JPH0296592A - 20−メチル−21−ヒドロキシプレグナン誘導体 - Google Patents
20−メチル−21−ヒドロキシプレグナン誘導体Info
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Steroid Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■
(式中 R’は請求項1記・;又の[く1と同じであり
、R7及びR1はそれぞれ水素原子又は水酸基の保d基
牙表わす) て′示される20−メチル−6−プレグ不ンーlα、3
β、5α、21−テ1−ラオール類。
、R7及びR1はそれぞれ水素原子又は水酸基の保d基
牙表わす) て′示される20−メチル−6−プレグ不ンーlα、3
β、5α、21−テ1−ラオール類。
6、−最大
骨軟化症、骨■8症などのカルンウム代謝の欠陥症の治
療に有効であることが知られている1α25−ジヒドロ
キシビタミンD1、またビタミンD様の?i性を存する
ことが川らtlでいる1α−ヒドロキシビタミンDl
、(24R) La、2425−1−ジヒドロキシ
ビタミンD、又は1α、25.26−ドリヒドロキシビ
タミンD1などの1α位に水酸基を有するビタミンD、
誘導体の合成中間体として有用である。
療に有効であることが知られている1α25−ジヒドロ
キシビタミンD1、またビタミンD様の?i性を存する
ことが川らtlでいる1α−ヒドロキシビタミンDl
、(24R) La、2425−1−ジヒドロキシ
ビタミンD、又は1α、25.26−ドリヒドロキシビ
タミンD1などの1α位に水酸基を有するビタミンD、
誘導体の合成中間体として有用である。
〔従来の技術]
&e来、1α位に水酸基を有するビタミンD、菖ノ乍(
本の74 i前方法としては 酬Iえば、コレステロー
ル分厚F’lとして使用することにより1α−ヒドロキ
シビタミ/DJを製造する方法(特開昭・186275
0号公+υ及び特開昭419−95956号公金)ン参
jj;j )、コレスタ−1,=1.6〜トリエン3−
オン−25−オールから;8導されるコレスタ1、.5
.7−1−ツエン−3−オン−25−オールを合成中間
体として経由する1α、25−ジヒドロキンビタミン]
〕、の製造方法(1?開昭51100056 ’を公9
6参’Ejl 、 (24R,I −1a3β :g
4.25−テトラヒドロキンコレスタ−57−ノニンに
不活性有機溶媒中で紫外線を照射し。
本の74 i前方法としては 酬Iえば、コレステロー
ル分厚F’lとして使用することにより1α−ヒドロキ
シビタミ/DJを製造する方法(特開昭・186275
0号公+υ及び特開昭419−95956号公金)ン参
jj;j )、コレスタ−1,=1.6〜トリエン3−
オン−25−オールから;8導されるコレスタ1、.5
.7−1−ツエン−3−オン−25−オールを合成中間
体として経由する1α、25−ジヒドロキンビタミン]
〕、の製造方法(1?開昭51100056 ’を公9
6参’Ejl 、 (24R,I −1a3β :g
4.25−テトラヒドロキンコレスタ−57−ノニンに
不活性有機溶媒中で紫外線を照射し。
生成した(24R)−1α、24.25−1−リヒドロ
キンプレビタミンl)3を異性化することによって(2
4R)−1α224.25−1−ジヒドロキシビタミン
Di3FJ造する方法(特1m昭51−1080 ll
6号公報参照)などが知られている。
キンプレビタミンl)3を異性化することによって(2
4R)−1α224.25−1−ジヒドロキシビタミン
Di3FJ造する方法(特1m昭51−1080 ll
6号公報参照)などが知られている。
[発明が解決しようとする課題]
上記の通り、1α位に水酸基を有するビタミンD、誘導
体の製造方)hは種々知られているが、該Ia位に水酸
基を(+−ずろヒ′タミンレ3,7〜へ?メ1転を−・
ツjΔするに際し、合成中間体としてlt用で゛きる化
り物を多くの(化音物の中がらi3択することがて゛き
jしば 涼11事情に応してその製造ブ17セスを適宜
渉史することが可能となりなfましい しかして、本発明の[1的は、種々の1α位に水酸基金
(rするビタミン[)、請4ダ体に:六・、葦さ!しる
?R規な化音物を提供することにある。
体の製造方)hは種々知られているが、該Ia位に水酸
基を(+−ずろヒ′タミンレ3,7〜へ?メ1転を−・
ツjΔするに際し、合成中間体としてlt用で゛きる化
り物を多くの(化音物の中がらi3択することがて゛き
jしば 涼11事情に応してその製造ブ17セスを適宜
渉史することが可能となりなfましい しかして、本発明の[1的は、種々の1α位に水酸基金
(rするビタミン[)、請4ダ体に:六・、葦さ!しる
?R規な化音物を提供することにある。
[課題を解決するための手ト21
本発明に、h ltは、上記のR1的は(+) −−
一般式 (式中、R1は水素原子又は水酸基の保二5基をkわず
) で示される1α、2α−エポキシ−20−メチル11.
6−プレグナジェン−3α 21−ジオール類、 一般式 (式中、R1は前記定義の通りである)で示さtする1
α、2α、71α、5α−ジェポキシ20−メチル−6
−プレグネン−3α521ジオール25 (3) −最大 〈式中、R1は前記定義の通りである)で示されろlt
z、2tz : 4a、5α−ジエボキ/20−メチル
ー〇−フ゛レグ不ン−3β、21ジオ一ル項 (5) −最大 (式中、R1は訪記定義の通りである)で示される1α
、2α、4α0.5α−ジェポキシ20−メチル−6−
プレグネン−3−オン−21−オール類、 (4) −最大 で示される20−ノー1−ルー6−1しクイ・ンー■メ
χ3β、5α、21−テトラオール項及び(6) −最
大 (式中、R1,R2及びR3は前記定義の通りであり、
1)4は水素原子、アシル基又はアルコキシカルボニル
基を表わす) で示される20−メチル−5−プレグネン−1α類 3β、7.21−テトラオール ことにより達成される。
一般式 (式中、R1は水素原子又は水酸基の保二5基をkわず
) で示される1α、2α−エポキシ−20−メチル11.
6−プレグナジェン−3α 21−ジオール類、 一般式 (式中、R1は前記定義の通りである)で示さtする1
α、2α、71α、5α−ジェポキシ20−メチル−6
−プレグネン−3α521ジオール25 (3) −最大 〈式中、R1は前記定義の通りである)で示されろlt
z、2tz : 4a、5α−ジエボキ/20−メチル
ー〇−フ゛レグ不ン−3β、21ジオ一ル項 (5) −最大 (式中、R1は訪記定義の通りである)で示される1α
、2α、4α0.5α−ジェポキシ20−メチル−6−
プレグネン−3−オン−21−オール類、 (4) −最大 で示される20−ノー1−ルー6−1しクイ・ンー■メ
χ3β、5α、21−テトラオール項及び(6) −最
大 (式中、R1,R2及びR3は前記定義の通りであり、
1)4は水素原子、アシル基又はアルコキシカルボニル
基を表わす) で示される20−メチル−5−プレグネン−1α類 3β、7.21−テトラオール ことにより達成される。
上記各−最大におけるR’ 、R’ 、R’及びR・と
以下に詳しく説明する。
以下に詳しく説明する。
R1が表わす水酸基の保護基としては、水酸基左
の保護の目的・達成するかぎり、通常用いられているい
ずれの保護基でもよいが、具体的には三1換シリル基、
互換基を有していても良いアルコキシメチル基などが挙
げられる.ここで、三置換シリル基としては、トリメチ
ルシリル基,トリエチルシリル基、トリイソプロピルシ
リル基、t−ブチルジメチルシリル基などのトリアルキ
ルシリル1、5 、 l−ブチルジメチルシリル基など
のン′アリールアルキルンリル基などが呈けられ,η1
0 7,(をff Lでいても良い7′ルコキノメ−1
−ル基として(1、メ1ーキンメーJール基、メトキン
エトキンメチルとのアルコキンメチル基,1−工1へキ
ンエチルIS、l−7トキンー1−メチルエチル基なと
のン′ルキル置IQアル′:lキン店.テ1ーラヒドロ
ビランー2イル基、テトラヒドロフラン−2−イル店な
どの2−オキサンクロアルキル基などがfげらhる。
ずれの保護基でもよいが、具体的には三1換シリル基、
互換基を有していても良いアルコキシメチル基などが挙
げられる.ここで、三置換シリル基としては、トリメチ
ルシリル基,トリエチルシリル基、トリイソプロピルシ
リル基、t−ブチルジメチルシリル基などのトリアルキ
ルシリル1、5 、 l−ブチルジメチルシリル基など
のン′アリールアルキルンリル基などが呈けられ,η1
0 7,(をff Lでいても良い7′ルコキノメ−1
−ル基として(1、メ1ーキンメーJール基、メトキン
エトキンメチルとのアルコキンメチル基,1−工1へキ
ンエチルIS、l−7トキンー1−メチルエチル基なと
のン′ルキル置IQアル′:lキン店.テ1ーラヒドロ
ビランー2イル基、テトラヒドロフラン−2−イル店な
どの2−オキサンクロアルキル基などがfげらhる。
R2及びR3がそれぞれ表わす水酸基の保諺Mく、具体
的にはアシル基、アルコキシカルボニル基、三置換ンリ
ル基、置換基分有していても良いアルコキシメチル基な
どが挙げられる.ここで、アシル基としては、アセチル
基、プロじオニル基、ブチリル基、インブチリル基、バ
レリル基、インバレリル基、ビバローfル基、ベンゾイ
ル基,モノクロルアセチル基、トリフルオロアセチル基
などが挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、インブロ
ビルオキンカルボニル基などの低級アルコキシカルボニ
ル基、フェノキシカルボニル基、ρ−メトキシフェニル
カルボニル基などのアレノキン力ルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基、p−二1へロベンジルオキシ力ル
ボニル基などのアラルキルオキンカルボニル基などが挙
げられ、三1喚シリル基及び1換基を有していても良い
アルルコキンメチル基などが埜げられる。
的にはアシル基、アルコキシカルボニル基、三置換ンリ
ル基、置換基分有していても良いアルコキシメチル基な
どが挙げられる.ここで、アシル基としては、アセチル
基、プロじオニル基、ブチリル基、インブチリル基、バ
レリル基、インバレリル基、ビバローfル基、ベンゾイ
ル基,モノクロルアセチル基、トリフルオロアセチル基
などが挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、インブロ
ビルオキンカルボニル基などの低級アルコキシカルボニ
ル基、フェノキシカルボニル基、ρ−メトキシフェニル
カルボニル基などのアレノキン力ルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基、p−二1へロベンジルオキシ力ル
ボニル基などのアラルキルオキンカルボニル基などが挙
げられ、三1喚シリル基及び1換基を有していても良い
アルルコキンメチル基などが埜げられる。
数式(1)〜(Vl)で示される本発明の20−メチル
−21−ヒドロキシプレダナン誘導体は例えば以下の方
法により製造することができる。
−21−ヒドロキシプレダナン誘導体は例えば以下の方
法により製造することができる。
(−π−1)
Vff−2
(1v)
(lull
「上記の式において、RI 、 R2、R]及びR4は
訂記定義の通りである。] 上記において、−最大(V−1)又は(V−2)で表わ
される化合物は一最式(V)で表わされる化合物に包含
される。
訂記定義の通りである。] 上記において、−最大(V−1)又は(V−2)で表わ
される化合物は一最式(V)で表わされる化合物に包含
される。
上記式(Vl−1m−最大(Vf 2)、 111
式(■)、−歴代(■)、−最大(m)、−最大(■)
、−最大(V−1)、−最大(V−2)及び−最式(V
l )で示される化合物を以後それぞれ下記のように称
することがある。
式(■)、−歴代(■)、−最大(m)、−最大(■)
、−最大(V−1)、−最大(V−2)及び−最式(V
l )で示される化合物を以後それぞれ下記のように称
することがある。
(V−1) 化合物 (V−1)(V−2
) 化合物 (V−2)(Vl)
化合物 (Vl )更に、−79式(Vl−
2)においてR1が下記のような基と表わすことによっ
て示される化合物を以後下記のような略称名を用いて表
示することがある。
) 化合物 (V−2)(Vl)
化合物 (Vl )更に、−79式(Vl−
2)においてR1が下記のような基と表わすことによっ
て示される化合物を以後下記のような略称名を用いて表
示することがある。
RI
略 称 名
式又は 略 称 名−最大
%式%
置換基を有していても
良いアルコキシメチル
基
化合物(Vl −2
また、−最大(V−2)においてR1及びR2がそれぞ
れ下記のような基を表わすことによって示される化合物
を以後下記のように称することがある。
れ下記のような基を表わすことによって示される化合物
を以後下記のように称することがある。
R1及びR2
略
称
名
アシル基
アルコキシカル
ボニル基
三置換ンリル基
置換基を有して
いても良いアル
コキシメチル基
化合物(V
化合物(V
化合物(V
化合物(v−2
また、−最大(Vl)において、R4が下記のような原
子又は基を表わすことによって示される化金物を以後下
記のように称することがある。
子又は基を表わすことによって示される化金物を以後下
記のように称することがある。
略
称
名
水素原子
アシル基
化合物(Vl−1)
化合物(Vl−2)
アルコキシカル
ボニル基
化合物(Vl−3)
化合物(vl−1)は特開昭53 50152′+公報
記載の公知の方法にしたがって調製することができる。
記載の公知の方法にしたがって調製することができる。
化合物(Vl−1)から化合物(Vl −2−1+への
変換は、常法に従って、例えば塩基性化合物の存在下に
化合物(■−1)に塩化三置換ンリルを作用させること
により行われる8反応に用いられる塩化三置換シリルと
しては、塩化トリメチルシリル、塩化トリエチルシリル
、塩化トリイソプロピルシリル、塩化t−ブチルジメチ
ルシリルなどの塩化トリアルキルシリル、塩化し一ブチ
ルジフェニルシリルなどの塩化ジアリールアルキルシリ
ルなどが挙げられ、その使用、量は、通常化合物(Vl
−1)1モルに対して約1〜20モル、好ましくは約1
.2〜10モルである6反応に用いられる塩基性物質と
しては、ピリジン、トリエチルアミン、ジインプロピル
エチルアミン、ジエチルアニリン、イミダゾールなどの
有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金
属水素化物。
変換は、常法に従って、例えば塩基性化合物の存在下に
化合物(■−1)に塩化三置換ンリルを作用させること
により行われる8反応に用いられる塩化三置換シリルと
しては、塩化トリメチルシリル、塩化トリエチルシリル
、塩化トリイソプロピルシリル、塩化t−ブチルジメチ
ルシリルなどの塩化トリアルキルシリル、塩化し一ブチ
ルジフェニルシリルなどの塩化ジアリールアルキルシリ
ルなどが挙げられ、その使用、量は、通常化合物(Vl
−1)1モルに対して約1〜20モル、好ましくは約1
.2〜10モルである6反応に用いられる塩基性物質と
しては、ピリジン、トリエチルアミン、ジインプロピル
エチルアミン、ジエチルアニリン、イミダゾールなどの
有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金
属水素化物。
水素化ナトリウムなどの金属水素化物などが挙げられる
。塩基性物資の使用量は、その性質によっても異なるが
、通常化合物(Vll)1モルに対して約1〜200モ
ルであり、好ましくは約2〜100モルである。この反
応は通常溶媒中で行われるが、塩基性物質として使用す
る有v1塩基を溶媒として用いることも可能であり、丈
な塩化メチレン、テ1−ラヒドロフラン、ジメチルホル
ムアミドなどの反応にg影響を及ぼさない溶媒分用いる
ことら可能である。溶媒の使用量は、通常化合物(Vl
−] )に対して約5〜200倍重量である。
。塩基性物資の使用量は、その性質によっても異なるが
、通常化合物(Vll)1モルに対して約1〜200モ
ルであり、好ましくは約2〜100モルである。この反
応は通常溶媒中で行われるが、塩基性物質として使用す
る有v1塩基を溶媒として用いることも可能であり、丈
な塩化メチレン、テ1−ラヒドロフラン、ジメチルホル
ムアミドなどの反応にg影響を及ぼさない溶媒分用いる
ことら可能である。溶媒の使用量は、通常化合物(Vl
−] )に対して約5〜200倍重量である。
反応は通常的−20〜100 ’Cの範囲内の温度、好
ましくは約0〜60゛Cの範囲内の温度で行われる。
ましくは約0〜60゛Cの範囲内の温度で行われる。
この、Lうにして得られた化合物(Vl−2−1)の反
応719合物からの単層・精製は、通常の有機反応にお
いて行われている単離・精製法と同様にして行うことが
できる。IMえば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチル
エーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸、重曹水及
び食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、
それを再結晶、クロマトグラフィーなどで精製すること
により化合物(Vl −2−1,)を得ることができる
。
応719合物からの単層・精製は、通常の有機反応にお
いて行われている単離・精製法と同様にして行うことが
できる。IMえば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチル
エーテルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸、重曹水及
び食塩水で順次洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、
それを再結晶、クロマトグラフィーなどで精製すること
により化合物(Vl −2−1,)を得ることができる
。
化合物(Vl −1) カら化合物(Vl −2−2>
ヘの変換は、常法に従い、例えば、塩基性物質の存在
下に化合物(Vl −1)にクロルメチルエーテル類を
作用させるか、又は酸触媒下に化合物(■1)にビニル
エーテル類3作用させることにより行われる0反応に用
いられるクロルメチルエーテル類としては、クロルメチ
ルメチルエーテル、塩化メトキシエトキシメチル、2−
クロルテトラヒドロフランなどが挙げられ、ビニルエー
テル類としては、エチルビニルエーテル、メチルイゾプ
ロペニルエーテル、ジヒドロビランなどが埜げられる。
ヘの変換は、常法に従い、例えば、塩基性物質の存在
下に化合物(Vl −1)にクロルメチルエーテル類を
作用させるか、又は酸触媒下に化合物(■1)にビニル
エーテル類3作用させることにより行われる0反応に用
いられるクロルメチルエーテル類としては、クロルメチ
ルメチルエーテル、塩化メトキシエトキシメチル、2−
クロルテトラヒドロフランなどが挙げられ、ビニルエー
テル類としては、エチルビニルエーテル、メチルイゾプ
ロペニルエーテル、ジヒドロビランなどが埜げられる。
クロルメチルエーテル類又はビニルエーテル類の使用量
は、通常化合物(■−1)1モルに対して約1〜50モ
ル、好ましくは約5〜20モルである0反応に用いられ
る塩基性物質としては、ビリンン、トリエチルアミン、
ジイソプロピルニーブールアミン、ジエチルアニリン、
イミダゾールなどの有機塩基、水素化すトリウムなどの
金属水素化物などか14げられる。塩基性物質の使用油
は。
は、通常化合物(■−1)1モルに対して約1〜50モ
ル、好ましくは約5〜20モルである0反応に用いられ
る塩基性物質としては、ビリンン、トリエチルアミン、
ジイソプロピルニーブールアミン、ジエチルアニリン、
イミダゾールなどの有機塩基、水素化すトリウムなどの
金属水素化物などか14げられる。塩基性物質の使用油
は。
その性■によってもWなるが、通常化合物(Vll)1
モルにχtして約1〜100モルであり、好ましくは、
約3〜50モルである。使用する酸触媒としては、13
−1−ルエンスルホン酸、カンフルスルホン酸などのス
ルホン酸、p−トルエンスルポン酸ピリジニウムなどの
スルホン酸塩、塩酸。
モルにχtして約1〜100モルであり、好ましくは、
約3〜50モルである。使用する酸触媒としては、13
−1−ルエンスルホン酸、カンフルスルホン酸などのス
ルホン酸、p−トルエンスルポン酸ピリジニウムなどの
スルホン酸塩、塩酸。
Tfi酸などの鉱酸などが挙げられる。酸触媒の使用量
は、化合物(Vl−1,)1モルに対して、通常的00
5〜0.2モルである。この反応は、通常溶媒中で行わ
れるが、用いられる溶媒としては、ビニルエーテル類又
は塩基性物質として使用される有機塩基を溶媒として用
いることも可能であり、また塩化メチレン、テトうしド
ロフラン、ジメチルホルムアミドなどの反応に悪影響を
及ぼさない溶媒を用いることも可能である。溶媒の使用
量は、通常化合物(Vl−1)に対して約5〜200倍
重量である0反応は通常的−20〜100 ’Cの範囲
内の温度、好まL <は約0〜60℃の範囲内の温度で
行われる。
は、化合物(Vl−1,)1モルに対して、通常的00
5〜0.2モルである。この反応は、通常溶媒中で行わ
れるが、用いられる溶媒としては、ビニルエーテル類又
は塩基性物質として使用される有機塩基を溶媒として用
いることも可能であり、また塩化メチレン、テトうしド
ロフラン、ジメチルホルムアミドなどの反応に悪影響を
及ぼさない溶媒を用いることも可能である。溶媒の使用
量は、通常化合物(Vl−1)に対して約5〜200倍
重量である0反応は通常的−20〜100 ’Cの範囲
内の温度、好まL <は約0〜60℃の範囲内の温度で
行われる。
この様にして得られた化合物(Vl−2−2)の反応混
合物からのljl離・精製は、通常の有機反応において
行われている単層・精製法と同様にして行われる9例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの
有機溶媒で抽出し、有機塩基を用いている場合には冷希
塩酸で洗浄し、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、乾燥後
濃縮して粗生成物を得、それを再結晶、クロマトグラフ
ィーなどで精製することにより化合物(■−2−2)を
得ることができる。
合物からのljl離・精製は、通常の有機反応において
行われている単層・精製法と同様にして行われる9例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの
有機溶媒で抽出し、有機塩基を用いている場合には冷希
塩酸で洗浄し、重曹水及び食塩水で順次洗浄し、乾燥後
濃縮して粗生成物を得、それを再結晶、クロマトグラフ
ィーなどで精製することにより化合物(■−2−2)を
得ることができる。
化合物(■−2)から化合物<I)への変換は、常法に
従い還元反応に付することにより行うことができる。こ
の還元反応において使用される還元剤としては、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化ホウT:亜鉛、水素化ジイソ
ブチルアルミニウム、水素化トリエチルホウ素リチウム
、水素化ホウ素リチウム、水素化トリ5ec−ブチルホ
ウ素リチウムなどの金属水素化物または金属水素化物錯
体などが挙げられ、その使用量は、化合物(■−2)1
モルに対して約0.5〜20モルである0反応は通常溶
媒中で行われ、使用される溶媒としては、用いる還元剤
の性質によっても異なるが、水;メタノール、エタノー
ルなどの低級アルコール及びこれらの混合溶媒:テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル系の溶
媒などが挙げられ、その使用量は通常化合物(■−2)
に対して約5〜200倍重量である0反応は、通常的−
80〜60°Cの範囲内の温度、好ましくは約−30〜
30℃の範囲内の温度で行われる。
従い還元反応に付することにより行うことができる。こ
の還元反応において使用される還元剤としては、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化ホウT:亜鉛、水素化ジイソ
ブチルアルミニウム、水素化トリエチルホウ素リチウム
、水素化ホウ素リチウム、水素化トリ5ec−ブチルホ
ウ素リチウムなどの金属水素化物または金属水素化物錯
体などが挙げられ、その使用量は、化合物(■−2)1
モルに対して約0.5〜20モルである0反応は通常溶
媒中で行われ、使用される溶媒としては、用いる還元剤
の性質によっても異なるが、水;メタノール、エタノー
ルなどの低級アルコール及びこれらの混合溶媒:テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル系の溶
媒などが挙げられ、その使用量は通常化合物(■−2)
に対して約5〜200倍重量である0反応は、通常的−
80〜60°Cの範囲内の温度、好ましくは約−30〜
30℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られた化合物(1)の反応混合物からの
単離・精製は、通常の有機反応で用いられていいl・精
製法と同様にして行うことができる0例えば、反応混合
物に、水、冷希塩酸などを加えて過剰の還元剤含分解し
、水で希釈した後に必要に応じて減圧下に濃縮し、ジエ
チルエーテル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出し、
抽出液を食塩水で洗浄し、乾燥後濃縮して■I生成物を
得2それを再結晶、クロマトグラフィーなどにより精製
することにより化合物(I)を得ることができる。
単離・精製は、通常の有機反応で用いられていいl・精
製法と同様にして行うことができる0例えば、反応混合
物に、水、冷希塩酸などを加えて過剰の還元剤含分解し
、水で希釈した後に必要に応じて減圧下に濃縮し、ジエ
チルエーテル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出し、
抽出液を食塩水で洗浄し、乾燥後濃縮して■I生成物を
得2それを再結晶、クロマトグラフィーなどにより精製
することにより化合物(I)を得ることができる。
化合物(I)から化合物(Illへの変換は、常法に従
ってエポキシ化することによって行われる。
ってエポキシ化することによって行われる。
使用されるエポキシ化剤としては、m−クロル過安だ、
香酸、過安遭、香酸、過酢酸などの有機過酸などが挙げ
られ、その使用量は化合物(■)1モルに対して約1〜
10モルである9反応は通常溶媒が挙げられる。溶媒の
使用量は、通常化合物(I)に対して約5〜200倍重
量である。またこの反応は、重汗水などの緩衝剤を共存
させて行うこともできる0反応は通常的−30〜50℃
の範囲内の温度、好ましくは約−1O〜30℃の範囲内
の温度で行われる。
香酸、過安遭、香酸、過酢酸などの有機過酸などが挙げ
られ、その使用量は化合物(■)1モルに対して約1〜
10モルである9反応は通常溶媒が挙げられる。溶媒の
使用量は、通常化合物(I)に対して約5〜200倍重
量である。またこの反応は、重汗水などの緩衝剤を共存
させて行うこともできる0反応は通常的−30〜50℃
の範囲内の温度、好ましくは約−1O〜30℃の範囲内
の温度で行われる。
この様にして得られた化合物(If)の単wL 精製
は、通常の有機反応で用いられている単離 精製法と
同様にして行われる0例えば、反応混合物を食塩水で渭
釈後、二層に分離し、水、′4をジエチルニーデル、塩
化メチレンなどの有機溶媒で抽出し、有機層を合わせ、
IIj曹水及び食塩水で洗浄し、乾燥後、層線して、1
1生成物を得、それを再結晶、クロマトグラフィーなど
により精製して化合物(II)をt′)ることかできる
。
は、通常の有機反応で用いられている単離 精製法と
同様にして行われる0例えば、反応混合物を食塩水で渭
釈後、二層に分離し、水、′4をジエチルニーデル、塩
化メチレンなどの有機溶媒で抽出し、有機層を合わせ、
IIj曹水及び食塩水で洗浄し、乾燥後、層線して、1
1生成物を得、それを再結晶、クロマトグラフィーなど
により精製して化合物(II)をt′)ることかできる
。
化合物(n)から化合物く■)への変換は、常法にff
jい、3位の水酸基を酸化することにより行われる。こ
の酸化反応に用いらhる酸化剤としては、反え系が酸性
になるなどして基汀が分解してである。この反応に用い
られる酸化剤としては、N−メチルモルホリン−N−オ
キシド、N、N=ジメチルアニリン−N−オキシド、ト
リメチルアミン−N−オキシド、N、N−ジメチル−〇
−ドデシルアミンーN−オキシドなどの第三級アミンの
N−オキシドなどが挙げられ、その使用量は化合Th(
II)1モルに対して約08〜50モル、好ましくは約
1.2〜10モルである。この反応は通常溶媒中で行わ
れるが、用いられる溶媒としては、塩化メチレン、アセ
トン、ジメチルホルムげられる。使用される遷移金属触
媒としては、塩化パラジウム、塩化ルテニウム、テトラ
ブチルアンモニウムベルルテナート、テトラブロビルア
ンモニウムベルルテナート、塩化トリス(トリフェニル
ボスフィン)ルテニウム(ff)、 l−リルテニウム
ドデ力力ルボニルなどが挙げられ、その使用量は化合物
(■)1モルに対して、約0.01〜05モル、好まし
くは約0.02〜0.2モルれ、その使用量は、化合物
(U)に対して約5〜200倍重厘である。この反応は
、触媒の配位子として、トリフェニルホスフィン、トリ
ブチルホスフィン、1.2−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)エタンなどの第三級ホスフィンを遷移金属触媒1モ
ルに対して約1〜5モル加えて行うこともできる。また
、脱水剤として、モレキュラシーブスなどを共存させる
こともできる0反応は通常的−10〜80℃の範囲内の
温度、好ましくは約0〜30℃の範囲内の温度で行われ
る。
jい、3位の水酸基を酸化することにより行われる。こ
の酸化反応に用いらhる酸化剤としては、反え系が酸性
になるなどして基汀が分解してである。この反応に用い
られる酸化剤としては、N−メチルモルホリン−N−オ
キシド、N、N=ジメチルアニリン−N−オキシド、ト
リメチルアミン−N−オキシド、N、N−ジメチル−〇
−ドデシルアミンーN−オキシドなどの第三級アミンの
N−オキシドなどが挙げられ、その使用量は化合Th(
II)1モルに対して約08〜50モル、好ましくは約
1.2〜10モルである。この反応は通常溶媒中で行わ
れるが、用いられる溶媒としては、塩化メチレン、アセ
トン、ジメチルホルムげられる。使用される遷移金属触
媒としては、塩化パラジウム、塩化ルテニウム、テトラ
ブチルアンモニウムベルルテナート、テトラブロビルア
ンモニウムベルルテナート、塩化トリス(トリフェニル
ボスフィン)ルテニウム(ff)、 l−リルテニウム
ドデ力力ルボニルなどが挙げられ、その使用量は化合物
(■)1モルに対して、約0.01〜05モル、好まし
くは約0.02〜0.2モルれ、その使用量は、化合物
(U)に対して約5〜200倍重厘である。この反応は
、触媒の配位子として、トリフェニルホスフィン、トリ
ブチルホスフィン、1.2−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)エタンなどの第三級ホスフィンを遷移金属触媒1モ
ルに対して約1〜5モル加えて行うこともできる。また
、脱水剤として、モレキュラシーブスなどを共存させる
こともできる0反応は通常的−10〜80℃の範囲内の
温度、好ましくは約0〜30℃の範囲内の温度で行われ
る。
この様にして得られた化合物(III)の反応混合物か
らの単離・精製は、通常の有機反応で用いられている単
離・晴製法と同様にして行うことができる0例えば、反
応液を2通した後、不溶物を基線した後、水を加え、ジ
エチルエーテル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出し
、抽出液を水、チオ硫酸ナトリウム水溶液、硫酸調水溶
液、重1u水及び食j−水で洗浄し、乾燥後濃縮して、
粗生成物を得、それと再結晶、クロマトグラフィーなど
により精製することにより化合物(In)を得ることが
できる。
らの単離・精製は、通常の有機反応で用いられている単
離・晴製法と同様にして行うことができる0例えば、反
応液を2通した後、不溶物を基線した後、水を加え、ジ
エチルエーテル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出し
、抽出液を水、チオ硫酸ナトリウム水溶液、硫酸調水溶
液、重1u水及び食j−水で洗浄し、乾燥後濃縮して、
粗生成物を得、それと再結晶、クロマトグラフィーなど
により精製することにより化合物(In)を得ることが
できる。
われる、使用される還元剤としては、水素化ホウ素ナト
リウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ジイソブチルアルミ
ニウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化ホウ
素リチウム、水素化トリ5eC−ブチルホウ素リチウム
などの金属水素化物錯体または金属水素化物などが挙げ
られ、その使用量は化合物(■)1モルに対して約0.
5〜20モルである0反応は通常溶媒中で行われ、使用
される溶媒としては、使用する還元剤によっても異なる
が、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテルなどが挙げられ、その使用量は化合物(
III)に対して約5〜200倍重量である0反応は通
常的−80〜60℃の範囲内の温度、好ましくは約−3
0〜30℃の範囲内の温度で行われる。
リウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ジイソブチルアルミ
ニウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化ホウ
素リチウム、水素化トリ5eC−ブチルホウ素リチウム
などの金属水素化物錯体または金属水素化物などが挙げ
られ、その使用量は化合物(■)1モルに対して約0.
5〜20モルである0反応は通常溶媒中で行われ、使用
される溶媒としては、使用する還元剤によっても異なる
が、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテルなどが挙げられ、その使用量は化合物(
III)に対して約5〜200倍重量である0反応は通
常的−80〜60℃の範囲内の温度、好ましくは約−3
0〜30℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られた化合物(IV)の反応混合物から
の単離・精製は、通常の有機反応において行われている
単N1 精製法と同様にして行われる。
の単離・精製は、通常の有機反応において行われている
単N1 精製法と同様にして行われる。
例えば、反応混合物に水、冷希塩酸などと加えて過剰の
還元剤を分解し、水で、希釈した後に必要に応じて減圧
下にiamし、ジエチルエーテル、塩化メチレンなどの
有8!溶媒で抽出し、抽出液ご食塩水で洗浄し、乾燥後
、!A縮して、粗生成物を得、それを再結晶、クロマト
グラフィーなどにより精製して、化合Tm (IV ”
)を得ることができる。
還元剤を分解し、水で、希釈した後に必要に応じて減圧
下にiamし、ジエチルエーテル、塩化メチレンなどの
有8!溶媒で抽出し、抽出液ご食塩水で洗浄し、乾燥後
、!A縮して、粗生成物を得、それを再結晶、クロマト
グラフィーなどにより精製して、化合Tm (IV ”
)を得ることができる。
化合物(1)または化合物(IV )から化合物(V−
1)への変換は、常法に従い、還元反応に付すことによ
り行うことができる。使用される還元剤としては、水素
化アルミニウムリチウム、水素化ビス(メトキシエトキ
シ)アルミニウムナトリウムなどの金属水素化物銘体な
どが埜げられ、その使用量は、通常化合物(1)または
化合物(1v)の1モルに対して約0.75〜20モル
である6反応は通常溶媒中で行われ、使用される溶媒と
しては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどが
挙げられ、その使用量は1通常化合物(III)または
化合物(IV)に対して約5〜200倍重量である0反
応は通常的−80〜70℃の範囲内の温度、好ましくは
約−30〜30℃の範囲内の温度で行われる。
1)への変換は、常法に従い、還元反応に付すことによ
り行うことができる。使用される還元剤としては、水素
化アルミニウムリチウム、水素化ビス(メトキシエトキ
シ)アルミニウムナトリウムなどの金属水素化物銘体な
どが埜げられ、その使用量は、通常化合物(1)または
化合物(1v)の1モルに対して約0.75〜20モル
である6反応は通常溶媒中で行われ、使用される溶媒と
しては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどが
挙げられ、その使用量は1通常化合物(III)または
化合物(IV)に対して約5〜200倍重量である0反
応は通常的−80〜70℃の範囲内の温度、好ましくは
約−30〜30℃の範囲内の温度で行われる。
この様にして得られた化合物(V−1>の反応混合物か
らの単離・精製は、通常の有機反応において用いられて
いる単離・TXI製法と同様にして行われる0例えば、
反応混合物をジエチルエーテルで希釈し、過剰の還元剤
を飽和硫酸ナトリウム水溶液で分解し、不溶物をP別後
酢酸エチルで洗浄して、洗浄液をFilIに合わせ、J
ILで粗生成物を得、それを再結晶、クロマトグラフィ
ーなどにより精製することによって化合物(V−1)を
得ることができる。
らの単離・精製は、通常の有機反応において用いられて
いる単離・TXI製法と同様にして行われる0例えば、
反応混合物をジエチルエーテルで希釈し、過剰の還元剤
を飽和硫酸ナトリウム水溶液で分解し、不溶物をP別後
酢酸エチルで洗浄して、洗浄液をFilIに合わせ、J
ILで粗生成物を得、それを再結晶、クロマトグラフィ
ーなどにより精製することによって化合物(V−1)を
得ることができる。
この様にして得られた化合物(V−1)は、必要に応じ
て、常法に従い1位及び3位の水酸基の3位の水酸基を
選択的に保護し、トリオールのモできる。
て、常法に従い1位及び3位の水酸基の3位の水酸基を
選択的に保護し、トリオールのモできる。
化合物(V−1)から化合物(V−2−1)への変換は
、常法に従い、例えば塩基性物質の存在下にカルボン酸
の無水物あるいはハロゲン化物を作用させることにより
実施される。この反応に用いられるカルボン酸無水物と
しては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水醋酸、無水
トリフルオロ酢酸などが挙げられ、カルボン酸ハロゲン
化物としては5塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩化
ブチリル、塩化インブチリル、塩化バレリル、塩化イソ
バレリル、塩化ピバロイル、塩化ベンゾイルなどが挙げ
られる。酸無水物あるいは酸ハロゲン化物の使用量は、
通常化合物(V−1,)1モルに対して約2〜20モル
、好ましくは約25〜10モルである。この反応に用い
られる塩基性物質としては、ピリジン、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアニリンな
どの1機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
のfLg、水酸化物、水素化ナトリウムなどの金属水素
化物などが挙げられる。塩基性物質の使用量は、その性
質によっても異なるが、通常化合物(V−1)1モルに
対して約2〜200モル、好ましくは約5〜100モル
である。またアシル化触媒である。ジメチルアミノピリ
ジン、ピロリジノピリジンなどの存在下で行なうことも
可能である。触媒の使用量は、通常化合物(V−1)1
モルに対して約0.05〜0.2モルである。この反応
は通常溶媒中で実施されるが、塩基性物質として使用す
る有機塩基を溶媒として用いることも可能であり、また
塩化メチレン、テトラヒドロフランなどの反応に悪影響
を及ぼさない溶媒を用いることも可能である。溶媒の使
用量は通常化合物(V−1)に対して約5〜200倍重
量である。
、常法に従い、例えば塩基性物質の存在下にカルボン酸
の無水物あるいはハロゲン化物を作用させることにより
実施される。この反応に用いられるカルボン酸無水物と
しては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水醋酸、無水
トリフルオロ酢酸などが挙げられ、カルボン酸ハロゲン
化物としては5塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩化
ブチリル、塩化インブチリル、塩化バレリル、塩化イソ
バレリル、塩化ピバロイル、塩化ベンゾイルなどが挙げ
られる。酸無水物あるいは酸ハロゲン化物の使用量は、
通常化合物(V−1,)1モルに対して約2〜20モル
、好ましくは約25〜10モルである。この反応に用い
られる塩基性物質としては、ピリジン、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアニリンな
どの1機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
のfLg、水酸化物、水素化ナトリウムなどの金属水素
化物などが挙げられる。塩基性物質の使用量は、その性
質によっても異なるが、通常化合物(V−1)1モルに
対して約2〜200モル、好ましくは約5〜100モル
である。またアシル化触媒である。ジメチルアミノピリ
ジン、ピロリジノピリジンなどの存在下で行なうことも
可能である。触媒の使用量は、通常化合物(V−1)1
モルに対して約0.05〜0.2モルである。この反応
は通常溶媒中で実施されるが、塩基性物質として使用す
る有機塩基を溶媒として用いることも可能であり、また
塩化メチレン、テトラヒドロフランなどの反応に悪影響
を及ぼさない溶媒を用いることも可能である。溶媒の使
用量は通常化合物(V−1)に対して約5〜200倍重
量である。
反応は通常的−20〜100℃の範囲内の温度、好まし
くは約0〜30℃の範囲の温度で行なわれる。
くは約0〜30℃の範囲の温度で行なわれる。
この様にして得られた化合物(V−2−1)の反応混合
物からの単離・精製は、通常の有機反応において行なわ
れる単離・精製法と同様にして行なうことができる0例
えば1反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなど
の有機溶媒で抽出し。
物からの単離・精製は、通常の有機反応において行なわ
れる単離・精製法と同様にして行なうことができる0例
えば1反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなど
の有機溶媒で抽出し。
冷希塩酸、重曹水及び食塩水で洗浄し、乾燥f&濃縮し
て、■生成物を得、再結晶、クロマトグラフィーなどに
より精製することにより化合Th(V2−1)を得るこ
とができる。
て、■生成物を得、再結晶、クロマトグラフィーなどに
より精製することにより化合Th(V2−1)を得るこ
とができる。
化合物(V−1)から化合物(V−2−2>への変換は
、常法に従い、例えば塩基性物質の存在十に、クロル炭
酸エステルを作用させることにより行なわれる0反応に
用いらり、るクロル炭酸エステルとしては、クロル炭酸
メチル、クロル炭酸エチル、クロル炭酸イソプロピルな
どのクロル炭酸低級アルキル、クロル炭酸フェニル、ク
ロル炭酸p−メトキシフェニルなどのクロル炭酸アリー
ル、クロル炭酸ベンジル、クロル炭Hp−ニトロベンジ
ルなどのクロル炭酸アラルキルなどが挙げられ、その使
用量は、通常化合物(+1−1)1モルに対して約2〜
50モル、好ましくは約5〜20モルである0反応に用
いられる塩基性物質としては、化合物(V−1)から化
合物(V−2−1)への変換の際に使用される塩基性物
質などが挙げられ、その使用量は、使用する塩基性物質
の性質によっても異なるが、通常化合物(V−1>1モ
ルに対して約2〜200モル、好ましくは約5〜100
モルである。またエステル化触媒であるジメチルアミノ
ピリジン、ピロリジノピリジンなどを化合物(V−1)
1モルに対して約0.05〜0.2モル共存させて行な
うことも可能である。この反応は通常溶媒中で行なわれ
るが、塩基性物質として使用する有li!塩基を溶媒と
して用いることも可能であり、塩化メチレン、テトラヒ
ドロフランなどの反応に悪影響を与えない溶媒を使用す
ることら可能である。 LrJ媒の使用量は、通常化合
物(Vl)に対して約5〜200倍重量である9反応は
通常的−20〜100℃の範囲内の温度、好ましくは約
O〜30℃の範囲内の温度で行なわれる。
、常法に従い、例えば塩基性物質の存在十に、クロル炭
酸エステルを作用させることにより行なわれる0反応に
用いらり、るクロル炭酸エステルとしては、クロル炭酸
メチル、クロル炭酸エチル、クロル炭酸イソプロピルな
どのクロル炭酸低級アルキル、クロル炭酸フェニル、ク
ロル炭酸p−メトキシフェニルなどのクロル炭酸アリー
ル、クロル炭酸ベンジル、クロル炭Hp−ニトロベンジ
ルなどのクロル炭酸アラルキルなどが挙げられ、その使
用量は、通常化合物(+1−1)1モルに対して約2〜
50モル、好ましくは約5〜20モルである0反応に用
いられる塩基性物質としては、化合物(V−1)から化
合物(V−2−1)への変換の際に使用される塩基性物
質などが挙げられ、その使用量は、使用する塩基性物質
の性質によっても異なるが、通常化合物(V−1>1モ
ルに対して約2〜200モル、好ましくは約5〜100
モルである。またエステル化触媒であるジメチルアミノ
ピリジン、ピロリジノピリジンなどを化合物(V−1)
1モルに対して約0.05〜0.2モル共存させて行な
うことも可能である。この反応は通常溶媒中で行なわれ
るが、塩基性物質として使用する有li!塩基を溶媒と
して用いることも可能であり、塩化メチレン、テトラヒ
ドロフランなどの反応に悪影響を与えない溶媒を使用す
ることら可能である。 LrJ媒の使用量は、通常化合
物(Vl)に対して約5〜200倍重量である9反応は
通常的−20〜100℃の範囲内の温度、好ましくは約
O〜30℃の範囲内の温度で行なわれる。
この様にして得られた化合物(V−2−2)の反応混合
物からの華雛 精製は、通常の有機反応において行なわ
れている単M 精製法と同様にして行なうことができる
0例えば、化合物(V−21)の反応混合物からの単離
・精製と同様にして行なうことができる。
物からの華雛 精製は、通常の有機反応において行なわ
れている単M 精製法と同様にして行なうことができる
0例えば、化合物(V−21)の反応混合物からの単離
・精製と同様にして行なうことができる。
化合物(V−1)から化合物(V−2−3)又は化合物
(V−2−4)への変換は、それぞれ化合物(■−1)
から化合物(■−2−1)又は化合物(Vl−2−2)
への変換と同種のti作分行なうことにより実施される
。
(V−2−4)への変換は、それぞれ化合物(■−1)
から化合物(■−2−1)又は化合物(Vl−2−2)
への変換と同種のti作分行なうことにより実施される
。
化合物(V−2)は酸触媒下に5位の水酸基を転位させ
、更に必要に応じてエステル化することにより、化合物
(Vl )へ変換される。この際炭酸された化合物が得
られる。酸触媒としては、酢酸、10ピオン酸、モノク
ロル酢酸、ジクロルl¥1:酸、]・リフルオロ酢酸な
どのカルボン酸、p−トルエンスルホン酸、カンフルス
ルホン酸などのスルホン酸、p−トルエンスルポン酸ピ
リジニウムなどのスルホン酸塩、塩酸、硫酸などの鉱酸
などが用いられ、その使用量は使用する酸触媒によって
も異なるが、化合物(V−2)1モルに対して約001
〜5モルである。炭酸エステルとしては、炭酸ジメチル
、炭酸ジエチルなどの炭酸のジ低級アルキルエステルな
どが挙げられ、その使用量は化る。カルボン酸無水物と
しては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオ
ロ酢酸などが用いられ、その使用量は化合物(V−2)
1モルに対して約05〜20モルである。この際、カル
ボン酸またはカルボン酸無水物をエステル化剤とし媒と
なるので、更に酸触媒を加える必要はない。
、更に必要に応じてエステル化することにより、化合物
(Vl )へ変換される。この際炭酸された化合物が得
られる。酸触媒としては、酢酸、10ピオン酸、モノク
ロル酢酸、ジクロルl¥1:酸、]・リフルオロ酢酸な
どのカルボン酸、p−トルエンスルホン酸、カンフルス
ルホン酸などのスルホン酸、p−トルエンスルポン酸ピ
リジニウムなどのスルホン酸塩、塩酸、硫酸などの鉱酸
などが用いられ、その使用量は使用する酸触媒によって
も異なるが、化合物(V−2)1モルに対して約001
〜5モルである。炭酸エステルとしては、炭酸ジメチル
、炭酸ジエチルなどの炭酸のジ低級アルキルエステルな
どが挙げられ、その使用量は化る。カルボン酸無水物と
しては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオ
ロ酢酸などが用いられ、その使用量は化合物(V−2)
1モルに対して約05〜20モルである。この際、カル
ボン酸またはカルボン酸無水物をエステル化剤とし媒と
なるので、更に酸触媒を加える必要はない。
反応は、用いられる酸触媒によっても異なるが、約−2
0〜150℃の範囲内の温度、好ましくは約O〜100
℃の範囲内の温度で行われる。また(vI (Vl−2)又+ヒ3 >どの混合物が得られる。
0〜150℃の範囲内の温度、好ましくは約O〜100
℃の範囲内の温度で行われる。また(vI (Vl−2)又+ヒ3 >どの混合物が得られる。
このようにして得られた化合m (Vl )の反応混合
物からの#層 精製は、通常の有機反応において用いら
れている単離・精製法と同様にして行わl′Lる0例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの
有機溶媒で抽出し、重曹水、食塩水で洗浄し、乾燥後濃
縮し、残渣を再結晶、クロマトグラフィーなどにより精
製することにより化合物(Vl )を得ることができる
。
物からの#層 精製は、通常の有機反応において用いら
れている単離・精製法と同様にして行わl′Lる0例え
ば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの
有機溶媒で抽出し、重曹水、食塩水で洗浄し、乾燥後濃
縮し、残渣を再結晶、クロマトグラフィーなどにより精
製することにより化合物(Vl )を得ることができる
。
このようにして得ろhf:化合物(vI)のうち、(■
−2又は−3) (■−1) 変換することができる0例えば、化合物(Vl−1>)
f化合物(Vl −2) ヘノ変換は、化合物(V−1
)の化合物(V−2−1)への変換と同様の操作を行う
ことにより実施され、また、化合物(Vl−1)の化合
物(■−3)への変換は、化合物(V−1)の化合物(
V−1−2)への変換と同様の操作を行うことにより実
施される。
−2又は−3) (■−1) 変換することができる0例えば、化合物(Vl−1>)
f化合物(Vl −2) ヘノ変換は、化合物(V−1
)の化合物(V−2−1)への変換と同様の操作を行う
ことにより実施され、また、化合物(Vl−1)の化合
物(■−3)への変換は、化合物(V−1)の化合物(
V−1−2)への変換と同様の操作を行うことにより実
施される。
化合物(Vl−2)又は化合物(Vl−3)は、例えば
次の方法により1α−ヒドロキシビタミンD。
次の方法により1α−ヒドロキシビタミンD。
に2換される。
(IX)
(■−2)
(X)
[1
〔上記式中、R1,R2及びR1は前記定義の通りであ
り、Rはアシル基又はアルコキシカルボニル基を表わす
、] 一般式(■−2又は−3)で示される20−メチル−5
−プレグネン−1α、3β、7.21テトラオ一ル誘厚
体は、トリブチルホスフィンなどの第三級ホスフィンの
存在下、トリス(ジベンジリデンアセトン)2パラジウ
ムクロロホルム銘体などのパラジウムfヒ合物の触媒下
に脱離反応を起こし、−最大(■−1)で示される20
−メチル−5,7−プレグナジェン−1α、3β、21
類 l・リオール・C・に変換される。必要に応じて21位
の水酸基の脱保護と行ない、さらに21位の水酸基金常
法に促い、ピリジン中塩化p−トルエンスルボニルを作
用させることにより、−最大(IX )で示される20
−メチル−21−p−トルエンスルホニルオキシ−5,
7−プレグナジェン糟 行なうことにより、式(XI)で示される1αヒドロキ
シプロビタミンD、が得られる。
り、Rはアシル基又はアルコキシカルボニル基を表わす
、] 一般式(■−2又は−3)で示される20−メチル−5
−プレグネン−1α、3β、7.21テトラオ一ル誘厚
体は、トリブチルホスフィンなどの第三級ホスフィンの
存在下、トリス(ジベンジリデンアセトン)2パラジウ
ムクロロホルム銘体などのパラジウムfヒ合物の触媒下
に脱離反応を起こし、−最大(■−1)で示される20
−メチル−5,7−プレグナジェン−1α、3β、21
類 l・リオール・C・に変換される。必要に応じて21位
の水酸基の脱保護と行ない、さらに21位の水酸基金常
法に促い、ピリジン中塩化p−トルエンスルボニルを作
用させることにより、−最大(IX )で示される20
−メチル−21−p−トルエンスルホニルオキシ−5,
7−プレグナジェン糟 行なうことにより、式(XI)で示される1αヒドロキ
シプロビタミンD、が得られる。
このようにして得られる1α−ヒドロキシプロビタミン
D、は特開昭49−95956号公報記載の公知の方法
により、1α−ヒドロキシビタミンDJに変換される。
D、は特開昭49−95956号公報記載の公知の方法
により、1α−ヒドロキシビタミンDJに変換される。
作用させ、さらに必要に応じて水酸基の脱保護を[実方
阪侍111 以下、本発明を実施例に上り゛具体的に説明するが、本
発明はこi′Lらの実施例により限定されるらのではな
い、なお、これらの実施例中、核磁気共鳴(NMR)ス
ペクトルは重クロロホルムを溶媒としテ1−ラメチルン
ランを内部(−1Ωとして測定した。
阪侍111 以下、本発明を実施例に上り゛具体的に説明するが、本
発明はこi′Lらの実施例により限定されるらのではな
い、なお、これらの実施例中、核磁気共鳴(NMR)ス
ペクトルは重クロロホルムを溶媒としテ1−ラメチルン
ランを内部(−1Ωとして測定した。
9孝11’ll
lα 2α−エポキシ−20−メチル−46ルグナジエ
ンー3−オン−21−オール50g含塩化メチレン30
0m1に溶解し、2,3ジヒドロビラン20m1を加え
、水冷下で攪拌した。p−トルエンスルホン酸02gを
加え、室温で2時間撹拌した9反応混合物をジエチルエ
ーテルで品沢し、重曹水及び食塩水で洗rP した、硫
酸す1−リウム上て・乾燥し、LfAtmf&、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、lα、2
α−エポキシ−20−メチル−21−(2−テトラヒド
ロピラニル)オキソ−4,6−プレグナジエン−3−オ
ンを52 g得た。
ンー3−オン−21−オール50g含塩化メチレン30
0m1に溶解し、2,3ジヒドロビラン20m1を加え
、水冷下で攪拌した。p−トルエンスルホン酸02gを
加え、室温で2時間撹拌した9反応混合物をジエチルエ
ーテルで品沢し、重曹水及び食塩水で洗rP した、硫
酸す1−リウム上て・乾燥し、LfAtmf&、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、lα、2
α−エポキシ−20−メチル−21−(2−テトラヒド
ロピラニル)オキソ−4,6−プレグナジエン−3−オ
ンを52 g得た。
実施例1
1α、2α−エポキシ−20−メチル−21(2−テト
ラヒドロピラニル)オキシ−46プレグナジエンー3−
オン52gをエタノール500m1に懸濁し、1に凍上
で水素化ホウ濃ナトリウム5gt!:加え、そのまま3
0分間撹拌した。希塩酸を加えて過剰の還元剤を分解し
、減圧下でエタノールを留去した。水を加え、ジエチル
エーテルで抽出し、抽出液分食塩水で洗浄した。硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーによりf、f %し、1α、2αエボキン
−20−メチル−21−42−テトラヒドロピラニル)
オキシ−4,6−プレグナジェン3α−オールを49g
得た。
ラヒドロピラニル)オキシ−46プレグナジエンー3−
オン52gをエタノール500m1に懸濁し、1に凍上
で水素化ホウ濃ナトリウム5gt!:加え、そのまま3
0分間撹拌した。希塩酸を加えて過剰の還元剤を分解し
、減圧下でエタノールを留去した。水を加え、ジエチル
エーテルで抽出し、抽出液分食塩水で洗浄した。硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーによりf、f %し、1α、2αエボキン
−20−メチル−21−42−テトラヒドロピラニル)
オキシ−4,6−プレグナジェン3α−オールを49g
得た。
’HNMRスペクトル(90M +(z )δ。
0、72 (s、 3H)、 0.95 (d、 J=
7Hz、3H)、1.10 (s、3H)28〜4.0
(6H) 4.3〜4,6(2H)、5.18 (b
r、s、IH)5 、66 (d 、 J = 10
Hz 、 I H15。
7Hz、3H)、1.10 (s、3H)28〜4.0
(6H) 4.3〜4,6(2H)、5.18 (b
r、s、IH)5 、66 (d 、 J = 10
Hz 、 I H15。
90 (dd、J=10および2Hz、IH)実施例2
Iα 2α−エポキシ−20−メチル−21(2−テト
ラヒドロピラニル)オキシ−4,6ブレグナジエンー3
α−オール49gを塩化メチレン500m1に溶解し、
飽和重曹水650m1を加え、水冷下で(臂拌した。8
0%m−クロル過方5.香酸30gを加え、水冷下で3
0分間攪拌した0反応混合物にトルエン200m1を加
え、減圧下で塩化メチレン3留去し、ジエチルエーテル
で抽出した。抽出液を、ヨウ化カリウム水18 液、チ
オ硫酸ナトリウム水溶液、重汗水および食塩水でl先注
し、硫酸すトリウム上で乾燥した。濃縮後、ジエチルエ
ーテルより再結晶し、1α、2α 11α、5α−ジェ
ポキシ−20−メチル−21(2−テトラヒドロピラニ
ル)オキシ−6−プレグネン−3α−オールを38g得
た。
ラヒドロピラニル)オキシ−4,6ブレグナジエンー3
α−オール49gを塩化メチレン500m1に溶解し、
飽和重曹水650m1を加え、水冷下で(臂拌した。8
0%m−クロル過方5.香酸30gを加え、水冷下で3
0分間攪拌した0反応混合物にトルエン200m1を加
え、減圧下で塩化メチレン3留去し、ジエチルエーテル
で抽出した。抽出液を、ヨウ化カリウム水18 液、チ
オ硫酸ナトリウム水溶液、重汗水および食塩水でl先注
し、硫酸すトリウム上で乾燥した。濃縮後、ジエチルエ
ーテルより再結晶し、1α、2α 11α、5α−ジェ
ポキシ−20−メチル−21(2−テトラヒドロピラニ
ル)オキシ−6−プレグネン−3α−オールを38g得
た。
1−INMRスベ2トル(90MHz)δ・0.72
(s、3H)、0.96 (d J=7Hz、3)(
)、1.12(s、3H)2 、8〜4. 0 <7
l−1) 、 4. 3 〜46(2H)、5.1
4 (dd、J=lOおよび2Hz、IH)、5.88
(d、J=10Hz、l)口 実施例3 1α、2α、4α、5α−ジェポキシ−20メチル−2
1−(2−テトラヒドロピラニル)オキシ−6−ルグネ
ンー3α−オール25g、モレキー!フス50g及びN
−メチルモルポリンN−オキシド21gをジメチルホル
ムアミド300m1中室温で30分間撹拌した。塩化ル
テニウム水和物025gを加え、室温で2時間攪拌した
0反応混合物を濾過し、不7δ物を塩化メチレンで洗浄
し、洗浄液とr液に合わせ、減圧下に塩化メチレンを留
去した。水な加え、ジエチルエーテルで抽出し、抽出液
を水、チオロRuすトリウム水溶液、硫酸銅水溶液、重
曹水及び食塩水でFIN次洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥した。濃縮?& 、残し、1α22α 4α、5α
−ンエボキシー20−メチル−21−(2−テトラヒド
ロピラニル)オキソ−6″ブレグオ・シー3−オン31
フN M Rスペクトル(90旧(z)δ0、72 (
s.3)()、O 95 (d.、J−=7Hz,3
H)、1.05 <s,3H)2、8〜4.0 (7H
)、4.−16 (mIH>、 5. 05 (d.
J=10Hz IH)、5.95 (d,、J=lOH
z.IH)実施IM4 1α.2α:4α.5α−ジェポキシ−20メチル−2
1−(2−テトラヒドロピラニル)オキシ−6−プレグ
ネン−3−オン12gをエタノール150m1に溶解し
、水冷下に水素化ホウ素ナトリウム1.5gt!−加え
、水冷下で45分間攪拌した1反応混合物に、トルエン
1 00m l及び水150m1を加え、減圧下でエタ
ノールを留去した.ジエチルエーテルで抽出し、抽出液
を食塩i1¥結晶し、1α52α゛4α.5α〜ジェポ
キシ−20−メチル−21−(2−テトラヒドロピラニ
ル)オキシ−6−ルグネン′−3β−オール38、5g
得た。
(s、3H)、0.96 (d J=7Hz、3)(
)、1.12(s、3H)2 、8〜4. 0 <7
l−1) 、 4. 3 〜46(2H)、5.1
4 (dd、J=lOおよび2Hz、IH)、5.88
(d、J=10Hz、l)口 実施例3 1α、2α、4α、5α−ジェポキシ−20メチル−2
1−(2−テトラヒドロピラニル)オキシ−6−ルグネ
ンー3α−オール25g、モレキー!フス50g及びN
−メチルモルポリンN−オキシド21gをジメチルホル
ムアミド300m1中室温で30分間撹拌した。塩化ル
テニウム水和物025gを加え、室温で2時間攪拌した
0反応混合物を濾過し、不7δ物を塩化メチレンで洗浄
し、洗浄液とr液に合わせ、減圧下に塩化メチレンを留
去した。水な加え、ジエチルエーテルで抽出し、抽出液
を水、チオロRuすトリウム水溶液、硫酸銅水溶液、重
曹水及び食塩水でFIN次洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥した。濃縮?& 、残し、1α22α 4α、5α
−ンエボキシー20−メチル−21−(2−テトラヒド
ロピラニル)オキソ−6″ブレグオ・シー3−オン31
フN M Rスペクトル(90旧(z)δ0、72 (
s.3)()、O 95 (d.、J−=7Hz,3
H)、1.05 <s,3H)2、8〜4.0 (7H
)、4.−16 (mIH>、 5. 05 (d.
J=10Hz IH)、5.95 (d,、J=lOH
z.IH)実施IM4 1α.2α:4α.5α−ジェポキシ−20メチル−2
1−(2−テトラヒドロピラニル)オキシ−6−プレグ
ネン−3−オン12gをエタノール150m1に溶解し
、水冷下に水素化ホウ素ナトリウム1.5gt!−加え
、水冷下で45分間攪拌した1反応混合物に、トルエン
1 00m l及び水150m1を加え、減圧下でエタ
ノールを留去した.ジエチルエーテルで抽出し、抽出液
を食塩i1¥結晶し、1α52α゛4α.5α〜ジェポ
キシ−20−メチル−21−(2−テトラヒドロピラニ
ル)オキシ−6−ルグネン′−3β−オール38、5g
得た。
H NMRスペクトル( 9 0 M H z )δ
二0、70(s.3H)、0.98(dJ=7Hz,3
H1.1.08(s,3)1)28〜40(7ト■)4
3〜.1.6 (2H)、5.12(d,J=lOHzIH)、5.8
5(d.J=10Hz IH) 実施例5 水素化アルミニウムリチウム0.7gをテトラヒドロフ
ラン10m1に懸濁させ、水冷下で撹拌した.1α.2
α゛4α55α−ジェポキシ−20−メチル−21−(
2−テトラヒドロピラニル)オキ/−6−プレグネン−
3β−オール6.5gをテトラヒドロフラン50m1に
i’g AfL 、上記の懸濁、αに滴下した。′a下
終了後、室温で1時間攪拌した0反応混合物にジエチル
エーテル200m及び飽和硫酸ナトリウム水溶液15m
1を加え、室温で1時間攪拌した。不溶物?戸別し、テ
1、ラヒドロフランで7先浄し、洗l′Piαを1戸液
に合わせ、濃縮した。残渣含ジエチルエーテルより再結
晶し、20−メチル−21−(2−テトラヒドロピラニ
ル)オキシ−6−プレグネン−1α、3β。
二0、70(s.3H)、0.98(dJ=7Hz,3
H1.1.08(s,3)1)28〜40(7ト■)4
3〜.1.6 (2H)、5.12(d,J=lOHzIH)、5.8
5(d.J=10Hz IH) 実施例5 水素化アルミニウムリチウム0.7gをテトラヒドロフ
ラン10m1に懸濁させ、水冷下で撹拌した.1α.2
α゛4α55α−ジェポキシ−20−メチル−21−(
2−テトラヒドロピラニル)オキ/−6−プレグネン−
3β−オール6.5gをテトラヒドロフラン50m1に
i’g AfL 、上記の懸濁、αに滴下した。′a下
終了後、室温で1時間攪拌した0反応混合物にジエチル
エーテル200m及び飽和硫酸ナトリウム水溶液15m
1を加え、室温で1時間攪拌した。不溶物?戸別し、テ
1、ラヒドロフランで7先浄し、洗l′Piαを1戸液
に合わせ、濃縮した。残渣含ジエチルエーテルより再結
晶し、20−メチル−21−(2−テトラヒドロピラニ
ル)オキシ−6−プレグネン−1α、3β。
5α−1−リオール339g得た。
’l−INMRスペクトル<90MHz)δ・0.70
(s、3H)、0.90 (s、3旧、 0.97
(d、J=7Hz、 3H)28〜4.0 (5H)、
4. 11 (dJ=10Hz IH) 4.4
7 (m、IH) 、 5 、56 (d 、 J =
10 Hz 、 I H)。
(s、3H)、0.90 (s、3旧、 0.97
(d、J=7Hz、 3H)28〜4.0 (5H)、
4. 11 (dJ=10Hz IH) 4.4
7 (m、IH) 、 5 、56 (d 、 J =
10 Hz 、 I H)。
5.71 (d、J=10Hz、LH)実方色β16
20−メチル−21−<2−テトラヒドロピラニル)オ
キシ−6−プレグネン−1α、3β、5α−トリオール
3.9gを塩化メチレン45m1に懸濁し、ピリジン2
0m l及びジメチルアミノピリジン0.2gを加え、
水冷下で撹拌した。クロル炭酸メチル8mlを滴下し、
滴下終了後室温で30分間撹拌した3反応混合液を冷希
塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を希
塩酸、水、重曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
上で乾燥した。濃ga後残渣を塩化メチレン3Qmlに
溶解し、ジイソグロビルエチルアミン25 rn I及
びジメチルアミノピリジン0.2gを加え、水冷下で攪
拌した。クロル炭酸メチル10 m1分加え、室温で6
時間攪拌した9反応混合液を冷希塩酸にあけ、ジエチル
エーテルで抽出した。
キシ−6−プレグネン−1α、3β、5α−トリオール
3.9gを塩化メチレン45m1に懸濁し、ピリジン2
0m l及びジメチルアミノピリジン0.2gを加え、
水冷下で撹拌した。クロル炭酸メチル8mlを滴下し、
滴下終了後室温で30分間撹拌した3反応混合液を冷希
塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を希
塩酸、水、重曹水及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
上で乾燥した。濃ga後残渣を塩化メチレン3Qmlに
溶解し、ジイソグロビルエチルアミン25 rn I及
びジメチルアミノピリジン0.2gを加え、水冷下で攪
拌した。クロル炭酸メチル10 m1分加え、室温で6
時間攪拌した9反応混合液を冷希塩酸にあけ、ジエチル
エーテルで抽出した。
抽出液を冷希塩酸、水、重曹水及び食塩水で洗浄1α、
3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)−20−メチ
ル−21−(2−テ1〜ラヒ尚うニル)オン−−6−ブ
レグ不ンー5α−オールを32 g +ニジな。
3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)−20−メチ
ル−21−(2−テ1〜ラヒ尚うニル)オン−−6−ブ
レグ不ンー5α−オールを32 g +ニジな。
’HNMRスペクトル(90MHz)δ:0.70 (
s、3H)、0.99 (s 3H)、0.96 (
d、J=7Hz、3H)2.8〜4.0 (4H)、3
.77 (s3トI)、3.78(s、3H)、4.4
7(+n、IH)、4.85 (t、J=3Hz。
s、3H)、0.99 (s 3H)、0.96 (
d、J=7Hz、3H)2.8〜4.0 (4H)、3
.77 (s3トI)、3.78(s、3H)、4.4
7(+n、IH)、4.85 (t、J=3Hz。
IH)、 5.53 (m、 LH>、 5.58(b
r、s、2l−1) 実方色β号7 1α、3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)−や
−− 20−メチル−21−(2−テトラヒドビフール)オキ
シ−5−プレグネン−7−イルドリフルオロアセタート
を25g得た。
r、s、2l−1) 実方色β号7 1α、3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)−や
−− 20−メチル−21−(2−テトラヒドビフール)オキ
シ−5−プレグネン−7−イルドリフルオロアセタート
を25g得た。
’HNMRスペクトル(90MH2)δ。
0.68 (s、3H) 、 0.96 (d。
J=7Hz、3)り、1.07(s、3)z)2.8〜
4.0 <48)、3.77 (s。
4.0 <48)、3.77 (s。
3H)、3.78 (s、3H)、4.46(m、LH
)、4.7〜5.1 (3H)5.90 (d、J=6
Hz、LH) ル)オキシ−6−プレグネン−5α−オール3゜2 g
t!−炭酸ジメチル70m1に溶解し、無水トリフル
オロ酢酸10m1を加え、室温で終夜撹拌した1反応l
J1合物に氷水と加え、室温で30分間撹拌した。2%
冷水酸化ナトリウム水溶液で中和し、ジエチルエーテル
で抽出した。抽出液を食塩水で[発明の効果〕 本発明により一般式(1)、−最大(m)、般式(■)
、−最大< IV ) 、一般式(V)及び−最大(V
l )で示される新規な20−メチル−21ドpキンプ
レグ←ン2fi導(本は、カルシウムイを二9+の欠陥
11の治療蘂として有効な・ことが知らitでいる1α
−ヒドロキンビタミンD、を始めとする1α位に水酸基
分有するビタミンD、誘導体の合成中間体として有用で
ある。
)、4.7〜5.1 (3H)5.90 (d、J=6
Hz、LH) ル)オキシ−6−プレグネン−5α−オール3゜2 g
t!−炭酸ジメチル70m1に溶解し、無水トリフル
オロ酢酸10m1を加え、室温で終夜撹拌した1反応l
J1合物に氷水と加え、室温で30分間撹拌した。2%
冷水酸化ナトリウム水溶液で中和し、ジエチルエーテル
で抽出した。抽出液を食塩水で[発明の効果〕 本発明により一般式(1)、−最大(m)、般式(■)
、−最大< IV ) 、一般式(V)及び−最大(V
l )で示される新規な20−メチル−21ドpキンプ
レグ←ン2fi導(本は、カルシウムイを二9+の欠陥
11の治療蘂として有効な・ことが知らitでいる1α
−ヒドロキンビタミンD、を始めとする1α位に水酸基
分有するビタミンD、誘導体の合成中間体として有用で
ある。
特許出願人 株式会社 り ラ し
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素原子又は水酸基の保護基を表わす
) で示される1α,2α−エポキシ−20−メチル−4,
6−プレグナジエン−3α,21−ジオール類。 2、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は請求項1記載のR^1と同じである) で示される1α,2α:4α,5α−ジエポキシ−20
−メチル−6−プレグネン−3α,21−ジオール類。 3、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は請求項1記載のR^1と同じである) で示される1α,2α:4α,5α−ジエポキシ−20
−メチル−6−プレグネン−3−オン−21−オール類
。 4、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は請求項1記載のR^1と同じである) で示される1α,2α:4α,5α−ジエポキシ−20
−メチル−6−プレグネン−3β,21−ジオール類。 5、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は請求項1記載のR^1と同じであり、
R^2及びR^3はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護
基を表わす) で示される20−メチル−6−プレグネン−1α,3β
,5α,21−テトラオール類。6、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は請求項1記載のR^1と同じであり、
R^2及びR^3はそれぞれ請求項5記載のR^2●及
びR^3と同じであり、R^4は水素原子、アシル基又
はアルコキシカルボニル基を表わす) で示される20−メチル−5−プレグネン−1α,3β
,7,21−テトラオール類。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63248610A JP2731543B2 (ja) | 1988-10-01 | 1988-10-01 | 20−メチル−21−ヒドロキシプレグナン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63248610A JP2731543B2 (ja) | 1988-10-01 | 1988-10-01 | 20−メチル−21−ヒドロキシプレグナン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0296592A true JPH0296592A (ja) | 1990-04-09 |
JP2731543B2 JP2731543B2 (ja) | 1998-03-25 |
Family
ID=17180675
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63248610A Expired - Fee Related JP2731543B2 (ja) | 1988-10-01 | 1988-10-01 | 20−メチル−21−ヒドロキシプレグナン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2731543B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006306494A (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Keiji Sakamoto | 円周方向開閉容器 |
-
1988
- 1988-10-01 JP JP63248610A patent/JP2731543B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006306494A (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Keiji Sakamoto | 円周方向開閉容器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2731543B2 (ja) | 1998-03-25 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |