JPH0225429B2 - - Google Patents
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- JPH0225429B2 JPH0225429B2 JP8616984A JP8616984A JPH0225429B2 JP H0225429 B2 JPH0225429 B2 JP H0225429B2 JP 8616984 A JP8616984 A JP 8616984A JP 8616984 A JP8616984 A JP 8616984A JP H0225429 B2 JPH0225429 B2 JP H0225429B2
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- Japan
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- roll
- sealing device
- casing
- vacuum
- steel strip
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- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 16
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、真空シール装置の改良に関するもの
である。
である。
帯鋼に真空蒸着メツキを施す場合、第１図、第
２図に示す真空シール装置が用いられる。第１図
ａはピンチロール型シール装置の破断側面図、第
１図ｂは同図ａのＡ−Ａ線断面図であり、ケーシ
ング０６内には帯鋼０５を挟持する如く上、下２
本のロール０１が回転自在に収納されている。そ
して、これらロール０１の両端面は図示の如くケ
ーシング０６の側壁に面しており、該両端面とケ
ーシング０６との間には僅かな隙間０２が形成さ
れ、この隙間０２から気体が流れるが、この隙間
０２を極力小さくすることでケーシング０６内の
真空度を高めることができる。尚、図示しない
が、ケーシング０６内は排気ダクトを介して空気
ポンプに連通している。
２図に示す真空シール装置が用いられる。第１図
ａはピンチロール型シール装置の破断側面図、第
１図ｂは同図ａのＡ−Ａ線断面図であり、ケーシ
ング０６内には帯鋼０５を挟持する如く上、下２
本のロール０１が回転自在に収納されている。そ
して、これらロール０１の両端面は図示の如くケ
ーシング０６の側壁に面しており、該両端面とケ
ーシング０６との間には僅かな隙間０２が形成さ
れ、この隙間０２から気体が流れるが、この隙間
０２を極力小さくすることでケーシング０６内の
真空度を高めることができる。尚、図示しない
が、ケーシング０６内は排気ダクトを介して空気
ポンプに連通している。
然るに、ロール０１及びケーシング０６の側壁
が熱膨張すると前記隙間０２が増大し、このため
真空排気する真空ポンプの容量を高める必要が生
じる。そこで、従来はこれらロール０１及びケー
シング０６を水冷却することで熱膨張を抑え、隙
間０２の値を一定値に保つという方法で対処して
きた。
が熱膨張すると前記隙間０２が増大し、このため
真空排気する真空ポンプの容量を高める必要が生
じる。そこで、従来はこれらロール０１及びケー
シング０６を水冷却することで熱膨張を抑え、隙
間０２の値を一定値に保つという方法で対処して
きた。
しかしながら、帯鋼０６に或る金属、例えば亜
鉛を用いて真空蒸着メツキする場合、帯鋼０５に
一旦蒸着された亜鉛が再蒸発し、蒸気となつてそ
の一部が温度の低いロール０１等に付着し、該ロ
ール０１とこれとの間に僅かの隙間を設けて設定
されるシールバー０３間に亜鉛が堆積し、この堆
積した亜鉛がロール０１の正常な回転を妨げると
しう問題があつた。更に、この堆積した亜鉛が帯
鋼０５の通過する際に剥れて該帯鋼０５に転写さ
れ、これが金属の塊となつて帯鋼０５によつて運
ばれ、次の真空シール装置のロールへ押し付けら
れて該ロールに付着し、その上を通過する帯鋼に
押し傷を与えるという問題も発生する。
鉛を用いて真空蒸着メツキする場合、帯鋼０５に
一旦蒸着された亜鉛が再蒸発し、蒸気となつてそ
の一部が温度の低いロール０１等に付着し、該ロ
ール０１とこれとの間に僅かの隙間を設けて設定
されるシールバー０３間に亜鉛が堆積し、この堆
積した亜鉛がロール０１の正常な回転を妨げると
しう問題があつた。更に、この堆積した亜鉛が帯
鋼０５の通過する際に剥れて該帯鋼０５に転写さ
れ、これが金属の塊となつて帯鋼０５によつて運
ばれ、次の真空シール装置のロールへ押し付けら
れて該ロールに付着し、その上を通過する帯鋼に
押し傷を与えるという問題も発生する。
第２図ａはブライドル型シール装置の一部破断
側面図、第２図ｂは同図ａのＢ−Ｂ線断面図であ
り、該ブライドル型シール装置は図示の如く上、
下のロール０１に帯鋼０５を巻き付け、該ロール
０１に弓状のカバー０４を組み合わせて構成され
るが、この種シール装置においても前記と同様の
問題が発生する。
側面図、第２図ｂは同図ａのＢ−Ｂ線断面図であ
り、該ブライドル型シール装置は図示の如く上、
下のロール０１に帯鋼０５を巻き付け、該ロール
０１に弓状のカバー０４を組み合わせて構成され
るが、この種シール装置においても前記と同様の
問題が発生する。
本発明は上記問題を有効に解決すべく成された
もので、その目的とする処は、真空度を高く保つ
て真空ポンプの小容量化を図ることができるとと
もに、再蒸発金属蒸気のロール等への付着及びロ
ールとカバー部材間での堆積を防いでロールの回
転及び製品への悪影響を除くことができる真空シ
ール装置を提供するにある。
もので、その目的とする処は、真空度を高く保つ
て真空ポンプの小容量化を図ることができるとと
もに、再蒸発金属蒸気のロール等への付着及びロ
ールとカバー部材間での堆積を防いでロールの回
転及び製品への悪影響を除くことができる真空シ
ール装置を提供するにある。
上記目的を達成すべく本発明は、ケーシング内
に回転自在に収納されたロールと、該ロールとの
間に僅かの隙間を設けて設置されるカバー部材と
で構成される真空シール装置において、前記ロー
ルの両端面にこれの軸方向に移動自在な側板を弾
接せしめるとともに、ロール及びカバー部材にこ
れらを加熱するヒータを設けた。
に回転自在に収納されたロールと、該ロールとの
間に僅かの隙間を設けて設置されるカバー部材と
で構成される真空シール装置において、前記ロー
ルの両端面にこれの軸方向に移動自在な側板を弾
接せしめるとともに、ロール及びカバー部材にこ
れらを加熱するヒータを設けた。
以下に本発明の好適な一実施例を第３図及び第
４図に基づいて説明する。
４図に基づいて説明する。
第３図は本発明に係る真空シール装置の一部破
断側面図、第４図は第３図Ｃ−Ｃ線断面図であ
る。
断側面図、第４図は第３図Ｃ−Ｃ線断面図であ
る。
図示の真空シール装置はピンチロール型のもの
であり、各ケーシング６内には帯鋼７を挟持する
如くして上、下２本のロール１が回転自在に収納
されている。そして、各ロール１は中空状に成形
され、内部にはこれを加熱するヒータ２が内装さ
れている。又、各ロール１の両端部からは第４図
に示す如く回転軸１ａがケーシング６の側壁を貫
通して外方へ延出しており、該回転軸１ａの外周
には軸シール１４が摺接している。尚、第４図
中、１３は蛇腹状のダイトブーツである。
であり、各ケーシング６内には帯鋼７を挟持する
如くして上、下２本のロール１が回転自在に収納
されている。そして、各ロール１は中空状に成形
され、内部にはこれを加熱するヒータ２が内装さ
れている。又、各ロール１の両端部からは第４図
に示す如く回転軸１ａがケーシング６の側壁を貫
通して外方へ延出しており、該回転軸１ａの外周
には軸シール１４が摺接している。尚、第４図
中、１３は蛇腹状のダイトブーツである。
更に、ロール１の両側端面には第４図に示す如
く耐焼付性の高いカーボン、カーボン繊維ライニ
ングで成形された側板１１がスプリング１２にて
弾接されている。尚、上、下のロール１間、上記
側板１１外周部とケーシング６の内周部間にはそ
れぞれ隙間９，１０が形成されている。
く耐焼付性の高いカーボン、カーボン繊維ライニ
ングで成形された側板１１がスプリング１２にて
弾接されている。尚、上、下のロール１間、上記
側板１１外周部とケーシング６の内周部間にはそ
れぞれ隙間９，１０が形成されている。
一方、ロール１の近傍にはこれとの間に僅かな
隙間４を形成してシールバー３が設置されてお
り、これは帯鋼７の進行方向（第３図矢印方向）
に移動自在に構成されており、該シールバー３の
移動で隙間４を調整することができるようになつ
ている。そして、このシールバー３には図示の如
くこれを加熱するためのヒータ５が設けられてい
る。尚、ケーシング６内は排気ダクト８を介して
図示しない真空ポンプに連通している。
隙間４を形成してシールバー３が設置されてお
り、これは帯鋼７の進行方向（第３図矢印方向）
に移動自在に構成されており、該シールバー３の
移動で隙間４を調整することができるようになつ
ている。そして、このシールバー３には図示の如
くこれを加熱するためのヒータ５が設けられてい
る。尚、ケーシング６内は排気ダクト８を介して
図示しない真空ポンプに連通している。
而して、シールロール１、シールバー３をそれ
ぞれヒータ２，５にて帯鋼７に真空蒸着メツキを
施す金属の再蒸発温度以上に加熱すれば、シール
ロール１及びシールバー３へのメツキ金属の付着
及び隙間４でのメツキ金属の堆積が防止され、こ
の結果、ロール１の正常な回転が害されず、又帯
鋼７に押し傷が発生したりせず、製品欠陥の発生
が阻止される。
ぞれヒータ２，５にて帯鋼７に真空蒸着メツキを
施す金属の再蒸発温度以上に加熱すれば、シール
ロール１及びシールバー３へのメツキ金属の付着
及び隙間４でのメツキ金属の堆積が防止され、こ
の結果、ロール１の正常な回転が害されず、又帯
鋼７に押し傷が発生したりせず、製品欠陥の発生
が阻止される。
又。ロール１には側板１１を常時弾接せしめた
ため、ロール１及びケーシング６の熱膨張に無関
係にシールロール１とケーシング６との間の隙間
を常に最小限に抑えることができ、この結果、真
空ポンプはその容量が小さくて済み、設備費及び
排気動力を削減することができる。
ため、ロール１及びケーシング６の熱膨張に無関
係にシールロール１とケーシング６との間の隙間
を常に最小限に抑えることができ、この結果、真
空ポンプはその容量が小さくて済み、設備費及び
排気動力を削減することができる。
尚、具体的実験例を示すと、次の条件；
帯鋼：0.6mm厚さ×300mm巾の普通鋼
通板速度：15ｍ／min
シールロールの表面温度：300℃
シールバーの表面温度：300℃
高圧側シール装置の圧力：1.0torr
低圧側シール装置の圧力：0.07torr
メツキ膜厚さ：40ｇ／m2（亜鉛）
蒸着前の帯鋼温度：250℃
の下でメツキ作業を行つた結果、シールロール表
面及びシールバー表面には亜鉛の付着は認められ
なかつた。又、シール性能はロールが水冷されて
いた場合のそれよりも高いことが確認された。
面及びシールバー表面には亜鉛の付着は認められ
なかつた。又、シール性能はロールが水冷されて
いた場合のそれよりも高いことが確認された。
以上の説明で明らかな如く本発明によれば、ロ
ールの両端面にこれの軸方向に移動自在な側板を
弾接せしめるとともに、ロール及びカバー部材に
ヒータを設けてこれらをメツキ金属の再蒸発温度
以上に加熱したため、メツキ金属のロールへの付
着及びロールとカバー部材間での堆積を防いでロ
ールの正常回転を確保し、製品への悪影響を除く
ことができるとともに、高い真空度を保つて真空
ポンプの小容量化を図ることができる。
ールの両端面にこれの軸方向に移動自在な側板を
弾接せしめるとともに、ロール及びカバー部材に
ヒータを設けてこれらをメツキ金属の再蒸発温度
以上に加熱したため、メツキ金属のロールへの付
着及びロールとカバー部材間での堆積を防いでロ
ールの正常回転を確保し、製品への悪影響を除く
ことができるとともに、高い真空度を保つて真空
ポンプの小容量化を図ることができる。
第１図ａはピンチロール型シール装置の破断側
面図、第１図ｂは同図ａのＡ−Ａ線断面図、第２
図ａはブライドル型シール装置の破断側面図、第
２図ｂは同図ａのＢ−Ｂ線断面図、第３図は本発
明に係る真空シール装置の一部破断側面図、第４
図は第３図Ｃ−Ｃ線断面図である。 図面中、１はロール、２，５はヒータ、３はシ
ールバー、４，９，１０は隙間、６はケーシン
グ、７は帯鋼、１１は側板、１２はスプリングで
ある。
面図、第１図ｂは同図ａのＡ−Ａ線断面図、第２
図ａはブライドル型シール装置の破断側面図、第
２図ｂは同図ａのＢ−Ｂ線断面図、第３図は本発
明に係る真空シール装置の一部破断側面図、第４
図は第３図Ｃ−Ｃ線断面図である。 図面中、１はロール、２，５はヒータ、３はシ
ールバー、４，９，１０は隙間、６はケーシン
グ、７は帯鋼、１１は側板、１２はスプリングで
ある。
Claims (1)
- １ ケーシング内に回転自在に収納されたロール
と、該ロールとの間に僅かの隙間を設けて設置さ
れるカバー部材とで構成される真空シール装置に
おいて、前記ロールの両端面にこれの軸方向に移
動自在な側板を弾接せしめるとともに、ロール及
びカバー部材にこれらを加熱するヒータを設けた
ことを特徴とする真空シール装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59086169A JPS60234964A (ja) | 1984-05-01 | 1984-05-01 | 真空シ−ル装置 |
| DE198585102965T DE155643T1 (de) | 1984-03-19 | 1985-03-14 | Vorrichtung zur bedampfung. |
| DE8585102965T DE3578437D1 (de) | 1984-03-19 | 1985-03-14 | Vorrichtung zur bedampfung. |
| EP85102965A EP0155643B1 (en) | 1984-03-19 | 1985-03-14 | Vacuum evaporation equipment |
| AU40012/85A AU553239B2 (en) | 1984-03-19 | 1985-03-15 | Preventing reevaporation and sealing strip in continuous metal vacuum evaporation |
| CA000476897A CA1233016A (en) | 1984-03-19 | 1985-03-19 | Vacuum evaporation equipment |
| US06/713,743 US4649860A (en) | 1984-03-19 | 1985-03-19 | Vacuum evaporation coating equipment |
| KR1019850001760A KR890004043B1 (ko) | 1984-03-19 | 1985-03-19 | 진공증착장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59086169A JPS60234964A (ja) | 1984-05-01 | 1984-05-01 | 真空シ−ル装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60234964A JPS60234964A (ja) | 1985-11-21 |
| JPH0225429B2 true JPH0225429B2 (ja) | 1990-06-04 |
Family
ID=13879250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59086169A Granted JPS60234964A (ja) | 1984-03-19 | 1984-05-01 | 真空シ−ル装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60234964A (ja) |
-
1984
- 1984-05-01 JP JP59086169A patent/JPS60234964A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60234964A (ja) | 1985-11-21 |
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