉｎ−３）の反応混合ｑ）から
の単Ｍ　　精製は、通常の有機反応において用いられて
いる単術・情製法と同様にして行われる。

例えば、フロリジルを用いてｐ過した後、ｙＨを減圧下
に、Ｒ縮し、残渣を再結晶、クロマトグラフィーなどに
より精製することによって化合物ζｍ＝１）、化合物（
１−２）又は化合物（１−３）を得ることができる。こ
の反応において、ｆ化合物（ｔｌ−１−２又は−３）及
び化合物（ｆｆ−３−２又は−３）のうち、Ｒ１及びＲ
２が水素原子、アセチル基又はし−ブチルジメチルシリ
ル基を除く水酸基の保護基である化合物を基質として用
いた場合には、そ九ぞれ化合物（Ｉｌｌ−２’　）又は
ｆ化合物（Ｉ［ｌ−３’　）が得られる。

Ｃヒ倉物（ＩＩＩ−１）は、常法に従い、２０位のオキ
ソ基を還元することにより、１ヒ合１勿（ＩＩＩ−２）
へ変換することができる０例えば、化合物＜ｌ−２）を
化合物（Ｉ−３）へ変換したと同様の操作を行うことに
より実施される。

また、化合物（１−２）は、常法に従いエーテル化する
ことにより、化合物（ｆｆｌ−３）へ変換することかで
きる９例えば、化合物（Ｉ−３）を１に金物（Ｉ−４）
へ変換したと同様の操作を行うことにより実施すること
ができる。

このようにして得られた化合１１５（Ｉ−４）、化合物
（ＩＩ−３）又は化合ｆｈ　（ＩＩＩ　−３＞　＋７）
うチ、ｚが水酸基が保護された３−ヒドロキシ−３−メ
チル−１−ブチル基である場合には必要に応じて水酸基
の脱保護を行うことにより、２が３−ヒドロキシ−３−
メチル−１−ブチル基である化合物に変換することがで
きる０例えば、水酸基の保護基が、アシル基又はアルコ
キシカルボニル基である場合には、メタノール中炭酸カ
リウムで処理することにより、また、水酸基の保護基が
三置換シリル基又は置換基を有していても良いアルコキ
シメチル基である場合には、メタノール中塩酸で処理す
ることにより脱保護を行うことができる。

化合物（１−３）は、特開昭６１−２６７５５０号公報
記載の公知の方法に準じて、紫外線明射−熱異性化反応
に付し、必要に応じて水酸基の脱保護を行うことにより
、９．１０−セコ−５７］、　　Ｏｆ　　！　　９　　
） プレグナトリエン誘導体に変換さ れる。

以下余白 ［実施例］ 以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例により限定されるものではない、
なお、核磁気共口１ｓ（Ｎ　Ｍ　Ｒ）スペクトルは、重
クロロホルム３ン容媒とし、テトラメチルシランを内部
標準として測定した。

参考例１ １α５２α−エポキシ−２０−エチレンジオキシプレグ
ナ−４，６−ノニン−３−オン３０ｇをエタノール４５
０ｍ１に溶解し、水浴中で冷却しながら撹拌した。水素
化ホウ素ナトリウム３０ｇｔ！−数回に分は加え、水冷
下で３０分間攬押した。

過剰の還元剤分希塩酸により分解し、水２００ｍ！を加
え、減圧下にエタノールを留去した。析出した結晶をｒ
別し、水で洗浄し、減圧下に乾燥することにより、１α
、２α−エポキシ−２０−エチレンジオキシプレグナ−
４，６−ノニン−３α−オールを２５．３ｇ得た。

参考例２ １α、２α−エポキシ−２０−エチレンジオキンプレグ
ナ−４，６−ノニン−３α−オール２５．１ｇを塩化メ
チレン５００ｍ１に溶解し、飽和型汗水６００ｍ１を加
え、水冷下に攪拌した。

ｍ−クロロ過安、Ω、香酸２０３ｇを数回に分けて加え
、添加後さらに水冷下で１時間３０分撹拌した０反応ｌ
αにトルエン３００ｍ１を加え、減圧下に塩ｆヒメチレ
ンを留去した。酢酸エチルを加え、層に分離し、水層を
酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、水、ヨウ化カ
リウム水溶液、チオ硫酸すｌ・リウム水溶液、水、重曹
水、食塩水で順次／ｆ：浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
した。減圧下に濃縮し、残渣をジエチルエーテルより再
結晶することにより、１α、２α：４α、５α−ジェポ
キシ−２０−エチレンジオキシ−６−プレグネン３α−
オールを１９８ｇ得た。

参考例３ １α、２α：４α、５α−ジェポキシ−２０−エチレン
ジオキシ−６−プレグネン−３α−オール１９．８ｇｅ
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２５０ｍ１に７容解し、
モレキュラシーブス４Ａ３０ｇを加え、さらにＮ−メチ
ルモルホリン−Ｎ−オキシド１２．１ｇ加え、室温で１
５分間攪拌した。

塩化ルテニウム水和物０．２ｇを加え、室温で２時間攪
拌した０反応混合物をセライト分用いて濾過し、？清に
水を５００ｍ　ｌ加え、水冷下２時間放置した。析出し
た結晶を集め、水で洗ζ？Ｌ、減圧下乾燥することによ
り、１α、２α、・１α２５α−ジェポキシ−２０−エ
チレンジオキン−６プレグネンー３−オンを１３４ｇ得
た。

参考例４ 水素１ヒアルミニウムリチウム１．２ｇをテトラヒドロ
フラン１５０ｍ１に懸濁させ、水冷下に攪拌した。１α
、２α、４α、５α−ジェポキシ２０−エチレンジオキ
シ−６−プレグネン−３オン１３．４ｇをテトラヒドロ
フラン１２０ｍ１に溶解し、ゆっくりと滴下した０滴下
終了後、室温で１時間撹拌した。再び水浴中で冷却し、
ジエチルエーテル５００ｍ１を加え、飽和硫酸ナトリウ
ム水溶液２５ｍ１加え、室温で１時間攪拌した０反応混
合物をセライトを用いて一過し、残渣をテトラヒドロフ
ランで洗浄し、Ｐ液に合わせ、減圧上濃縮した。残渣を
メタノール−酢酸エチルより再結晶し、２０−エチレン
ジオキシ−６−プレグネン−１α、３β、５α−トリオ
ールを７８ｇ得た。

実施例１ ２０−エチレンジオキシ−６−プレグネン−１α、３β
、５α−トリオ−ルア、８ｇｌアセトン１００　ｍ　ｌ
に懸濁し、ｐ−１−ルエンスルホン酸ピリジニウム０．
１ｇを加え、アルゴン雰囲気１３時間加熱還流した０反
応液を冷却後、重曹水を加え中和し、減圧下にアセトン
を留去した。残渣をメタノール−酢酸エチルより再結晶
し、６−ブレグネンー２０−オン−１α、３β、５α−
トリオールを４．９ｇ得た。

’ＨＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ）δ０、　５３　　
（ｓ、　　３Ｈ）、　　０．　８８　４ｓ　　　　３Ｉ
−１）　、　２．０５　（ｓ、　３Ｈ）　、　３．８４
（ｍ、　　ＩＨ）、　　４．　１２　　（ｍ、　　ＩＨ
）　　５５３　　（ｂｒ、　　ｓ、　　２　　Ｈ）実方
色例２ ６−ブレジオ・ノー２０−オン−１α、３β、５α−ト
リオール４．９ｇｔ！−塩化メチレン５０ｍ１に懸濁し
、ピリジン１０ｍ１およびジメチルアミノピリジン０．
２ｇｔ！−加えて、水浴中で攪拌した。

クロル炭酸メチル５４ｍ１を滴下し、そのまま３０分間
攪拌した０反応混合物を冷希塩酸にあけ、塩化メチレン
で抽出し、抽出液を冷希塩酸、水、重曹水、食塩水で抽
出し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。ＩＪｉ圧ｉＲ８１
１Ｌ、３β−メトキシカルボニルオキシ−６−プレグネ
ン−２０−オン−１α　５α−ジオールの１１ＩＩ製↑
ｋｔ５．８ｇ得た。これを塩化メチレン７０ｍ１に溶解
し、ジイソプロピルエチルアミン２４ｍ１およびジメチ
ルアミノピリジン０，２ｇを加え、水冷下に攪拌した。

クロル炭耐メチル５．５ｍ１ｔ！−滴下し、室温で４時
間攪拌した１反応混合物を冷希塩酸にあけ、ジエチルエ
テルで抽出した。抽出液を冷希塩酸、水、重曹水、食塩
水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。ｌ遭ｍ後、
残渣企ジエチルエーテルー〇−ヘキサンより再結晶し、
１α、３β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−６−
ブレグ不ンー２０−オン−５α−オールｔ！：５２ｇ得
た。

１−ＩＮＭＲスペクトル（９０Ｍ　）（ｚ　）δ０５３
　（ｓ、３ｌ−１）、１．００　（ｓ、３１（）、２．
Ｏ８（ｓ、３Ｈ）、３．７７（ｓ、３Ｈ）、３．７９（
ｓ、３Ｈ）、４８５　（ｔ、Ｊ　＝３Ｈｚ、ＩＨ）、５
．２０（ｍ、ＩＨ）、５．５３　（ｂｒ、ｓ、２＋−１
）実施例３ １α、３β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）６−ル
グネンー２０−オンー５α−オール２５ｇをエタノール
４０ｍ１に溶解し、水冷下で攪拌した。水素化ホウ素ナ
トリウム０．２５ｇを加え、さらに４５分間撹拌した。

希塩酸分別え、中和し、減圧下にエタノールを留去した
。残渣に水を加え、結晶をＰ別し、水で洗ｔ？シ、減圧
下乾燥することにより１α、３β−ビス（メトキシカル
ボニルオキシ）−６−ブレグ不ンー５α、２０ジオール
を２．３ｇ得た。

ＨＮＭＲスペクトル＜９０ＭＨｚ）δ。

０．６７　＜ｓ、３Ｈ）、１．０２　（Ｓ、３Ｈ）、１
．２０　（ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ、３Ｈ）３．７０　（ｍ、Ｉ
Ｈ）、３．７７　（ｓ、３Ｈ）、３．８０　（ｓ、３Ｈ
）、４．８６（ｔ、Ｊ＝３Ｈｚ、ＬＨ）、５．２１　（
ｍ。

ＬＨ）、５．５５　（ｂｒ、ｓ、１）（）実施例４ ６０％水素化ナトリウム０．２４ｇ分１．２ジメトキシ
工タン５ｍｌに懸濁させ、１α、３βビス（メトキシカ
ルボニルオキシ）−６−プレグネン−５α、２０−ジオ
ール２．３ｇを１．２ジメトキシ工タン２０ｍ　ｌに溶
解した溶液と加ｌ、室温で３０分＋：ｉｌ　’ｈｌ拝し
た。ヨウ化インアミル３３ｍ１を加え、５時間前？ｔ！
、還流した０反応混合物を冷却後、水にあけ、ジエチル
エーテルで抽出した。抽出液を食塩水で７先浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥した。濃ｔｌｉｌ後、残渣をンリカ
ゲルカラムクロマ１−グラフィーによりτ、？製し、１
α、３β−ビス（メトキンカルボニルオキシ）−２０（
３−メチルブチルオキシ）−６−ブレグ不ンー５α−オ
ール８１９ｇ得た。

ＨＮＭＲスペクトル（９〇八１Ｈｚ）δ・０．６６（ｓ
、３Ｈ）、０．９２（ｄ　　Ｊ＝７Ｈｚ、６Ｈ）、１．
０５　（Ｓ、３Ｈ）１．１３　（ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、３Ｈ
）、３゜１〜３．８　＜３８）、３．７６　（ｓ、３Ｈ
）３．７８　（ｓ、３Ｈ）、４．８７　（ｍＩＨ）　、
　５．２２　（ｍ、　ＩＨ）　、　５．５０（ｂｒ、ｓ
、２Ｈ） 実施例５ ６−ブレグイ・ノー２０−オン−５α−オール２゜５ｇ
を炭酸ジメチル２５ｍ１に溶８’４　Ｌ　、水冷下で・
攪拌した。無水トリフルオロ酢酸３５ｍｌを加え、室温
で終夜撹拌した０反応液に水を加え、３０分間攪拌した
擾、ジエチルエーテルで希釈し、冷５％水酸化ナトリウ
ム水、７ｉｍおよび重ａ水で中和し、食塩水で洗浄した
。硫酸ナトリウム上で乾燥した後、濃縮し、残渣をジエ
ヂルエーテルー〇ヘキサンで再結晶し、１α、３β−ビ
ス（メトキシカルボニルオキシ）−７−ドリフルオロア
セトキシー６−ブレグ不ンー２０−オン３２１ｇ得た。

ＨＮＭＲスペクトル＜９０ＭＨｚ）δ：０゜５３　（ｓ
、３Ｈ）、１．００　（ｓ、３Ｈ）、２．０８（ｓ、３
ｌ−１）　　３．７７（ｓ、３Ｈ）、３．７９　（ｓ、
３Ｈ）、４゜５〜５．３　（３Ｈ）、５．８０　（ｄ　
　Ｊ−６Ｈｚ、ＩＨ） １α、３β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）実施Ｐ
Ａ６ １α、３β−ビス（メ１へキシカルボニルオキシ）７−
ドリフルオロアセトキシー６−プレグネン２０−オン１
．Ｏｇをエタノール２０ｍ１にンｉ？解し、水冷下で撹
拌した。水素化ポウ素す１−リウム０．２ｇと加え、さ
らに１時間撹拌した０反応混合物を希塩酸により中和し
、減圧下にエタノルを留去した。残渣に水を加え、塩化
メチレンで抽出し、抽出液を食塩水で洗浄した。硫酸す
ｌ−リウム上で乾燥し、濃縮後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより１４を製し　１α、３βビ
ス（メトキンカルボニルオキシ）−７−１−リフルオロ
アセトキシ−６−ブレジオ、シー２０−オル９０．８ｇ
得た。

１１Ｎ　Ｍ　Ｒスペクトル（９０ヘク１（Ｚ）δ・０．
６５　（ｓ、３Ｈ）、１．００　（ｓ、３Ｈ）、１．２
３　（ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ、３Ｈ）３．７３　（ｒｎ、ＩＨ
）、３．７７　（ｓ、３ｉ１）　、　３．７９　（ｓ、
　３Ｈ）　、　４．５〜５３（３０）、５．８０（ｄ、
Ｊ＝６Ｈｚ。

ＩＩ」） 実施例７ １α、３β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）２０−
　＜３−メチルブヂルオキシ）−６−ブレジオ、ノー５
α−オー１１１．９ ０ｍ１にｌ８解し、７Ｆ．凍上で攪拌した．無水Ｉーリ
フルオロ酢酸２　５ｍ１を加え、室温で終夜撹拌した．
以下実施例５と同様に操作を行い５１α　３β−ビス（
メトキシ力ルポニルオキン）−２０（３−メチルブヂル
オキシ）　−　７−ｈリフルオロアセ１−キシ−５−プ
レグネンを１．９ｇ１３な。

’ｌ（ＮＭＲスベクＩ〜ル（　９　０　Ｍ　Ｈ　７．　
ｌδ・０、６６（ｓ．３Ｈ）、０．９２（ｄ．、Ｊ７Ｈ
ｚ．６＋−１）、１．０５　（ｓ．３ｌ−１）１、１３
（ｄ．Ｊ＝７）＋ｚ．３Ｎ）、３１　〜３．８　（３Ｈ
）、３．７６　（ｓ．３１１）３、７８　（ｓ．３Ｈ）
、４．５〜５３（３Ｈ１　、５．７９　（ｄ．Ｊ＝６Ｈ
ｚ，１ト（） 実施例８ １Ｕ．３β−ビス（メトキンカルボニルオキシ）７−ト
リフルオロアセトキシ−６−ブレグ不ン２０−オン］．
Ｉｇを１．４−ジオキサン１０ｍ　ｌ　（：溶解し、）
−リス（ジベンジリデンアセトン）２パラジウムクロロ
ポルム銘体０．１ｇ、トリブチルポスフィン０．１６ｍ
１および１　４−ジオキサン２　０　ｍ　ｌよりなる溶
液に加え、アルゴン雰囲気下で２時間加熱還流した０反
応混合物を冷却ｔ＆　、フロリジルを用いて濾過し，ン
戸ｔｌ　ｋ　ｉμ縮した。

残．責をジエチルニーデル−ｎ−ヘキサンより再結晶し
、１α７　３β−ビス（メトキン力ルポニルオギン）プ
レグナ−５．７−ノニン−２０−オンを０、７ｇ得た．
下記の’ＨＮＭＲスペクトルの祷眼よりＩα，３β−ビ
ス（メトキン力ルポニルオキン）プレグナ−４．６−ノ
ニン−２０−オンの副生は認めらｈなかった。

１−ＩＮＭＲスペクトル（　９　０　Ｍ　Ｈ　ｚ　）δ
０、５３　（ｓ．３１（）、１．００　（ｓ　　３１（
）　、　２．　０８　（ｓ．　３Ｈ）　、　３．　７７
（ｓ．３Ｎ）、３．７９　（ｓ．３Ｈ）、　１１５　　
〜　　５．　　　　１　　　　（２Ｈ）、　　　　５．
　　　　３０　　　（＋ロ　　、１ｌ−１）５、６２（
ｍ，ｉＨ） 実施例９ １α１３β−ビス（メトキシ力ルポニルオキン）７−１
−リフルオロアセトキン−６ーグレ・グ不ン２０ーオー
ル０．８ｇ分１．４−ジオキサン１０ｍ１にン容解し、
トリス（ジベンジリデンアセトン）２パラジウムクロロ
ホルム銘体０．０８ｇ、トリブチルポスフィン０．１３
ｒｎｌおよび１，１ジオキサンｌ　６ｍ　ｌよりなるン
容イ＾にカロ疋、アルゴン雰囲気下で２時間加熱還流し
た．り下実施例８と同様に操作分行うことにより、１α
　３βビス（メトキシ力ｌレポニルオキン）プレグナ−
５７−ノニン−２０−オール０．６ｇ得た．下記のＨ　
　ＮＭＲスペクトルの結果より１α．３βビス（メトキ
シカルボニルオキシ）プレグナ−４６−ノニン−２０−
オールの副生は認めらｈなかっな。

Ｈ　　ＮＭＲスペクトル（　９　０　Ｍ　Ｈ　ｚ　）δ
・０、　６０　　（ｓ、　　３Ｈ）　　、　　０．　９
７　　（ｓ、　　３Ｉ（璽１．２０　（ｄ、　Ｊ＝６Ｈ
ｚ、　３Ｈ）３、　７５　　（ｍ、　　１８）、　　３
．　７７　　（ｓ、　　３Ｈ）　　、　　３．　７９　
　（ｓ、　　３Ｈ）　　、　　４．　５　〜５゜１　　
（２Ｈ）　　、　　５．　３４　　（ｍ、　　ＬＨ）　
　、　　５゜６２（ｍ、ＬＨ） 実施例１０ １α　３β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）２０−
（３−メチルブチルオキシ）−７−１−リフｌレオロア
セトキシー５−プレグオ、ン１９ｇを１、・１−ジオキ
サン２０ｍ　ｌに７容解し、トリス（ジベンジリデンア
セトン）２パラジウムクロロポルム釦体０．］８ｇ、ト
リブチルホスフィン０゜２７ｍ１および１．４−ジオキ
サン３　Ｑ　ｍ　ｌよりなる溶ンａに加え、アルゴン雰
囲気下で２時１ｍ加熱）ス流した。以下実施例８と同様
に（操作を行うことにより、１α、３β−ビス（メトキ
シカルボニルオキシ）−２０−（３−メチルブチルオキ
シ）プレグナ−５，７−ジエン分１５ｇ得た。下記のＨ
ＮＭＲスペクトルの結果より１α、３β−ビス（メトキ
シカルボニルオキシ）−２０−４３−メチルブチルオキ
シ）プレグナ−４，６−ジエンの副生は認められなかっ
た。

’ＨＮＭＲスペクトル（９０Ｍ　Ｈｚ　）δ。

０．６６　（ｓ、３Ｈ）、０．９３　（ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ
、６Ｈ）、１．０７　（ｓ、３ｌ−１）１．１５（ｄ、
Ｊ＝７Ｈｚ、３Ｈ）、３゜１〜３．８　（３Ｈ）、３．
７７　（ｓ、３ｔ（）３．８０　（ｓ、３Ｈ）、４．５
〜５．１（２Ｈ）、５．３２　（＋ｎ、Ｌ　Ｈ）、５．
６２（ｍ、ＩＨ） 実施例１１ １α、３β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プレグ
ナ−５，７−ノニン−２０−オン０．７ｇをエタノール
１０ｍ１に溶解し、水冷下で撹拌した。水素ｆヒホウ素
ナトリウムＯ，１ｇを加え、さらに１時間攪拌した。以
下実施例６と同様に操作を行うことにより、実施例って
得られたものと同じ’ｌ（ＮＭＲスペクトル分与える１
α、３βビス（メトキノカルボニルオキシ）プレグナ−
５７−ノニン−２０−オールを０．５ｇ得た。

実施例１２ ６０１１’に水素化ナトリウムＱ、５ｇと１．２−ジメ
トキンエタン１ｍｌに廿濁させ、１α、３βビス（メト
キノカルボニルオキシ ７−ノニン−２０−オール０．５ｇを１．２−ジメトキ
ンエクン５　ｔｎ　ｌにｉＨ乃Ｔしたン容渣を加え、室
温で３０分間撹拌した．ヨウ化イソアミル０．７ｍ　ｌ
を加え、５時間加熱還流した．り下実施例４と同様に操
作を行うことにより，実施例１０で得らｈ　ｆｓものと
同じ　ｌ　Ｈ　　Ｎ　Ｍ　Ｒスペク１−ル３与える１α
，３β−ビス（メトキノカルボニルオキシ）２０−　（
３−メチルブチルオキシ）プレグナ５、７−ジエンと０
．４ｇ得た。

一般式（Ｉｎ）で示さｌする新規なプレグナシ誘導体並
びに−形式（Ｉｆ’　）で示されるプレグナン誘導体か
ら一般式（ｍ″）で示されるプレグナン誘導体を製造す
る方法が提供される６ 本発明により提供される新規なプレグナン二角導体は免
疫調節作用及び腫瘍細胞の分化：勾導能を有し医薬、例
えば抗アレルギー剤，抗リウマチ削支び抗腫瘍剤として
有用なことが知られている９１０−セコ−５．７．１０
　（１９）　　−プレグナ１〜リ工ン誘導体の合成中間
体として有用である。

特許出願人　株式会社り　ラ　し

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１及びＲ＾２はそれぞれ水素原子又は水酸
   基の保護基を表わし、Ｘ及びＹは一緒になつてオキソ基
   を表わすか、又はＸは水素原子を表わし、Ｙは水酸基、
   ３−メチルブトキシ基又は３位の水酸基が保護されてい
   ても良い３−ヒドロキシ−３−メチルブトキシ基を表わ
   す〕 で示されるプレグナン誘導体。 ２、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｘ及びＹはそれぞれ請求項１
   記載のＲ＾１、Ｒ＾２、Ｘ及びＹと同じであり、Ｒ＾３
   は水素原子、アシル基又はアルコキシカルボニル基を表
   わす〕 で示されるプレグナン誘導体。 ３、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｘ′及びＹ′はそれぞれ請求
   項１記載のＲ＾１、Ｒ＾２、Ｘ及びＹと同じであり、但
   し、Ｒ＾１及びＲ＾２が水素原子、アセチル基又はｔ−
   ブチルジメチルシリル基を表わす場合には、Ｘ′及びＹ
   ′は一緒になつてオキソ基を表わす〕 で示されるプレグナン誘導体。 ４、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｘ及びＹはそれぞれ請求項１
   記載のＲ＾１、Ｒ＾２、Ｘ及びＹと同じであり、Ｒ＾４
   はアシル基又はアルコキシカルボニル基を表わす。〕で
   示されるプレグナン誘導体を、パラジウム触媒の存在下
   に７位の置換基をβ脱離させることを特徴とする、一般
   式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｘ及びＹはそれぞれ請求項１
   記載のＲ＾１、Ｒ＾２、Ｘ及びＹと同じである。〕で示
   されるプレグナン誘導体の製造方法。