JP2604439B2 - プレグナン誘導体及びその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、免疫調節作用及び腫瘍細胞の分化誘導能を
有することから、医薬、例えば抗アレルギー剤、抗リウ
マチ剤又は抗腫瘍剤として有用なことが知られている9,
10−セコ−5,7,10（19）−プレグナトリエン誘導体の合
成中間体として有用な新規なプレグナン誘導体及びその
製造方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、9,10−セコ−5,7,10（19）−プレグナトリエン
誘導体の製造方法としては、例えば、プレグネノロン又
はデヒドロエピアンドロステロンを原料として使用し、
５−プレグネン誘導体を中間体として製造する方法が知
られている（特開昭61−267550号公報参照）。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記の通り、9,10−セコ−5,7,10（19）−プレグナト
リエン誘導体の製造方法は知られているが、その合成中
間体である５−プレグネン誘導体から5,7−プレグナジ
エン誘導体を製造するに際し、4,6−プレグナジエン誘
導体が副成するために、繁雑な分離工程が必要となつて
いる。

しかして、本発明の１つの目的は、5,7−プレグナジ
エン誘導体を繁雑な分離工程を必要とすることなく、選
択的に製造するための合成中間体として有用な新規な化
合物を提供することにある。

更に本発明の他の目的は、該新規な化合物の製造方法
を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明によれば、上記の目的は 〔式中、R¹及びR²はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護
基を表わし、Ｘ及びＹは一緒になつてオキソ基（＝Ｏ）
を表わすか、又はＸは水素原子を表わし、Ｙは水酸基、
３−メチルブトキシ基又は３位の水酸基が保護されてい
ても良い３−ヒドロキシ−３−メチルブトキシ基を表わ
す〕 で示されるプレグナン誘導体、 〔式中、R¹、R²、Ｘ及びＹは前記定義の通りであり、R³
は水素原子、アシル基又はアルコキシカルボニル基を表
わす〕 で示されるプレグナン誘導体及び 〔式中、R¹、R²、Ｘ′及びＹ′は前記R¹、R²、Ｘ及びＹ
と同じであり、但し、R¹及びR²が水素原子、アセチル基
またはｔ−ブチルジメチルシリル基を表わす場合には、
Ｘ′及びＹ′は一緒になつてオキソ基を表わす〕 で示されるプレグナン誘導体並びに 〔式中、R¹、R²、Ｘ及びＹは前記定義通りであり、R⁴は
アシル基又はアルコキシカルボニル基を表わす。〕 で示されるプレグナン誘導体を、パラジウム触媒の存在
下に７位の置換基をβ脱離させることを特徴とする、一
般式 〔式中、R¹、R²、Ｘ及びＹは前記定義の通りである。〕 で示されるプレグナン誘導体の製造方法を提供すること
によつて達成される。

上記の一般式（Ｉ）、（II）、（III）、（II′）及
び（III′）におけるR¹、R²、R³、R⁴、Ｙ及びＹ′を以
下に詳しく説明する。

R¹及びR²がそれぞれ表わす水酸基の保護基としては、
水酸基の保護の目的を達成するかぎり、通常用いられて
いるいずれの保護基でも良いが、具体的にはアシル基、
アルコキシカルボニル基、三置換シリル基、置換基を有
していても良いアルコキシメチル基などがあげられる。
ここで、アシル基としては、アセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバ
レリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、モノクロルア
セチル基、トリフルオロアセチル基などが挙げられ、ア
ルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボ
ニル基などの低級アルコキシカルボニル基、フエノキシ
カルボニル基、ｐ−メトキシフエノキシカルボニル基な
どのアレノキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニ
ル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基などのア
ラルキルオキシカルボニル基などが挙げられ、三置換シ
リル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリ
ル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチル
シリル基などのトリアルキル置換シリル基、ｔ−ブチル
ジフエニルシリル基などのモノアルキルジアリール置換
シリル基などがあげられ、置換基を有していても良いア
ルコキシメチル基としては、メトキシメチル基、メトキ
シエトキシメチル基などのアルコキシメチル基、エトキ
シエチル基、メトキシイソプロピル基などのアルキル置
換アルコキシメチル基、２−テトラヒドロピラニル基、
２−テトラヒドロフラニル基などの環状エーテル−２−
イル基などが挙げられる。

R³及びR⁴がそれぞれ表わすアシル基としては上記のア
シル基において例示された基が同様に挙げられ、R³及び
R⁴が表わすアルコキシカルボニル基としては上記のアル
コキシカルボニル基において例示された基が同様に挙げ
られる。

Ｙ及びＹ′が表わす３位の水酸基が保護されていても
良い３−ヒドロキシ−３−メチルブトキシ基が有するこ
とのある水酸基の保護基としては、水酸基の保護の目的
を達成するかぎり、通常用いられているいずれの保護基
でも良いが、具体的にはアシル基、アルコキシカルボニ
ル基、三置換シリル基、置換基を有していても良いアル
コキシメチル基などが挙げられる。ここで、アシル基と
しては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イ
ソブチリル基、パレリル基、イソバレリル基、ピバロイ
ル基、ベンゾイル基、モノクロルアセチル基、トリフル
オロアセチル基などが挙げられ、アルコキシカルボニル
基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、イソプロピルオキシカルボニル基などの低級アル
コキシカルボニル基、フエノキシカルボニル基、ｐ−メ
トキシフエノキシカルボニル基などのアレノキシカルボ
ニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル基などのアラルキルオキシカルボ
ニル基などが挙げられ、三置換シリル基としては、トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピ
ルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリア
ルキル置換シリル基、ｔ−ブチルジフエニルシリル基な
どのモノアルキルジアリール置換シリル基などがあげら
れ、置換基を有していても良いアルコキシメチル基とし
ては、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基な
どのアルコキシメチル基、エトキシエチル基、メトキシ
イソプロピル基などのアルキル置換アルコキシメチル
基、２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフ
ラニル基などの環状エーテル−２−イル基などが挙げら
れる。

一般式（Ｉ）、（II）又は（III）で示される本発明
のプレグナン誘導体は例えば次の方法により製造するこ
とができる。

〔上記の式において、R¹、R²及びR³は前記定義の通りで
あり、R¹′及びR²′は水酸基の保護基（ただし、アセチ
ル基及びｔ−ブチルジメチルシリル基を除く）を表わ
し、Ｚは３−メチルブチル基又は３位の水酸基が保護さ
れていても良い３−ヒドロキシ−３−メチルブチル基を
表わす〕 上記式（IV）、式（Ｖ）、式（VI）、式（VII）、式
（VIII）又は式（Ｉ−１）で示される化合物を以後下記
のように称することがある。

また、一般式（Ｉ−２）、一般式（Ｉ−３）、一般式
（Ｉ−４）、一般式（II−１）、一般式（II−２）、一
般式（II−３）、一般式（III−１）、一般式（III−
２）、又は一般式（III−３）で示される化合物をそれ
ぞれ総称して以後下記のように称することがある。

なお、化合物（III−２）及び化合物（III−３）のな
かで、R¹及びR²が水素原子、アセチル基及びｔ−ブチル
ジメチルシリル基以外の基を表わすことによつて示され
る化合物をそれぞれ化合物（III−２′）、化合物（III
−３′）と称することがある。

さらに、上記一般式（Ｉ−２）において、R¹及びR²が
下記の基を表わすことによつて示される化合物を以後下
記の如く称することがある。

上記一般式（II−１）、一般式（II−２）及び一般式
（II−３）において、R³が下記の原子又は基を表わすこ
とによつて示される化合物を以後下記の如く称すること
がある。

まず、A.Frstらの方法〔ヘルベチカ・キミカ・アク
タ（Helv.Chim.Acta）64巻1870〜1892ページ（1981年）
参照〕に従つて調製した化合物（IV）から化合物（Ｖ）
への変換は、３位のケトン官能基を還元することにより
行われる。この還元反応は常法に従つて実施される。例
えば、化合物（IV）をメタノール、エタノールなどのア
ルコール系溶媒中で水素化ホウ素ナトリウムなどの還元
剤に接触させることにより行われる。使用する還元剤の
量は通常化合物（IV）１モルに対して約0.25〜20モル、
好ましくは約0.5〜５モルである。溶媒の使用量は通常
化合物（IV）１モルに対して約10〜200倍重量である。
この還元反応は通常−10〜30℃の範囲内の温度で行われ
る。反応時間は反応温度によつても異なるが、通常約15
分〜６時間である。

この様にして得られた化合物（Ｖ）の反応混合物から
の単離・精製は通常の有機反応において行われている単
離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応液に冷
希塩酸を加え、過剰の還元剤を分解した後、減圧下濃縮
し、残渣に水を加え、ジエチルエーテル、塩化メチレン
などの有機溶媒で抽出し、抽出液を重曹水、食塩水で洗
浄し、乾燥後濃縮して粗生成物を得、再結晶、クロマト
グラフイーなどにより精製することにより化合物（Ｖ）
を得ることができる。

化合物（Ｖ）の化合物（VI）への変換は常法に従いエ
ポキシ化することにより行われる。例えば、化合物
（Ｖ）を塩化メチレン、クロロホルムなどの有機溶媒中
でｍ−クロル過安息香酸などの過酸と接触させることに
より行われる。この反応において使用される過酸の量は
化合物（Ｖ）１モルに対して、通常約0.5〜５モル、好
ましくは約0.8〜２モルである。使用する溶媒の量は化
合物（Ｖ）に対して通常約10〜200倍重量である。この
反応において、生成する酸を中和するために、重曹水な
どを緩衝剤として用いることもできる。

この様にして得られた化合物（VI）の反応混合物から
の単離・精製は、通常の有機反応において行われている
単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応液を
ジエチルエーテルで希釈し、二層に分離し、水層を酢酸
エチル、ジエチルエーテルなどの有機溶媒で抽出し、抽
出液を重曹水、食塩水で洗浄し、乾燥後濃縮して粗生成
物を得、再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製し
て化合物（VI）を得ることができる。

化合物（VI）の化合物（VII）への変換は、３位の水
酸基を酸化することにより行われる。この酸化反応に用
いられる酸化剤としては、反応系が酸性になり、基質が
分解しないかぎりどのような酸化剤でも構わないが、パ
ルジウム，ルテニウムなどの遷移金属の触媒下にアミン
オキシドなどの酸化剤により酸化するのが好ましい。こ
の反応で用いられる遷移金属触媒としては、例えば塩化
パラジウム、塩化ルテニウム、テトラブチルアンモニウ
ムペルルテナート、テトラプロピルアンモニウムペルル
テナート、トリス（トリフエニルホスフイン）ルテニウ
ム（II）クロリド、トリルテニウムドデカカルボニルな
どが挙げられ、その使用量は化合物（VI）１モルに対し
て約0.01〜0.5モル、好ましくは約0.02〜0.2モルであ
る。用いられる酸化剤としては、Ｎ−メチルモルホリン
−Ｎ−オキシド、N,N−ジメチルアニリン−Ｎ−オキシ
ド、トリメチルアミン−Ｎ−オキシド、N,N−ジメチル
−ｎ−ドデシルアミン−Ｎ−オキシドなどの第三級アミ
ンのＮ−オキシドなどが挙げられ、その使用量は化合物
（VI）１モルに対して約0.8〜50モル、好ましくは約1.2
〜10モルである。この反応は通常溶媒中で行われ、使用
される溶媒としては、塩化メチレン、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、アセトンなどの反応に関与しない溶媒が挙
げられ、その使用量は化合物（VI）に対して約５〜200
倍重量である。この反応においては、触媒の配位子とし
て、トリフエニルホスフイン、トリブチルホスフイン、
1,2−ビス（ジフエニルホスフイノ）エタンなどのホス
フインを遷移金属触媒１モルに対して約１〜５モル加え
ることもできる。また、モレキュラシーブスなどの脱水
剤を共存させることもできる。反応は通常約−10〜80℃
の範囲内の温度、好ましくは約０〜30℃の範囲内の温度
で行われる。

このようにして得られた化合物（VII）の単離・精製
は、通常の有機反応で用いられている単離・精製法と同
様にして行われる。例えば、反応液をジエチルエーテ
ル、酢酸エチルなどの有機溶媒で希釈し、不溶物を別
した後に、必要に応じて、減圧下に濃縮し、水を加え、
ジエチルエーテル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出
し、抽出液を硫酸銅水溶液、チオ硫酸ナトリウム水溶
液、食塩水などで洗浄し、乾燥後濃縮して、残渣を再結
晶、クロマトグラフイーなどにより精製することにより
化合物（VII）を得ることができるが、精製せずに次の
反応に用いることもできる。

化合物（VII）は還元反応に付することにより化合物
（VIII）に変換することできる。この反応に用いられる
還元剤としては、例えば水素化アルミニウムリチウム、
水素化ビス（メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウ
ムなどの水素化金属錯体などが挙げられ、その使用量は
化合物（VII）１モルに対して約0.75〜20モルである。
この反応は通常溶媒中で行われ、用いられる溶媒として
はテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどが挙げら
れ、その使用量は化合物（VII）に対して通常約５〜200
倍重量である。反応は通常約−80〜70℃の範囲内の温
度、好ましくは約−30〜20℃の範囲内の温度で行われ
る。

このようにして得られた化合物（VIII）の単離・精製
は通常の有機反応で行われている単離・精製法と同様に
して行うことができる。例えば反応液を氷冷下に飽和硫
酸ナトリウム水溶液を加え、過剰の還元剤を分解し、不
溶物を別後、残渣を酢酸エチルで洗浄し、洗浄液を
液に合わせて濃縮し、残渣を再結晶、クロマトグラフイ
ーなどにより精製することにより化合物（VIII）を得る
ことができる。

化合物（VIII）は脱アセタール化することにより、化
合物（Ｉ−１）へ変換することができる。脱アセタール
化反応は例えば常法に従い、酸触媒の存在下に低級ケト
ンとアセタール交換するか、加水分解することにより行
われる。用いられる酸触媒としては、例えばｐ−エンス
ルホン酸、カンフルスルホン酸などのスルホン酸、硫
酸、塩酸などの鉱酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などのカ
ルボン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウムなどの
これらの酸の塩などがあげられ、その使用量は用いる酸
触媒の性質によつても異なるが、通常化合物（VIII）１
モルに対して約0.01〜100モルである。使用される低級
ケトンとしては、アセトン、２−ブタノンなどが挙げら
れる。この反応は、通常溶媒中で行われるが、使用され
る溶媒としては、通常使用される低級ケトン又は水が溶
媒として使用され、また溶解度を増すためにメタノー
ル、エタノール、テトラヒドロフランなどが補助溶媒と
して用いられる。反応は通常約０〜100℃の範囲内の温
度で行われる。

このようにして得られた化合物（Ｉ−１）の反応混合
物からの単離・精製は、通常の有機反応において行われ
ている単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反
応液を中和した後に、必要に応じて減圧下に濃縮し、ジ
エチルエーテル、塩化メチレンなどの有機溶媒で抽出
し、抽出液を食塩水で洗浄し、乾燥後濃縮し、残渣を再
結晶、クロマトグラフイーなどで精製することにより化
合物（Ｉ−１）が得られる。

このようにして得られた化合物（Ｉ−１）は必要に応
じて、常法に従い１位及び３位の水酸基の保護を行い、
化合物（Ｉ−２）に変換することができる。この際、１
位又は３位の水酸基を選択的に保護し、トリオールのモ
ノ保護体を得た後に、さらに保護反応を行うことによ
り、化合物（Ｉ−２）に変換することができる。

化合物（Ｉ−１）から化合物（Ｉ−２−１）への変換
は、塩基性物質の存在下にカルボン酸の無水物あるいは
ハロゲン化物を作用させることにより行われる。この反
応に用いられるカルボン酸無水物としては、無水酢酸、
無水プロピオン酸、無水酪酸、無水トリフルオロ酢酸な
どが挙げられ、カルボン酸ハロゲン化物としては、塩化
アセチル、塩化プロピオニル、塩化ブチリル、塩化イソ
ブチリル、塩化イソバレリル、塩化ピバロイル、塩化ベ
ンゾイルなどが挙げられる。酸無水物あるいは酸ハロゲ
ン化物の使用量は、通常化合物（Ｉ−１）１モルに対し
て約２〜20モル、好ましくは約2.5〜10モルである。こ
の反応に用いられる塩基性物質としては、ピリジン、ト
リエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチ
ルアニリンなどの有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどの金属水酸化物、水素化ナトリウムなどの
金属水素化物などが挙げられる。塩基性物質の使用量
は、使用する塩基性物質の性質によつても異なるが、通
常化合物（Ｉ−１）１モルに対して約２〜200モルであ
り、好ましくは約５〜100モルである。またジメチルア
ミノピリジン、ピロリジノピリジンなどのアシル化触媒
の存在下で行うことも可能である。触媒の使用量は、通
常化合物（Ｉ−１）１モルに対して約0.05〜0.2モルで
ある。この反応は通常溶媒中で行われるが、使用する有
機塩基を溶媒として用いることも可能であり、また塩化
メチレン、テトラヒドロフランなどの反応に関与しない
溶媒を使用することも可能である。溶媒の使用量は、通
常化合物（Ｉ−１）に対して、約５〜200倍重量であ
る。反応は通常約−20〜100℃の範囲内の温度、好まし
くは約０〜30℃の範囲内の温度で行われる。

この様にして得られた化合物（Ｉ−２−１）の反応混
合物からの単離・精製は、通常の有機反応において用い
られている単離・精製法と同様にして行うことができ
る。例えば、反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテ
ルなどの有機溶媒で抽出し、冷希塩酸、重曹水、食塩水
で順次洗浄し、乾燥後濃縮し、残渣を再結晶、クロマト
グラフイーなどにより精製することにより化合物（Ｉ−
２−１）が得られる。

化合物（Ｉ−１）から化合物（Ｉ−２−２）への変換
は、例えば塩基性物質の存在下にクロル炭酸エステルを
作用させることにより行われる。反応に用いられるクロ
ル炭酸エステルとしては、クロル炭酸メチル、クロル炭
酸エチル、クロル炭酸アリル、クロル炭酸トリクロルエ
チル、クロル炭酸フエニルなどが挙げられる。クロル炭
酸エステルの使用量は、通常化合物（Ｉ−１）１モルに
対して、約２〜50モル、好ましくは約５〜20モルであ
る。反応に用いられる塩基性物質としては、化合物（Ｉ
−１）から化合物（Ｉ−２−１）への変換の際に用いら
れる塩基性物質などが挙げられ、その使用量は使用する
塩基性物質によつても異なるが、通常化合物（Ｉ−１）
１モルに対して、約２〜200モル、好ましくは約５〜10
モルである。またジメチルアミノピリジン、ピロリジノ
ピリジンなどのエステル化触媒の存在下で実施すること
もできる。触媒の使用量は、通常化合物（Ｉ−１）１モ
ルに対して約0.05〜0.2モルである。この反応は通常溶
媒中で行われるが、使用する有機塩基を溶媒として用い
ることも可能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロ
フランなど反応に関与しない溶媒を使用することもでき
る。溶媒の使用量は、通常化合物（Ｉ−１）に対して、
約５〜200倍重量である。反応は、通常約−20〜100℃の
範囲内の温度、好ましくは約０〜30℃の範囲内の温度で
行われる。

この様にして得られた化合物（Ｉ−２−２）の反応混
合物からの単離・精製は化合物（Ｉ−２−１）の単離・
精製法に準じて行うことができる。

化合物（Ｉ−１）から化合物（Ｉ−２−３）への変換
は、塩基性物質の存在下に三置換シリルクロリドを作用
させることにより行われる。反応に用いられる三置換シ
リルクロリドとしては、塩化トリメチルシリル、塩化ト
リエチルシリル、塩化トリイソプロピルシリル、塩化ｔ
−ブチルジメチルシリルなどの塩化トリアルキル置換シ
リル、塩化ｔ−ブチルジフエニルシリルなどの塩化アリ
ールジアルキルシリルなどが挙げられる。三置換シリル
クロリドの使用量は、通常化合物（Ｉ−１）１モルに対
して約２〜50モル、好ましくは約５〜20モルである。反
応に用いられる塩基性物質としては、ピリジン、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルアミン、ジエチルアニリ
ン、イミダゾールなどの有機アミン、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、水素化ナトリ
ウムなどの金属水素化物などが挙げられ、その使用量
は、使用する塩基性物質によつても異なるが、通常化合
物（Ｉ−１）１モルに対して約２〜200モル、好ましく
は約５〜100モルである。この反応は通常溶媒中で行わ
れるが、使用する有機塩基を溶媒として用いることも可
能であり、また塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,
N−ジメチルホルムアミドなど反応に関与しない溶媒を
用いることも可能である。溶媒の使用量は、通常化合物
（Ｉ−１）に対して、約５〜200倍重量である。反応は
通常約−20〜100℃の範囲内の温度、好ましくは約０〜3
0℃の範囲内の温度で行われる。

この様にして得られた化合物（Ｉ−２−３）の反応混
合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行わ
れている単離・精製法と同様にして行われる。例えば、
反応混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機
溶媒で抽出し、冷希塩酸、重曹水、食塩水で洗浄し、乾
燥後濃縮した後、残渣を再結晶、クロマトグラフイーな
どで精製することより化合物（Ｉ−２−３）を得ること
ができる。

化合物（Ｉ−１）から化合物（Ｉ−２−４）への変換
は、例えば塩基性物質の存在下にクロルメチルエーテル
を作用させるか、あるいは酸触媒下にビニルエーテルを
作用させることにより行われる。反応に用いられるクロ
ルメチルエーテルとしては、クロルメチルメチルエーテ
ル、メトキシエトキシメチルクロリドなどが挙げられ、
ビニルエーテルとしては、エチルビニルエーテル、メチ
ルイソプロペニルエーテル、ジヒドロピランなどが挙げ
られる。クロルメチルエーテルまたはビニルエーテルの
使用量は、通常化合物（Ｉ−１）１モルに対して約２〜
50モル、好ましくは約５〜20モルである。反応に用いら
れる塩基性物質としては、例えば、ピリジン、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジエチルアニ
リン、イミダゾールなどの有機塩基、水素化ナトリウム
などの金属水素化物などが挙げられる。塩基性物質の使
用量は使用する塩基性物質によつても異なるが、通常化
合物（Ｉ−１）１モルに対して約２〜200モル、好まし
くは約５〜100モルである。使用する酸触媒としては、
ｐ−トルエンスルホン酸、カンフルスルホン酸などのス
ルホン酸、ｐ−トリエンスルホン酸ピリジニウムなどの
スルホン酸塩、塩酸、硫酸などの鉱酸などが挙げられ
る。酸触媒の使用量は、化合物（Ｉ−１）１モルに対し
て通常約0.05〜0.2モルである。この反応は通常溶媒中
で行われるが、使用する有機塩基またはビニルエーテル
を溶媒として用いることも可能であり、また塩化メチレ
ン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド
などの反応に関与しない溶媒を用いることも可能であ
る。溶媒の使用量は、通常化合物（Ｉ−１）に対して、
約５〜200倍重量である。反応は通常約−20〜100℃の範
囲内の温度、好ましくは約０〜30℃の範囲内の温度で行
われる。

この様にして得られた化合物（Ｉ−２−４）の反応混
合物からの単離・精製は、通常の有機反応において行わ
れる単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応
混合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶媒
で抽出し、有機塩基を用いている場合には冷希塩酸で洗
浄し、重曹水、食塩水で洗浄した後、乾燥濃縮し、残渣
を再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製し、化合
物（Ｉ−２−４）を得ることができる。

化合物（Ｉ−２）から化合物（Ｉ−３）への変換は化
合物（Ｉ−２）を還元反応に付することにより行うこと
ができる。この反応に用いられる還元剤としては、例え
ば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化
ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化アルミ
ニウムリチウム、水素化ビス（メトキシエトキシ）アル
ミニウムナトリウム、水素化トリsec−ブチルホウ素リ
チウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化トリ
エチルホウ素リチウムなどの金属水素化物錯体などが挙
げられる。還元剤の使用量は、用いる還元剤によつても
異なるが、化合物（Ｉ−２）１モルに対して通常約0.25
〜20モルである。反応は、通常溶媒中で行われ、用いら
れる溶媒としては、還元剤によつても異なるが、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエ
タンなどのエーテル系の溶媒、エタノール、メタノール
などのアルコール系の溶媒などが挙げられ、その使用量
は、化合物（Ｉ−２）に対して通常約５〜200倍重量で
ある。反応温度は、使用する還元剤によつても異なる
が、通常約−100〜30℃の範囲内の温度である。

この様にして得られた化合物（Ｉ−３）の反応混合物
からの単離・精製は、通常の有機反応において用いられ
る単離・精製法と同様にして行われる。例えば、反応混
合物に、水、希塩酸などを加えて過剰の還元剤を分解
し、必要に応じて減圧下濃縮した後に、残渣を水で希釈
し、ジエチルエーテル、塩化メチレンなどの有機溶媒で
抽出し、抽出液を食塩水で洗浄した後、乾燥濃縮し、残
渣を再結晶、クロマトグラフイーなどにより精製するこ
とにより化合物（Ｉ−３）を得ることができる。

化合物（Ｉ−３）は必要に応じて常法に従い20位の水
酸基をエーテル化することにより、化合物（Ｉ−４）に
変換することができる。例えば、塩基性物質の存在下、
対応するハロゲン化アルキルを作用させることにより行
われる。使用される塩基性物質としては、水素化ナトリ
ウムなどの金属水素化物、ｎ−ブチルリチウムなどのア
ルキル金属、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどの
金属水酸化物などがあげられ、その使用量は、用いる塩
基性物質によつても異なるが、化合物（Ｉ−３）１モル
に対して、通常約0.8〜20モルである。この反応は通常
溶媒中で行われ、使用される溶媒としては、キシレン、
トルエン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジメトキシ
エタン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド
など反応に関与しない溶媒があげられる。

使用されるハロゲン化アルキルとしては、例えば臭化
イソアミル、ヨウ化イソアミルなどのハロゲン化イソア
ミル、４−ブロモ−２−テトラヒドロピラニルオキシ−
２−メチルブタン、４−ヨウド−２−エトキシエチルオ
キシ−２−メチルブタン、４−ブロモ−２−ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ−２−メチルブタンなどの４−ハ
ロゲノ−２−メチル−ブタン−２−オール誘導体などが
挙げられ、その作用量は、通常化合物（Ｉ−３）１モル
に対して約１〜50モル、好ましくは約1.2〜20モルであ
る。反応は通常約−20〜200℃の範囲内の温度、好まし
くは約10〜150℃の範囲内の温度で行われる。

この様にして得られた化合物（Ｉ−４）の反応混合物
からの単離・精製は通常の有機化合物の単離・精製法と
同様にして行うことができる。例えば、反応混合液を氷
水にあけ、ジエチルエーテル、塩化メチレンなどの有機
溶媒で抽出し、抽出液を食塩水で洗浄し、乾燥後濃縮
し、残渣を再結晶、クロマトグラフィーなどにより精製
することにより、化合物（Ｉ−４）を得ることができ
る。

化合物（Ｉ−２）または化合物（Ｉ−４）は酸触媒下
に５位の水酸基を転位させ、更に必要に応じてエステル
化することによりることにより、それぞれ化合物（II−
１）または化合物（II−３）へ変換される。この際炭酸
エステル、カルボン酸、カルボン酸無水物などを共存さ
せることにより、転位と同時にエステル化された化合物
が得られる。酸触媒としては、酢酸、プロピオン酸、モ
ノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリフルオロ酢酸などの
カルボン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンフルスルホ
ン酸などのスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジ
ニウムなどのスルホン酸塩、塩酸、硫酸などの鉱酸など
が用いられ、その使用量は使用する酸触媒によっても異
なるが、化合物（II−１）または化合物（II−３）１モ
ルに対して約0.01〜５モルである。炭酸エステルとして
は、炭酸ジメチル、炭酸ジエチルなどの炭酸のジ低級ア
ルキルエステルなどが挙げられ、その使用量は化合物
（II−１）または化合物（II−３）１モルに対して約５
〜1000モルである。共存されるカルボン酸としては、酸
触媒として用いられるカルボン酸におけると同じものが
例示され、その使用量は約１〜50モルである。カルボン
酸無水物としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水
トリフルオロ酢酸などが用いられ、その使用量は化合物
（II−１）または化合物（II−３）１モルに対して約0.
5〜20モルである。この際、カルボン酸またはカルボン
酸無水物をエステル化剤として用いる場合には、そのカ
ルボン酸自体またはカルボン酸無水物に少量含まれるカ
ルボン酸が酸触媒となるので、更に酸触媒を加える必要
はない。反応は、用いられる酸触媒によっても異なる
が、約−20〜150℃の範囲内の温度、好ましくは約０〜1
00℃の範囲内の温度で行われる。またこの際、エステル
化剤としてカルボン酸又は炭酸エステルを用いた場合に
はエステル化されていない化合物（II−１−１）又は化
合物（II−３−１）とエステル化された化合物（II−１
−２又は−３）又は化合物（II−３−２又は−３）との
混合物が得られる。

このようにして得られた化合物（II−１）または化合
物（II−３）の反応混合物からの単離・精製は、通常の
有機反応において用いられている単離・精製法と同様に
して行われる。例えば、反応混合物を氷水にあけ、ジエ
チルエーテルなどの有機溶媒で抽出し、重曹水、食塩水
で洗浄し、乾燥後濃縮し、残渣を再結晶、クロマトグラ
フィーなどにより精製することにより化合物（II−１）
または化合物（II−３）を得ることができる。

このようにして得られた化合物（II−１）又は化合物
（II−３）のうち、化合物（II−１−１）又は化合物
（II−３−１）は常法に従いエステル化することによ
り、それぞれ化合物（II−１−２又は３）又は化合物
（II−３−２又は３）へ変換することができる。例え
ば、化合物（II−１−１）又は化合物（II−３−１）の
化合物（II−１−２）又は化合物（II−３−２）への変
換は、化合物（Ｉ−１）の化合物（Ｉ−２−１）への変
換と同様の操作を行うことにより実施され、また、化合
物（II−１−１）又は化合物（II−３−１）の化合物
（II−１−３）又は化合物（II−３−３）への変換は、
化合物（Ｉ−１）の化合物（Ｉ−２−２）への変換と同
様の操作を行うことにより実施される。

化合物（II−１）は、化合物（Ｉ−２）を化合物（Ｉ
−３）へ変換したと同様の操作を行い、20位のオキソ基
を還元することにより化合物（II−２）へ変換すること
ができる。

化合物（II−１−２又は−３）、化合物（II−２−２
又は−３）又は化合物（II−３−２又は−３）はパラジ
ウム触媒の存在下に、７位の置換基を脱離させることに
よりそれぞれ対応する4,6−ジエン誘導体を副生するこ
となく、化合物（III−１）、化合物（III−２）又は化
合物（III−３）へ変換される。使用されるパラジウム
触媒としては、トリス（ジベンジリデンアセトン）２パ
ラジウムクロロホルム錯体、ビス（ジベンジリデンアセ
トン）パラジウム、酢酸パラジウム、硝酸パラジウム、
塩化パラジウム、ビス（アセチルアセトナト）パラジウ
ム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム
などが挙げられ、その使用量は化合物（II−１−２又は
−３）、化合物（II−２−２又は−３）又は化合物（II
−３−２又は−３）１モルに対して約0.01〜0.5モルで
ある。このパラジウム触媒は反応系中において第三級ホ
スフィンと配位結合を形成していることが望ましく、必
要に応じて反応系に第三級ホスフィンを添加しても良
い。第三級ホスフィンとしては、トリブチルホスフィ
ン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、
トリトリルホスフィン、1,2−ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）エタンなどが使用され、その使用量は通常パラジ
ウム触媒１モルに対して約１〜20モルである。この反応
は通常溶媒中で行われ、使用される溶媒としては、1,4
−ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリルな
ど反応に関与しない溶媒が挙げられ、その使用量は、化
合物（II−１−２又は−３）、化合物（II−２−２又は
−３）又は化合物（II−３−２又は−３）に対して約５
〜200倍重量である。反応は通常約20〜150℃の範囲内の
温度で行われる。

この様にして得られた化合物（III−１）、化合物（I
II−２）又は化合物（III−３）の反応混合物からの単
離・精製は、通常の有機反応において用いられている単
離・精製法と同様にして行われる。例えば、フロリジル
を用いて過した後、液を減圧下に濃縮し、残渣を再
結晶、クロマトグラフィーなどにより精製することによ
って化合物（III−１）、化合物（III−２）又は化合物
（III−３）を得ることができる。この反応において、
化合物（II−２−２又は−３）及び化合物（II−３−２
又は−３）のうち、R¹及びR²が水素原子、アセチル基又
はｔ−ブチルジメチルシリル基を除く水酸基の保護基で
ある化合物を基質として用いた場合には、それぞれ化合
物（III−２′）又は化合物（III−３′）が得られる。

化合物（III−１）は、常法に従い、20位のオキソ基
を還元することにより、化合物（III−２）へ変換する
ことができる。例えば、化合物（Ｉ−２）を化合物Ｉ−
３）へ変換したと同様の操作を行うことにより実施され
る。

また、化合物（III−２）は、常法に従いエーテル化
することにより、化合物（III−３）へ変換することが
できる。例えば、化合物（Ｉ−３）を化合物（Ｉ−４）
へ変換したと同様の操作を行うことにより実施すること
ができる。

このようにして得られた化合物（Ｉ−４）、化合物
（II−３）又は化合物（III−３）のうち、ｚが水酸基
が保護された３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチル
基である場合には必要に応じて水酸基の脱保護を行うこ
とにより、ｚが３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチ
ル基である化合物に変換することができる。例えば、水
酸基の保護基が、アシル基又はアルコキシカルボニル基
である場合には、メタノール中炭酸カリウムで処理する
ことにより、また、水酸基の保護基が三置換シリル基又
は置換基を有していても良いアルコキシメチル基である
場合には、メタノール中塩酸で処理することにより脱保
護を行うことができる。

化合物（III−３）は、特開昭61−267550号公報記載
の公知の方法に準じて、紫外線照射−熱異性化反応に付
し、必要に応じて水酸基の脱保護を行うことにより、9,
10−セコ−5,7,10（19）−プレグナトリエン誘導体に変
換される。

［実施例］ 以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、
本発明はこれらの実施例により限定されるものではな
い。なお、核磁気共鳴（NMR）スペクトルは、重クロロ
ホルムを溶媒として、テトラメチルシランを内部標準と
して測定した。

参考例１ １α,2α−エポキシ−20−エチレンジオキシプレグナ
−4,6−ジエン−３−オン30gをエタノール450mlに溶解
し、氷浴中で冷却しながら撹拌した。水素化ホウ素ナト
リウム3.0gを数回に分け加え、氷冷下で30分間撹拌し
た。過剰の還元剤を希塩酸により分解し、水200mlを加
え、減圧下にエタノールを留去した。析出した結晶を
別し、水で洗浄し、減圧下に乾燥することにより、１
α,2α−エポキシ−20−エチレンジオキシプレグナ−4,
6−ジエン−３α−オールを25.3g得た。

参考例２ １α,2α−エポキシ−20−エチレンジオキシプレグナ
−4,6−ジエン−３α−オール25.1gを塩化メチレン500m
lに溶解し、飽和重曹水600mlを加え、氷冷下に撹拌し
た。ｍ−クロロ過安息香酸20.3gを数回に分けて加え、
添加後さらに氷冷下で１時間30分撹拌した。反応液にト
ルエン300mlを加え、減圧下に塩化メチレンを留去し
た。酢酸エチルを加え、二層に分離し、水層を酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を合わせ、水、ヨウ化カリウム水
溶液、チオ硫酸ナトリウム水溶液、水、重曹水、食塩水
で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧下に
濃縮し、残渣をジエチルエーテルより再結晶することに
より、１α,2α:4α,5α−ジエポキシ−20−エチレンジ
オキシ−６−プレグネン−３α−オールを19.8g得た。

参考例３ １α,2α:4α,5α−ジエポキシ−20−エチレンジオキ
シ−６−プレグネン−３α−オール19.8gをN,N−ジメチ
ルホルムアミド250mlに溶解し、モレキュラシーブス4A3
0gを加え、さらにＮ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド
12.1g加え、室温で15分間撹拌した。塩化ルテニウム水
和物0.2gを加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物を
セライトを用いて過し、液に水を500ml加え、氷冷
下２時間放置した。析出した結晶を集め、水で洗浄し、
減圧下乾燥することにより、１α,2α:4α,5α−ジエポ
キシ−20−エチレンジオキシ−６−プレグネン−３−オ
ンを13.4g得た。

参考例４ 水素化アルミニウムリチウム1.2gをテトラヒドロフラ
ン150mlに懸濁させ、氷冷下に撹拌した。１α,2α:4α,
5α−ジエポキシ−20−エチレンジオキシ−６−プレグ
ネン−３−オン13.4gをテトラヒドロフラン120mlに溶解
し、ゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温で１時間撹
拌した。再び氷浴中で冷却し、ジエチエーテル500mlを
加え、飽和硫酸ナトリウム水溶液2.5ml加え、室温で１
時間撹拌した。反応混合物をセライトを用いて過し、
残渣をテトラヒドロフランで洗浄し、液に合わせ、減
圧下濃縮した。残渣をメタノール酢−酸エチルより再結
晶し、20−エチレンジオキシ−６−プレグネン−１α,3
β,5α−トリオールを7.8g得た。

実施例１ 20−エチレンジオキシ−６−プレグネン−１α,3β,5
α−トリオール7.8gをアセトン100mlに懸濁し、ｐ−ト
ルエンスルホン酸ピリジニウム0.1を加え、アルゴン雰
囲気下３時間加熱還流した。反応液を冷却後、重曹水を
加え中和し、減圧下にアセトンを留去した。残渣をメタ
ノール−酢酸エチルより再結晶し、６−プレグネン−20
−オン−１α,3β,5α−トリオールを4.9g得た。¹ H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.53（s,3H）,0.88（s,
3H）、2.05（s,3H）,3.84（m,1H）,4.12（m,1H）5.53
（br.s,2H） 実施例２ ６−プレグネン−20−オン−１α,3β,5α−トリオー
ル4.9gを塩化メチレン50mlに懸濁し、ピリジン10mlおよ
びジメチルアミノピリジン0.2gを加えて、氷浴中で撹拌
した。クロル炭酸メチル5.4mlを滴下し、そのまま30分
間撹拌した。反応混合物を冷希塩酸にあけ、塩化メチレ
ンで抽出し、抽出液を冷希塩酸、水、重曹水、食塩水で
抽出し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧濃縮し、３
β−メトキシカルボニルオキシ−６−プレグネン−20−
オン−１α,5α−ジオールの粗製物を5.8g得た。これを
塩化メチレン70mlに溶解し、ジイソプロピルエチルアミ
ン24mlおよびジメチルアミノピリジン0.2gを加え、氷冷
下に撹拌した。クロル炭酸メチル5.5mlを滴下し、室温
で４時間撹拌した。反応混合物を冷希塩酸にあけ、ジエ
チルエーエルで抽出した。抽出液を冷希塩酸、水、重曹
水、食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃
縮後、残渣をジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンより再結
晶し、１α,3β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−
６−プレグネン−20−オン−５α−オールを5.2gを得
た。¹ H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.53（s,3H）,1.00（s,
3H）,2.08（s,3H）,3.77（s,3H）,3.79（s,3H）,4.85
（t,J＝3Hz,1H）,5.20（m,1H）,5.53（br.s,2H） 実施例３ １α,3β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−６−
プレグネン−20−オン−５α−オール2.5gをエタノール
40mlに溶解し、氷冷下で撹拌した。水素化ホウ素ナトリ
ウム0.25gを加え、さらに45分間撹拌した。希塩酸を加
え、中和し、減圧下にエタノールを留去した。残渣に水
を加え、結晶を別し、水で洗浄し、減圧下乾燥するこ
とにより１α,3β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）
−６−プレグネン−５α,20−ジオールを2.3g得た。¹ H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.67（s,3H）,1.02（s,
3H）,1.20（d,J＝6Hz,3H）,3.70（m,1H）,3.77（s,3
H）,3.80（s,3H）,4.86（t,J＝3Hz,1H）,5.21（m,1H）,
5.55（br.s,1H） 実施例４ 60％水素化ナトリウム0.24gを1,2−ジメトキシエタン
5mlに懸濁させ、１α,3β−ビス（メトキシカルボニル
オキシ）−６−プレグネン−５α,20−ジオール2.3gを
1,2−ジメトキシエタン20mlに溶解した溶液を加え、室
温で30分間撹拌した。ヨウ化イソアミル3.3mlを加え、
５時間加熱還流した。反応混合物を冷却後、水にあけ、
ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、１α,3
β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−20−（３−メ
チルブチルオキシ−６−プレグネン−５α−オールを1.
9g得た。¹ H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.66（s,3H）,0.92（d,
J＝7Hz,6H）,1.05（s,3H）,1.13（d,J＝7Hz,3H）,3.7〜
3.8（3H）,3.76（s,3H）,3.78（s,3H）,4.87（m,1H）,
5.22（m,1H）,5.50（br.s,2H） 実施例５ １α,3β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−６−
プレグネン−20−オン−５α−オール2.5gを炭酸ジメチ
ル25mlに溶解し、氷冷下で撹拌した。無水トリフルオロ
酢酸3.5mlを加え、室温で終夜撹拌した。反応液に氷を
加え、30分間撹拌した後、ジエチルエーテルで希釈し、
冷５％水酸化ナトリウム水溶液および重曹水で中和し、
食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウム上で乾燥した後、濃
縮し、残渣をジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンで再結晶
し、１α,3β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−７
−トリフルオロアセトキシ−６−プレグネン−20−オン
を2.1g得た。¹ H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.53（s,3H）,1.00（s,
3H）,2.08（s,3H）,3.77（s,3H）,3.79（s,3H）,4.5〜
5.3（3H）,5.80（d,J＝6Hz,1H） 実施例６ １α,3β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−７−
トリフルオロアセトキシ−６−プレグネン−20−オン1.
0gをエタノール20mlに溶解し、氷冷下で撹拌した。水素
化ホウ素ナトリウム0.2gを加え、さらに１時間撹拌し
た。反応混合物を希塩酸により中和し、減圧下にエタノ
ールを留去した。残渣に水を加え、塩化メチレンで抽出
し、抽出液を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウム上で乾
燥し、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、１α,3β−ビス（メトキシカルボニ
ルオキシ）−７−トリフルオロアセトキシ−６−プレグ
ネン−20−オールを0.8g得た。¹ H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.65（s,3H）,1.00（s,
3H）,1.23（d,J＝6Hz,3H）,3.73（m,1H）,3.77（s,3
H）,3.79（s,3H）,4.5〜5.3（3H）,5.80（d,J＝6Hz,1
H） 実施例７ １α,3β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−20−
（３−メチルブチルオキシ）−６−プレグネン−５α−
オール1.9gを炭酸ジメチル40mlに溶解し、氷冷下で撹拌
した。無水トリフルオロ酢酸2.5mlを加え、室温で終夜
撹拌した。以下実施例５と同様に操作を行い、１α,3β
−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−20−（３−メチ
ルブチルオキシ）−７−トリフルオロアセトキシ−５−
プレグネンを1.9g得た。¹ N NMRスペクトル（90MHz）δ:0.66（s,3H）,0.92（d,
J＝7Hz,6H）,1.05（s,3H）,1.13（d,J＝7Hz,3H）,3.1〜
3.8（3H）,3.76（s,3H）,3.78（s,3H）,4.5〜5.3（3
H）,5.79（d,J＝6Hz,1H） 実施例８ １α,3β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−７−
トリフルオロアセトキシ−６−プレグネン−20−オン1.
1gを1,4−ジオキサン10mlに溶解し、トリス（ジベンジ
リデンアセトン）２パラジウムクロロホルム錯体0.1g、
トリブチルホスフィン0.16mlおよび1,4−ジオキサン20m
lよりなる溶液に加え、アルゴン雰囲気下で２時間加熱
還流した。反応混合物を冷却後、フロリジルを用いて
過し、液を濃縮した。残渣をジエチルエーテル−ｎ−
ヘキサンより再結晶し、１α,3β−ビス（メトキシカル
ボニルオキシ）プレグナー5,7−ジエン−20−オンを0.7
g得た。下記の¹H NMRスペクトルの結果より１α,3β−
ビス（メトキシカルボニルオキシ）プレグナ−4,6−ジ
エン−20−オンの副生は認められなかった。¹ H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.53（s,3H）,1.00（s,
3H）,2.08（s,3H）,3.77（s,3H）,3.79（s,3H）,4.5〜
5.1（2H）,5.30（m,1H）,5.62（m,1H） 実施例９ １α,3β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−７−
トリフルオロアセトキシ−６−プレグネン−20−オール
0.8gを1,4−ジオキサン10mlに溶解し、トリス（ジベン
ジリデンアセトン）２パラジウムクロロホルム錯体0.08
g、トリブチルホスフィン0.13mlおよび1,4−ジオキサン
16mlよりなる溶液に加え、アルゴン雰囲気下で２時間加
熱還流した。以下実施例８と同様に操作を行うことによ
り、１α,3β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プレ
グナ−5,7−ジエン−20−オール0.6g得た。下記の¹H N
MRスペクトルの結果より１α,3β−ビス（メトキシカル
ボニルオキシ）プレグナ−4,6−ジエン−20−オールの
副生は認められなかった。¹ N NMRスペクトル（90MHz）δ:0.60（s,3H）,0.97（s,
3H）,1.20（d,J＝6Hz,3H）,3.75（m,1H）,3.77（s,3
H）,3.79（s,3H）,4.5〜5.1（2H）,5.34（m,1H）,5.62
（m,1H） 実施例10 １α,3β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）−20−
（３−メチルブチルオキシ）−７−トリフルオロアセト
キシ−５−プレグネン1.9gを1,4−ジオキサン20mlに溶
解し、トリス（ジベンジリデンアセトン）２パラジウム
クロロホルム錯体0.18g、トリブチルホスフィン0.27ml
および1,4−ジオキサン30mlよりなる溶液に加え、アル
ゴン雰囲気下で２時間加熱還流した。以下実施例８と同
様に操作を行うことにより、１α,3β−ビス（メトキシ
カルボニルオキシ）−20−（３−メチルブシルオキシ）
プレグナ−5,7−ジエンを1.5g得た。下記の¹H NMRスペ
クトルの結果より１α,3β−ビス（メトキシカルボニル
オキシ）−20−（３−メチルブチルオキシ）プレグナ−
4,6−ジエンの副生は認められなかった。¹ H NMRスペクトル（90MHz）δ:0.66（s,3H）,0.93（d,
J＝7Hz,6H）,1.07（s,3H）,1.15（d,J＝7Hz,3H）,3.1〜
3.8（3H）,3.77（s,3H）,3.80（s,3H）,4.5〜5.1（2
H）,5.32（m,1H）,5.62（m,1H） 実施例11 １α,3β−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プレグ
ナ−5,7−ジエン−20−オン0.7gをエタノール10mlに溶
解し、氷冷下で撹拌した。水素化ホウ素ナトリウム0.1g
を加え、さらに１時間撹拌した。以下実施例６と同様に
操作を行うことにより、実施例９で得られたものと同じ
¹H NMRスペクトルを与える１α,3β−ビス（メトキシ
カルボニルオキシ）プレグナ−5,7−ジエン−20−オー
ルを0.5g得た。

実施例12 60％水素化ナトリウム0.5gを1,2−ジメトキシエタン1
mlに懸濁させ、１α,3β−ビス（メトキシカルボニルオ
キシ）プレグナ−5,7−ジエン−20−オール0.5gを1,2−
ジメトキシエタン5mlに溶解した溶液を加え、室温で30
分間撹拌した。ヨウ化イソアミル0.7mlを加え、５時間
加熱還流した。以下実施例４と同様に操作を行うことに
より、実施例10で得られたものと同じ¹H NMRスペクト
ルを与える１α,3β−ビス（メトキシカルボニルオキ
シ）−20−（３−メチルブチルオキシ）プレグナ−5,7
−ジエンを0.4g得た。

［発明の効果］ 本発明により一般式（Ｉ）、一般式（II）及び一般式
（III）で示される新規なプレグナン誘導体並びに一般
式（II′）で示されるプレグナン誘導体から一般式（II
I′）で示されるプレグナン誘導体を製造する方法が提
供される。

本発明により提供される新規なプレグナン誘導体は免
疫調節作用及び腫瘍細胞の分化誘導能を有し、医薬、例
えば抗アレルギー剤、抗リウマチ剤及び抗腫瘍剤として
有用なことが知られている9,10−セコー5,7,10（19）−
プレグナトリエン誘導体の合成中間体として有用であ
る。

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 〔式中、R¹及びR²はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護
   基を表わし、Ｘ及びＹは一緒になつてオキソ基を表わす
   か、又はＸは水素原子を表わし、Ｙは水酸基、３−メチ
   ルブトキシ基又は３位の水酸基が保護されていても良い
   ３−ヒドロキシ−３−メチルブトキシ基を表わす〕 で示されるプレグナン誘導体。
2. 【請求項２】 〔式中、R¹、R²、Ｘ及びＹはそれぞれ請求項１記載の
   R¹、R²、Ｘ及びＹと同じであり、R³は水素原子、アシル
   基又はアルコキシカルボニル基を表わす〕 で示されるプレグナン誘導体。
3. 【請求項３】 〔式中、R¹、R²、Ｘ′及びＹ′はそれぞれ請求項１記載
   のR¹、R²、Ｘ及びＹと同じであり、但し、R¹及びR²が水
   素原子、アセチル基又はｔ−ブチルジメチルシリル基を
   表わす場合には、Ｘ′及びＹ′は一緒になつてオキソ基
   を表わす〕 で示されるプレグナン誘導体。
4. 【請求項４】 〔式中、R¹、R²、Ｘ及びＹはそれぞれ請求項１記載の
   R¹、R²、Ｘ及びＹと同じであり、R⁴はアシル基又はアル
   コキシカルボニル基を表わす。〕 で示されるプレグナン誘導体を、パラジウム触媒の存在
   下に７位の置換基をβ脱離させることを特徴とする、一
   般式 〔式中、R¹、R²、Ｘ及びＹはそれぞれ請求項１記載の
   R¹、R²、Ｘ及びＹと同じである。〕 で示されるプレグナン誘導体の製造方法。