JPH02131487A - ２―チアセフエム誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式（Ｉ［） の２−チアセ７エム誘導体の新規な製法に関する。

一般式（ＩＩ）において、Ｒｔは水素原子または有機基
を示し、Ｒ２は水素原子またはカルボキシ保護基を示し
セしてＹは水素または／％ロゲン原子または有機基を示
す。

Ｒ１が示す有機基は、場合によっては置換されている脂
肪族または環状脂肪族基を包含する。

脂肪族基は、好適には１〜１２個の炭素原子を有するア
ルキル基でありそして任意的置換分は１個またはそれ以
上のヒドロキシ、アミン、シアノおよび（または）メル
カプト基であシ得る。

ヒドロキシ、アミンおよびメルカプト基は遊離であって
もまたは保護されていてもよい。特に好適なアルキル基
はメチルおよびエチル特に後者でありそしてこのような
基に対する好適な置換分は遊離または保護されていても
よいヒドロキシ基である。６８．８Ｒまたは６Ｒ，８Ｓ
配置の１ーヒドロキシエチル基がもつとも好適なもので
ある。環状脂肪族基は好適には４〜７個の炭素原子を有
する単環状アルキル基である。シクロぱンチルおよびシ
クロヘキシル基が特に好適である。任意的置換分は好適
には１〜６個の炭素原子を有するアルキル基例えばメチ
ルまたはエチル基、ヒドロキシ、アミノおよびメルカプ
ト基から選択さｎたものであシそしてヒドロキシ、アミ
ノおよびメルカプト基は遊離または保護さｎている。

カルボキシ保護基Ｒ２は、−ＣＯＯ一部分と共にエステ
ル化さｎたカルボキシ基を形成するいず几の基であって
もよい。カルボキシ保護基の例は特に１〜６個の炭素原
子を有するアルキル基例えばメチル、エチルまたはｔ−
プチル、１〜６個の炭素原子ｔｉするハロ置換アルキル
基例えば２．２．２　−　トリクロ口エチル、２〜４個
の炭素原子を有するアルケニル基例えばアリル、場合に
よっては置換さｎているアリール基例えばフエニルおよ
びｐ−ニトロフエニル％７’）一ル置換アルキル基（そ
のアルキル部分は１〜６個の炭素原子を有しそしてその
アリール部分は場合によっては置換さｎている）例えば
ベンジル、ｐ−ニトロｋンジルおよびｐ−メトキシベン
ジル、アリールオキシ置換アルキル基（そのアルキル部
分は１〜６個の炭素原子を有す）例えばフエノキシメチ
ルまたはペンズヒドリル、〇一二トロペンズヒドリル、
アセトニル、トリメテルシリル、ジクエニル−ｔ−プチ
ルーシリルおよびジメチルーｔ−プチルーシリルのよう
な基を包含する。カルボキシ保護基としてのＲ２の定義
はまた、生体内で加水分解することが知ら几ているエス
テルでありそして有利な薬力学的性買を有しているアセ
トキシメチル、ピパロイルオキシメチルまたはフタリジ
ルのようなすべての残基金包含する。

Ｙがハロゲン原子を示す場合は、そｎは好適には弗素、
塩素または臭素原子である。

Ｙが有機基を示す場合は、そｆ′Ｌは好適にはｔａ＋　
　遊離または保護さｆ′Ｌ几ヒドロキシ基（１）ｌ　　
場今によってはハロゲン原子によって、２〜６個の炭素
原子を有するアシル基によってまたはアミン、ヒドロキ
シまたはメルカプト基（アミン、ヒドロキシまたはメル
カプト基は場合によっては保護さ几た形態にある）によ
って置換さｎているホルミルオキシ基ま念は２〜６個の
炭素原子を有するアシルオキシ基、 ｔｃ＋　　置換さｎていないかまたはＮ−アルキル置換
さｎたカルパモイルオキシ基、 （ｄｌ　　場合によっては１個またはそ几以上のハロゲ
ン原子、ホルミル基、２〜６個の炭素原子を有するアシ
ル基および（または）アミン、ヒドロキシまたはメルカ
プト基（アミン、ヒドロキシまたはメルカプト基は場合
によっては保護さ几た形態にある）によって誼換さｎて
いる１〜１２個の炭素原子を有するアルコキシ基または
１〜１２個の炭素原子を有するアルキルチオ基、 ｔｅ＋　　置換さｎていないかまｆｃはメタまたはパラ
一位において基−ＣＯＮＨ２で置換さｎている１ーピリ
ジニウム基、 （ｆ＋　　へテロシクリルチオ基−Ｓ−Ｈｅｔ［：　Ｈ
ａｔは少なくとも１個の酸素、硫黄および（または）窒
素へテロ原子を含有する飽和または不飽和複素環式環を
示し、そして好適には （Ａ）　　置換さｎていないかまｆｃｕｉ個またはそｎ
以上の （ａ’）　　１〜６個の炭素原子を有するアルコキシ基
、２〜６個の炭素原子を有する脂肪族アシル基、ヒドロ
キシ基および（または）ハロゲン原子、 （ｂう　置換さ几ていないかまたは１個またほそｎ以上
のヒドコキン基および（またｌｄ）ハロゲン原子によっ
て置換さ几ている１〜６１固の炭素原子を有するアルキ
ル基１ （Ｃ′）置換さ几ていないか″！たぱ１・個またはそ几
以上のヒドロキシ基および（または）ハロゲ゛ン原子に
よって置換さ几ている２〜６個の炭素を有するアルケニ
ル基、 （ｄ′）一般式−Ｓ−Ｒ３　（式中Ｒ！，は水累原子ま
たは１〜６個炭素原子金有するアルキル基を示ｆ）の基
または一般式−ｓ−ｃＨ２−ｃｏｏＲ４（式中Ｒ４は水
素原子、１〜６個の炭素原子を肩するアルキル基または
カルボキシー保獲基を示す）の基、 （ｅ′）　　一般式−（ＣＨ２　）ｍ−ＣＯＯＲ４また
は−１鴨Ｈ−Ｃ（Ｘ）Ｒ４またはー（　ＣＨ２　’），
Ｄ−ＣＮまたはー（　ＣＨ２　）。一〇〇ＮＨ２または
−（ＣＨ２）ｍ−ＳＯ３Ｈ（式中ｍｉ”ｊ：０、１、２
まタ（霊３でありそしてＲ４は前述した通υでちる）の
基ｔ した通りでありそしてＲ５およびＲ６のそｎぞｎは同一
または異な）て水素原子、１〜６個の炭素原子を有する
アルキル基または脂肪箕アシル基を示すかまたはＲ５お
２びＲ６の一方が水素である場合は他方はまたアミン保
護基であり得る）の基、 によって置換さｎた少なくとも１個の二重結合および少
なくとも１個の酸素、硫黄および（または）窒素へテロ
原子を官有する５原子または６原子複素単環式環または （Ｂ）　　縮合複累単環式環のそｎぞ１が同一または異
なシて少なくとも１個の酸素ｔ硫黄または窒素へテロ原
子を含有する５原子または６原子複素単環式環である少
なくとも２個の二重結合を含有する複累二環式＠（複素
二環式環は置換さｎていないかまたは前述した（ａ′）
、（ｂワ、（Ｃ′）、（ｅ′）および（ｆ′）から選択
さｎた１個またはそｎ以上の置換分によって置換さｎて
いる）である〕である。

上記定義ｔＡ＋および（Ｂｌにおいて、好適なノ・ロゲ
ンは塩素、臭素および沃素であり、好適なアルキル基は
メチルおよびエチルでアシ、好適なアルケニル基はアリ
ルでラシ、好適な脂肪族アシル基はアセチルであり、カ
ルボキシ保護基はＲ２置換分に対して前に示した基のい
ずｎであってもよく、そして場合によシ存在する遊離ス
ルホおよびカルボキシ基は例えばナトリウム塩またはカ
リウム塩として塩形成し得る。前記（Ａｌの複素単環式
環は例えば場合によっては置換さｎているチアゾリル、
トリアゾリル、チアジアゾリル、テトラゾリルまたはト
リアジニル環である。

このような環上の好適な置換分は、例えばアミン、ヒド
ロキシ、オキソおよび０１〜ｃ６アルキル基好適にはメ
チルまたはエチル（　ｃ１−ｃ６アルキル基は場合によ
ってはカルボキシ、スルホ、シアノ、カルパモイル、ア
ミン、メチルアミノまたはジメチルアミノから選択さｎ
た置換分によって置換さｎている）から選択さｎＮ１個
またはそｎ以上の置換分である。前記（Ｂｌの複素二環
式環は、例えば場合によってはアミンまたはカルボキシ
によって置換さｎているテトラゾロピリダジニル基であ
る。

前記弐山において、場合によシ存在するアミノ、ヒドロ
キシまたはメルカプト保護基は、こ几らの官能分に対し
てイニシリンおよびセファロスボリンの化学において普
通使用さ几ているものである。こｎらは例えば場合によ
っては置換さｎている特にハロ置換さｎているアシル基
例えばアセチル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチ
ル、トリフルオロアセチル、ベンゾイルまたはｐ−プロ
モフエナシル、トリアリールメチル基特にトリフエニル
メチル、シリル基特にトリメチルシリル、ジメチルーｔ
−プチルシリル、ジフエニル−ｔ−プチルシリルまたａ
ｔ−ブトキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシ力
ルボニル、２．２．２　−　｝リクロロエトキシカルボ
ニル、ベンジル、ヒラニルおよびニトロのような基でア
シ得る。特に式（１）におけるＲ１置換分が、ヒドロキ
シアルキル基である場合は、ヒドロキシ官能分に対する
好適な保護基はｐ−二トローペンジルオキシヵルボニル
、ジメチル−１−プチルーシリル、ジフェニルーｔ−プ
チルシリル、トリメチルシリル、２．２．２　−　｝　
！Ｊ　クロロエトキシカルボニル、ベンジル、ｐ−プロ
モー７エナシル、トリフェニルメチルおよヒヒラニルで
ある。アルコキシ、アルキルチオおよびアシルオキシ基
の脂肪族炭化水素部分を包含するアルキルおよびアルケ
ニル基はすべて有枝鎖状または直鎖状である。

薬学的におよび（または）動物医学的に許容し得る塩は
、塩酸または硫醗のような無機酸または拘捕酸、酒石酸
、フマル酸またはメタンスルホン酸のような有機酸の酸
との塩およびアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水
酸化物特に水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムのよ
うな無機塩基またはトリエチルアミン、ピリジン１ベン
ジルアミンまたはコリジンのような有機塩基の塩基との
塩である。好適な塩は、Ｒ２が水素原子を示す弐山の化
合物と前述した塩基の１種、特に水酸化ナトリウムまた
は水酸化カリウムとの塩基である。

本発明の方法によって得ることのできる一般弐（１）の
化合物は、本発明者等の英国特許明細書第２０４３６３
９Ａ号および同第８２１０４１０号に記載さｎている既
知の化合物である。こｎらの化合物は、強力な広域スズ
クトルの抗菌剤でありそしてそｎ故に経腸マ几ハ非経口
的投与による温血動物特に人間の細菌感染の治療にＭ用
である。

（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＹは前述した通クである）の
２−チアセフエムの脱硫環収縮は、ぱネム金製造する既
知方法であるが、該方法は貧弱なまたは不利な立体選択
性という問題がある。６位の炭素原子はＲ配置を有する
けｎども、脱硫は普通生物学的に不活性である（５３）
−＜ネム（「Ｊ．Ａｍ．ｏｈｅｍ．ｓｏｃ．Ｊ第１０１
巻第６３０６頁（１９７９）または（５Ｓ）一および（
５Ｒ）一ぱネムの混合物（「Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃ
ｏｍｍｕｎ．Ｊ　１　９　８　２年第８０９頁）を与え
る。本発明者等は置換分Ｒ１、Ｒ２およびＹおよび方法
に対する溶剤が適当に選択さｎる場合はこのような脱硫
環収縮によって（５Ｒ）一ｋネムを得ることができるこ
と全見出しそしてｌ”ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ
ｅｒｓＪ第２４巻第３２Ｂ５頁（１９８３年）に発表し
た。しかしながら、望ましくない（５Ｓ）一異性体の形
成および望ましい（５Ｒ）一異性体からのその分離だお
ける損失を回避するために、十分な範囲の置換分Ｒ１、
Ｒ２およびＹの値にわたって使用できるより一般的な立
体選択的な方法が明らかに望ましい。

本発明は、前述したような一般弐山を有する（５Ｒ）一
ハネムを製造する方法を提供しようとするものであり、
そして方法は６位の炭素がＲ配置を有する前述したよう
な一般式（ｎ）　ｆｔ有する２−チアセフエムを酸化せ
しめて一般式（ＩＩ［ＪｃｏｏＲ２ （式中、Ｒ１，Ｒ２およびＹぱ前述した通りである）ヲ
有するスルホンを与えそして二酸化硫黄の追い出しによ
ってスルホンヲ環収縮させそしてもし必要ならば一般弐
（ＩＩの得らｎた（５Ｒ）ハネムを一般式（負の他の化
合物に変換しそして（または）もし必要ならば一般弐（
ＩＩの得らｎ＊化合物をその塩に変換しそして（また（
／ｉ）もし必要ならばその塩から一般式（１）の遊離化
合物を得ることからなる。

酸化は有機スルフイドを相当するスルホンに変換するた
めに普通使用さｎる酸化剤全使用して実施することがで
きる。好適な酸化剤はｍ−クロロ過安息香酸または過酢
酸のような過酸である。反応は一般に、０〜６０℃の温
度、好適には４〜３０℃で不活性溶剤中で遂行さｎる。

二酸化硫黄の喪失によるスルホンの環収縮はそｎをクロ
ロホルムまたはベンゼンのような不活性有機溶剤中で加
熱することによって簡単に行うことができる。ある場合
においては、環収縮は室温で同様に自然に生起し得る。

２−チアセフエム（Ｉｌｌの６位における炭素原子のＲ
配置は方法を通して保持さ几、その結果（５Ｒ）−：ネ
ムがもっぱら得らｎる。チオスルホネートからの二酸化
硫黄の景失は時々報告さ几ている〔例えば（　「Ｊ．ｃ
！ｈｅｍ．ｓｏｃ．Ｊ　１　９　５　６年第１６６５頁
および「，Ｔ．Ｏｒｇ，Ｃｈｅｍ．Ｊ第３５巻第１７８
頁（１９７０　）参照〕けｎども、この反応は収率およ
び操作条件の穏和性に関する限シ殆んど先例にはならず
そしてはじめてそｎはβ−ラクタム化合物の合成に適用
さｎたということは注目すべきことである。本発明はま
た（５Ｒ）一配置を有する式（Ｉ［ｌの必要な化合物を
得る方法を提供する。

本発明によｎば、一般式（Ｉｔ）の化合物は次の反応図
式に示さｎる方法によって製造することが式中、Ｒ１、
Ｒ２およびＹは前述した通シであシ、２は （１）弐ＳＲ，　（式中Ｒ７は１〜８個の炭素原子を有
するアルキル基、フエニルまたはトリル基または好適に
は複素環式基を示す）の基特に２−ペンゾチアゾリルチ
オまたは１−メチルーテトラゾール−５−イルーチオ基
、 （１１）式ｓｃｏａ６　（式中Ｒ８は場合によっては置
換さｎている低級アルキル基好適にはメチル基を示す）
の基、 て低級アルキルまたはアリール基を示すかまたはジカル
ボキシアミノ基と一緒になって複素環式環好適にはサク
シンイミドまたはフタルイミド基を形成する）の基、ま
たは ＩＪＶｒ　　−Ｓ−Ｒ７　（式中Ｒ７は場合によっては
置換さｎている低級アルキルまたはアリール基好適には
メチル、フエニルまたはｐ−｝リル基を示す）の基 を示し、そしてＬはハロゲン原子、アルカンスルホニル
オキシ基またはアレンスルホニルオキシ基好適にはメタ
ンスルホニルオキシ基を示ス。

出発物質として使用さｎる一般式口の化合物は、既知化
合物であるかまたはそ几自体既知の操作方法によって既
知化合物から得ることができる。若干の代表的な化合物
の製造は例に示さｎている。

一般式口の化合物をはじめに加オゾン分解せしめて一般
式（資）の化合物を得る。次にヒドロキシ基を基Ｌに変
換しそして一般式（■）の得らｎ之化合物を環化してＹ
が水素原子を示す一般式（Ｉ［ｌの化合物を得る。もし
必要ならば、次にメチル基をハロゲ冫化せしめてＹがハ
ロゲンを示す一般式（Ｉ［）の化合物を得る。

別の方法においては、一般式［Ｆ］の化合物金はじめて
そｎ自体既知の方法（アリル．エン型または電気化学的
ハＯゲン化、ｌ”ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔｅｒ
ｓｊ　１　９　８　０年第７１および３５１頁、１９８
１年第３１９６頁および１９８２年第２１８７頁参照）
によってハロゲン化する。次に一般弐■｝の得らｎた化
合物を加オゾン分解する。次に一般弐ｍの得ら几た化合
物のヒドロキシ基金基Ｌに変換しそして一般式（力の得
らｎた化合物全環化して一般式（［１の化合物を得る。

一般式（Ｍｌ、■、（鱒および（Ｉｌｌの化合物におけ
る基Ｙは、もしそｎがハロゲン原子を示す場合は、場合
によってはＹがハロゲン原子以外のものを示す任意の他
の基に変換することができる。本発明の好適な％９（で
よｎぱ、この変換は好適には一般式（Ｉｌｌの化合物に
対して実施さｎる。

相当するケト互変異性体と平衡にちるエノール（ＶＤま
たは（ＶＩ）中のヒドロキシ基の基Ｌへの変換は、好適
にはメシル化である。本発明者等は、驚くべきことには
、この反応が一遍在的に使用さｎているハロゲン化炭化
水素の代シにテトラヒドロフラン中で実施さｎる場合は
次の環化に対してもつとも適当した化合物でちる２アル
ケン配置を有するメシレート■または（■）が殆んども
つばら得らｎるということを見出した〔ジクロ口メタン
中で遂行さｎる同様な変換は普通Ｅ，Ｚ異性体の１＝１
混合物を与える、ｌ”Ｃａｎ　．　．Ｔ　．Ｃｈｅｍ．
Ｊ第５５巻ｉ２８７３頁（１９７７）、ｌ”Ｊ　．　Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍ＋ｎ．Ｊ　１　９　
８　１年第９４７頁および「Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｏｏｍｍ．Ｊ　１　９　７　９年第６６６頁参
照〕。

（■）または因の環化は単一の工程においてＮａ２Ｓ、
ＮａＨＳ　，　Ｅｕ４ＮＨＳのようなスルフイドまたは
ヒドロスルフイドとの反応または１・リエチルアミンま
たぱピリジンのような塩基の存在下におけるＨａｓとの
反応によって実施することができる。

２がＳＲ７以外の基を示″ｊ（ｌｙｌｌまたは（■）の
環化は、普通クロマトグラフーイー分離または重金属塩
ＣＡｇ＋、．ｐｂ２＋）としての沈殿を必要とする副生
成物Ｒ３ＳＨ（例えばメルカプトペンズチアゾール）の
代シに容易に分離できる普通水溶性の副生成物ＺＨ（　
例えばフエニルスルフイン酸、サクシンイミド）を放出
する明らかな利点を与える。

ジスルフイド部分の存在のために化合物（ｍｌ（Ｙ＝Ｈ
）の３−メチル基全ノ・ロゲン化する可能性を除外する
合理的な可能性に対して、本発明等は高収率でこのよう
な変換を行う方法を見出した。すなわち高度に活性なＲ
ネム抗生物質（Ｉ）の合成に対する価値ある中間体であ
る化合物（Ｉ［｝（Ｙ＝ハロゲン）を得ることができる
。このような変換に対する好適なハロゲン化試薬はＮ−
プロモサクンンイミドでありそしてこのものは２０〜１
５０℃の範囲の温度でベンセンまｆ！−は四塩化炭素、
蟻酸エチルのような溶剤中でエポキシド（例えば酸化プ
ロピレン）、アルカリ土類金属酸化物（例えば醪化カル
シウム）または分子ふるいのような酸掃去剤の存在下に
おいてアゾビスインブチロニトリルまたは過酸化ベンゾ
イルのようなラジカル誘起剤の存在下で使用さｎる。

化合物（ＩＩ）（Ｙ−・・ロゲン）Ｉ−１：そ几自体既
知の反応によって化合物（ｎ）　（　Ｙ　＝有機基）に
変換することができる。例えば次のようである。

（１）化合物（ｎ）　（Ｙ＝ＢｒまたはＣｊ）は、おだ
やかな加水分解によって、または酸化纂一銅／ジメチル
スルホキシド／水との反応によってマｆＣ．は強無機酸
の塩例えば硝酸塩または過塩素酸塩と反応させて無機酸
との不安定なエステル金得、このエステル金次にまたは
同じ反応媒質中で加水分解して望ましいもとのアルコー
ルと得ることによって化合物（Ｉ［ｌ　（　Ｙ　＝遊離
ま之は保護さｎ之ＯＨ）に変換することができる。この
型の好適ｉ煤はＡｇＮＯ３　，　ＡｇＣｔ○４、ＮａＮ
Ｏ５である。

（２）化合物（ＩＩ）　（Ｙ＝Ｂｒまたはｃｇは前述し
たようにして（Ｉ［Ｊ　（Ｙ＝ＯＨ）の化合物に変換し
、次いで適当なインシアネート（例えばトリクロロアセ
チルイソシアネートが化合物１１１Ｊ　（Ｙ−ＱＣ！Ｏ
Ｎ′Ｈ２）を得るための好適な試薬である）と反応させ
次いではじめに形成したウレタン付加物上のトリクロロ
アセチル部分の脱保護（保護基除去）によって化合物（
Ｉ［Ｊ　（　Ｙ−置換さｎていないかまたはＮ−アルキ
ル置換さｎたカルパモイルオキシ基）に変換することが
できる。

（３）化合物（■月（Ｙ＝Ｂｒまたはｃｇは、適当な溶
剤中または相転移触媒下において相当するカルボン酸の
適当な塩と反応せしめることによってかまｆｃは化合物
（Ｉ［Ｊ　（Ｙ−ＯＨ）に変換し次いで在来のアシル化
を行うことによって化合物（ＩＩ）　（　Ｙ−アシルオ
キシ）に変換することができる。

（４》　　化合物（ＩＩ）　（Ｙ＝ＢｒまたはＣｔ）は
テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリルまたは
ジメチルホルムアミドのような適当な溶剤中で塩基の存
在下で相当するＨＳ−Ｈａｔと反応せしめるかまたは塩
基で予め形成しｆｃＨＳ−Ｂｅｔの塩と反応せしめるこ
とによって化合物（ＩＩ）　（Ｙ＝ｓ−Ｈｅｔ）に変換
することができる。適当な塩基は、トリエチルアミンで
おυ、予め形成さｎた塩はナトリウム塩例えばナトリウ
ム１−メチル−１．２．３．４−テトラゾール−５−イ
ルーメルカプチドである。

ラクトン化する６−ヒドロキシメチル−２一９７セフエ
ム−４−カルポキシレートの顕著な傾向のために、前述
した方法（１）においてＲ２が結合したカルボキシ部分
と隣接するヒドロキシ基による求核性攻撃に対して相対
的な不活性を有するエステルを形成する若干かさばった
基例えば第３級ブチルエステルを示すことが好適である
。また２−ヒドロキシメチルＲネムカルボキシレートは
容易にラクトン化しないので、相当するぱネム（１）へ
の環収縮工程後にビドロキシ基をその保護さｎた形態か
ら脱保護することが有利である。例えば化合物（Ｉｌｌ
　（Ｙ＝Ｂｒ）を化合物（Ｉｌｌ（Ｙ＝ＯＮｏ２）に変
換することができる。この化合物は容易に単離し、もし
必要ならば精製し、脱硫して相当するＲネム（１）とな
すことができる。この化合物の還元的加水分解（例えば
ｚＶ’ｃ’ｍ５　ｃｏｏａ）は問題なしに遊離ヒドロキ
シ誘導体を与える。

−ＣＯ○Ｒ２エステル加水分解に対して必要な条件に対
するぱネムおよび２−チアセフエム核の異なる安定性の
ために、本発明の顕著な利点は、ぱネムて適合しないエ
ステル加水分解を２−チアセフエムプレカーサーに対し
て遂行することができそして環収縮を遊離酸Ｋ対してま
たは有機または無機塩基との塩に対してまたはもし必要
ならば反応系において生成できる種々な不安定なエステ
ル例えばトリメチルシリル、ｔ−プチルジメチルシリル
またはｔ−プチルジフエニルシリルエステルに対して遂
行することができるということである。

以下の例は本発明を説明する。略号Ｍｅ　，　Ｂｕｔ、
Ｐｈ　％ＭＳ　％ｐＮＢ　，　ＴＨＦ　，　ＫｔＯＡｃ
　％ＤＭＳＯ　，　ＭｅＣＮはそｎぞｎメテル、ｔ−ブ
チル、フエニル、メタンスルホニル、ｐ−ニトロベンジ
ル、テトラヒド口フラン、酢酸エチル、ジメチルスルホ
キシドおよびアセトニトリルを示す。ＮＭＲスぱクトル
は日立一パーキンエルマ−６３　ＭＨｚ　”＆たはブル
ツカー９　０　ＭＨｚでとら几た。ＡＢクオーターの内
部線の分離は後者に対してとらｆ′Ｌたスペクトルに言
及する。

例　　１ ジフエニルメチル６．６−ジブロモぱニシラネートθ，
Ａｒ）。

アセトニトリル（　４　５　０ｒｎｔ）中の６．６−ジ
ブけモイニシラン酸（９０Ｆ）を同じ溶剤（１５〇一）
中のジフエニルジアゾメタ・ン（４９Ｆ）の溶液で処理
する。２０℃で１時間後に、形成した固体ｔＪ’過によ
って集めそして少量の冷エチルエーテルで洗浄して標記
生成物１１６ｒ’ｅ得る。母液を蒸発しそしてエチルエ
ーテルと共にすシつぶナことによって第２の得量（９タ
）を得る。収率９５％ クロロホルムからの結晶化によって分析用の試料を得る
。融点１５７〜１５８°０　νｍａｚ（Ｃ！’ＨＯｔ３
フィルム）　１８００．１７５陣−１；δ（ｃＤｃｚ３
　）　１．２４および１．５８（そｎぞｎ　３Ｈ　，　
ｓ　，　ＣＭｅ　２　）、　４．６１（ＩＨ，ｓ，Ｎ・
ＣＨ−Ｃｏ）、　５．８［］（ＩＨ，ｓ，Ｎ−ＣＨ−Ｓ
）、６．９１（ＩＨ，ｓ，ＯＣＲ）、および７．３［］
ｐｐｍ（　１　０Ｈ　，Ｃｉ２１Ｈ１　９Ｂｒ２ＮＯ３
ｓに対する元素分析結果に次の逓シである。

計算値：４８．０２ ６．６４ ２．６７ ６、１０ ３０．４３ 実験値：４７．８０ ３．６３ ２．６４ ５．９５ ３０．４９ 例　　２ 第３級ブチル６．６−ジブロモズニシラネート方法（Ａ
ｌ Ｏ℃のエチルエーテル（１ｔ）中の６．６−ジブロモベ
ニシラン酸（１０ＣＩ）’ｔｉｌ！次にトリエチルアミ
ン（　３　７ｉ）および’ｐｃｔ５（　５　６　ｆ　）
で処理する。１時間の攪拌後に、反応混合物全真空蒸発
し（乾燥ベンゼンを添加そして除去する）そして粗製ア
シルクロライド全ジクロロメタン（２００ｍ）に溶解し
そしてｃａＣＯ５（　５　０　？　）の存在下において
第３級ブタノール（５ｏｏｍｔ）と共に２４時間攪拌す
る。そｎがら懸濁した塩を戸去しそして溶液を水性Ｎａ
ＨＯＯｌ５で洗浄し（若干の未反応の出発物質が酸性化
した水性洗液の逆抽出によって回収さｎる）、木炭で脱
色しそして蒸発して標記生成物を得、次にこｎ’６ジイ
ンプ口ピルエーテルから結晶化する。６９？Ｃ６　０％
）。融点１２０　〜１２１℃。νｍａｘ（ｃＨｃｔ３フ
ィルム）１８００ｉ−よびｉ７４ＱＣｍ−１；δ（ＣＤ
ｃｔ３）　１．９８（１５Ｈ，ｓ，ＥｕｔおよびＣＨ５
）、　２．０５（３Ｈ，ｓ，ｃＨ３）、　４．３８（Ｉ
Ｈ，ｓ，Ｎ−ｃＨ−Ｃ！０）、および５．７０ＣＩＨ，
Ｂ，Ｎ−ＯＨ−Ｓ）ｐｐｍ０方法（Ｂｌ ジクロ口メタン（　３　０　０ｉ）中の６，６−ジブロ
モぱニシラン酸（　１ｓｒ　）ｋｏ　−第３ｍブチルー
Ｎ，Ｎ−ジイソプ口ピルーイン尿素（２５１と共に一夜
攪拌する。反応混合物を一過しそして溶ｉｉ水性Ｎａ　
ＨＣＯ　３で洗浄する。ジイソプ口ピルエーテルからの
生成物の結晶化によって、標記化合物８ｆ（４７％）を
得る。

例　　３ ジフエニルメチル６α−ブロモー６β−［：　１　（Ｒ
ｌ　−　ヒドロキシエチル〕一Ｒニシラネー｝ −７５℃で窒素下において乾燥蒸留したＴＨＦ（　９　
０　０ｒｎｌ）中のジフエニルメチル６．６−ジブ゛ロ
モぱニシラネー｝　（１２Ｃｌ　）’ｋエチルエーテル
中ノエチルマクネシウムブロマイド（１モル当景）の浴
液で処理する。−７５℃で２０分後に、アセトアルデヒ
ド（２５．７ｉ）ｉ加えそして混合物ｔ更に−７５℃で
２０分間攪拌する。

飽和水性ＮＨ４Ｃｔ（　４　Ｑ　Ｏ　ｍｌ　）で冷却し
た後、水とエチルエーテルとの間に分配し、次いで溶剤
を除去して粗生成物を得、こ：ｒｔｔ”シリカゲルクロ
マトグラフイー（ベンゼン／酢酸エチル）Ｋよって分別
して標記化合物６　７　ｆ　（６０％）を泡状物として
得る。結晶化（ジイソプロビルエーテル）して固体とす
る。融点６５〜７０″。νｍａエ（フィルム）　３４５
０．１７８５および１７４０ｃＩＬ′″１　；δ（　Ｃ
ＤＣｔ５　）１．２２および１．６　０　（そｎぞｆ’
Ｌ　３　Ｈ　＠　Ｂ　＊　ＣＭｅ　２　）、　１．２９
（３Ｈ，ｄ，．Ｔ−６Ｈｚ，Ｃ！Ｈ３・ＣＨ）、２．９
０（ＩＪｄ，ＯＨ）、４．１７（　ＩＨ，ｍ，ｌＪＩ３
・ＣＨ−ＯＨ）、４．５８（ＩＨ，ｓ，Ｎ−Ｃ！Ｈ−Ｃ
Ｏ）、５．４９（　１Ｈ，ｓ　，Ｎ−ＣＴｉ・Ｓ）、６
．９０（　ＩＨ，ｓ　，ＯＣＨＰｈ２）、および７．３
（　１　０Ｈ　，　ｓ　，　Ａｒ　）ｐｐｍ　０同様な
操作方法を使用しそして第３級プチル６．６−ジブロモ
Ｒニシラネートから出発することによってジインゾロビ
ルエーテル／ヘキサンからの結晶化後６５％の収率で第
３級ブチル６α−プロモー６β−（１（Ｒ）一ヒドロキ
シエチル〕−ハニシラネートが得らｎる。δ（ＣＤＣｔ
５）１．２８（３Ｈ，ｄ　，　Ｊ”６ＨＺ　，　ＣＨ５
　’　ＯＨ）、１．５４（１２Ｈ，ｓ　，Ｂｕｔおよび
ＣＨ５　）、１．６　５（　３Ｈ　，　ｓ　，　ＣＢ３
）、　２．６５（１Ｈ，ｓ，ＣＨ−ＯＨ）、　４．２５
（１Ｈ，ｍ，ＣＨ３・四（ＯＨ）・ＣＨ）、４．４０（
　ＩＨ，ｓ　，Ｎ−Ｃ！Ｈ・ＣＯ）、および５．５１ｐ
ｐｍ（１Ｈ，ｓ，Ｎ弓Ｈ・Ｓ）。

例　　４ ジフエニルメチル６α一（１（Ｒ）一ヒドロキシエテル
〕一ｋニシラネート−１−オキシド９５％エタノール（
４００１ｎ！）中のジフエニルメチル６α−ブロモー６
β一（１（Ｒｌ−ヒドロキシエチル〕−ハニシラネート
を１０％Ｐｄ／ＣａＣＯ３（２５ｆ）およびＣ！ａｏ０
５（　１　１　ｆ　）の存在下において３　０　ｐｓｉ
で水素添加する。反応混合物ｔｒ過しそして蒸発して残
留物を得、こｆ″Ｌヲ塩水とジクロロメタンとの間に分
配する。溶剤を除去して粗製のジフェニルメチル６α−
（１（Ｒｌ−ヒドロキシエチル〕一ｋニシラネートを得
、とｎをクロロホルム５０〇一中の８　５　％　Ｍ（！
ＦＢＡ（　１　７　ｆ＞で０〜５℃で１時間酸化する。

一過溶液を次に水性ＮａＨＣＯ５で洗浄しそして溶剤全
除去して泡状物として粗製の標記生成物４　０　ｔ　（
８８％）を得る。こｎはそのまま使用するかまたはシリ
ヵヶ゛ルクロマトグラフイーによって精製することがで
きる。νｍａｘ（ＣＨＣ４３フィルム）１７９０および
１７５ｏｃ！ＩＬ−１；δ（ＣＤＣｔｌ）０．９４およ
び１．６　７　（そルぞｆ’Ｌ３Ｈ，ｓ，ＣＭｅ２）、
　１．５７（　３Ｈ　，　ｄ，　Ｊ−６ＨＺ　）、３．
５５（１｝！，ｄｄ，，Ｔ−２および６．５Ｈｚ　，　
ＯＨ−四−ＣＨ）、４．２５（　１Ｈ，ｍ　，（ｊＨ５
　・ＣＨ（ＯＫ）　・ＣＨ）、４．６４（１Ｈ，ａ，Ｎ
−ＣＨ−Ｃｏ）、４．９８（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，Ｏ
Ｈ−ＣＨ−８）、６．９８（１Ｈ，ｓ，ＯＣＨＰｈ２）
、およびＺｓｏ　（　１ａｎ　＊　ｅ　＊　Ａｒ　）ｐ
ｐｍｏ同様な操作方法を使用しそして第３級ブチル６α
−ブロモー６β一（１（Ｒｌ−ヒドロキシエチル〕一イ
ニシラネートから出発することによって第３級ブチル６
　−　（　１　（Ｒｌ−ヒドロキシエチル〕−ベニシラ
ネート−１−オキシド（７５％）が得らｎる。νＪｎａ
Ｘ（フイルム’）３４４０、１７８５および１　７　４
　Ｑｃｍ−１ 例　　５ ジフエニルメチル６α一〔１（均一第３級プチルジメチ
ルシリルオキシエチル〕−ハニシラネー例４で得らｎた
粗製のジフエニルメチル６α−　（　１　（礼−ヒドロ
キシエチル〕一ハニシラネート−１−オキシド（４０タ
）　’！（　Ｉ）ＭＰ　（　３　５　０　ｍｌ”）に溶
解しそしてイミダゾール（　１　８．　５　Ｆ　）およ
び第３級ブチルジメチルシリルクロライド（２７ｆ）の
存在下において５０〜５５℃で３時間攪拌する。反応混
合物をエチルエーテルと塩水との間に分配しそして有機
層を水で数回洗浄する。

溶剤の蒸発およびシリカケ゛ルクロマトグラフイー処理
は標記生成物２２２を与える。νｍａｘ（ＣＨＣｔ５フ
イルム）１７９０および１７５５ｆｆ−１；δ（ＣＤＣ
ｊ３）０．０６（６Ｈ．θ．ｓ１Ｍｅ２）、０．８８（
　１　３Ｈ　，　ｓ　，　ＢｕｔおよびＣＨ．）、１３
（３Ｈ，ｄ，，ｒ＝６ＨＺ，ＣＨ３・ＣＨ）、１．７　
（　３Ｈ　，　ｓ　，ＣＨ３）、３．４（１Ｈ，ｄａ，
，Ｔ＝２および４．５Ｈｚ　，　Ｃ４　−　ＣＨ　−　
ＣＨ）、４．４０（ＩＨ，ｍ，ＣＨ３・四・ＣＨ）、４
．５５（ＩＨ，ｓ，Ｎ−ＣＨ−Ｃ○）、４．８８（ＩＨ
，ｄ，．Ｔ−２，ＯＨ−四・Ｓ）、６．９（　ＩＨ　，
　ｓ　，　ＯＯＨＰｈ２　）、および７．２５ｐｐｍ（
　１　０Ｈ　，　ｓ　，　Ａｒ　）。

同様な操作方法を使用しそして第３吸ブチル６α−（Ｉ
ＦＲＩ−ヒドロキシエチル〕一ｋニシラネート−１−オ
キシドから出発することによって６α−プロモプレカー
サーから全収率５５％で第３級ブチル６　−　Ｃ　１　
（Ｒｌ一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕一
ｋニシラネート−１−オキシドが得らｎる。νｍａｘ（
ＣＨＣｔ３フイルム）１７８５および１７５Ｑｃｍ−１
；　δ（Ｃ！ＤＣｔ３）０．０６（６Ｈ，ｓ，ＳｉＭｅ
２）、０．８８（９Ｈ，ｓ　，ＳｉＥｕｔ）、　１．２
５および１．６　６　（そｎぞｆｌ３Ｈｌ８１ｃＭｅ　
２　）、　１．２８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６／Ｈｚ，ＣＨ３
・Ｃ′Ｈ）、　１．４５（　９Ｈ　，　ｓ　，ＯＢｕｔ
）、３．５（　ＩＨ　，ａａ　，ｙ−２および５Ｈｚ　
，　ＣＨ−Ｃ！Ｈ−ＯＨ）、４．４（ＩＨ，ｓ，Ｎ−Ｃ
！Ｈ−００）、４．５　（１ａ，ｍ，ｃＨ３−ｃａ−ａ
Ｈ）、および４．９　ｐｐｍ（ＩＨ，ｄ，Ｊ−２Ｈｚ，
ＯＨ−ＯＨ・Ｓ）。

例　　６ ジフエニルメチル６α一（’　（Ｒｌ　−　ｐ−二トロ
ベンジルオキシ力ルポニルオキシエチル〕−スニシラネ
ート−１−オキシド 一般的方法によって塩基としてＮ，Ｎ−ジメチルアミノ
ピリジンそして溶剤としてエタノールを含有していない
ジクロ口メタンを使用してジフエニルメチル６α−（１
（Ｒｌ−ヒドロキシエチル〕一ｋニシラネート−１−オ
キシド全ｐ一ニトロｋンジルクロロカーボネートでアシ
ル化せしめて泡状物として標記生成物を得る。δ（ｃｒ
Ｘ２ｔ３）０．９６および１．７　０　（そｎぞＡ３Ｈ
，ｓ，ＣＭｅ２）、１．５２（３Ｉ｛，ｄ，，ｒ−６Ｈ
ｚ，　ＣＨ５　・ＯＨ）、　３．８　３　（　Ｉ　Ｈ　
，　ａｄ　，　Ｊ＝２　＞よび６Ｈｚ，ＣＨ・ＣＨ・Ｃ
Ｈ）、４．６６（　ＩＨ，ｓ　，Ｎ−ＣＨ−Ｃ○）、４
．９９（　ＩＨ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，Ｃ！Ｈ・ａｎ−ｓ）
、　５．２８（２Ｈ，ｓ，ＯＣＨ２Ｐｈ）、　５．３５
（ＩＨ，ｍ，ＯＨ５・ＯＨ・ＯＨ）、７．０　１　（　
ＩＨ　，　ｓ　，　ＯＣＨＰｈ２　）、７．４０（１０
Ｈ，ｍ，Ａｒ）、７．５　５および８．２６　ｐｐｍ（
そｎぞＡ２Ｈ，ｄ，Ｊ−８Ｈｚ　，Ａｒ）。

同じ実験的操作方法によって、第５級ブチル６α−ｃ１
ｔｍ−ｐ−二トロペンジルオキシ力ルポニルオキシエチ
ル］−０ニシラネート−１−オキシドが得らｎる。

同様な実験的操作方法によってそしてｐ−二トロペンジ
ルク口ロカーボネートの代りにトリクロロエチルクロロ
カーボネートを使用することによって、第５級ブチル６
α一（１（Ｒ）−｝！Ｊクロロエトキシ力ルポニルオキ
シエチル〕−スニシラネート−１−オキシドおよびジフ
エニルメチル６α−［ｉ（Ｒｌ−｝リクロ口エトキシカ
ルボニルオキシエチル〕−ベニシラネート−１−オキシ
ドが得らルる。

例　　７ ３（Ｅｉｌ　”　（　Ｉ　ＬＲＩ−ヒドロキシエチル，
］　−　４　（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ−１−（
１−メトキシ力ルボニル−２−メチル−１−プロ−ｆ’
−２−工二ル）一アゼチジン−２−オン メチル６α−［１（Ｒｌ−ヒドロキシエチル〕−ｋニシ
ラネート−１−オキシド（５？）および２−メルカプト
ベンズチアゾール（３．０４？）の混合物を乾燥トルエ
ン中で２時間還流する。溶剤を真空除去しそして粗生成
物をそのｔま次の工穆に使用する。

同様な操作方法を使用することによって次の化合物が得
られる。

５（Ｅｊ）　一（　１（ｇ一第３級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）　−　４　（Ｒ）一ベンズチアグリル
−１一（１−メトキシ力ルボニル−２−メチル−１ープ
ロプー２−エニル）一アゼチジン−２−オン。メチル６
α−（１（ＲＪ−ｊＪ３級ブチルジメチルシリルオキシ
エチル〕−ハニシラネート−１−オキシドから出発。反
応時間ｔ’６時間まで延長。νｍａｘ（ＣＨＣｔ３フィ
ルム）　１７７０および１７４４ｃｍ−１；δ（　ＣＤ
Ｃｔｓ　）０．０２および０．（ｌ４　（そｎぞｊＬ３
Ｈ，ａ，ＳｉＭｅ２）０．８４（９Ｈ，ｓ，ｓｉＢｕｔ
）、１．２３（３Ｅ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，囲３・ＣＨ）、
１．９１（　３Ｂ　．　８　，＝Ｃ−ＣＨ５　）、　３
．３８（１｝！，ｄａ，Ｊ−２および３．５Ｈｚ，ｃＨ
−ｃｕ・ｃｕ）、３、６９（３｝ｉ，ｓ，ＯＣＦＩ５）
、４．２３（　ＩＨ，ｍ，ＣＪ　・ＣＨ・ＣＨ）、４．
８２（ＩＨ，Ｓ，Ｎ−Ｃｌ−Ｃ！Ｏ）、５．０７（２Ｈ
，ｍ，ＣＨ２−Ｃ）、５．４２（１Ｂ，ｄ，，ｒ−２Ｈ
ｚ，ＯＨ−ＣＨ−８）、および７．２〜７．９　ｐｐｍ
（４Ｈ，ｍ，Ａｒ）； ３（８１　−　Ｃ　Ｉ　（Ｒｌ−ヒドロキシエチル）−
４（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジテオ−１−（１−ジフェ
ニルメトキシ力ルボニル−２−メチル−１−プロプー２
−エニル）一アゼチジン−２−オン。ジフエニルメチル
６α−（１（Ｒｌ−ヒドロキシエチル〕−ハニシラネー
ト−１−オキシドから出発。

νＨ１ａエ（ＣＨＣｔ３フィルム）　５４００．１７６
５およびｉ７４ＱＣｆｆＬ−１；δ（ＣＤＣＬ３）１．
２２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６ＨＺ，ＣＪ・ＯＨ）、１．６０
（３Ｈ，ｓ，＝Ｃ−ＣＨ５）、２．７８（ＩＨ，ｂｒ　
ｓ，ＯＨ）、３．４２（　ＩＨ，ａｄ，，Ｔ＝２および
６Ｈ２，Ｃ！｛−Ｃ！−ＯＨ）、　４．１８（ＩＬｍ，
（ｊ｛３−（ＪｉＯＨ−ＣＨ）、４．９３（　ＩＨ，ｓ
　，Ｎ−ＣＨ−Ｃｏ）、４．９　ト５．１　０　（　２
Ｈ　，ｍ　，ＣＨ２＝Ｃ　）、５．３８（ＩＨ，ｄ，Ｊ
＝２Ｈｚ，ＣＨ−ＣＨ−８）、６．８９（　ＩＨ，ｓ　
，ＯＣＨＰｈ２）、および７．１５〜７．９０　ｐｐｍ
（１４Ｊｍ，Ａｒ）；３（Ｓｔ　−　Ｃ　１（Ｒｌ一第
３級プチルジメチルシリルオキシエチル：＋−４ｔＲＪ
−＜ンズチアゾリルジチオ−　１−（　１−第３級ブト
キシヵルボニル−２メチル−１−ブロー／−２−エニル
）−７’ｔ５−ジン−２−オン。第３級ブチル６α−［
　１　（Ｒｌ　−第３級ブチルジメチルシリルオキシエ
チル〕一ｋニシラネート−１−オキシドから出発。反応
時間６時間。δ（ＣＤ０４５）０．０６（６Ｈ，ｓ　，
ＳｉＭｅ２）、０．９（９Ｈ，６，ＳｉＢｕｔ）、１．
２６（３Ｈ，４，，Ｔ−６Ｈｚ，ＣＨ５・ＣＨ）、１．
４８（９Ｈ，ａ　，ＯＢｕ１：）、１．９５（６Ｈ，ｓ
　，−Ｃ−ＣＨ３）、３．４０（ＩＨ，ａｄ，ｙ＝２お
よび４Ｈｚ，Ｃ！Ｈ−ＣＨ−ＣＨ）、４．２０（　ＩＨ
，ｍ，ＣＨ５　・ＯＨ・ＣＨ）、４．７１（ＩＨ，ｓ，
Ｎ−ＣＨ’ＯＯ）、５．１（２Ｈ，ｂｒ　ｇ，ＣＨ２＝
Ｃ）、５．４２（１１｛，ｄ，Ｊ＝２ＨＺ，Ｃ｝Ｉ−Ｃ
Ｈ−Ｓ）、および７．２〜７．９ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ，Ａ
ｒ）； ！ｌ（Ｓｌ−（　１　（Ｒｌ一第３級プチルジメチルシ
リルオキシエチル）−４（Ｒ）一ベンズチアゾリルジチ
，ｔ−１−（１−ジフエニルメトキシカルボニル−２−
メチル−１−プロプー２−エニル）一アゼチジン−２−
オン。’ｍａＸ（フィルム）１７７２および１７４３ｃ
＋ａ−１；δ（（ＤＣｔ３）０．０５（６Ｈ，ａ　，Ｓ
ｉＭｅ２）、０．８０（９Ｈ．８，ＢｉＢｕｔ）、　１
．２９（３Ｈ，ｄ，Ｊ−６Ｈｚ，Ｃ！Ｈ３・ＣＨ）、　
１．９５（３Ｈ，ｓ，−Ｃ−ＣＨ５）、３．４５（　１
Ｈ，ｃｕｄ　，．Ｔ−２および４Ｈｚ，ＣＴＩ−ＣＨ−
ＯＨ）、４．２６（１１，ｍ，ＣＪ・ＣＨ・ＣＨ）、　
４．９５（ＩＨ，ｅ，Ｎ−（Ｈ−ＧＯ）、５．０８（２
｝１，ＡＢｑ，内部線の分離　５ＨＺ，ＣＨ２＝Ｃ）、
５．５５（１Ｅ，ｄ，．Ｔ＝２Ｈｚ　，ＣＨ−四・Ｓ）
、６．９３（　ＩＨ，ｓ　，ＯＣＨＰｈ２）、および７
．１〜８．０ｐｐｍ（１４Ｈ，ｍ，Ａｒ）； ３（Ｓｌ−　Ｃ　Ｉ（Ｒｌ−　｝リクロロエトキシカル
ボニルオキジエチル）−４（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジ
チオ−１−（１−メトキシカルボニル−２−メチル−１
−プロプー２−エニル）一アゼチジン−２−オン。メチ
ル６α−（１（Ｒｌ−トリクロロエトキシカルボニルオ
キシエチル〕−ハニシラネート−１−オキシドから出発
。ν。ユＸ（ＣＨｃｔ３　）１７７５および１７４５ｃ
ｒｎ−１；δ（ＣＤＣｔ５　）　１．４８（３Ｈ，（Ｌ
　，：ｆ−６Ｈｚ　，０１５−ＣＢ）、１．９　１　（
　３１｛　，　ｓ　，＝Ｃ−ＣＨ５　）、３．６９（３
Ｈ，ｓ　，ＯＣＨ３）、３．７０（ＩＬｄｄ，Ｃ！Ｈ−
四・ＣＨ）４．６８（ｓ，２Ｈ，○ＣＨ２　）、４．７
６（ＩＨ，ｓ，Ｎ−ＣＨ−ＣＯ）、　５．０３〜５．３
０（２Ｈ，ｍ，ＣＨ２＝Ｃ）、　５．２３（ＩＨ，ｍ，
ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ）、５．３２（ＩＨ，ｄ，Ｊ−２Ｈ
ｚ，ＯＨ−（Ｈ・Ｓ）、および７．１　０〜７．９６　
ｐｐｍ（　４Ｈ　，ｍ　，Ａｒ）　；同様な方法で相当
する第３級ブチルハニシラネートおよびジフエニルメチ
ルぱニシラネートから出発してそｎぞ３３（８１　（　
１（Ｒｌ−　トリクロロエトキシカルボニルオキシエチ
ル）−４（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ−１−（１一
第６級ブトキシ力ルボニル−２−メチル−１−プロフー
２−エニル）一アゼチジン−２−オンおよび６（Ｓ）　
−　Ｃ　１　（Ｒｌ　−　｝　！Ｊ　クロロエトキシカ
ルボニルオキシエチル）−４（Ｒｌ−ペンズチアゾリル
ジチオ−１−（１−ジフエニルメトキシカルボニル−２
−メチル−１−プロヅー２−エニル）一アゼチジン−２
−オンが得らｎ、そしてメチル６β−（ＮＲＩ−８３級
ブチルジメチルシリノレオキシエチル〕一ハニシラネー
ト−１−オキシドから出発して３（■一（１ｆＲｌ−第
５級ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４（Ｒｌ−
ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−メトキシ力ルボニ
ル−２−メチル−１−プロプ−２−エニル）一アゼチジ
ン−２−オンが得らｎた。

例　　８ ３ｔＳｌ　−　（　１　（Ｒｌ−ヒドロキシエチル）−
４（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−メトキ
シカルボニル−２−ヒドロキシ−１−プロ−１’−１−
エニル）一アゼチジン−２−オン ｃｏ２ｃａ３ 例６で得らｎた粗製の３（Ｓ１　−　（　ｔ（ＲＩ−　
ヒドロキシエチル）−４（ＲＪ−ペンゾチアゾリルジチ
オ−ｉ−ｃ１−メトキシカルボニル−２−メチル−１−
ｉロ−／−２−エニル）一アゼチジン−２−オンを乾燥
ジクロロメタン（　３　０　０ｍ６）に溶解しそしてＴ
ＬＣがすべての出発物質が反応したことを示すまで−７
０℃でオゾンの流几で処理する。溶液全窒素で掃遇しそ
して次にメタ酸性亜硫酸ナトリウム（１０Ｆ）金−３０
℃で加える。混合物全はげしい攪拌下で室温となし次に
戸過する。溶液を水性４％ＮａＨＣＯ３で洗浄し、Ｎａ
２ＳＯｄ上で乾燥しそして蒸発する。残留物をエチルエ
ーテルにと９、未溶解の物質ＦＦ去しそして溶液を蒸発
して粗製の標記生成物を得る。一部分をシリカゲル上の
フラッシュクロマトグラフイー処理（溶離剤として酢酸
エチル／シクロヘキサン混合物を使用）によって精製す
る。δ（　ｃＤｃｔ５　）１．３５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７
Ｈｚ，ＣＨ５・ＣＨ）、２．１　１（３Ｈ，ｓ　，ＣＨ
３）、２．７５（１Ｈ，ｂｒ　ｓ，ＯＨ）、３．４４（
ＩＨ，ａｄ，．Ｔ−２．０および５．ＱＨｚ　，　ＣＨ
・ＣＨ−Ｃ！Ｈ）、３．７９（５Ｈ，ｓ　，ＯＣＨ５）
、４．２６（　ＩＨ，ｍ，ＣＨ３・（ＥＨ・ＯＨ）、５
．２９（ＩＨ，ａ，Ｊ−２．０Ｈｚ，ＯＨ−ＯＨ−Ｓ）
、および７．２５〜７．９５　ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ，Ａｒ
）。

同様な操作方法全使用することによって次の化合物が得
らｎる。

３（Ｓ）　−　Ｃ　Ｉ　（Ｒｌ一第６級ブチルジメチル
シリルオキシエチル）−４（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジ
チオ−１−（１−メトキシ力ルボニル−２−ヒドロキシ
−１−プロプー１−エニル）一アゼチジン−２−オン。

粗製の５ｔｓ＋−ｃｉｔ尺一第６級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）−４（Ｒｌ−ペンゾチアゾリルジチオ
−１−（１−ノトキソカルボニルー２−メチル−１−プ
ロｉ−２−工二ル）一アゼチジン−２−オンから出発。

νｍａｘ（フイルム）　３３５０　．　１　７７０およ
び１６６０ｃｍ−’；δ（　ＣＤＣｔ３）０．０５およ
び０．０７（６Ｈ，そｎぞｆ”Ｌｓ，ＳｉＭｅ２）、０
．８７（　９Ｈ　，　ｓ　，ＳｉＢｕｔ）、１．２７　
（　３Ｈ　，　ｄ，　ｆｆ−６．５Ｈｚ　，　ＣＨ３・
Ｃ！Ｈ）、２．０７（３Ｈ，ｓ，＝０−ｃＨ３）、３．
３３（ＩＨ，ｔｉｄ，Ｊ＝２．２および４．２Ｈｚ　，
　ＣＨ−ＣＨ・Ｃ｝Ｉ　）、３７４（３Ｈ，ｓ，ＯＣＨ
３）、４．２６（　ＩＨ，ｍ，Ｃ！Ｈ３・ＣＨ・（’Ｈ
）、５．３６（ＩＨ，ｄ，Ｊ−２．２Ｈｚ，Ｃ！Ｈ−Ｃ
Ｈ−８）、７．２〜７．９（４Ｈ，ｍ　，Ａｒ）、およ
び１２．３７　ｐｐｍ（ＩＪ’ｂｒ　ｓ，ＯＨ）；３（
Ｉ’０−（１（Ｉ’ｔＪ一第３級プチルジメチルシリル
オキシエチル〕−４（■−ペンズチアゾリルジチオ−１
−（１−メトキシカルボニル−２−ヒドｏキシ−１−プ
ロプー１−エニル）一アゼチジン−２−オン。３［Ｒｌ
　−　（　１　（Ｒｌ一第３級ブチルジメチルシリルオ
キシエチル）−４［Ｒ）−＜ンズチアゾリルジチオー１
−（１−メトキシカルボニル−２−メチル−１−プロプ
ー２−エニル）一アゼチジン−２−オンから出発。νｍ
ａＸ（フイルム）３２００．１７７３．１７１０．１６
６５および１６２０ｃＷＬ″″１；δ（　ｃＤｃｔ５　
）０．２０（６Ｈ，ａ，ＳｉＭｅ２）、０．９４（９Ｈ
，ｓ　，ＳｉＢｕｉ）、１．５２（３Ｈ．ｄ，Ｊ−６Ｈ
Ｚ　，　ＣＨ３　・Ｃ１’！）、２．１７（３Ｈ，’ｂ
ｒ　ｓ，＝Ｃ・ＣＨ３）、３．６〜３．７（４Ｈ，８＋
（１（１，ＯＣＨ３およびＯＨ−（’Ｈ−Ｃ｝Ｉ）、４
．４（ＩＨ，ｍ，ＣＨ５・ａｍ−ＣＨ）、５．２５（Ｉ
Ｈ，ｄ，ＯＨ−Ｃ｝Ｔ−８）、および７．３〜７．９ｐ
ｐｍ（４１，ｍ，Ａｒ）； ３（８１−（１（Ｒｌ−ヒドロキシェチル）−４（Ｒｌ
−ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−ジフェニルメト
キシ力ルボニル−２−ヒドロキシ−１−プロプー１−エ
ニル）一アゼチジン−２−オン。

粗製の３ｔＳ）−（１（句一ヒドロキシエチル）−４（
ＲＪーベンズチアゾリルジチオ−１−（１−ジフェニル
メトキシ力ルボニル−２−メチル−１−ブロー／−２−
エニル）一アセチシン−２−オンから出発。ｐｍａｘ（
　ＣＨＯＬ５　７　イルム）　３４００　，　１　７７
　０　．１　７　５０および１６５０ＣＩ＋ｌ−’ ３（ｉ９１　−　（　１　（Ｒｌ−第３級ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−４（Ｒｌ−インズチアゾリル
ジチオ−１−（１−ジフエニルメトキシヵルボニル−２
−ヒドロキシ−１−プロプー１−エニル）一アセチジン
−２−オン。粗製＋７）３（ｓ１−（１（Ｒｌ一第３級
プチルジメチルシリルオキシエチル〕−　４，（Ｒｌ−
ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−ジフエニルメトキ
シカルボニル−２−メチル−１−ブロー／−２−エニル
）一アセチシン−２一オンから出発。ν！ｎａエ（ｃＴ
３ｃｚ４フイルム）　３４００．１７７５．１７３５．
１７００　ａｈ，１６５５および１６１Ｑｃｍ−１　；
５（ＣＤＣ！ｔ３）０．０６（６Ｈ，ｓ　，ＳｉＭｅ２
）、０．８２（９Ｈ，ｓ，Ｂｕｔ）、１．２６（３Ｈ，
ｄ，．Ｔ−６ＨＺ　，　ＣＨ　３　・ＣｉＨ　）、２．
０８（３Ｈ，ａ　，−（！−ＣＨ３）、３．３３（ＩＨ
，ｄａ，，ｒ一２および５．５ＨＺ，ＯＨ−１−ＯＲ）
、４．１８（　ＩＨ，ｍ，ＣＨ３・四・ＣＨ）、５．２
２（ＩＨ，ｄ，Ｊ−２Ｈｚ，ＣＨ−ＣＨ−Ｓ）、６．８
６（１Ｈ，ａ，ＯＣＨＰｈ２）、および７．２〜７．９
　ｐｐｍ（１４Ｈ，ｍ，Ａｒ）；５（Ｓ）−　（　１（
Ｒｌ−　トリクロロエトキシカルボニルオキシエチル）
−４（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−メト
キシカルボニル−２−ヒドロキシ−１−プロプー１−エ
ニル）一アゼチジン−２−オン。δ（ＣＤＣｔ３）１．
５０（３Ｊｄ，Ｊ−６Ｈｚ，ＣＩ！３●（Ｈ）、２．１
４（３Ｈ，ｓ　，−Ｃ−ＣＨ３）、３．６７（１Ｈ，ｄ
ａ，，ｒ−２．２および５．５Ｈｚ，ＣＭ−Ｃ！Ｈ−Ｃ
Ｈ）、　３．８２（３Ｌｓ，ＯＣＪ）、　４．６２（２
Ｈ，ＡＢｑ　，Ｊ＝１２Ｈｚ，内部線の分離　，　２Ｈ
ｚ　，　００｝！２　）、　５．１０〜５．４０（２Ｈ
，ｍ，Ｃ！Ｈ３・ＣＨ−Ｃ！ＨおよびＣＨ−Ｃｌ｛−Ｓ
）、７．２トａｏｏ（４　Ｈ　＋　ｍ　＊　Ａｒ　）、
および１２．４０　ｐｐｍ（ＩＨ．ｂｒ　　ａ，ＯＨ）
；そして同様な方法で相当する第３級ブチルエステルま
たはジフエニルメチルエステルから出発して３（Ｓ）−
　（　１（Ｒｌ−　｝リクロロエトキシ力ルポニルオキ
シエチル）−４（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ−１−
（１一第５級ブトキシヵルボニル−２−ヒドロキシ−１
−−／’ロプー１−エニノリーアゼチジン−２−オン、
３（Ｓｔ−（１（爬−トリクロロエトキシ力ルポニルオ
キシェチル〕−４（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ−１
−（１−ジフエニルメトキシヵルボニル−２−ヒドロキ
シ−１−プロプー１−エニル）一アゼチジン−２一オン
および３（Ｓｌ　−　（　１　（Ｒｌ一第３級プチルジ
メチルシリルオキシエチル）−４（■−ペンズチアゾリ
ルジチオ−１−（１一第３級プトキシヵルボニルー２−
ヒドロキシー１−プロプー１−工二ル）一アセチジン−
２−オンが得ら几る。

例　　９ ３ｉｓｌ　（　１　（ＲＪ−ヒドロキシエチル〕−４（
親一ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−メトキシカル
ボニル−２−メチルスルホニルオキシ−１一−ｌ’ｏ−
１’−　１−エニル）一アセチジン−２−オン無水のジ
クロロノタン（８ｄ）中の３　（８１　−Ｃ１［Ｒｌ−
ヒドロキシエチル）−４（Ｒ）一ペンズチアゾリルジチ
オ−１−〔１−メトキシ力ルボニル−２−ヒドロキシ−
１−プロプー１−エニル〕一アゼチジン−２−オン（１
３０属９、０．６ミリモル）の溶液を順次に−４０℃で
トリエチルアミン（０．０４３ｄ．０．５ミリモル）お
よびメタンスルホニルクロライド（０．０２４　ｄ，　
０．　３　１ミリモル）で処理する。反応混合物全５分
後に冷水性２％ＮａＨＯ　Ｏ　３で冷却する。有機層か
ら溶剤を除去して粗製の標記生成物を得る（定量的収工
）。

こｎをそのまま次の工程に使用する。

同じ実験操作方法によって３（Ｓｌ−（　１　（Ｒｌ−
第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−４（ＲＪ
−ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−ノトキシ力ルボ
ニルー２−ヒドロキシ−１−プロプー１−エニル）一ア
ゼチジン−２−オンカラ出発して３（Ｓｌ　−　Ｃ　１
　（Ｒｌ一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル）
−４（Ｒ）一ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−メト
キシ力ルボニル−２−メチルスルホニルオキシ−１−プ
ロプー１−エニル）一アゼチジン−２−オン？得る。こ
の生成物の一部をフラッシュクロマトグラフイー処理（
シリカゲル、浴離剤として酢酸エチル／シクロヘキサン
混合物を使用）によって精製してＥおよび２異性体の１
：１混合物として純粋な凛記化合物を得る。νｍａＸ（
フイルム）　１８８５，１７３０．１３６３，および１
１６５鋼−１；δ（ＣＤＣｔ３）０．０５および０．１
０（そ几ぞｎ３Ｈ，ｓ　，ＳｉＭｅ２）、０．８８（　
９Ｈ　，　ｓ　，　ＳｉＢｕｔ）、１．２９（３Ｈ，ｄ
，Ｊ＝６．５Ｉ｛Ｚ　，Ｃ！Ｈ５　・ＣＨ）、　２２０
および２Ｓ５Ｃ５Ｈ，そｎぞｆ’Ｌ日，＝Ｃ−ＣＨ５）
、３．１８および３．２９（３Ｆ！．そｎぞｆ′ＬＳ　
，　Ｓｏ　２Ｃ１｛３　）、３．４２（　ＩＨ，ｍ　，
ＣＨ−ＯＨ−　ＯＨ）、３．７１および３．７８（３Ｉ
｛．そｎぞｎ　８　，　ＯＣＨ５　）、　４．３０（Ｉ
Ｈ，ｍ，ＣＨ３・ＣＨ・ＣＨ）、　５．５９および５．
６４（ＩＨ，そｎぞＡｄ　，Ｊ＝２ＨＺ　，ＣＨ−ＣＨ
−Ｓ）、オヨび７．１２〜７．９６ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ，
Ａｒ）　　。

テトラヒド口フランを溶剤としてジクロ口メタンの代り
に使用した場合、望ましくないＥ異性体の形成が抑制さ
ｎそして結果として純粋な２異性体が集めらｎる。δ（
ＣＤＯｔ５）　０．０５（６Ｈ，ｓ，ＳｉＭｅ２）、０
．８８（９Ｈ，ｓ　，ＳｉＢｕｔ）、１．２９　（　３
Ｈ　，　ｄ　，　Ｊ＝６．５Ｈｚ　，ＯＨ３・ＯＨ）、
２．５３（　３Ｈ　，　ｓ　，＝Ｃ−Ｃ！Ｊ　）、３．
２９（３Ｈ，Ｓ，ＳＯ２０Ｈ５）、３．４２（１Ｈ，ｄ
ｄｊ＝２および５Ｈｚ　，　（Ｈ−ＯＨ−ＣＨ）、３．
７１（３Ｈ，ｓ，ｏｃＨ５）、　４．３０（　１Ｈ，ｍ
，ＯＨ３・ＣＨ−ＣＨ）、　５．５９（１Ｈ，ｄ，．Ｔ
＝２＆，Ｃ！Ｈ−ＣＨ・Ｓ）、　および７．１２〜７．
９５ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ，Ａｒ）。

この後の操作方法（メシル化工程における溶剤としてテ
トラヒド口フランを使用）によって次の化合物が得らｎ
る。

３（Ｒｌ　−　Ｃ　１　（Ｒｌ一第３級ブチルジメチル
シリルオキシエチル）　−　４．　（Ｒｌ−ペンズチア
ゾリルジチオ−１〔１−メトキシカルボニルー２−メチ
ルスルホニルオキシ−１−プロプ−１−（Ｚｌ−エニル
〕−アゼテジン−２−オン。３（Ｒ）　−　［　１　（
Ｒｌ　−第６級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−
４（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−メトキ
シ力ルボ゛ニルー２−ヒドロキシ−１−プロプー１−エ
ニル）一アゼチジン−２−オンカラ出発。νＩｎａｘ（
ＣＨＣｔ５フィルム）　１７７５，１７３５．１３６５
および１　１　６　５ｃｍ−１；δ（Ｃ！ＤＣｊ３）０
．１８（６Ｈ，ｓ，ＳｉＭｅ２）、０．８８（９Ｈ，ｓ
，ＳｉＢｕ　　）、　１．４２（　５Ｔｌ　，ｄ　，　
：ｆ−６．５Ｈｚ　，　ＣＨ３　・ＯＨ）、　２．３３
（３Ｈ，．，−ｃ−ＣＨ３）、３．０５（３Ｈ，ｓ，Ｓ
Ｏ２ＣＨ３）、３．４５　（　３Ｈ　，　ａ　，　ＯＣ
Ｈ５）、３．６２（ＩＪｃｔｄ，（Ｈ−ＣＨ−ＣＢ）、
　４．３（ＩＨ，ｍ，ＣＨ３　・ＣＨ・ＣＨ）、５．４
０（ＩＨ，ｄ，Ｊ−５Ｈｚ，ＣＨ−ＣＢ−８）、および
７．１５〜７．８５　ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ，Ａｒ）； ３ｔＳｌ　−　（　１　（Ｒｌ−ヒドロキシエチル”Ｉ
−４（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ−１−〔１−ジフ
エニルメトキシカルボニル−２−メチルスルホニルオキ
シ−１−プロプー１−（Ｚｌ−エニル〕−アゼチジン−
２−オン。３（Ｓｌ−（１（親一ヒドロキシエチル）　
−　４　（Ｒ）一ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−
ジフエニルメトキシカルボニル−２−ヒドロキシ−１一
プロプー１−エニル）一アゼチジン−２−オンから出発
。νｍ１エ（フイルム）３４００．１７７５．１７３０
．１３６５および１１７０儂−１；δ（ＣｊＤ（ｔＳ）
１．２２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ　，ＣＴｌ３・Ｏ
Ｈ）、２．４３（　３Ｈ　，　ｓ　，＝Ｏ−ＣＨ５　）
、３．１３（３Ｈ，８，ＳＯ２ＣＪ）、３．３５（　Ｉ
Ｈ，（１（１　，：ｆ−２．５および４Ｈｚ　，？Ｈ−
ＣＨ−ＣＩ｛）、４．１（ＩＨ，ｍ，ＣＨ３・ＣＨ・（
！Ｈ）、　５．４０（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，ＣＨ
−Ｃｍ−８）、６．８５（　１Ｈ，ｓ　，Ｑ四Ｐｈ２）
および７．１〜Ｚ９　１）ｐｍ（１４Ｈ，ｍ，Ａｒ）；
３ｔＳ＋−（１（Ｒｌ一第３級プチルジメチルシリルオ
キシエチル）　−　４　（Ｒ）一ペンズチアゾリルジチ
オ−１−（１−ジフエニルメトキシカルボニル−　２　
−　（Ｚｌ−メチルスルホニルオキシ−１−プロプー１
−エニル）一アゼチジン−２−オン。５ｉｓ）−（１（
■一第６級ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４（
Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−ジフエニル
メトキシカルボニル−２−ヒドロキシ−１−プロプー１
−エニル）−７ゼチジン−２−オンから出発。νｍａＸ
（ＣＨＣｔ３フイルム）　１７７５，１７２５．１３７
０．および１１７５の−１；δ（　ＣＤＣ！ｔ３　）０
．１（６Ｈ，ｓ，ＳｉＭｅ２）、０．９（９Ｈ，ｓ，Ｓ
ｉＥｕｔ）、１．２８（３Ｈ，ｄ，，Ｔ＝６Ｈｚ　，　
ＣＨ３　・ＯＨ）、２５Ｃ５Ｊａ，−Ｃ−Ｃ′Ｈ５）、
３．２５（３Ｈ，ｓ，ｓｏ２ｃＨ５）、３、３５（１Ｈ
，ｄｄ，．Ｔ−２．５および５Ｈｚ，ＣＨ−ＯＨ−Ｃ！
Ｈ）、４．２０（　ＩＨ，ｍ，ＣＨ３・ＣＨ・ＯＨ）、
　５．５０（１１，（１，Ｊ−２５Ｈｚ，ＣｊＨ−Ｃａ
−Ｓ）、６．９Ｃ　ＩＨ，　ｓ　，ＯＣＨＰｈ２）、オ
ヨび７．　１　〜７．９ｐｐｍ　（１　４Ｈ．ｍ　，　
Ａｒ　）　； ３（Ｓｌ−（１（Ｒｌ一第３級ブチルジメチルシリルオ
キシエチル）　−　４　（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチ
オ−１−（１一第３級ブトキシカルボニル−２−　（Ｚ
ｌ−メチルスルホニルオキシ−１−プロフー１−エニル
）一アゼチジン−２−オン。３　（８１　−［１（Ｒｌ
一第３級ブチルジメチルシリルオキシェチル）　−　４
　（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ−１−（１一第３級
ブトキシカルボニル−２−ヒドロキシ−１−プロプー１
−エニル）一アゼチジンー２一オンから出発。νｍａエ
（フイルム）　１７７３．１７１０．１３７０および１
１６５ｃＩｒＬ″″１；δ（ＣＤＣｔ５）０．０６（６
Ｈ，ｓ，ＳｉＭｅ２）、０．８７（９Ｈ，ｓ　，ＳｉＢ
ｕｉ）、１．２５（　３Ｈ　，ｄ，Ｊ−６Ｈｚ　，ＣＦ
ｉ５　・ＯＨ）、１．４９（９Ｊｓｉ，ＯＢｕｔ）、２
．４５（３Ｈ，ａ，−Ｃ−ＣＪ）、３．２５（３Ｈ．８
，ＳＯ２ＣＪ）、３．３５（　ＩＨ，ｄｄ，：ｆ＝２５
および５Ｈｚ）、４．３（ＩＨ．ｍ，Ｃ！Ｊ−ＣＨ・Ｃ
Ｈ）、　５．６０（ＩＨ，ａ，，Ｔ−２．５Ｈｚ，（！
Ｈ−ｃＨ−８）、および７．１〜７．９ｐｐｍ（４Ｈ，
ｍ，Ａｒ）；３（Ｓ）　−　（　１　（Ｒｌ−トリクロ
ロエトキシカルボニルオキシエチル）　−　４　（Ｒｌ
−ペンズチアゾリルジチオ−１−〔１−メトキシ力ルボ
ニル−２−メチルスルホニルオキシ−１−プロプ−１−
（ｚｌ−エニル〕−アゼチジン−２−オン。３　（Ｓｌ
　−（　１ｆＲｌ−トリクロロエトキシ力ルポニルオキ
シエチル〕−４（Ｒ）一ペンズチアゾリルジチオ−１−
（１−メトキシ力ルボニル−２−ヒドロキン−１−プロ
プー１−エニル）一アゼチジン−２−オンから出発。ν
ｍａＸ（ＣＨＣｔ３フィルム）　１７８０，１７５５　
ｓｈ，１７３０，１３８０．１２５０および１１６７α
−１；δ（ＣＤＣ４３）１．４８（３Ｈ，ｄ，　Ｊ−６
Ｈｚ　，　ＣＨ５　・ＣＨ）、２．５２（３Ｈ，ｓ，−
Ｃ！−ＣＪ）、３．２５（３Ｈ．ｓ，ｓｏ２ｃＨ３）、
３．７２（４Ｈ，ｓ＋ｄｄ，ＯＣＨ３およびＣＨ−ＯＨ
−（！Ｈ）、４．６８（２Ｈ，ｓ　，ＯＣＨ２）、５．
２（　ＩＨ，ｍ，ＣＨ３・ＣＨ・ＣＨ）、５．４７（Ｉ
Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ　，ＣＨ−ＣＨ−Ｓ）、および
７．１〜７．９　ｐｐｍ（４Ｈ，ｍ，Ａｒ）；そして同
様にして相当する第３級ブチルおよびジフエニルメチル
エステルから出発してそ几ぞｎ　３（Ｓｌ　−　Ｃ　Ｉ
　（Ｒｌ−トリクロロエトキシヵルボニルオキシエチル
）−４（Ｒｌ−＜ンズチアゾリルジチオ−１−〔１一第
３級ブトキシ力ルボニル−２−メチルスルホニルオキシ
−１−プロフー１　（Ｚｌ−エニル〕−アゼチジン−２
一オンおよび３（Ｓｔ　−　（　１（Ｒｌ．−　｝　！
ｊ　クロロエトキシ力ルポニルオキシエチル）−４ＣＲ
）一ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−ジフエニルメ
トキシ力ルボニル−２−メチルスルホニルオキシ−１−
プロフー１（ｚ）一エニル〕−アゼチジン−２−オンが
得ラｎる。

例　　１０ ３　（Ｓ）　−　Ｃ　Ｉ　（Ｒ）一メチルスルホニルオ
キシェチル〕−４（ＲＩ−ペンズチアゾリルジチオ−１
−（１メトキシカルボニル−２−メチルスルホニルオキ
シ−１−プロプー１−エニル〕−アゼチジン−２−オン 例８に記載した反応にかいて、出発物質金過剰（２モル
当！　）のメタンスルホニルクロライド／トリエチルア
ミンにさらした場合、標記生成物がＥ（２０％）および
ｚ（８０％）異性体の混合物として定量的収率で泡秋物
として得らｎる。νｍａＸ（フイルム）　１７８Ｃｌ，
１７５０．１３６［１および１１７０ｍ−１；δ（ＣＤ
Ｃ！ｔ３）１．５８（３Ｈ，ａｊ−６ＨＺ，（Ｊｉ３・
Ｃ！Ｈ）、　２．２２および２．５６（３Ｉ｛，そ几ぞ
ｆｌ．ｓＩＥおよびＺ異性体の＝Ｃ−ＣＨ５）、３６０
０（３Ｈ，ｓ，ヒドロキシエチル鎖上のｃＨ５ｓｏ２）
、　３．２０（　ＩＨ　，　ｄａ　，Ｊ＝２．２および
４．５Ｈｚ，ＣＨ−Ｃ｝Ｅ・ＣＨ）、　３．２８（３Ｈ
ｌ８１クロトン付加物上のＯＨ３８ｏ２）、５．７６Ｃ
５Ｈ，ｓ　，ＯＣＨ３）、５．１１（ＩＪｍ，ＣＨ５−
ＣＨ・ＯＨ）、５．５２ＣＩＬａ，：−２．２Ｈｚ　，
ａＨ−咀−ｓ）、および７．３０〜７．９５ｐｐｍ（４
Ｈ，ｍ，Ａｒ）。

溶剤としてＴＨＦ　全使用する以外同じ操作方法によっ
て、５（８１　−　（　１　（Ｒｌ−メチルスルホニル
オキシエチル）　−　４　（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジ
チオ−１−〔１−ジフエニルメトキシ力ルボニルー２−
メチルスルホニルオキシ−１−プロフー１−　（Ｚｌ−
エニル〕−アゼチジン−２−７１−ンカ製造さｎそして
次のスペクトルデータを示す。νｍａｘ（フイルム）　
１７７７，１７２８．１３６０および１１７０口−１：
δ（ＣＤＯｔ５）１．５０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，Ｃ
Ｈ５・ＣｉＨ）、２．５２（３Ｈ，ｓ　，−Ｃ（！Ｊ）
、２．９（３Ｈ，ｓ，ヒドロキシエチル鎖上のｃＨ３ｓ
ｏ２）、　３．２３（３Ｈ，Ｓ，クロトン付加物上のＣ
Ｈ３ＳＯ２）、３．６２（ＩＩ｛，ａｄ，．Ｔ−２．５
および５．５Ｈｚ　，　ＯＨ　−　ＣＨ−０１１　）、
　５．０５（ＩＪｍ，ＣＨ３・ＣＨ−ＣＨ）、５．４５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，ＣＨ−ＣＨ−Ｓ）、６．
９５（　ＩＨ，８　，ＯＣＨＰｈ２）．および７．１０
〜７．９５ｐｐｍ（ｔ４Ｈ，ｍ，Ａｒ）。

例　　１１ ！，（８１　−　（　１　（Ｒｌ一第３級ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−４（Ｒｌ−＜ンズチアゾリル
ジチオ−１−（　１−メトキシ力ルボニル−２−トリフ
ルオロメチルスルホニルオキシ−１−プロフー１−エニ
ル〕−７ゼチジン−２−オン ＝４０℃のＴＩＰ　（　５　ｍｌ　）中の粗製の３　（
Ｓ．ｌ　−Ｃ１（Ｒｌ一第６級ブチルジメチルシリルオ
キシエチル）　−　４　（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチ
オ−１−（１−メトキシ力ルボニルー２−ヒドロキシ−
１〜プロプー１−エニル）一アゼチジン−２一オン（３
ＤＯＱ）ｔ”順次にトリエチルアミン（１７０μｔ）お
よびトリフルオロメタンスルホン酸無水物（１８０μｔ
）で処理する。後処理およびクロマトグラフイー処理に
よって、標記生成物の２つの分離した幾何字的異性体が
泡状物として得ら几る。Ｅ異性体＝νｍ＆，（　（！Ｈ
ＣＡ３）　１７　７　Ｂ　．１７３０，１４２０．１２
１５，および１１３５ｃＷＬ″″１；δ（ｃＤｃｚ３）
０．０８（６Ｊｅ，８１Ｍｅ２）、０．８６（９Ｊｓ　
，ＳｉＢｕｔ）、１．２６（３Ｌｄ，，Ｔ−６ＨＺ　，
Ｃ！Ｈ３　・Ｃ！Ｈ）、２．０５（３Ｈ，ｓ　，−Ｃ・
ＣＴｉ５）、ｉ４６（ＩＨ，（１（１．２．２および４
Ｈｚ，ＣＨ＠（Ｔｌ−ＯＨ）、３．８１（　！ＩＨ　，
　８　，　ＯＣＴ１３）、４．２８（１Ｈ，ｍ，ＣＨ３
・ＣＨ・ＣＨ）、５．７６（ＩＨ，ｄ，Ｊ−２．２ＨＺ
，ＯＲ−ｃａ−ｓ）、および７．２５〜７．９０（４Ｈ
，ｍ，Ａｒ）；Ｚ異性体（就中）δ（ＣＤＣｔ３）２．
４５（３Ｈ，ｓ　，−０−ＣＨ５）、３．４０（１Ｈ，
ｄａ，Ｊ−２および４Ｈｚ，Ｃ！Ｈ−ＣＢ−ＣＨ）、　
３．６４（３Ｈ，ｓ，ＯＣＨ４）、　４．３０（ＩＨ，
ｍ，ＣＨ３・ＣＨ−ＯＨ）、および５．６５ｐｐｍ（Ｉ
Ｈ．ｄ，Ｊ−２Ｈｚ，Ｃ！Ｈ−ｃｎ−ｓ）。

例　　１２ メチル（７Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　（　１　（Ｒ）一
第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−３−メチ
ル−２−チアセフエム−４−カルボキシレートジクロロ
メタン（　１　０ｄ）中のトリエチルアミン（０．５ｄ
）の溶液を−５０℃で硫化水素で飽和する。窒素で掃過
した後、この溶液０．３４弱を３（８Ｊ　−　（　１　
（ＲＪ一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル）−
４ｔＱ−＜ンズチアゾリルジチオー１−（１−メトキシ
カルボニル−２−メチルスルホニルオキシ−１−プロプ
ー１−工二ル）一アゼチジン−２−オン（７５票ｇ、０
．　１　２　１ミリモル）の冷（−５０℃）溶液に加え
る。

混合物を室温に加温しそして次に水で洗浄し、乾燥（Ｎ
ｉＬ２ＳＯ４）ｌ，そして蒸発する。形成した２一メル
カプトベンズチアゾールおよび少景の不純物からの新規
な化合物の分離を、シリカゲルクロマトクラフィー処理
（溶離剤として酢酸エチル／シクロヘキサンを使用）に
よって達成する。

このようにして、標記化合物（１９ｉｙ、２０％）を白
色結晶として得る。融点８５〜８７℃。λエ（ＥｔｏＨ
）２２３（神４，７　７　３　）、　２７７（６，３５
５）、詮よび３２６（２．９２２）ｎｍ　％　ｖ．ｌｎ
ａ，ＣｃＨｃｔ３フィルム）１７８５および１７３ｏα
−１：δ（Ｃ！ＤＣｔ５）０．０８（６Ｈ，ｓ　，Ｓｉ
Ｍｅ２）、０．８８（９Ｈ，ｓ　，ＳｉＥｕ’）、１．
２５（３Ｂ，ｄ．Ｊ−６Ｈｚ，Ｃ！Ｈ３・ＣＨ）、２．
２２（　３Ｈ　，　ｓ　，　ＣＨＢ　）、３．ｏ７（１
１，ｃｕｄ，，ｒ−２．２および３．５Ｈｚ　，ＣＨ−
Ｃ！Ｈ−ＣＨ）、３．８（　３｝！　，　ｓ　，ＯＭ．
　）、４．３６（　ＩＨ，ｍ，Ｃ！Ｈ３・ＣＨ・ＣＨ）
、および４．６２ｐｐｍ（１ａ，ｄ，Ｊ−２．２Ｈｚ，
ＯＨ−ｃＨ−８）。

Ｃ１６Ｈ２，Ｎｏ４ｓ１ｓ２に対する元素分析結果は次
の通りである。

計算値：　４９．３２　　６．９９　　３．６０　　１
６．４６実験値：　４９．０Ｂ　　６．９６　　３．５
２　　１５．１６Ｈ２　Ｓ／ＮＥｔ　３　Ｃ１代シに、
ＤＭＦ中Ｏ　ＮａＳＨ（　０．　９　４ル当量）の溶液
を使用しそして冷却（　Ｈ２０と脱ＯＡｃとの間の分配
）’ｔｅｏ℃で１分以内に行った場合、純粋な標記生成
物の単離さｎる収率は４０〜４５係に上昇する。

上記方法を出発物質の幾何学的２異性体κ対して遂行す
る場合は、収率は更に強化（６０〜６５％まで）さｎる
。こｎに反してＥ異性体は標記生成物の非常に低い量の
みを与える。

同じ実験操作方法によって、３（Ｒｌ−（１ｆ■一第６
級ブチルジメチルシリルオキシェチル〕−４（Ｒ：−ペ
ンズチアゾリルジチオ−１−（１−メトキシカルボニル
ー２−メチルスルポニルオキシ−１−−１’ロプー１−
エニル）一アゼチジン−２一オンから出発してメチル（
７Ｒ，６Ｒ）　−　７　−　（　１（刊一第３級ブチル
ジメチルシリルオキシェチル〕−３−メチル−２−チア
セフェム−４一カルボ＋　シｖ　−　｝　カ得’）ｔ”
Ｌる。νｍａＸ（フィルム）　１７Ｂ５および１７２５
ｃｒｎ−１；δ（ＣＤ３ＣＯＣＤ３　）０．０３および
ｏ．ｏｓｃそｎぞｎ３Ｈ　，　ｓ　，　ＳｉＭｅ２　）
、．　０．８４（９Ｈ，ｓ，ＳｉＢｕｔ）、　１．１９
（３Ｈ，ｄ，６．５Ｈｚ　，　ＣＨ５　・ＯＨ）、２．
０８（　３Ｈ　，　ｓ　，　ＣＨ３）、３．７　２（　
３Ｈ　，　ｓ　．　００Ｈｓ　）、４．１１（ＩＨ，ｄ
ａ，Ｊ＝５．５および８．０Ｈｚ　，Ｃ！｛−ＣＭ−Ｃ
！Ｈ）、４．２０（ＩＨ，ｍ，ＣＨ５　・ＣＨ・ＯＨ）
、および５．０１ｐｐｍ（ＩＨ，ａ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，
Ｃ！Ｈ−ＣＨ−Ｓ）。

例　　１５ メチル（７Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　［　１　（尺−ヒ
ドロキシエチル）−３−メチル−２−チアセフエム−４
−カルポキシレート 例９で得らｎた粗製の３（Ｓ）−［１（Ｒｌ−ヒドロキ
シエチル）　−　４　（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ
−１−（１−７トキシカルボニル−２−／ｆ〆メチルス
ルホニルオキシ−１−プロプー１−エニノレ）一アゼチ
ジン−２−オン（１４５肩９、０．　２　８　７モル）
を無水のジメチルホルムアミト（２一）に溶解しそして
＋２０℃で同じ溶剤（１．６葱）中のＮａＨＳ　（　１
　６Ｑ、０．　２　８　７ミリモル）の新らしく製造し
た溶液で処理する。混合物を２分攪拌しそして次に酢酸
エチルと水との間に分配する。

水で反復洗浄した後、溶剤を除去して残留物を得、こｎ
ｆシリカゲル上の加圧クロマトグラフイー処理（溶離剤
として酢酸エチル／シクロヘキサンを使用）によって精
製して純粋な標記生成物を白色粉末として４５％の収率
で得る。

νｍａＸ（ヌジョール）　３４００．　１７７０および
１７２０ｃｍ−１；δ（　ＣＩＸ２５）ｔ３７　（　３
Ｈ　，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ　，　ＣＨ５　・ＣＨ）、２．２
２（　３Ｈ　，　ｓ　，　ＣＨ５　）、２．４０（ＩＨ
，ｂｒ　ｓ，ＯＨ）、３．１２（ＩＨ，ａｄ，．Ｔ＝２
．０および４．５Ｈｚ　，　ＣＩ　・ＯＨ−ＣＨ）、３
．８６　（　５Ｈ　，　ｓ　，　ＯＣＨ５　）、４．３
５（　ＩＨ，ｍ，ＯＪ　・ＣＨ・ＯＨ）、および４．６
５ｐｐｍ（　ＩＨ　，ｄ　，．Ｔ＝２．０Ｈｚ　，　Ｃ
Ｈ−ＣＨ−Ｓ）。

同様な実験操作方法によって次の化合物が得ら几る。

シフエニルメチル（７Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　［　１
　（Ｒｌ−ヒドロキシエチル〕−５−メチル−２−チア
セフエム−４−カルボキシレート。３（Ｓ１　−　（　
１　（Ｆ．ｌ　−ヒドロキシエチル）　一４　（Ｒｌ−
ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−ジフエニルメトキ
ン力ルボニル−２−メチルスルホニルオキシ−１−プロ
プー１−エニル）一アゼチジン−２−オンから出発。籍
ａｘ（ＢｔＯＨ）　２８１（ε＝５，９００）および３
２６（３，６７０）ｎｍ；νｍａｘ（ＫＢｒ）３５５０
〜３２５０　，　３０８０　，　３０６０　，　３０２
０　，　２９６０、２９２０，２８４０，１７７５，１
７２０．１６６０および１４９０儒−１；δ（■ｕ３）
１．３６　（　３Ｈ　．ｄ　，Ｊ−６．５Ｈｚ　，　Ｃ
Ｈ５　・ＯＨ）、２．１７（３Ｈ，ｓ，ＣＨ３）、３．
１２（　Ｉ　Ｈ　，　ａｄ　，　Ｊ＝２．０および５Ｈ
ｚ，ＣＨ−ＣＨ−ＯＨ）、４．３６（ＩＨ，ｍ，ＣＨ５
・ＯＨ−ＯＨ）、４．７６（　１Ｈ，ｄ　，Ｊ＝２．０
Ｈｚ　，ＯＨ−ＣＨ−Ｓ）、６．９７（　ＩＨ，ｓ　，
ｏｃＨ２ｐｈ）、および７．３　０　（　１　０Ｈ　，
　ｍ　，　Ａｒ　）　；ジフエニルメチル（７Ｓ，６Ｓ
）　−７−（　１　（Ｒｌ一第３級ブチルジメチルシリ
ルオキシェチル〕−３−メチル−２−チアセフエム−４
−カルポキンレート。３（Ｓ！　−　Ｃ　１　（Ｒ＋−
第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル）　−　４　
（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−ジフエニ
７ルメトキシカルボニル−２−メチルスルホニルオキン
−１−プロプー１−エニル）一アゼチジン−２−オンか
ら出発。δ（ＣＤＣｔ５）０．０６（６Ｈ，ｓ　，Ｓｉ
Ｍｅ２）、０．８３（９Ｈ，ｓ，ＳｉＢｕｉ：）、１．
２７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，Ｃ！Ｈ５・ＣＴ｛）
、２．０５（　３Ｈ　，　ｓ　，ＣＨ３　）、３．０８
（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝５．０および５．ＱＨｚ　，ＣＨ−
ＯＨ−ＣＨ）、４．３２（　ＩＨ，ｍ，ＣＨ３・ＣＨ−
ＣＨ）、４．６０（　１｝１，ｄ，Ｊ−＝３．０Ｈｚ，
ＣＨ−ＯＨ−Ｓ）、７．０２（ＩＨ，ｓ，ＯＣＲＰｈ２
）、およびＺ３　０　ｐｐ　ｍ　（　１　０　Ｈ　，　
θ＊　Ａｒ　）　；第３級ブチル（７Ｓ，６Ｒ）　−　
７　−　（　１　（Ｒｌ一第３級ブチルジ，メチルシリ
ルオキシエチル〕−５−メチル−２−チアセフエム−４
−カルボキシレート。ｓ（ｓ＋　−　［．　１（Ｆｊｌ
一第３級ズチルジメチルシリルオキシエチル）　−　４
　ＦＦ．ｌ−ペンズチアゾリルジｆオ−１−Ｃ１一第３
級ブトキシヵルボニル−２−メチルスルホニルオキシ−
１−プロフー１−エニル）一アゼチジン−２−オンから
出発。

λｍＥＬ，（ＯＨＣｔ３）２７８（！−６，３００）お
よび３２７ｎｍ（ε−２，５６０）；νｍａｘ（　ＣＨ
Ｏｔ３フィルＡ）１７８０および１７２Ｑｃｍ−１；δ
（　ＣＤ（ｔ３　）０．１２（６Ｈ，ｓ，８１Ｍｅ２）
、０．８８（９Ｊｅ　，ＳｉＢｕｔ）、１．２５（３Ｈ
，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ　，ＣＨ５　・Ｃ！Ｈ）、１．５２（
９Ｈ，ｓ　，ＯＢｕｆ’）、２．１０（３Ｈ，ｓ，Ｃ！
Ｈ３）、３．０２（ＩＨ，ａｄ，．Ｔ＝２．５および５
Ｈｚ．ＣＨ−ｃ′Ｈ−Ｃ′Ｈ）、４．２８（ＩＨ，ｍ，
ＣＨ３−ＯＨ−Ｃｌ｛）、および４．５３ｐｐｍ（　Ｉ
Ｈ，（１　，Ｊ＝２．５Ｈｚ　，（！Ｈ−（：Ｈ−Ｅｌ
）；メチル（７Ｓ，６Ｒ）　−　７−（　１　（Ｒｌ−
メチルスルホニルオキシエチル〕−５−メチル−２−チ
アセフエム−４−カルボキシレート。３（８１−（１（
親一メチルスルホニルオキシエチル）−４ＣＲｌ−ペン
ズチアゾリルジチオ−１−（１−メト、キシカルボニル
−２−メチルスルホニルオキシー１一プロプー１−エニ
ル）一アゼチジン−２　−オ”／から出発。νｍａエ１
７８０，１７２５．１３６０および１１７５α−１；δ
（ＣＤＣ！ｔ３）１．６０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ
，ＣＪ・ＣＨ）、２．２５（３Ｈ，ｓ，ＯＨ５）、３．
０７（３Ｈ，ｓ　，ｃａ５ｓｏ２）、３．２７　（　Ｉ
　Ｈ　，　ａａ　，：ｒ−２．２　オヨび５Ｈｚ，Ｃ！
Ｈ●ＣＨ−ＣＨ）、３．８３（３Ｈ，ａ　，ＱＣ！Ｈ３
）、４．７０（ＩＨ，ｄ，．Ｔ＝２．２ＪＣＨ−ＯＨ−
８）および５．２４ｐｐｍ（　ＩＨ　，ｍ　，　ＣＨ５
　リ旦−Ｃ！Ｈ）。

ジフエニルメチル（７Ｓ．６Ｒ）　−　７　−　（　１
　（親−メチルスルホニルオキシエチル）−３−メチル
−２−チアセフエム−４−カルボキシレート。３（８１
−（１（■−メチルスルホニルオキシエチル〕−４ｔＲ
ｌ−ペンズチアゾリルジチオ−１−（１−ジフエニルメ
トキシカルボニル−２−メチルスルホニルオキシ−１−
プロプー１−エニル）一アゼチジン−２−オンから出発
。νｍユ．（　ｃＨｃｚ４　）２８２（ε＝７，０８０
）および３３０（３，９６６）ｎｍ；νｍａＸ（ＣＨＣ
ｔ３フィルム）　１７７Ｂ，１７２０．１２５５および
ｉ　ｉ　７Ｑ　ｃ１ｒＬ−１　；δ（ＣＤＣｔ３）１．
５３　（　３Ｈ　，ｄ，　Ｊ＝６Ｈｚ　，ＣＨ４　・Ｃ
！Ｈ）、２．１　０（　３Ｈ　，　ａ　，ＣＨ３　）、
２．７１（３Ｈ，ａ　，ＣＩＯ，８０２）、３．２２（
ＩＨ，ｄｄ，，Ｔ＝２．５および５．５Ｈｚ，（！Ｈ−
ＣＨ５　・ＯＨ・ＯＨ）　；６．９０（　ＩＨ，ｓ　，
ＯＯＨＰｈ２）、および７．２５（１０｝１，ａ，Ａｒ
）； メチル（７Ｊ６Ｒ）　−　７　−　（　１（ＲＪ　−　
｝リクロロエトキシカルボニルオキシエチル〕−３−メ
チル−２−チアセフエム−４−カルポキシレート。

３　（Ｓ）　−　（　．Ｉ　ＦＲＩ　−　｝　ＩＪクロ
ロエトキシカルボニルオキシエチル）−４（Ｒ）一ベン
ズチアゾリルジチオ−１−（１−メトキシカルボニル−
２−メチルスルホニルオキシ−１−プロ−１’−１−ｘ
ニル）一アゼチジン−２−オンから出発。νｍａＸ（フ
イルム）　１７８７．１７６０εｈ，１７２５および１
２５０α−１；δ（ｃＤｃｚ３）１．５４　（　３１　
，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ　，　ＣＦＬ−，　・ＣＨ）、２
２３（３Ｈ，ｓ　，ＣＨｓ）３．３０（ＩＨ，ｄａ，Ｊ
＝２および７．５１｛ｚ　，ＯＨ−ＣＨ・Ｃ！Ｈ）、３
．８４（３Ｈ，ｓ，ＯＣＩ｛３　）、４．６８（ＩＨ，
ｄ，．Ｔ＝２ＨＺ，ｌ−ＯＨ−８）、４．７　８　（　
２Ｈ　，　ｓ　，ＯＣＲ２　）、および５．３７ｐｐｍ
（　ＩＨ，ｍ，ＯＨ５・ＣＨ−ＣＨ）；ジフエニルメチ
ル（７Ｓ．６Ｒ）　−　７　−　（　１　（句一ｐーニ
トロペンジルオキシカルボニルオキシエチル）−３−メ
チル−２−チアセフェム−４−カルボキシレート。３［
ＳＩ−　（　１（Ｒ）　−　ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシェチル）　−（４Ｒ）一ベンズチアゾ
リルジチオ−１−（１−ジフェニルメトキシ力ルボニル
−２−メチルスルホニルオキシ−１−プロプー１−エニ
ル）−７ゼチジン−２−オンから出発。ν．ｎａｘ１７
８７，１７４５．１７２０ｅｈｃｍ−１；δ（ＣＤＣｔ
３）１．５３（３Ｈ，ｄ，（！Ｈ３−ｃＨ）、２．１７
（３Ｈ，ｓ，Ｃ！Ｈ３　）、３．２８（１１｛，ｄｄ，
，ｒ−２および６．５Ｈｚ　，　ＣＨ−（Ｊ−ＣＨ）、
４，６５（ＩＨ，ｃｌ，．Ｔ＝２Ｈｚ，ＣＨ−（：Ｈ−
Ｓ）、５．１５（２Ｈ，ａ，ＱＣ！Ｈ２）、５．２８（
　ＩＨ，ｍ，ＣＩ｛２・ＣＨ・Ｃ１ｌ）、６．９７（Ｉ
Ｈ，ｓ，ＯＣＨＰｈ２）、７２〜７．５（１２Ｈ，ｍ，
Ａｒ）および８．１７ｐｐｍ（２Ｊａ，Ｊ＝９Ｈｚ，Ａ
ｒ）；同様にして次の化合物が得ら几る。

第３級ブチル（７６，６Ｒ）　−　７　−　Ｃ　１ｔＲ
）　−　｝リクロロエトキシカルボニルオキシエチル）
−３−メチル−２−チアセフェム−４−カルポキシレー
ト、 ジフエニルメチル（７Ｓ，６Ｆ＋）　−　７　−　（　
１　［Ｒｌ−トリクロロエトキシカルボニルオキシエチ
ル〕一３−メチル−２−チアセフエム−４−カルボキシ
レート、 トリクロロエチル（７８，６Ｒ）　−　７　−　（　１
　（Ｒｌ−トリクロロエトキシカルボニルオキシエチル
〕−３−メチル−２−チアセフエム−４−カルポキシレ
ート、 トリクロ口エチル（７９，６Ｒ）　−　７−（　１　ｔ
尺一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−６−
メチル−２−チアセフエム−４−カルポキシレート、 アセトキシメチル（７Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　（　１
　（式−トリクロロエトキシカルボニルオキシエチル〕
−３−メチル−２−チアセフエム−４−カルポキンレー
ト、 アセトキシメチル（７３，６Ｒ）　−　７　−　（　１
　（Ｒｌ一第３級ブチルジメチルシリルオキシェチル〕
−３−メチル−２−チアセフェム−４−カルボキシレー
ト、 アセトキシメチル（７Ｓ，６Ｒ）　−７　−　Ｃ　１（
ＲＪ−トリメチルシリルオキシェチル〕−５−メチル−
２−チアセフエムーカルボキシレート。

例　　１４ ３（３１−（　１（Ｒ）−第５級ブチルジメチルシリル
オキシエチル）　−　４　（Ｒｌ−サクシンイミドーチ
オー１−（１−メトキシカルボニルー２−メテルー１−
プロプ−２−エニル）一アセチシン−２一オン ｃｏ２ｃａ５ ジメチルアセトアミド（３５ｉ）に溶解し友メチル６α
−〔１（角一第６級ブチルジメチルシリルオキシエチル
〕−ハニシラ：＊　一ト−１−オキシド（２．３２Ｆ）
を酢酸（０．１５葱）で処理し、窒素で掃過しそしてＮ
　−　トＩＪメチルシリルサクシンイミド（５２）の存
在下において１０５℃で３ｖ２時間加熱する。室温に冷
却した後、反応混合物を酢酸エチルと冷水との間に分配
する。有機層から得らｎた物質の分別（シリカゲルクロ
マトグラフィー　酢酸エチル／シクロヘキサン〕によっ
て、白色泡状物として標記生成物１．２９（４ｓ％）ｔ
得る。ν。ａｘ（ＣＨＣｔ３フイルム）　１７７０，１
７３５，１７１０　ｓｈ，および１６８０α−１；δ（
ＣＤＣｔ３）０．０８（６Ｈ，Ｂ，ＳｉＭｅ２）、０．
８７　（９Ｈ　，　ｓ　，　ＳｉＢｕｔ；　）、１．３
２（３Ｈ，ｃｌ，Ｊ＝６．５’Ｈｚ，四３゜ＣＨ）〜１
．８４（３Ｊｓ，＝Ｏ−ＯＨ５）、２Ｂ５（４Ｈ，ｓ，
Ｃｏ・ｃＨ２・ｃＨ２−ｃｏ）、３．２９（ＩＨ，ｄａ
，．Ｔ＝５および４．５Ｈｚ　，ＣＭ−ＣＨ−ＣＨ）、
３．７３（３Ｈ，ｓ　，ＯＭｅ）、４．２４（ＩＨ，ｍ
，ＣＨ３・ＣＨ−Ｃ！Ｈ）、４．６６（ＩＨ，ｓ，Ｎ′
ＣＨ−ＧＯ）、４．８５（１Ｈ，ｄｊ＝２５Ｈｚ，ＣＨ
−ＣＨ−８）、および５．Ｏ　Ｑｐｐｍ　（　２Ｈ　，
　ｂｒ　ｓ，　ＯＨ２”Ｃ　）。

同様な実験操作方法によって３　（ｓ１　−　Ｃ　１　
（Ｒｌ　−第３級ブチルジメチルシリルオキシェチル〕
一４（Ｒ）一サクシンイミドチオー１−（１−９フェニ
ルメトキシカルボニルー２−メチル−１−プロプ−２−
エニル）一アゼチジン−２−オンおよび３ｆＳｌ−　（
　１（Ｒｌ−＄３級ブチルジメチルシリルオキシエチル
）　−　４　（Ｒｌ−フタルイミドチオ−１−（１−ジ
フエニルメトキシ力ルボニル−２ーメチル−１−プロ７
’−２−エニル）一アセチジン−２−オンが得らｎる。

いず汎も粗物質として単離さ几そレてその″！ま次の工
程に使用さ几る。

例　　１５ ３（Ｓ）−［１（Ｒｌ一第５級ブチルジメチルシリルオ
キンエチル）　−　４　（Ｒｌ−フタルイミドチオー１
−〔１−メトキシ力ルボニル−２−メチルスルホニルオ
キシ−１−プロプー１−（Ｚ）一エニル〕一アゼチジン
−２−オン アセトン（９ｃｃ）中の３（ｓ）−（１（均一第３級プ
チルジメチルシリルオキシエチル）−４ＣＲｌ−ペンズ
チアゾリルジチオ−１−〔１−メトキシカルボニル−２
−メチルスルホニルオキシ−１一プロプー１−（Ｚｌ−
エニル〕−アゼチジン−２−オン（１００ｍｇ）の溶液
をＡｇＮＯ３　（　５　４■〕そして次いでカリウムフ
タルイミド（３０Ｑ）のエタノール性スラリーで処理す
る。室温で３０分攪拌した後、沈殿を集め、水とＩｌ：
ｔＯＡｃとの間に分配しそして短シリカゲルクロマトグ
ラフイー処理によって精製して標記生成物（５５％）を
得る。νｍａＸ（フイルム）　１７８０，１７４５，お
よび１７２５ｃｙ＋’″１；δ（Ｃ！ＤＣ！ｔ３）０．
１（６Ｈ，ｓ　，８１Ｍｅ２）、０．８９（９Ｂ，ｓ　
，Ｂｕｔ）、１．４（３Ｈ．ｄ，ＣＨ３−０｝１）、２
：２（　３｝ｉ　，　ｅ　，−Ｃ−０１’Ｉ３　）、３
．０５（３Ｈ，ａ，ｓｏ２−ｃＦ１Ｂ）、Ａ４（ＩＪｍ
，ＯＲＩＩＣ！Ｈ：ＣＨ）、３．６（３Ｈ，ｓ　，ｏｃ
ａ５）、４．２（ＩＨ，ｍ，ＣＨ３・ＯＲ−ＣＨ）、５
．４５（ＩＨ，ｃｌ，，ｒ−２Ｈｚ，ＣＨ−Ｃ！Ｈ’Ｓ
）；および７．８ｐｐｍ（　４Ｈ　，ｍ　，Ａｒ　）。

例　　１６ ３（Ｓｔ−［１（Ｒ）一第３級プチルジメチルシリルオ
キシエチル）　−　４　（Ｒｌ−サクシンイミドチオー
１−（１−メトキシ力ルボニル−２−ヒドロキシ−１−
−／ロプー１−エニル）一アゼチジン−２−オン 標記生成物は、例８に記載した操作方法てよるジクロロ
メタン中における３＋Ｓ）−（ｉｔ■一第３級ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）−４（′ＦＱ一サクシンイ
ミドチオー１−（１−メトキシカルボニル−２−メチル
−１−プロ−７’−２−工二ル）−７ゼチジン−２−オ
ンの加オゾン分解によって得らｎそしてそのまま次の反
応に使用さｎる。試料はそのジメチルケタール（ＭｅＯ
Ｈ　／乾燥ｍａｔ　）として特做づけら几る。νｍａｘ
１７７０，１７３０および１７１５　ｓｈα−１；δ（
ＣＤＣＡｓ）０．０４および０．０９（そｎぞｊＬ３Ｈ
，ｓ　，ＳｉＭｅ２）、０．９０（９Ｈ，ａ　，ＳｉＢ
ｕｔ）、１．３１　Ｃ　′！Ｅ．ｄ　，：ｆ−＝５Ｈｚ
　，　（｝！３　・ＣＨ）、１．４９（３Ｈ，ａ　，Ｃ
！Ｈ３）、２Ｊ３４（４Ｌｓ．ＣＯＣＨ２−Ｃ！Ｈ２Ｃ
Ｏ）、３．２１および３．２６（そｎぞｎ３Ｉ｛１８１
ケターｋＯｃＨ５）、３．２４（　１Ｈ，ａｄ，Ｊ−２
．５および　　３．７３（？［，ｓ，エステルＯＣＨ３
　）、４．２０（ＩＨ，ｍ，Ｃ！Ｈ５・Ｃ｝！・（Ｈ）
、４．４３（１Ｂ，ｓ，Ｎ−Ｃ！｝Ｉ−Ｇｏ）、および
４．９４ｐｐｍ（１Ｈ，ｄ，Ｊ−２．５Ｈｚ）。

同様にして、５ｔＳ＋−　（　１（Ｒｌ一第３級プチル
ジメチルシリルオキシエチル）−４（■−フタルイミド
チオ−１−（１−ジフエニルメトキシカルボニル−２−
ヒドロキシ−１−プロプー１−工二ル）一アゼチジン−
２−オンが、３　（Ｓｔ　−（　１　（Ｒ＋−第３級ブ
チルジメチルシリルオキシエチル〕−４（Ｒｌ−フタル
イミドチオー１−（１−ジフエニルメトキシカルボニル
−２−メチル−１−プロプー２−エニル）一アゼチジン
−２−オンから出発して得らｎる。

例　　１７ メチル（７８，６Ｒ）　−　７　−　（　１　ｔＲｌ一
第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−５−メチ
ル−２−チアセフエム−４−カルボキシレートジメチル
ホルムアミド（４−）中の３（Ｓｌ−（　１　（Ｒ）一
第３級ブチルジメチルシリルオキシェチル］　−　４　
（Ｒｌ−フタルイミドチオー１−（１−メトキンカルボ
ニルー２−メチルスルホニルオキシ−１−プロプー１−
（Ｚｌ−二二ル〕アゼチジン−２−オン（４００ｊｌｌ
？）の溶液をはげしい攪拌下で微粉砕ＮａＳＨ（　５　
０　Ｑ　）で処理する。最後の試薬が溶解したらすぐに
反応混合物をエチルエーテルと水との間に分配する。後
処理して例１２に記敲した試料と同一の標記化合物？得
る。

例　　１８ メチル（７８，６Ｒ）　−　７　−　Ｃ　１　（Ｒｌ−
第５級プチルジメチルンリルオキシエチル〕−３−メチ
ル−２−チアセフエム−４−カルポキシレートジクロロ
メタン中の３（ｓ＋−　Ｃ　ＮＲＩ−第５Ｒブチルジメ
チルシリルオキシェチル）　−　４　（Ｒ）一サクシン
イミドチオー１−（１−メトキシ力ルボニル−１−プロ
−ｆ’−ｚ−エニル）一アゼチジン−２−オン（　０．
　８　ｆ　）をＴＬＯが完全な変換を示すまで−７０℃
でオゾン化する。過剰のオゾン、を窒素で掃遇しそして
ジメチルスルフィド（１ゴ）を加える。室温で１時間後
に、すべての揮発性物質全真空除去しそして残留物全等
分子量のトリエチルアミンおよび塩化メシルとメシレー
トへのエタノールの変換がＴＬＣによって完了したこと
が判るまで反応（Ｃ！Ｈ２０ｔ２％　　２　０〜０℃）
させる。混合物を真仝濃縮しそして酢酸エチルと冷水性
ＮａＨＣＯ３との間に分配する。有機層を蒸発してＪＺ
メシレートの粗製混合物を得る。こ几全精製することな
しに例１３に記載した操作方法によってＤＭＦ中でＮａ
　ＨＳで処理する。得らｎた生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィー処理によってａ′！＃Ｌて例１２によって
得ら几る物質と同一の標記化合物を得る。

同様な操作方法によって、３（ｓ１　−　Ｃ　１　ｔＲ
Ｊ一第３級ブチルジメチルシリルオキシェチル〕−４（
Ｒ）一フタルイミドチオー１−（１−ジフェニルメトキ
シ力ルボニル−２−メチル−１−プロプー２−エニル）
一アゼチジン−２−オンから出発してジフエニルメチル
（７Ｓ，６Ｒ）　−　７−Ｃ　１　（Ｒｌ−第６扱ブチ
ルジメチルシリルオキシェチル〕−６−メチル−２−チ
アセフェム−４−カルポキシレートが得らｎそしてこの
ものは前述した物質（例１６）の同じスぱクトル性質？
示す。

例　　１９ メチル（７Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　Ｃ　１　（Ｒ）一
第３級ブテルジメチルンリルオキシェチル）−！ｌ−（
１−メチル−１　．２．３．４−テトラゾール−５−イ
ル）一チオメチル−２−チアセフェム−４−カルボキソ
レート ジクロ口メタン中の３（Ｓ）−［１（Ｒｌ一第３級ブチ
ルジメチルシリルオキシェチル］　−　４　（Ｒｌ　−
（１−メチル−１　．２，３．４−テトラゾール−５−
イル）一ジチオー１−（１−メトキシヵルボニル−２一
（１−メチル−１　．２，３．４−テｌ・ラゾール−５
一イル）−ｆ−オメチル−１−プロ−１−２−工二ル〕
−アゼチジン−２−オン（１２０１１？）を例１７に記
載した同じ反応順序（加オゾン分解、メシル化、ＮａＨ
Ｓとの反応）にうけしめる。粗製生成物全酢駿エチルと
水性ＮａＨＣＯ５との間に分配しかくして遊離したメル
ヵプトテトラゾールを除去する。有機層を水で数回洗浄
し、蒸発しそして残留物をシリカゲルクロマトグラフィ
ー処理によって分別して標記生成物を得る。１７寓ｙ（
　１　７％）。νｍａ！（フィルム）　１７Ｂ７．１７
２５．１５Ｂ７．１５６０オ！び１２５Ｑｃｒｎ−１；
δ（Ｇ！ＤＣｔ３）０．１０（６Ｈ，ｓ　，８１Ｍｅ２
）、０．８９（９Ｈ，ｓ　，ＳｉＥｕｔ）、１．２６’
（３Ｊｄ，Ｊ−６Ｈｚ　，姐５−Ｃ！Ｈ）、３．１５（
ｉＨ，ｄｄ，Ｊ−２．２ｂｊび３．５Ｈｚ　，　ＯＨ−
ＣｊＨ−ＣＨ）、３．８８（３Ｈ，ｓ，ＯＭｅ）、３．
９２（３Ｈ，ｓ，ＮＭｅ）、４．３８（　ＩＨ，ｍ，Ｃ
Ｈ３　・ＯＨ−ＯＨ）、４．４６（２Ｈ，ＡＢｑ　，Ｊ
−１４Ｈｚ　．内部線の分．Ｗ１４Ｈｚ）および４．６
８ｐｐｍＣ１Ｈ，ｄ，１−２．２ＨＺ，ＯＨ−ＣＨ−８
）。

例　　２０ ３（Ｓ１　−　（　１　（Ｒｌ−第３級ブチルジメチル
シリルオキシエチル）−４（ＲＪ−７エニルスルホニル
チオ−ｉ−（１−メトキシヵルボニル−２−メチル−１
・−プロプ−２−二二ル〕−アゼチジン−２−オン アセトン（　１　６　０ｎ／）および水（　１　８ｒｎ
ｔ）中の３（Ｓｌ−　（　１（ＲＪ−ｆＩ３級ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）−４（ＲＪ−ペンズチアゾ
リルジチオ−１−（１−メトキシ力ルボニル−２−メチ
ル−１−プロプー２−エニル）一アゼチジンー２一オン
（２．６ｆ）ｔ−はげしい攪拌下で硝酸銀（　Ｑ．　９
　８　Ｆ　）次いですぐに水（６０ゴ）中のナトリウム
ベンゼンスルフィネー｝　（　０．　７　９　Ｆ　）で
処理する。室温で１時間後に、白色の沈１１ｅＰ去しそ
して炉液を真空濃縮しそして次に水と酢酸エチルとの間
に分配する。有機層から溶剤を除去して黄色がかった粉
として標記生成物（２．４３Ｆ．９８％）を得る。シク
ロヘキサンから再結晶できる（白色の葉片状、融点１０
５〜１０６℃）。ｉｒ（ＫＢｒ）３０８０　．　！１０
２０　．　２９６０　．　２９３０　．　２９００　．
　２Ｂ６０，ｔ７７０，１７５０．１３３０および１１
４５ｃＷＬ−’；δ（　ＣＤＯＬ５　）　Ｏ、０５（６
ＥＩ．ｓ，ＳｉＭｅ２）ｈ　Ｏ．９８（　１２Ｈ，ｓ＋
４，ＥｌｉＢｕｔおよびＣＨ３　−　（Ｈ）、１．８４
（３：ｉ｛，ｓ　，−＊ｃ−ｃＨ３）、３．２２（　Ｉ
Ｈ４ｄ，Ｊ−２および２ｓＩ｛ｚ，ＯＨ・ＣＨ−ＣＨ）
、３．７５（３Ｈ，ａ，ＯＭｅ）、４．１９（　ＩＨ，
ｍ，ＣＨ３・Ｃ！Ｈ’（！Ｈ）、４．５８（ＩＨ，ｓ　
，Ｎ−ＣＨ−Ｃｏ）、５．００（　２１｛　，ｍ　，Ｃ
＝ＣＨ２　）、５．３　７　（Ｉ　Ｉ｛　．ｄ，Ｊ−２
Ｈｚ，ｆ：ｉＨ−ＯＨ−８）、７．６０および７．９６
ｐｐｍ（３および２Ｈ，そｎぞ几ｍ　，　Ａｒ　）。

（：！２３Ｈ３５ＮＯ６ＳｉＳ２に対する元素分析結果
は次の通りである。

計算値：５３．７７　　６、８７　　２．７４　　１２
．４８実験値：　５３．６９　　６．９９　　２．７０
　　１２．４２同じ操作方法によって次の化合物もまた
得らｎる。

ｓ（ｓ＋−　（　１（Ｒｌ一第６級ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル）　−　４　ＦＲＩ−フェニルスルポニ
ルチオ−　１−（　１−第５級プトキシ力ルボニル−２
−メチル−１−プロプー２−エニル）一アゼチジン−２
−オン、 ３（Ｓｌ　−　（　１　（Ｒｌ−第３級ブチルジメチル
シリルオキシエチル）−４（Ｒ）一フエニルスルホニル
チオ−１−（１−ジフエニルメトキシヵルボニル−２−
メチル−１−プロプー２−エニル）一アゼチジン−２−
オン、 ３ｔＳ）−　（　ＮＲｌ−　｝リクロ口エトキシ力ルポ
ニルオキシエチル）−４（Ｒ）一フエニルスルホニルチ
オ−１−（１−メトキシ力ルボニル−２−メチル−１−
プロプー２−エニル）一アゼチジン−２−オン、 ３（Ｓｌ　−　（　１　（Ｒｌ−トリクロロエトキシ力
ルポニルオキシエチル）　−　４　（Ｒｌ−フェニルス
ルボニルチ，ｔ−−１−（１−トＪクロロエトキシ力ル
ポニルー２−メチル−１−プロプー２−エニル）一アゼ
チジン−２−オン。

例　　２１ ３　（Ｓ１　−　Ｃ　１（Ｒ）一第３級ブチルジメチル
シリルオキシエチル）−４（Ｒ）一フエニルスルホニル
チオ−１−（１−メトキシカルボニル−２−メチルスル
ホニルオキシ−１−プロフ−　１　（Ｚｌ　−　Ｘニル
〕−アゼチジン−２−オン ｃｏ２ｃＨ５ 操作方法（Ａｌ 乾燥ジクロ口メタン中の例２０からの物質（ｉｆ）ｋ−
７０℃でオゾン化する。窒素で掃過した後、ジメチルス
ルフイド（　３．　５　ｍ　）　’ｌ？加えそして混合
物金室温で５時間攪拌する。すべての揮発性物質を除去
した後、残留物を酢酸エチルと水との間に分配する。溶
剤を蒸発して中Ｉｊ３　体３　（Ｓ）　−　（　１　（
Ｒ）一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル）　−
　４　（Ｒｌ−フエニルスルホニルチオ−１−（１−メ
トキシ力ルボニル−２−ヒドロキシ−１−プロプー１−
エニル）一アゼチジン−２−オンを得る。νｍａｘ３４
５０，　１７７８．　１６５８および１６２０硼−１；
δ（ＣＤＣ！ｔ３）０．０８（６Ｈ，ｓ，ＳｉＭｅ２）
、０．９０（９Ｈ，ａ，Ｅ１１Ｂｕｔ）、１．１３（３
Ｈ，ｄ，．Ｔ＝６Ｈｚ，ＣＨ５・（Ｈ）、１．９０１，
ｓ　，−ｓｃ　−　ＣＨ３　）、３．１　２（　Ｉ　Ｈ
　，　ｄａ　，　．Ｔ−２５および４Ｈｚ　，　ＣＨ−
　（ＥＨ・ＯＨ）３．７３（３Ｈ，ｓ　，ＯＭｅ）、４
．２　（　Ｉ　Ｈ　，ｍ　，　ＣＨ３　・ＣＨ−ＯＨ）
、５．５２（１Ｉ｛．ｄ　，．Ｔ＝２．５ＨＺ　，ＣＨ
−ＣＨ−８）、７．４〜８．０（５Ｈ，ｍ　，Ａｒ）、
および１６ｐｐｍ（　ＩＨ，ｓ　，ｏＨ）。

この物質全一般的操作方法（例１０参照）によって乾燥
ＴＨＦ（１０ｍｌ）中でトリエチルアミン（２７２μｔ
）および塩化メシル（１５１μｔ）でメシル化してシリ
カダルクロマトグラフイー処理後泡秋物として標記生成
物５５０ＦＩＳ”ｋ得る。

ｉｒ（フイルム）　１７８０，１７３０，１６４０．１
３７０および１１４５１−１；δ（ＣＤＣｔ３）０．０
５（６Ｈ，ｓ　，ＳｉＭｅ２）、０．８０（９Ｈ，ｓ　
，ＳｉＢｕｔ）、０．９７（３Ｈ，ｄ，．Ｔ＝６Ｈｚ，
ＣＨ３・ＣＨ）、２．５０（　３Ｈ　，　ｓ　，＝Ｃ−
ＣＨ３　）、３．１５（４Ｈ，ｍ，ＳＯ２ＣＨ３および
ＣＨ−ＯＨ−ＣＨ）、３．７６（　３Ｈ　，　ｓ　，０
０Ｈ５　）、４．１３（ＩＨ，ｍ，ＣＨ３・ＣＢ−ＯＨ
）、５．７　（　Ｉ　Ｈ　，ｄ　，　Ｊ＝２．８Ｈｚ　
，ＣＨ−ＣＨ−Ｓ）、および７．６〜８．０ｐｐｍ（５
Ｈ，ｍ，Ａｒ）。

操作方法ＣＢ＋ アセトン／水（９：１）（　１　０＋ｄ）中の３　（Ｓ
１　−（１（Ｒｌ一第３級ブチルジメチルシリルオキシ
エチル）　−　４　（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ−
１−〔１−メトキシカルボニル−２−メチルスルホニル
オキシ−１−プロ−！’　−　１ｃｚ＋一エニル〕−７
ゼチジン−２−オン（１００Ｑ）ｅ順次に攪拌下で硝酸
銀（　３　４．　３　３Ｉｇ）およびナトリウム《ンゼ
ンスルフイネートの水溶液ＣＡｍｔ中（Ｄ２６．６１ｇ
）で処理する。室温で１５分間攪拌した後に、沈殿した
銀ペンズチアゾールメルカプチド全戸過によって除去し
そして溶液をＣＨ２Ｃｔ２と水との間に分配する。溶剤
を除去してシロップ状として標記生成物（定量的収率）
を得る。こｎは方法（Ａ＋からの試料と同じスぱクトル
性質を有している。

同じ方法によって３（Ｓｔ　−　Ｃ　１（Ｒｌ一第３級
ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４ｔＲ）一フエ
ニルスルホニルチオ−　１　−　（　１　−第５級フ｝
　キシ力ルボニルー２−メチルスルホニルオキシー１−
プロプー１（Ｚ）一エニル〕−アゼチジン−２一オンお
よびろ（Ｓ）−（１（刊−１・り，クロロエｌ・キシ力
ルボニルオキシエチル）−４（Ｒｌ−フエニルスルホニ
ルチオー〔１−トリクロロエトキシカルボニル−２−メ
チルスルホニルオキシー１−プロプー１（ｚ）一エニル
〕−７ゼチジン−２−オンが得らｎる。

例　　２２ メチル（７８，６Ｒ）　−　７　−　（　１　（ＲＪ一
第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−３−メチ
ル−２−４７セフエム−４−カルボキシレート３（８１
−（１（Ｒｌ一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル）−４（Ｒｌ−フエニルスルホニルチオ−１−〔１−
メトキシカルボニル−２−メチルスルホニルオキシ−１
−プロフ−　１　（Ｚｌ　−　”−二ル〕−７ゼチジン
−２−オンを例１５に記載した操作方法によってＩＩＭ
Ｆ中でＮａＨＳと反応せしめて前述した物買と同一の標
記生成物を得る。副生成物であるナトリウムベンゼンス
ルフイネートは水に可溶性でありそして例えばメルカプ
トベンズチアゾールとは異なってクロマトグラフイー分
離または分別結晶除去を必要としないので、この製造は
生成物のより簡単な精製を可能にする。

同じ操作方法によって第３級ブチル（７Ｅｌ，６Ｒ）−
７−（１（Ｒｌ一第５級プチルジメチルシリルオキシエ
チル〕−３−メチル−２−チアセフエム−４−カルボキ
シレートおよびトリクロロエチル（７Ｓ．６Ｒ）　−　
７　−　（　１　ｔ均一トリクロロエトキシカルボニル
オキシエチル〕−３一メ−Ｆ−ル−２−チアセフエム−
４−カルポキシレートが得ラ几る。

例　　２３ ３（Ｓ）−　（　１（Ｒ）−　｝　リクロロエトキシカ
ルボニルオキシエチル）　−　４，（Ｒｌ−アセチルジ
チオ−１−〔１−メトキシカルボニル−２−メチルスル
ホニルオキシ−１−プロｉ　−　１（ｚ）一二二ル〕−
アゼチジン−２−オン ＴＨＦ　（　５　ａｔ　）中の３（Ｓｌ−　Ｃ　１（Ｒ
ｌ−　｝リクロロエトキシカルボニルオキシエチル）−
４（Ｒｌ−ペンズチアゾリルジチオ−１−〔１−メトキ
シカルボニル−２−メチルスルホニルオキシ−１ープロ
フ−　１　（Ｚ）一エニル〕アゼチジン−２−オン（３
４０１９）の溶ｉを、チオ酢酸（４３μｔ）で処理する
。５分後、混合物を蒸発しそして粗製反応生成物からク
ロマトグラフイー処理によって２−メルカプトベンゾチ
アゾールを除去して無色のシロップとして純粋な標記化
合物２８０１１９　（　９　６％）を得る。νｍ＆Ｘ　
（フイルム）　１７７５．１７６０ｓｈ，　１　７３０
　ｂｒ　”−１：δ（ＣＤＣｔ，）１．５０（３Ｉ｛，
ｄ，ＣＨ３−（Ｈ）、２．４８（３Ｈ，ｓ　，＝Ｃ−Ｃ
Ｈ３）、２．６２（３Ｈ，ａ　，ｃｏｃｕ３）、３．２
９（３Ｈ，ｓ．ｓｏ２ｃｕ３）、３．４４（　ＩＨ，ｄ
ｄ，ＣＨ−（Ｈ−ＯＨ）、３．８３（　３Ｈ　，　ｓ　
，ＯＭｅ　）、４．７　７　（　２Ｈ　，　ＡＢｑ　，
　Ｊ＝１　１．５Ｈｚ　，内部線の分離２ＨＺ　）、５
．２４（ＩＨ．ｄ，ＣＭ−Ｃ｝｛−８）、５．２５（　
１Ｈ，ｍ，ＣＨ３・Ｃ！Ｈ・ＣＨ）。

例　　２４ メチル（７８，６Ｒ）　−　７　−　（　１　（Ｒ＋−
トリクロロエトキシカルボニルオキシエチル〕−３−メ
チル−２−チアセフエム−４−カルポキシレートＴ｝Ｉ
Ｆ（１０Ｔｎｔ）中の３（ｓｌ−（ｔ（Ｒｌ−トリクロ
ロエトキシカルボニルオキシエチル）−４（■−アセチ
ルジチオ−１−〔１−メトキシ力ルボニル−２−メチル
スルホニルオキシ−１−プロプ−１（Ｚｌ−エニル〕ア
ゼチジン−２−オン（１４０叩）の溶液ｔｏ℃で同じ溶
剤中のテトラブチルアンモニウムハーイド口ジンサルフ
ァイド（６５■）の溶液で処理する。後処理およびクロ
マトグラフイー処理して標記生成物を得る。若干の出発
物質が回収さｎる。λｍ２Ｈ（ＥｔＯＨ）２８０（ε４
，９　７　４　）および３２７ｎｍ（　２２６２）　：
νｍａＸ（フイルム）　１７８７．１７６０ｓｈ，１７
２５ｃ！ｎ−１　；Ｊ（ＣＤＣｔｓ）１．５４（３Ｈ，
ｄ，ＣＨｓ・ＣＨ）、２．２３（３Ｈ，ｓ，ＣＨ５　）
、３．．５０（　ＩＨ，ｄｄ　，２および７．５Ｈｚ，
ＣＨ−ＣＨ−ＣＨ）、３．８４（３Ｈ，ｓ　，　ＯＭｅ
　）、４．６８（ｉＨ，ｄ，ＣＨ−ＯＨ−Ｓ）、４．７
８（２Ｈ，ａ　，ＯＣＨ２Ｃｃｔ３），および５−３Ｈ
　ｐｐｍ（　ＩＨ　，ｍ　，　ＯＨ３　・ＣＨ・ＯＲ）
ッ例　　２５ メチル（７Ｓ，６Ｒ）　−７　−　Ｃ　１　（Ｒ）一第
３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−３−プロモ
ノチル−２−チアセフエム−４−カルボキシレート四塩
化炭素（４０ば）中のメチル（７Ｓ，６Ｒ）７　−　（
　１　（Ｒ）一第５級ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル〕−３−メチル−２−チアセフェム４−カルポキシレ
ート（０．５２タ）、酸化プロピレン（　０．　９　５
　ｍ／　）　Ｌ−よびＮ−プロモサクシンイミド（０．
５２Ｐ）およびアゾビスインブチロニトリル（０、０５
？）全６時間還流する。

反応混合物を室温に冷却しそして戸過する。

Ｐ液を真仝蒸発しそして残留物を溶離剤として酢酸エチ
ル／シクロヘキサン混合物全使用してシリカゲル力ラム
によって精製して黄色油状物・とじて標記生成物（８０
％）を得る。λｒｎａＸ（ＣＨＣｔ３）２８２および３
　３　６ｎｍ　；νｍａｘ（ＣＨＣｔ３フィルム）１７
８５．１７．５０α一；δ（Ｃ！ＤＯｔ３）０．１０（
６Ｈ，８，ＳｉＭｅ２）、０．８　９　（９　Ｈ　，　
８，ＳｉＢｕｔ）、１２８（３Ｈ，ｄ，四３・ＣＨ・Ｏ
Ｓｉ）、３．２５（ｉＨ，ｄｄ，Ｊ＝２，Ｑおよび３．
５Ｈｚ，ＣＨ−ＣＨ’ＣＨ）、３．８７（３Ｈ，ｅ，Ｏ
ＣＨ３）、４．６５Ｃ２Ｈ沖心ＡＢｑ，ｏ．ｉ．ｔ．４
Ｈｚ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，ＯＨ２Ｂｒ）、４．３０（Ｉ
Ｈ，ｍ，ＣＨ３・ＣＨ−Ｃ｝！）、４．７６（ＩＨ，ｄ
，Ｊ＝２．［ｌＨＺ，ＣＨ−ＣＨ−ｓ）ｐｐｍＣ１６Ｈ
２６ＢｒＮ７０４ＳｉＳ２に対する元素分析結果｝１次
の通りである。

計算値：　４１．０２　　５．５９　　２．９９　　１
３．６９　　１スＱ６実験僅：４１．１　　　　５．６
４　　　ジ．０１　　　１３．５５　　１ス２０同様な
方法によって次の化合物が得らｎる。

第６級ブチル（７Ｓ．６Ｒ）　−　７　−　（　１　（
Ｒｌ一第５級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−３
−プロモメチル−２−チアセフエム−４−カルポキシレ
ートνｍ，Ｘ（ｃａｃｚ５）２８３および５３２　ｎ”
：’ｚａｘ（　７イルム）１７８７および１７２０ｍ−
１；δ（ＣＤＣｌ５）０．９（６Ｈ．Ｂ　，Ｓ土Ｍｅ２
）、０．９（９Ｈ，ｓ，ＳｉＢｕｔ）、ｔ２８（３Ｈ，
ｄ．，ＣＪ゜ＣＨ），１．５５（９Ｈ，ｓ，ＯＢｕｔ）
、３．１８（ＩＨ，ａｄ，．Ｔ＝２．５および４．５Ｈ
Ｚ　，　ＣＨ−Ｃ！Ｈ・ＯＨ）、４．３５（３Ｈ，ｍ，
（Ｈ２ＢｒおよびＯＨ５　−　ＣＨ−　ＣＨ）、オ二び
４．７１ｐｐｍ（　１Ｈ　，ｄ，　Ｊ−２．５ＨＺ　，
　ＣＨ−Ｃ！Ｈ−Ｓ　）　；ｐ−二トロベンジル（７Ｓ
，６Ｒ）　−　７　−　Ｃ　’．　（ｒ’Ｊ　−ｐ−ニ
トロベンジルオキシ力ルポニルオキンエチル］−３−プ
ロモメチル−２−チアセフェム−４一力／Ｌ＝ボキシレ
ートδ（ＣＤＣｔ５）ｔ４５（３Ｈ，ｄ，ＣＩ：５・Ｃ
Ｈ）、３．４５（１Ｈ，ｄｄ，．Ｔ−２５および６Ｈｚ
　，　ＯＨ’　ＣＨ−ＣＨ）、４４５（２Ｈ　＋　ＡＢ
ｑ　＋　Ｊ；１２Ｈｚ　＋　Ｏ　Ｈ　２　Ｂ　ｒ　）、
４．８０（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝２５Ｈｚ，ＣＨ−囲−Ｅｌ）
、５．２，５．５（５Ｈ，ｍ，２個のＯＣＴ｛２Ａｒお
よびｃＨ３−ＣＩ！・ＣＨ）；７．４７および１６０（
そｎぞｎ　２Ｈ　，　ａ　，　．Ｔ−８．５Ｈｚ　，　
Ａｒ　）、および８工ｐｐｍ（４Ｈ，ｄ　，Ｊ＝８．５
Ｈｚ　，Ａｒ）；ジフエニルメチル（７Ｓ，６Ｒ）　＝
　７　−　Ｃ　１　ｊＲ）　−　ｐ−ニトロペンジルオ
キシ力ルポニルオキシェチル］−５−７’ロモメチル−
２−チアセフェム−４−カルボキシレートδ（ＣＩＸＩ
：ｔ３）１．４５（３Ｈ，ｄ，ＣＨ３”ＯＨ）、５．３
２（ＩＪｄａ，．Ｔ−３および６ＨＺ　，　Ｃ！Ｈ−Ｃ
Ｍ−ＯＨ）、４．１８（　２Ｂ　＋　ＡＢ　ｑ　，：ｆ
宿１　１　Ｈｚ　＊　Ｃ　Ｈ　２　Ｂ　ｒ　）、４．７
　０　（Ｉ　Ｈ　．ｄ．：ｒ！５　ＨＥ　．Ｃ’　Ｈ　
●Ｃ　Ｈ●Ｓ）、５．２０（２Ｈ，ｓ　，ＯＣＨ２Ａｒ
）、５．３０（ＩＨ，ｍ，（Ｈ３・ＣＨ−Ｃ！Ｈ）、６
．９７（ＩＨ，ｓ，Ｑ四Ｐｈ２）、７．１０〜７．４０
（ＩＯＨ，’ｂｒ　　ｓ，Ａｒ）、７．４５およびａｔ
　５ｐｐｍ（そｎぞｔ’Ｌ　２１１　，ｔｌ　，：Ｉｍ
９Ｈｚ　，　Ａｒ　）　；ジフエ二ルメチル（７８．６
：Ｒ）　−　７　−　（　１　（Ｒ）一第３級ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−３−フロモメチル−２−
チアセフエム−４−カルボキシレートνｍ５ＬＸ（フイ
ルム）１７９０および１７３０ｃｒＩＬ−１；δ（（！
ＤＯｔ３）０．０５（６Ｈ，ｓ，ＳｉＭｅ２）、０．８
（９Ｈ，ａ　，ＳｉＢｕｔ）、１．２２（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６．５Ｈｚ，ＯＨ３　・ＯＨ）、３．１　０（　ＩＨ
　，ｄａ　，　Ｊ−２．７および４．５Ｈｚ　，ＣＨ＝
ＣＨ−ＣＨ）、４．０５（２Ｈ，ｓ　，ＣＨ２Ｂｒ）、
４．２　（　１Ｈ＋　ｍ　＋ＣＨ３−ＣＨ−Ｃ！Ｈ）、
４．６３（ＩＨ，ｄ，，Ｔ＝２．７Ｈｚ，ＣＨ−ＣＨ・
Ｓ）、６．９２（ＩＨ，ｓ，ＯＣＨＰｈ２）、および７
．０５〜７．４０ｐｐｍ（１０Ｈ，ｍ，Ａｒ）；λｍａ
ｘ（ＣＨＣｔ３　）２８３（ε−７．８６７）および３
３６　ｎｍ（ε−３．５３３）；そして同様にして次の
化合物が得らｎる。

トリクロロエチル（７８．６Ｒ）　−　７　−　（　１
　（Ｒｌ一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕
−３一フロモメチル−２−チアセフェム−４−カルボキ
シレート、 トリクロロエチル（７Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　（　１
　（Ｒｌ−トリクロロエトキシカルボニルオキシエチル
〕一３−プロモメチル−２−チアセフエム−４−カルポ
キシレート。

例　　２６ メチル（７８．６Ｒ）　−　７　−　Ｃ　１　（Ｒｌ一
第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル）　−３−（
　１−メチル−１．２．３．４−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−２−チアセフエム−４−カルボキシレ
ート 粗製のメチル（７８．６Ｒ）　−　７　−　（　１　（
刊一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−３−
ブロモメチル−２−チアセフエム−４−カルボキシレー
トのＴＨＦ溶液をナトリウム１−メチル−１　．２．３
．４−テトラゾール−５−チオレートニ水化物（３モル
当量）の存在下で一夜保持する。

後処理およびクロマトグラフイー処理によって８５係の
収ヱで油秋物として標記生成物を得る。

λｍ，エ（ＫｔＯＨ）２８１および３３３　ｎｍ；νｍ
ａＸ（フイルム）１７９０および１７２５ｃｍ−１；δ
（ＣＤ（！４）０．１０（６Ｈ．１３　，ＳｉＭｅ２）
、０．８９（９Ｈ，ｓ，Ｅｕｆ’）、１．２６（３Ｈ，
ｄ，ＣＨ，−ＯＨ）、３．１５（１［．ｄａ，，：ｒ＝
２．２および３．５Ｈｚ，Ｃ！Ｈ−ＯＨ−（Ｈ）、３．
８８（３Ｈ，ｓ，ＯＭｅ）、３．９２（３Ｈ．　８　，
Ｎ’　Ｃ！Ｈ３）、４．３８（ＩＨ，ｍ，ＣＪ・ＣＨ・
ＯＨ）、４．４６（２｝１，ＡＢｑ　，内部線の分！１
４Ｈｚ，．７−１４Ｈｚ）、４．６８（１Ｈ，ｄ，Ｃ！
｝！−（！Ｉ｛−Ｓ，．Ｔ−２．２Ｈｚ）。

同様な操作方法によって、次の化合物が得らｎる。

第５級ブチル（７Ｓ．６Ｒ）　−　７　−　（　１　（
■一第５級プチルジメチルシリルオキシエチル〕−３−
（１−メチル−１．２．３．４−テトラゾール−５一イ
ル）一チオメチル−２−チアセフェム−４一カルポキシ
レート。第３級ブチル（７ｓ，６Ｒ）　−　７−〔１（
■一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−３−
プロモメチル−２−チアセフェム−４−カルボキシレー
トから出発。

ジフエニルメチル（７Ｓ．６Ｒ）　−　７　−　（　１
　ｔＲｌ一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕
−３−（８−アミノテトラゾロ（１．５−６）ピリダジ
ン−６−イル）チオメチル−２−チアセフェム４−カル
ポキシレート。

例　　２７ （５ａＲ，６８）　−　６　−　（　Ｉ　ＣＲ）一第３
級ブチルジメチルシリルオキシエチル）　−５ａ，６−
シヒドロ−３Ｈ，７Ｈ−アゼト（２．１−ｃ）フ０　（
３．４−８）　−　１．２．４　−ジチアジン−１，７
−ジオン 〔方法■〕 ＤＭＳ○（２−）および水（１．５１ｎｔ）中のメチル
（７８．６Ｒ）　−　７　−　Ｃ　１（→一第３級ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）−３−プロモメチル−
２−−ＩＦアセフエム−４−カルボキシレート（１５Ｉ
ｌｌｇ）の溶液を、５０℃で２．５時間Ｃｕ２０　（　
５　ｒＪｘｙ　）と共に攪拌する。反応混合物を水と酢
酸エチルとの間に分配する。有機抽出液を蒸発およびク
ロマトグラフイー処理して白色粉末として標記生成物を
得る。’ｍａｘ　（ｃＨｃｔ３フィルム）１８００〜１
　７　６　０　ｂｒ　ｃｍ−’　；δ（　ＣＤＣ　Ｚ３
　）　Ｏ−０　６　（３Ｈ　，ｓ　ｒ　Ｓ　ｉ　ＣＨＳ
χ０．１１（３Ｈ　，ｓ　ｒ　Ｓ　ｉ　ＣＨ　３　Ｘ　
　Ｏ−９　［１　（９Ｈ　ｚ　ｓ　，Ｂｕｔ’）ｓ　　
１−３３　（３Ｈ　＊　ｄ　＋　ＣＨ３　・ＣＨ），　
　３．３３（ＩＨ，ａｄ，Ｊ＝２．５および４５Ｈｚ　
，　ＣＨ−　ＣＨ−ＣＨ）、４．４４（ＩＨ，ｍ，ＣＩ
｛３・ｃＨ−ＣＨ），　　４．６２（ＩＨ，ｄ，．Ｔ＝
２．５Ｈｚ，ＣＨ・坦・ｓ）および４．９８（２Ｈ，　
Ｓ　，ＣＨ２０）。

〔方法（Ｂ）〕

アセトンー水（２：１）（３５ｍｊ）中の２−プロモメ
チルプレカーサー（２５０１１ｇ）をＡｇＣｔＯ４　（
　１　５３１１ｇ）と共に０℃で１５分攪拌する。反応
混合物をＨ２０／ｒｔｏＡｃ間に分配しそして有機層を
蒸発させて残留物を得る。シリカゲルクロマトグラフイ
ー処理によって、（ロ）に記載した試料と同一の標記生
成物を得る。

例　　２８ 第３級プチル（７８，６Ｒ）　−　７　−　Ｃ　Ｉ（９
）一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−３−
ヒドロキシメチル−２−チアセフエム−４一カルボキシ
レート アセトンー水（２：１）（１０ｍ／！）中の第３級ブチ
ル（７８．６Ｒ）　−７　−　（　１（９）一第３級ブ
チルジメチルシリルオキシエチル〕−３−プロモメチル
−２−チアセフエム−４−カルボキシンート（３００Ｑ
）をＡｇＣＡＯ４（　１　５　ｏｍｉｒ　）と共に０℃
で１５分攪拌する。溶剤を除去し次でＨ２０／ＫｔＯＡ
Ｃ分配および有機層の後処理を行って標記生成物２５０
ｍｔｉｃ９６％）を得る。λｍａｘ　（ＣＨＣｔ３　）
　２　８　１および３３５ｎｍ；　　νｍａｘ　（フイ
ルム）３４５０、１７８５および１７１２帰−１；δ（
ＣＤＣｔ３）　０．１（６Ｈ，ｓ，ＳＩＭｅ２＼　０．
８６（９Ｈ，　ｓ，ＳｉＢｕｔ），　　１．２５（３Ｈ
，ｄ，ＣＨ３ＣＨχ　１．５０（９Ｈ，ｓ，ＯＢｕｔ）
、３．１３（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝２．５および４．５Ｈｚ
，ＣＨ−ＣＴ｛−ＣＨ）、４．２　５　（ＡＢｑの中心
，．Ｔ＝１３ＨＺ，ＣＨ２０Ｈ），　　４３７（１｝｛
，ｍ，Ｃ｝１３・ＣＨ−ＣＨ）、および４．６０　ｐｐ
ｍ　（ＩＴ｛，ｄ，．Ｔ＝２．５Ｈｚ，ＣＨ−Ｃｔ｛−
Ｓ）。

例　　２９ 第３級ブチル（７！９．６Ｒ）　−　７　−　（　１（
９）一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル）−３
−（Ｎ−トリクロロアセチル）カルパモイルオキシメチ
ルー２−チアセフエム−４−カルポキシレート エタノールを含有していないジクロロメタン（２．５ｍ
／）中の第３級ブチル（７Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　（
１（加一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−
３−ヒドロキシメチル−２−チアセフエムー４−カルポ
キシレー｝　（２５０真ｇ）を、−４０υてトリクロロ
アセチルイソシアネート（８０μ１）で処理する。混合
物を室温に上昇しそして次に順次に水性２％ＮａＨＣＯ
３および塩水で洗浄する。有機層から溶剤を蒸発させて
定量的収率で標記生底物を得る。λｍａｘ　（ＥｔＯＨ
）　２７５および３　２９　ｎｍ　；νｍａｘ１７９５
および１７２５　ｂｒ　５＋−１　；δ（　ＣＤ　Ｓ　
ＣＮχ　０．１（６ＨｔＱＩｓ１Ｍｅ２）、０．９（９
Ｈ，ｓ，８１Ｂｕｔ）、１．３（３Ｈ，ｄ，Ｃ｝Ｉ５−
ＣＨ）、１．５（９｝！，ｓ，ＯＢｕｔχ　３．４０　
（　ＩＨ，　ｄｔｉ　，　Ｊ＝３および４１−１ｚ，Ｃ
Ｈ−ＣＩ｛−ＣＨχ　４３５（　ＩＨ，ｍ，ＣＨ３　・
ＣＨ−ＣＨχ　４．８０（ＩＨ，ｄ，　．７＝＝３ＨＺ
，ＣＨ−ＣＨ−８），　　および５”　１）ｐｍ　（Ａ
Ｂｑの中心、ＣＨ２０ＣＯ　）。

例　　３０ 第３級ブチル（７８，６Ｒ）　−　７　−　（　１＠一
第３級プチルジメチルシリルオキシエチル〕−３−カル
バモイルオキシメチル−２−チアセフエム−４一カルポ
キシレート 第３級ブチル（７９．６Ｒ）　−　７　−　［：　１（
ロ）一第３級プチルジメチルシリルオキシエチル］−３
−（　Ｎ一トリクロロアセチル）カルパモイルオキシメ
チル−２−チアセフエム−４−カルボキシレートのメタ
ノール溶液をシリカゲルと共に２０時間攪拌する。次に
スラリーをシリカゲルカラムに充填しそして生底物を酢
酸エチルで溶離する。

δ（ＣＤＣｔ３）　０．１（６Ｈ，ｓ，ＳＩＭｓ２χ　
０．９（９Ｔ｛，ｓ，ＳｉＢｕｔ）、ｔ３５（３Ｈ，ｄ
，ＣＨ３・ＣＨ），　　１．６０（９Ｈ，ｓ，ＯＢｕｔ
）、３．１（ＩＨ，ｄａ　，　Ｃ｝！−ＣＩ｛・Ｃ！｛
）、４３（ＩＴ｛，ｍ，ＣＨ３・ＣＴ｛・ＣＨ）、４．
７５（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ，ＣＨ−ＣＭ−８×および
５．０　ｐｐｍ　（ＡＢｑの中心、ＯＣＲ２ＣＯ）。

例　　３１ メチル（７Ｓ，６Ｒ）　−７−（　１（９）一第３級ブ
チルジメチルシリルオキシエチル〕−３−ニトロオキシ
メチル−２−チアセフエム−４−カルポキシレート アセトン（２０ｍｊ）中のメチル（７８．６Ｒ）　−　
７　−〔１（８）一第３級ブチルジメチルシリルオキシ
エチル”］−３−プロモメチル−２−チアセフエム−４
−カルボキシレート（２ｏｏｍｇ）の溶液をＡｇＮＯ３
（　１　０　０！＋９）の存在で２０分攪拌する。戸過
した反応混合物をシリカゲルクロマトグラフイー処理に
よって分別して標記生成物を得る。

１２０ｍｙ，　　λｍａｚ　（ＣＨＣｔ３）　２８０お
よび３３７ｎｍ；νｍａｘ（フイルム）　１７９０、１
７３０、１６４０および１２８０　ｃ！ｒ’　；δ（Ｃ
ＤＣｔ３）　０．０８（６Ｈ，ｓ，８１Ｍｅ２χ　ＯＪ
３７（９Ｈ，　ｓ　，　＋９１Ｂｕｔ）、１．３８（３
｝！，ｄ，ＣＨ３−ＣＨχ　３．１８（ＩＨ，ｃｕｄ，
，Ｔ＝２．５および５５Ｈｚ，ＣＨ−ＣＨ・ＣＨχ３．
８５（３Ｈ，ｓ　，ＯＭｅ×４．３８（　ＩＨ，ｍ，Ｃ
Ｈｓ　・ＣＨ・ＣＨχ　４．７３（ＩＨ，ｄ，，ｒ＝２
．５Ｈｚ，ＣＨ−ＣＨ・Ｓχおよび５３６　ｐｐｍ（２
Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，　ｓ．１．１．　２９
．５ＨＺ，ＣＨ２０ＮＯ２）。

更に溶離して例２７に記載したラクトンの若干を得る。

例　　３２ メチル（７８，６Ｒ）　−　７　−　Ｃ　Ｉ（６）一第
３級ブチルジメチルシリルオキシェチル〕−３−ホルミ
ルオキシメチル−２−チアセフェム−４−カルボキシレ
ート ＣＨ２ＣＬ２中のメチル（７８，６Ｒ）　−７　−　Ｃ
　Ｉ（９）一第３級プチルジメチルシリルオキシェチル
〕−３−プロモメチル−２−チアセフェム−４−カルホ
キシＬ’−｝（２００■）をテトラブチルアンモニウム
ホルミエー｝（３Ｘ６００１１？）で処理する。

５℃で３日後に、ＴＬＣ　［酢酸エチル／軽油（１：２
）〕は生成物への８０％変換率を示す。短シリカゲル力
ラムを通して溶離して標記物質を得る。

δ（ＣＤＣｔ３）　０．１（６Ｈ，ｓ，ＳｉＭｅ２），
　　０．９（９｝１，ｓ，ＳｉＢｕｔ）、１．３５（３
Ｈ，ｄ，ＣＨ３・ＣＨχ　３２０（ＩＨ，ａａ，　２．
５および７Ｈｚ　，ＣＨ−ＣＨ・ＣＨ’），　　３．９
（３Ｈ，ｓ，ＯＭｅ），　　４．５（ＩＨ，ｍ，ＣＨ３
・ＣＨ・ＣＨχ　４．７４（ＩＨ，ｄ，２．５Ｈｚ，Ｃ
Ｈ−ＣＨ・Ｓχ　５．１３（ＡＢｑの中心、ＣＨ２０ル 同様な方法で相当する第３級ブチルおよびジフエニルメ
チルエステルから出発して次の化合物が得られる。

第６級プチル（７ｓ，６Ｒ）　−７　−　Ｃ　１（Ｒ）
一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−３−ホ
ルミルオキシメチル−２−チアセフエム−４一カルポキ
シレート、 ジフエニルメチル（７８，６Ｒ）　−　７−Ｃ　Ｉ（６
）一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−６−
ホルミルオキシメチル−２−チアセフエム−４−カルボ
キシレート。

同様にして次の相当するアセテートが得られる。

メチル（７ｓ，６Ｒ）　−７　−　（：　１（９）一第
３級プチルジメチルシリルオキシエチル〕−３−アセト
キシメチルー２−チアセフエム−４−カルポキシレート
、 第３級ブテル（７Ｓ．６Ｒ）　−７　−　（　１（９）
一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−３−ア
セトキシメチルー２−チアセフエム−４−カルボキシレ
ート、 ジフエニルメチル（７８．６Ｒ）　−　７　−　［　１
（ト）一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル］−
３ーアセトキシメチルー２−チアセフエム−４一カルポ
キシレート、 トリクロロエチル（７８．６’Ｒ）　−　７　−　（　
１（９）一トリクロロエトキシカルボニルオキシエチル
〕３−アセトキシメチルー２−チアセフエムー４一カル
ポキシレート。

例　　５３ メチル（７Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　［　１（９）一ヒ
ドロキシェチル〕−３−メチル−２−チアセフエム−４
−カルポキシレート メチル（７８，６Ｒ）　−　７　−　Ｃ　Ｉ　（（ロ）
一第６級ブチルジメチルシリルオキシェチル〕−３−メ
チル−２−チアセフエム−４−カルボキシレー｝（０．
７５７）を酢酸（ｔ２ｓｍ７！）およびＴＨＦ（１ｏｍ
ｇ）中のテトラブチルアンモニウムフルオライド三水化
物（２、０３？）の溶液に加える。

２０時間後の後処理によって、例１′３で得られた試料
に対して記載したスぱクトル性質を示す標記化合物（事
実上定量的収率）が得られる。

同様な実験操作方法によって次の化合物が得られる。

メチル（７８．６Ｒ）　−　７　−　Ｃ　Ｉ（９）一ヒ
ドロキシエチル）−３−プロモメチル−２−チアセフエ
ム−４−カルポキシレート。メチル（７８，６Ｒ）　−
　７−〔１（９）一第３級プチルジメチルシリルオキシ
エチル）一３−プロモメチル−２−チアセフエム−４−
カルボキシレートから出発。νｍａｘ　（フィルム）１
７７５、１７３０ｃｒｎ−’；　　δ（ｃｎｃｔ３）ｉ
．３ｓ（３Ｈ，ｄ，ＣＨ３・ＣＨ），　３．３８（ＩＨ
，ｄｄ，ＣＨ−ＣＭ・ＣＨ＼　３．６０（ＩＨ，　ｂｒ
　３，ＯＨ），　　３．９７（３Ｈ，ｓ，ＯＭｅ＼　４
．３３（ＩＨ，ｍ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ）、４．４６（
２Ｈ，　ＡＢｑの中心，　Ｊ＝１１Ｈｚ，内部線の分離
４Ｈｚ　，ＣＨ２Ｂｒ）、および４．８８　ｐｐｍ　（
　ＩＨ，　ｄ　，　Ｊ＝２．２Ｈｚ　，ＣＨ−ＣＨ−Ｓ
　）。

メチル（７３．６Ｒ）　−７　−　Ｃ　１（９）一ヒド
ロキシエチル）−３−（１−メチル−１．２，３．４−
テトラゾール−５−イル）チオメチル−２−チアセフエ
ム−４−カルポキシレート。メチル（７Ｓ　，　６Ｒ）
−７−［１（８）一第３級プチルジメチルシリルオキシ
エチル］−３−（　１−メチル−１．２，３．４　一テ
トラゾール−５−イル）チオメチル−２−チアセフエム
−４−カルポキシレートカラ出発。

ν１ｌＩｌｌａｚ　（ＫＢｒ）　１７６５および１７０
７ｍ−’；　　δ（ＣＤｓｃｏｃｎ３）１．３０（３｝
｛，＋１，恒３・ＣＨχ　３３９（ＩＨ，ａｄ，ＣＨ−
坦・ＣＨχ３．７９（３Ｈ，ｓ，ＮＣＨ３）、３．９７
（３Ｈ，ｓ，ＯＣＨ３＼　４．０（　１Ｂ，ｍ，ＣＨ３
・ＣＨ−ＣＨ）、４．３８（２Ｈ，　ＡＢ（ｌの中心＋
　Ｊ＝’　６　Ｈｚ　＋内部線の分離１３ＨＺ，ＣＨ２
−Ｓ），　４．７７（１Ｂ，ｄ，，Ｔ＝２．２Ｈｚ，Ｃ
Ｈ−ＯＨ・Ｓ）および５４３　ｐｐｍ　（　ＩＨ，　’
ｂｒ　，ｓ　，　ＯＨ）。

そして、同様にして、相当する第３級プチル、ジフエニ
ルメチルおよヒトリクロロエチルエステルもまた製造さ
れる。

例　　３４ （７８，６Ｒ）　−７　−　（　１　＠−メチルスルホ
ニルオキシエチル〕−３−メチル−２−チアセフエムー
４−カルボン酸 ＣＯ２ＣＦＰｈ２　　　　　　　　　　　　ＣＯ２Ｈジ
フエニルメチル（７Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　（　１（
９）一メチルスルホニール，オキシエチル）−３−メチ
ル−２−チアセフエム−４−カルボキシレートヲ冷トリ
フルオロ酢酸（０℃）に溶解する。同温度で１５分の攪
拌後に、四塩化炭素を加えそして溶液を外部加熱なしに
真空下で完全に蒸発する。残留物をＣＣＬａ中ですシつ
ぶしそして集めて標記生成物を得る。λｍａｘ　（ＣＨ
Ｃｔ５）　２８１および３　２　６　ｎｍ　；νｍａｘ
（ｃＨｃｚ３）　３０００〜２３００、２９７０、２９
３０、２８５０、１７７５、１７１０、１５３０および
１１７０ｆｆｉ−１ｉδ（ＣＤ３ＣＯＣＤ３）　１．５
８（３Ｈ，ｄ，ＣＨ３・ＣＨ），　　２２３（３Ｈ，ｓ
，Ｍｅ＼　３．１６（３Ｈ，ｓ，ＳＯ２Ｍｅ＼　３．６
６（　ＩＨ　，　ａｄ　，　，Ｔ＝２および６Ｈｚ　，
ＣＨ−ＣＨ−ＣＨ）、４．８５（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ
，ＣＨ−ＣＨ・Ｓχおよび５３０ｐｐｍ　（ＩＩＥ，ｍ
，ＣＨ３・ＣＨ−Ｃｆ｛）。

同じ物質は、尺応時間を約１時間に延長するほかは、相
当するｔ−ブチルエステルのＴＩＩ’Ａ　−加水分解に
よって得られる。

同様に、ｔ−ブチルまたはジフエニルメチルプレカーサ
ーの加水分解は、次の生放物を与える。

（７Ｓ，６Ｒ）　−７　−　（　１　＠一第３級ブチル
ジメチルシリルオキシエチル〕−３−メチル−２−チア
セフエム−４−カルボン酸、 （７Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　（　１　＠−ヒドロキシ
エチル〕一３−メチル−２−チアセフエム−４−カルボ
ン酸、 （７Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　（　１　＠−ヒドロキシ
ェチル〕−３−アセトキシメチル−２−チアセフエム−
４−カルボン酸、 （７８．６Ｒ）　−７−Ｃ　Ｉ　＠−ヒＫｏ＊　シｘチ
ル）一３−カルパモイルオキシメチル−２−チアセフエ
ムー４−カルボン酸、 （７８．６Ｒ）　−　７　−　（　１（９）一ヒドロキ
シエチル〕−３−（１−メチル−１．２，３．４−テト
ラゾール−５−イル）チオメチル−２−チアセフエム−
４−カルボン酸。

例　　６５ （７８，６Ｒ）　−　７　−　［：　１（ト）一第３級
プチルジメチルシリルオキシエチル〕−３−メチル−４
−メトキシ力ルボニル−２−チアセフエム−１．１−ジ
オキシド〔方法（ａ）〕 クロロホルム５一中の（７８．６Ｒ）　−　７　−　Ｃ
　１（ｎ一第３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕
−６−メチル−４−メトキシ力ルボニル−２−チアセフ
エム１１７Ｑの溶液を、攪拌下において０℃でｍ−クロ
ロ過安息香酸２　２　０　Ｍ９で処理する。３０分後に
、反応混合物をジクロロメタンと２重ｉ％重炭酸ナトリ
ウム水溶液との間に分配する。有機層を無水の硫酸ナ｝
　ＩＪウム上で乾燥しそして溶剤を蒸発除去する。残留
物を短路クロマトグラフイー処理によって精製してシロ
ップとして標記生成物（ａ９Ｍｇ）を得る。νｍａｘ（
ＣＨ２Ｃｔ２フイルム）１８０へ　１７３５ｌｌＷｌ−
１ｉ　　δ（　ＣＤＣｔ３）　０．１　０（６Ｈ　，　
ｓ　，　Ｍｅ　２８１″）Ｘ０．９０（９Ｈ，ｓ，Ｂｕ
ｔＳ１），　　１．２７（３Ｈ，ｄ，四＝，−ＣＨ＼　
２．１８（３Ｈ，ｓ，ＣＨｓ）、３．８１〜見３（ＩＨ
，ｄｄ，＋３Ｈ，ｓ　，　ＣＨ−ＣＨ−ＣＨおよびＯＣ
Ｈ３）、４．３５（ＩＨ，ｍ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ）、
５．０５（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝２ｆＪＨｚ，ＣＨ−ＣＨ−Ｓ
）ｐｐｍ；　λＩｎａｘ（ヘキサン）２７６（！＝５．
０８４）および２９７（ｓｈ，ε＝＝３．７　４５　）
　ｎｌｎ　Ｏ〔方法（ｂ〕〕 クロロホルム２５ｔｎｔ中の（７Ｂ，６Ｒ）　−　７−
１：　１　（ｎ−第３級ブチルジメチルシリルオキシエ
チル〕−６−メチル−４−メトキシカルボニル−２一チ
アセフエム５００■の溶液を２０℃で８０％ｍ−クロロ
過安息香酸２　７　６　２９で処理する。温度を３０分
以内で＋２０℃に上昇させそして次に４重量一重炭酸ナ
トリウム水溶液を加える。有機層を無水の硫酸ナ｝　Ｉ
Ｊウム上で乾燥しそして溶剤を蒸発除去する。残留物を
シリカゲルクロマトグラフィー処理によって分離して次
の順序で生成物を得る。

１．１−オキシド、シロップ状、３５真９。ＮＭＲおよ
び工Ｒデータは前述した通シ。

２−オキシド、シロップ状、６０■。νｍユエ（ＣＨ２
ＣＡ２　：７ｆルＡ）１７９５、１　７　４０　ａｎ−
１；　　δ（ＣＤＣｔ３）０．１０（６Ｆ｛，ｓ，Ｍｅ
２８１′）Ｘ０．９０（９Ｈ，ｓ，ＢｕｔＳ１χ　１．
２　４　（　３Ｈ　，ｄ　，ＣＨ３　−ＣＨ　Ｘ　　２
３５　（３Ｈ　＋　８　，ＣＨ３　）、２．８５　〜３
．９０（ＩＨ，ｄｄ，＋３Ｈ，　ｓ　，　ＣＨ−ＣＨ−
ＣＨおよびｏｃＨ３′）Ｘ４．３５（ｉＨ，ｍ，ＣＨｓ
一ＣＨ−ＣＨ），　　５，２７（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝２．５
Ｈｚ，ＣＨ−ＣＨ−Ｓ）ｐｐｍ；λｍａｘ（ヘキサン）
　　２７６（ｇ　＝５．０９２）ｎｍ　０１−オキシド
、白色粉末状、融点９０〜９３℃、３３０■。νｍａｘ
　（ＣＨ２Ｃｔ２　フィルム）１７９０、１７３０ｚ−
’；δ０．１０（６Ｈ，ｓ，Ｍｅ２Ｓｉ），　　０．９
０（９Ｈ，ｓ，ＢｕｔＳｉ）　１．２８（３Ｈ，ｄ＋Ｃ
ＨＳ−ＣＨχ　２２４（３Ｈ，ｓ，ＣＨ３），　　３．
６０（ＩＨ，ａｄ，Ｊ＝２．０および４．０Ｈｚ，ＣＨ
−ＣＨ−ＣＨ），　　３．８７（３Ｈ，ｓ，ＯＣＨ３）
、４．３５（ＩＨ，ｍ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ），４．６
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝：２０Ｈｚ，ＣＨ−ＣＨ−ｓ）ｐ　
ｐ　ｍ　：　　λｍａｘ　（ヘキサン）　２７３（ε＝
４．８６２），　　３０９（ｓｈ，　ｔ　＝２．７２１
）ｎｍ０ クロロホルム３〇ｄ中の１−オキシド３００■の溶液を
、ｍ−クロロ過安息香酸１６０■の存在下において室温
で１時間攪拌する。反応混合物を重炭酸ナトリウム水溶
液で洗浄し、濃縮しそしてフラツシュークロマトグラフ
イー処理（シリカゲル、溶離剤としてシクロヘキサン／
酢酸エチルを使用）によって精製して標記生成物を得る
。

例　　５６ メチル（６Ｓ．５Ｒ）　−　６　−　Ｃ　Ｉ（９）一第
３級ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−２−メチル
ぱネムー３−カルポキシレート クロロホルム中の（７Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　（　１
（９）一第３級ブチルジメチルシリルオキシェチル〕−
６メチル−４−メトキシ力ルボニル−２−チアセフエム
−１，１−ジオキシド３ｏｏ１Ｒｇの溶液ヲ５０℃で５
時間加熱する。溶剤を除去して殆んど定量的収率で立体
異性体を含有していない標記化合物（２５０Ｑ）を得る
。νｍａｘ（ＣＨＣｔ３）　１７９５、１７１５ｍ−１
；δ（ＣＤＣｔ３）　０．０８（６Ｈ，ｓ，Ｍｅ２Ｓｉ
），　　０．８９（９Ｈ，ｓ　，ＢｕｔＳ１　）、１．
２３（３Ｈ，ｄ，ＣＨｘ−ＣＨχ　２３３（３Ｈ，　ｓ
　，Ｃ！｛５）、３．６１（ＩＨ，ｄｄ，　，Ｔ＝１．
８および５．０Ｈｚ，　ＣＨ−ＣＴ｛−ＣＨ｝，　　３
．７５（３Ｈ，　ｓ　，ＯＣＨｓ″）Ｘ４．２１（ＩＨ
，ｍ，ＣＨｓ−ＣＨ−ＣＨ＼　５．５０（ＩＨ，ｃｌ　
，　．７＝＝１．８Ｉ｛２　，　Ｃ｝Ｉ−ＣＨ−Ｓ　）
　；　λｍａ：ｃ　（ｚｔｏＨ）　２５７、３１４ｎｍ
０上記反応は、室温で例えばクロロホルム中に１６時間
放置した後にも起る。ＮＭＲ分析は標記生成物および出
発物質の１＝２混合物を示す。

例　　３７ （７８．６Ｒ）　−　７　−　（　ｉ（６）一ヒドロキ
シエチル〕−３−メチル−４−メトキシカルボニル−２
−チアセフエム−１，１−ジオキシド 除去によって標記化合物を得、これを更にシリカケ゛ル
クロマトグラフィー処理によって精製する。δ（ＣＤＣ
ｔ３）　１．５６ｃ５Ｈ，ｄ，：ｆ＝６．４Ｈｚ，ＣＨ
３−ＣＨ）、２．２１（３Ｈ，　ｓ　，　ＣＨ３χ　３
．８０　〜３．８８（４Ｈ，ｍ，ＣＨ−ＣＨ−ＣＨおよ
びＱＣ｝！３″）％４．４０（ＩＨ，ｍ，ＣＨ３−ＣＨ
−ＣＨ）、５．０８（ＩＨ，ｄ，　．Ｔ＝１．６Ｈｚ，
ＣＨ一二一Ｓ）。

例　　３８ メチル（６Ｂ，ＳＲ）　−　６−（　１（８）一ヒドロ
キシエチル〕−２−メチルぱネムー３−カルポキシレー
ト クロロホルム１一中の（７８，６Ｒ）　−７　−　（　
１（ト）一ヒドロキシエチル〕−３−メチル−４−メト
キシカルボニル−２−チアセフエム４０Ｑの溶液をｍ−
クロロ過安息香酸６０嘘の存在下において１５分０℃で
攪拌する。酢酸エチルと重炭酸ナトリウム水溶液との間
の分配および溶剤の不活性溶剤（例えばクロロホルムま
たはベンゼン）中の例３７で製造した化合物の溶液を数
日放置するかまたは５０〜８０℃で簡単に加熱すると、
事実上定量的な収率でジアステレオマ−を含有していな
い標記化合物が形成される。

δ（ＣＤＣｔｓ）　１．３４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈ
ｚ，ＣＨ３−ＣＨχ　２３５（３Ｈ，ｓ，ＣＨＢχ　５
．６８（　ＩＨ，ｄｔｉ　，　：Ｊ＝６．６および１．
５Ｈｚ　，　ＣＨ−ＣＨ−ＣＨχ３ＢＯ（３Ｈ，ｓ，Ｏ
ＣＨｓ），　４．４０（ＩＨ，ｍ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨ
），　　５．５６（　Ｉ　Ｈ　，ｄ　，　．Ｔ＝１．５
ＨＺ　，　ＣＨ−ＣＨ−　Ｓ　）。

例　　３９ メチル（６８，５Ｒ）　−　６　−　Ｃ　Ｉ（９）一第
３級プチルジメチルシリルオキシエチル）−２−（１−
メチル−１．２，３．４−テトラゾール−５−イル）チ
オメチル×ネムー３−カルボキシレート クロロホルム中のメチル（７８．６Ｒ）　−　７−Ｃ　
Ｉ（９）一第３級プチルジメチルシリルオキシェチル〕
−３−（１−メチル−１．２，３．４−テトラゾールー
５−イル）チオメチル−２−チアセフェム−４−カルポ
キシレートの溶液を０℃で３０分ｍ一クロロ過安息香酸
（２．５モル通量）と共に攪拌しそして次に水性ＮａＨ
ＣＯ３で洗浄する。乾燥した有機層を数時間還流する（
　ＴＬＣ追跡）。溶剤の蒸発およびシリカゲルクロマト
グラフイー処理によって標記生成物を得る。δ（ＣＤＣ
４．３）　０．０７（６Ｈ，ａ，ＳｊＭｅ２）、０．８
２（９Ｈ，ｓ，ＳＩＢｕｔχ　１．２０（３Ｈ，　ｄ　
，ＣＨ３−ＣＨχ　３．６８（ＩＨ，ｄａ，　１．８お
よび４Ｈ２　，　ＣＨ−ＣＨ−ＣＨ）、３．８０（３Ｈ
，ｓ，Ｎ−Ｍｅ）、３．８１（３Ｈ，ａ，ＯＭｅ）、４
．２２（ＩＨ，ｍ，ＣＨｘ−ＣＨ−ＣＨχ　４．６　９
　（　２Ｈ　，　ＡＢｑの中心、Ｊ＝１４Ｈｚ，内部線
の分離１　１．５Ｈｚ　，ＣＨ２Ｓχ　および５５４　
ｐｐｍ（ＩＨ，ｄ，　Ｊ＝１．８Ｈｚ　，　ＣＨ−ＣＩ
｛−８　）。

例　　４０ ｐ−ニトロベンジル（７８．６Ｒ）　−　７　−　（　
１（９）−ｐ’−ニトロベンジルオキシ力ルポニルオキ
シエチル〕−３−メチル−２−チアセフエム−４−カル
ポキシレート ジクロロメタン（　２　５ｆｆｌ／！）中のジフエニル
メチル（７ｓ，６Ｒ）　−７−Ｃ　１ｍ−　ｐ一二トロ
《ンジルオキシカルボニルオキシエチル〕−３−メチル
−２−チアセフエム−４−カルボキシレート（２００■
）の溶液をＯ℃で３０分トリフルオロ酢酸（０．４ｍ）
で処理する。冷時真空蒸発して粗製の２−チアセフエム
−４−カルボン酸ヲ得、これをアセトニトリルージメチ
ルホルムアミド（２Ｍ、１０ｍ）に溶解しそしてトリエ
チルアミン（０．０５０ｍ／）　およびｐ−ニトロ《ン
ジルプロマイド（１ｏ’ｏｘｇ）で処理する。２５℃で
１時間後に、混合物を酢酸エチルと水性ＮａＨＣＯ　３
との間に分配する。

乾燥（ＭｇＳＯ４）　Ｌた有機層を濃縮しそして残留物
をｓｔｏ２の短カラム（溶離剤として酢酸エチルー軽油
を使用）に通して純粋な標記生成物１５０貫ｇ（７９％
）を得る。δ（ＣＤＣｔ３）　１．４５（３Ｈ，ｄ，四
３−ＣＨ＼３．４３（１ａ，ａａ，Ｊ＝２５および６Ｈ
ｚ　，　ＣＨ−ＣＨ−Ｃ’Ｈ）、４．４　５　（　２Ｈ
　，ＡＢｑ，Ｊ＝１２Ｈｚ，ＣＨ２Ｂｒ），　４．８０
（ＩＨ，ｄ，，Ｔ＝２５Ｈｚ，ＣＨ−ＣＨ−Ｓ＼　５．
２〜５５（５Ｈ，ｍ）、　７．４７およびＺ６０（それ
ぞれ２Ｈ，ｄ，Ａｒ）、および８．２０　ｐｐｍ　（４
Ｈ，ｄ，Ａｒ）。

例　　４１ （７Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　Ｃ　１（Ｒｌ一第６級ブ
チルジメチルシリルオキシエチル〕−４−ジフエニルメ
トキシ力ルボニル−２−チアセフエム−３−（ピリジニ
ウム）メチルブロマイド 乾燥アセトン（　１５ｍ／）中のジフエニルメチル（７
Ｓ，６Ｒ）　−　７　−　［　１（９）一第３級プチル
ジメチルシリルオキシエチル）−３−プロモメチル−２
ーチアセフエム−４−カルボキシレート（３１０ｖｒｇ
　）の溶液をピリジン（０．４ｍ）で処理する。室温で
２０時間後に、溶剤を留去しそして残留物をシリカゲル
クロマトグラフイー処理によって精製する。生成物を含
有するフラクション（７ｏ：１５１５のＣＨ２ＣＬ２／
’ＨＯＡＣ／ＭｅＯＨで溶離）を集めそして溶剤を除去
してシロップとして標記化合・物を得る。’ｍａｘ　（
ＣＨＣｔ３フィルム）　１７９０、１　７１　５　ｃｍ
−’　；δ（ＣＤＣｔ３）（なかんづ＜　）　１．３２
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５ＨＺ）、　３．３３（ＩＨ，ａ
ｄ）、４．４５（ＩＨ，ｍ）、　５．０（ＩＨ，　ｄ，
Ｊ（２Ｈｚχ　７．１１（　Ｉ　Ｈ　＋　ｓ　）　；　
λｍ，ｘ（ＣＨＣｔ３）　２８３および３３７ｎｍ（ｇ
＝４．０　６　０　）。

同様な方法でそしてｐ−ニトロベンジル（７ｓ，６Ｒ）
　−　７−（　１（９）一ｐ−ニトロベンジルオキシ力
ルポニルオキシエチル）一３−プロモメチル−２−チア
セフエム−４−カルボキシレートから出発してＣ７Ｂ，
６’Ｒ’）　−　７　−　［　１（ニ）一ｐ−ニトロベ
ンジルオキシ力ルポニルオキシエチル〕−４−ｐ−ニト
ロペンジルオキシ力ルボニル−２−チアセフエム−６−
（ピリジニウム）メチルブロマイドが得られる。

例　　４２ （７８，６Ｒ）　−　７　−　Ｃ　Ｉ（８）一第３級ブ
チルジメチルシリルオキシエチル〕−４−カルボキシ−
２−チアセフエム−３−（ピリジニウム）メチルトリフ
ルオロアセテート ジクロロメタン（　１　０ｍＡ）中のジフエニルメチル
エステル（例４１で得られた）の溶液をｏ℃で１５分ト
リフルオロ酢酸（２ゴ）で処理する。

真空蒸発後、残留物を少量のクロロホルムにとる。エチ
ルエーテルを攪拌下で加えそして次に傾瀉除去して粗製
の標記生成物を得る。νｍａｘ（ＣＨＣｔ３フイルム）
　３４２０、１７８５、１７１５および１６３５ｂｒ　
ｃｍ−１；　　δ（ｃ：ｏｃｔ３）　（なかんづ＜　）
　１．３０（３Ｈ，（１，　：Ｊ＝６．５ＨＺ），　　
３．２３（ＩＨ，（１（１）、４．３８（ＩＨ，ｍ），
　　４．７６（ＩＩ｛，ｄ）　ｐｐｍ；λｒｎａエ（Ｃ
ＨＣｔ３）　２６．２および３３４ｎｍ０例　　４３ （７ｓ，６Ｒ）　−７　−　（　１（９）一ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシエチル］−４−ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル−２−チアセフエム−３
−（３−カルバモイルピリジニウム）メチルプロマイド ＤＭ’？（５ｔｄ）中のｐ−ニトロベンジル（７８　．
　６Ｒ）−７−（　１（９）一ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシエチル）−ｓ−プロモメチル−２−
チアセフエム−４−カルポキシレー｝（４６０叩）の溶
液を暗所でニコチン酸アミド（２００ｍ＋９）の存在下
で一夜攪拌する。大部分の溶剤を留去しそして残留物を
テトラヒドロフラン（　１　５　０ｍ）にとる。この溶
液を尺復して０．ＩＮＨＣｔ中のＮａＣｔの溶液（２Ｘ
５０ｍ）、塩水（　２Ｘ５　０ｍ／）で洗浄し、乾燥（
Ｎａ２ｓｏ４）　Ｌそして蒸発する。残留物をシラン化
シリカゲル（メルク社Ａｒｔ．　７７１９　）で充填し
たカラムの頂部に充填する。過剰のニコチンアミドおよ
び不純物をＫｔＯＡｃで溶離しそれから生成物をＥｔＯ
Ａｃ／ＨＯＡｃ　（　９　：　１　）で溶離することに
よって集める。真空蒸発して標記生成物を得る。νｍａ
ｗ　（ＣＨＣｔｘ）　１８００、１７’２５、１　６９
５　ｃｍ−’　；δ（ジュウテロアセトン；２００ＭＨ
ｚ）　　１．６７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，ＣＨ３
−ＣＨχ　４．ｔ４（ｉＨ，ｄｄ，．Ｔ＝２５および４
．７Ｈｚ，ＣＨ−ＣＨ−ＣＨ）、５３０（ＩＨ，ｄ，Ｊ
＝２．５Ｈｚ，ＣＨ−ＣＨ−８），　　５．４〜５．７
（７Ｈ，ｍ，　２ＸＣＨ２０Ａｒ，ＣＨ２Ｎ”，および
ＣＨ５　−ＣＩ｛一〇Ｈ　）　，Ｚ７　〜８．４　（８
Ｈ，　ｍ　，　Ａｒχ　および曲、８．７、９５および
９．７ｐｐｍ（それぞれ１Ｈ，ｂｒ　ｓ，ピリジニウム
）。

同様にニコチンアミドの代クにイソニコチンアミドを使
用することによって（７８．６Ｒ）　−　７　−〔１（
９）一ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチ
ル）−４−ｐ−ニトロばンジルオキシカルボニルー２−
チアセフエム−３−（４−カルパモイルピリジニウム）
メチルプロマイドが得られる。

例　　４４ （６Ｓ，５Ｒ）　−　６　−　１：　１（９）一ヒドロ
キシエチル〕−２−（ピリジニウム）メチルぱネムー３
−カルボキシレート しり２ｐ八Ｄ クロロホルム中の（７８，ＩｓＲ）　−　７　−　Ｃ　
１（Ｒｌ−　ｐ一二トロベンジルオキシカルボニルオキ
シエチｖ　］　−　４　−　ｐ−ニトロベンジルオキシ
力ルボニル−３−（ピリジニウム）メチル−２−チアセ
フエムアセテート（酢酸銀またはイオン交換樹脂による
在来の処理によって相当するブロマイドから製造された
）の溶液を０℃で過酢酸（２モル当量）で処理する。例
３７〜３９に記載した一般的操作方法によって後処理お
よびおだやかに加熱して（６Ｓ．５Ｒ）　−　６　−　
［：　１（６）一ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシエチル］−３−ｐ−二トロペンジルオキシ力ルボ
ニル−２−（ピリジニウム）メチルＲネムアセテートを
得る。νｍａｚ　（ＫＢｒ）　１７９５、１７４０、１
７ｏ５　ｃｒｎ−１；δ（ｃ’ｎｃｔｓ＋ジューテロア
セト７）　　１．４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，ＣＨ
．−ＣＨχ　４．１０（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝１．７および
８Ｈｚ　，ＣＨ−ＣＭ−ＣＨ″）Ｓ５．２０および５．
３１　（それぞれ２Ｈ，　ｓ　，ＯＣＨ２Ａｒ）、　５
．２（ＩＨ，ｍ，　ＣＨ５−ＣＨ−ＣＨχ　５．７７（
ＩＨ，ｄ，，ｒ＝＝ｔ７Ｈｚ，　Ｃ｝！−ＣＨ−Ｓχ６
．０５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１５Ｈｚ，ＣＨ２Ｎ×　７
．４〜８．３　（１　１Ｈ，ｍ，Ａｒ）および９．１５
　ｐｐｍ　（２Ｈ，ｄ，　Ｊ＝６Ｈｚ，　ｏ−Ｐｙｒ）
。

テトラヒドロフランー水（　１　：　１、４０ｍ）中の
この物質（３００■）を、攪拌下において塩化アンモニ
ウム（５２）で処理して透明な溶液を得る。

約１０℃に冷却した後、鉄粉末（２．５？）をはげしい
攪拌下で加える。反応は高速ランニングスポットとして
の生成物の展開によってＴＬＣ　（９：１：１のＨ２０
／ＭｅＯＨ／ＮａＣｔ）によシ監視できる。約１時間後
にセライ｝（３ｔ）を加えそして全体をガラス隔壁を通
して炉過し、脱イオン水で洗浄する。有機溶剤を除去し
次いでエチルエーテルで洗浄し標記生成物および無機塩
の水溶液を得る。前者は逆相クロマトグラフイー処理お
よび凍結乾燥後に純粋に得られる。δ（Ｄ２０，　　２
００ＭＨＺ）　１．２７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，
ＣＨｓＣ｝Ｉ）、５．９８（１ｕ，ａａ，Ｊ＝＝１．４
および５．８Ｈｚ，ＣＨ−ＣＭ−ＣＨ′）Ｓ４．２４（
ＩＨ，ｍ，ＣＨ３−Ｃ｝｛−ＣＨ）、５．６９（ＩＨ，
ｄ，Ｊ’−１．４Ｈｚ　ＣＨ−ＣＨ−Ｓ）、５．９４（
２Ｈ，ＡＢ（１，Ｊ＝：１４．９ＨＺ，ＣＨ２Ｎ），　
　８．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，ピリジニウム
ｍ−Ｈ），　　８Ａ１（ＩＨ，’ｂｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ
，ピリジニウムｐ−Ｈ）、８．９　５　（　２Ｈ　，　
ｄ　，　：ｆ＝６．６Ｈｚ　，ピリジニウムｏ−Ｈ）ｐ
ｐｍ０同様な方法において、例４３Ｋ記載した化合物か
ら出発して次の化合物が得られる。

（６ｓ，ｓＲ）　−　６−Ｃ　Ｉ（６）一ヒドロキシエ
チル〕−２−Ｃ５−カルバモイルピリジニウム）メチル
ハネムー３−カルポキシレート、 （６８，５Ｒ）　−　６　−　（　１（９）一ヒドロキ
シエチル〕−２−（４−カルバモイルピリジニウム）メ
チルベネムー３−カルポキシレート。

例　　４５ （６Ｓｌ５Ｒ）　−６−　Ｃ　１（９）一ヒドロキシエ
チル〕一２−（１−メチル−１　．２　．３　．４−テ
トラゾールー５−イル）チオメチルＲネムー３−カルボ
ン酸ナトリウム塩 クロロホルム中のｐ−ニトロベンジル（７８．６Ｒ）一
７−［１（Ｒ）−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシエチル］−３−　（　１−メチル−１．２，３．
４−テトラゾール−５−イル）チオメチル−２−チアセ
フエム−４−カルボキシレートの溶液を例３７に記載し
たようにｍ−クロロ過安息香で酸化して相当するスルホ
ンを得る。精製することなしに、この物質を窒素気流下
で乾燥した蒸留テトラヒドロフラン中で６０℃でｓｏ２
の追出しが完了するまで加熱する。溶剤の除去およびシ
リカゲルクロマトグラフイー処理によってｐ−ニトロベ
ンジル（６ｓ，ｓＲ）−６−［１（鈴一ｐ−二トロペン
ジルオキシ力ルポニルオキシエチル〕−２−（１−メチ
ル−１．２．３．４−テトラゾール−５−イル）チオメ
チルぱネムー３一カルボキシレートを得る。δ（　ＣＤ
Ｃ　Ｌ３）　１４　Ｂ　（３Ｈ　，ｄ　ｔＪ＝７ＨＺ，
ＣＨ３−ＣＨ）、３．８４（ＩＨ，ｄｄ，．Ｔ＝２およ
び５５ＨＺ，ＣＨ−ＣＨ−ＣＨ）、３．９６（３Ｈ，　
ｓ　，ＮＣＨｓ’）、４．６９（２Ｈ，ＡＢｑ　，　Ｊ
＝１４Ｈｚ，ＣＨ２Ｓ＼　５．２０　（　Ｉ　Ｈ　，　
ｍ　，　ＣＨ３　−ＣＨ−ＣＨ　）、５．２４（２Ｈ，
日，○ＣＨ　２　Ａｒ　′）Ｘ５−２７　（２　Ｈ　Ｔ
　ＡＢｑ　＋　Ｊ＝１　３　Ｈｚ　＋　ＯＣＨ　２Ａｒ
　）、５６１（ＩＨ，ｄ，Ｊ．２Ｈｚ），　　７．５１
およびＺ８２（それぞれ２Ｈ，ｄ，．Ｔ：８Ｈｚ　，　
Ａｒ　）、８．０２　ｐｐｍ　（４Ｈ，ｄ，　Ｊ＝８Ｈ
ｚ，　Ａｒ）。

例４４に記載した操作方法による上記物質とＦｅ／ＮＨ
ａＣＬとの反応は標記生成物を与える。δ（Ｄ２０）１
．２８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ′）Ｘ３．８７（Ｉ
Ｈ，ｄｅｌ，Ｊ＝１．４および６３豫，Ｃ｝｛−ＣＩ｛
−ＣＨ）、４、１ｏ（ｘＨ，ｓ，ＮｃＨｓ）、４．１９
（ＩＨ，ｍ，ＣＨ３−ＣＨ−ＣＨχ　４．４０（２Ｈ，
ＡＢ（１　，Ｊ＝１６Ｈｚ，　ＣＨ２Ｓ＼　５３９　ｐ
ｐｍ（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，　ＣＨ−ＣＴ｛−Ｓ
）；λｍａｘ（Ｈ２０）　３１５ｎｍ０例　　４６ メチル（６３，ＳＲ）　−６　−　（　１　＠一第３級
プチルジメチルシリルオキシエチル〕−２−二トロオキ
シメチルぱネム−３−カルボキシレートクロロホルム中
のメチル（７８．６Ｒ）　−　７　−　Ｃ　Ｉ　＠一第
３級プチルジメチルシリルオキシエチル〕−３−ニトロ
オキシメチル−２−チアセフェムー４−カルボキシレー
ト（例３１に記載したようにして製造した）の溶液をｍ
−クロロ過安息香酸（２モル当量、０℃）で処理して１
−スルホンを得る。水性重炭酸塩を加えてｍ−クロロ過
安息香酸を抽出し次に乾燥した有機溶液をおだやかに還
流（ＴＬＣ監視しながら）して標記一ミネム化合物の溶
液を得る。δ（ｃＤｃｚ３）　（なかんづ＜　）　５．
６４（ＩＨ，ｄ，．７＝２ＨＺ，ＣＨ−ＣＨ−８）およ
び５．６　５　ｐｐｍ　（２Ｈ，　ＡＢ（１　，Ｊ＝　
１　５Ｈｚ　＋内部線の分離４　６　ＨＺ　＋　ＣＨ２
０ＮＯ　２　）　ｒνｍａｘ（ＣＨＣｌｌ３）１７９０
および１　７　１０　ｃＩＲ−１。

同様に、トリクロロエチル（７８．６Ｒ）　−７−ＣＩ
（ト）−　｝　ＩＪクロロエトキシ力ルポニルオキシエ
チル〕−３−二トロオキシメチル−２−チアセフェム−
４−カルポキシレートから出発してトリクロロエチル（
６５，ＳＲ）　−　６　−　（　１（至）一トリクロロ
エトキシカルボニルオキシェチル〕−２−ニトロオキシ
メチルぱネム−３一カルボキシレートが得られた。

例　　４７ メチル（６８，ＳＲ）　−　６−［：　１　＠一第３級
プチルジメチルシリルオキシエチル〕−２−ヒドロキシ
メチルＲネム−３−カルボキシレート ジクロロメタン（２ｍ）中の粗製メチル（６８．５Ｒ）
−６−１：　１（９）一第３級プチルジメチルシリルオ
キシエチル〕−２−二トロオキシメチルぱネムー３−カ
ルボキシレート（例３１および４６によって相当する３
−プロモメチル−２−チアセフエムプレカーサ−４５１
Ｉｇから得られた）の溶液を亜鉛末（０．１９）および
酢酸（０．１ｍＡ）と共に０℃で５分攪拌する。反応混
合物を戸遇しそして溶液を蒸発して粗製の標記生成物を
得る。このものをシリカゲルクロマトグラフィー処理（
１；４〜１；１の酢酸エチル／軽油）によって精製する
。νｍａｘ　（ＣＨＣｔ３フィルム）　１７８５、１７
１　０　ｃｍ−’　＊δ（ＣＤＣｔ３）　０．０７（６
Ｈ，ｓ，ＳｉＭｅ２χ０．８Ｂ（９Ｈ，　ｓ　，ＳＩＢ
ｕｔ＼１．２３（３Ｈ，（１，四３−ＣＨ）、３．７０
（ＩＨ，ａｄ，．Ｔ＝：ｔ８および４５Ｈｚ，　ＣＭ−
ＣＴ｛−ＣＭ′）Ｘ４２５（１’Ｅ｛，ｍ，ＣＴ｛３−
Ｃ’Ｈ−ＣＨ＼４．５９（２Ｈ，ｓ　，　ＣＨ２０Ｈ）
および５．５７ｐｐｍ　（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，
ＣＨ−ＣＴ計Ｓ）。

同様な方法においてトリクロロエチル（６８．５Ｒ）−
６−（１（ト）一トリクロロエトキシカルボニルオキシ
エチル〕−２−ニトロオキシメチルぱネム−３−カルボ
キシレートに対して操作し、保護基の完全な除去を達成
し水性ＮａＨＣＯ３で後処理および逆相クロマトグラフ
ィー処理（溶離剤として水）した後（６８．５Ｒ）　−
　６　−　（　１（９）一ヒドロキシエチル〕−２−ヒ
ドロキシメチル×ネムー３−カルボン殿ナトリウム塩を
得る。δ（Ｄ２０）１．３０（３Ｈ，ｄ，ＣＨ３−ＣＨ
），　　３．８８（ＩＨ，ｄｄ，．Ｔ＝１および６．３
ＨＺ　，Ｃ’Ｈ−ＣＭ−ＣＨ），　　４．２３（１Ｈ，
ｍ，ＣＨ３−ＣＨ一ＣＨ），　　４．６３（２Ｈ，ＡＢ
ｑ　，　Ｊ＝１　４．５ＨＺ　，内部線の分離４Ｈｚ　
，　ＣＨ２０Ｈ′）Ｘ　　および５．６２　ｐｐｍ　（
ＩＨ，ｄ，　，Ｔ＝ＩＨＺ，　ＣＨ−Ｃ’Ｈ−８）；ν
ｍａｘ　（Ｈ３ｒ）１７６５および１　６　’１０　〜
１５９０　ｃ！Ｒ−１。

例　　４８ （６８，ＳＲ）　−６　−　Ｃ　Ｉ（９）一ヒドロキシ
エチル〕−２−カルバモイルオキシメチルベネムー３−
カルボン酸ナトリウム 例３７の一般的操作方法によってトリクロロエチル（７
ｓ，６Ｒ）　−　７−Ｃ　Ｉ（６）一トリクロロエトキ
シカルボニルオキシエチル〕−３−カルバモイルオキシ
エチル−２−チアセフェム−４−カルポキシレートのク
ロロホルムｉｉをｍ−クロロ過安息香酸で処理する。後
処理の後、不活性溶剤（ベンゼン）中における得られた
１−スルホンの簡単な加熱によってトリクロロエチル（
６８，５Ｒ）　−　６−［：　１（９）一トリクロロエ
トキシヵルボニルオキシエチル〕−２−カルバモイルオ
キシメチル×ネムー３−カルポキシレー｝ｔ［る。δ（
ＣＤＣｔ３）　１．５（３Ｈ，ｄ，ＣＨ３−ＣＨ）、３
．９４（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝２および８Ｈｚ　，　ＣＨ−
ＣＨ−ＣＨ＼　４．７３および４８２（それぞれ２Ｈ　
，　ｓ　，　ＯＣＨ２　ＣＣＬｓ　）、４Ｊ３（　ＩＨ
，ｍ，　ＣＨｓ−ＣＨ−ＣＨ）、５．２５（２Ｈ，ＡＢ
ｑ　，　Ｊ＝１０Ｈｚ　，　ＣＨ２０ＣＯＮＨ２＼　５
．６２（　ＩＨ，　ｄ　，　．Ｔ＝２ＨＺ　，　ＣＨ−
ｃＨ−　ｓ　）。

この物質のＴＨＦ溶液を攪拌下において亜鉛末（約６重
量部）および１Ｍ水性ＮａＨ２ＰＯ４で処理する。２５
℃で３時間の攪拌後に、Ｚｎの他の部分を加えそして混
合物を３時間攪拌する。後処理および逆相クロマトグラ
フイー処理によって標記生成物が得られる。δ（Ｄ２０
）　１．３１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ　，　ＣＨ３
−ＣＨ）、３．９１（ＩＨ，ｄｄ，　．Ｔ＝１．５およ
び６Ｈｚ　，　ＣＨ−ＣＨ−ＣＨ）、４．２５（　ＩＨ
，ｍ，　ＣＨ５−ＣＨ−ＣＨ）、５．１９（２Ｈ，　Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１４．５Ｈｚ　，　ＣＨ２０ＣＯ）および５
．６６　ｐｐｍ（　ＩＨ，　ｄ　，　Ｊ＝１．５Ｈｚ　
，ＣＨ−四一Ｓ）。

特許出願人　　ファーミタリア・カルロ・エルパ・ンシ
エタ・ベル・アツイオー二 外２名

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中Ｒ＿１は水素原子または有機基を示し、Ｒ＿２は
   水素原子またはカルボキシ保護基を示しそしてＹは水素
   、ハロゲン原子または有機基を示す）の２−チアセフエ
   ム誘導体の製造において、［１］ベンゼンまたは四塩化
   炭素のような不活性有機溶剤に溶解したＲ＿１およびＲ
   ＿２が前述の定義を有しそしてＹが水素原子である一般
   式（II）の２−チアセフエム誘導体を２０〜１３０℃の
   温度でアゾビスイソブチロニトリルまたは過酸化ベンゾ
   イルの存在下でそして酸化プロピレン、アルカリ土類金
   属酸化物または分子ふるいのような酸捕集剤の存在下で
   Ｎ−ブロモサクシンイミドまたはＮ−クロロサクシンイ
   ミドのような適当なハロゲン化剤で処理してＲ＿１およ
   びＲ＿２が前述した通りでありそしてＹが臭素または塩
   素原子である式（II）の所望の２−チアセフエム化合物
   を製造するか、または ［２］アセトン−水混合物（２：１ｖ／ｖ）に溶解した
   前記［１］の方法により製造したＲ＿１およびＲ＿２が
   前記の定義を有しそしてＹがハロゲン原子である一般式
   （II）の２−チアセフエム誘導体を０℃の温度で１５分
   間過塩素酸銀のような強無機酸の塩と反応せしめて該無
   機酸の不安定なエステルを得、次にこれを同じ反応媒質
   中で加水分解してＲ＿１およびＲ＿２が前記した通りで
   ありそしてＹが−ＯＨである式（II）の所望の２−チア
   セフエム化合物を製造するか、または ［３］ジクロロメタンに溶解した前記［２］の方法によ
   り製造したＲ＿１およびＲ＿２が前述の定義を有しそし
   てＹがヒドロキシ基である一般式（II）の２−チアセフ
   エム誘導体を−４０℃の温度でトリクロロアセチルイソ
   シアネートで処理し、反応混合物を室温に上昇させそし
   て次にＲ＿１およびＲ＿２が前述した通りでありそして
   ＹがＮ−（トリクロロアセチル）カルバモイルオキシ基
   である一般式（II）の所望の２−チアセフエム誘導体を
   単離し、そしてもし所望の場合にはそのメタノール溶液
   を２０時間シリカゲルと共に撹拌することによってはじ
   めに生成したウレタン付加物のトリクロロアセチル部分
   を脱保護し、Ｒ＿１およびＲ＿２が前述した通りであり
   そしてＹがカルバモイルオキシ基である式 （II）の２−チアセフエム誘導体を製造するか、または ［４］ジクロロメタンに溶解した前記［１］の方法によ
   り製造したＲ＿１およびＲ＿２が前述の定義を有しそし
   てＹがハロゲン原子である一般式（II）の２−チアセフ
   エム誘導体を５℃の温度でそして３日間相当するカルボ
   ン酸の適当な塩で処理してＲ＿１およびＲ＿２が前述し
   た通りでありそしてＹがホルミルオキシまたはアセトキ
   シ基である式（II）の所望の２−チアセフエム誘導体を
   製造するか、または ［５］テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル
   またはジメチルホルムアミドのような適当な有機溶剤に
   溶解した前記［１］の方法により製造したＲ＿１および
   Ｒ＿２が前述の定義を有しそしてＹがハロゲン原子であ
   る一般式（II）の２−チアセフエム誘導体を室温で一夜
   トリエチルアミンのような塩基の存在下で相当する ＨＳ−ＨｅｔまたはＨＳ−Ｈｅｔの予め形成されたナト
   リウム塩と反応せしめてＲ＿１およびＲ＿２が前述した
   通りでありそしてＹが−ＳＨｅｔである式（II）の所望
   の２−チアセフエム誘導体を製造するか、または ［６］前記［１］の方法によって製造したＲ＿１および
   Ｒ＿２が前述の定義を有しそしてＹがハロゲン原子であ
   る一般式（II）の２−チアセフエム誘導体を室温で一夜
   ピリジン、ニコチンアミドまたはイソニコチンアミドと
   反応せしめてシリカゲルクロマトグラフィー処理による
   精製後にＲ＿１およびＲ＿２が前述した通りでありそし
   てＹが置換されていないピリジニウム基またはメタまた
   はパラ−位において−ＣＯ−ＮＨ＿２基で置換されてい
   るピリジニウム基である式（II）の所望の２−チアセフ
   エム誘導体を製造するか、または ［７］一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 〔式中、Ｒ＿１およびＲ＿２は前述の定義を有しそして
   Ｚは （ｉ）式ＳＲ＿７（式中Ｒ＿７は１〜８個の炭素原子を
   有するアルキル基、フェニルまたはトリル基または好適
   には複素環式基を示す）の基特に２−ベンゾチアゾリル
   チオまたは１−メチル−テトラゾール−５−イル−チオ
   基、 （ｉｉ）式ＳＣＯＲ＿８（式中Ｒ＿８は場合によっては
   置換されている低級アルキル基好適にはメチル基である
   ）の基、 （ｉｉｉ）式▲数式、化学式、表等があります▼（式中
   Ｒ＿９およびＲ＿１＿０は独立して低級アルキルまたは
   アリール基を示すかまたはジカルボキシアミノ基と共に
   複素環式環好適にはサクシンイミドまたはフタルイミド
   基を形成する）の基または （ｉｖ）式▲数式、化学式、表等があります▼（式中Ｒ
   ＿７は場合によっては置換されている低級アルキルまた
   はアリール基好適にはメチル、フェニルまたはｐ−トリ
   ル基を示す）の基 を示す〕の化合物をはじめにそれ自体既知の方法によっ
   てハロゲン化して一般式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２およびＺは前述した通りであり
   そしてＹはハロゲン原子である）の化合物を得、そして
   次にオゾン分解して一般式（VII）▲数式、化学式、表
   等があります▼（VII） の化合物を得、ヒドロキシ基をＬ基（Ｌはハロゲン原子
   、アルカンスルホニルオキシ基またはアレーンスルホニ
   ルオキシ基好適にはメタンスルホニルオキシ基を示す）
   に変換せしめて一般式（IX） ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） の化合物を得そして次にこれを環化せしめて式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿１およびＲ＿２は前述の定義を有しそして
   Ｙは （ａ）遊離または保護されたヒドロキシ基、（ｂ）場合
   によってはハロゲン原子によって、２〜６個の炭素原子
   を有するアシル基によ ってかまたはアミノ、ヒドロキシまたはメ ルカプト基（これらのアミノ、ヒドロキシ またはメルカプト基は場合によっては保護 された形態にある）によって置換されてい るホルミルオキシ基または２〜６個の炭素 原子を有するアシルオキシ基、 （ｃ）置換されていないまたはＮ−アルキル置換された
   カルバモイルオキシ基、 （ｄ）場合によっては１個またはそれ以上のハロゲン原
   子、ホルミル基、２〜６個の炭素 原子を有するアシル基および（または）場 合によっては保護された形態にあるアミノ、ヒドロキシ
   またはメルカプト基によって置 換されている１〜１２個の炭素原子を有するアルコキシ
   基または１〜１２個の炭素原子を有するアルキルチオ基
   、 （ｅ）置換されていないかまたはメタまたはパラ−位に
   おいて基−ＣＯＮＨ＿２で置換されている１−ピリジニ
   ウム基または （ｆ）ヘテロシクリルチオ基−Ｓ−Ｈｅｔ〔式中Ｈｅｔ
   は少なくとも１個の酸素、硫黄および（また は）窒素ヘテロ原子を含有する飽和または 不飽和の複素環式環を示し、好適には （Ａ）置換されていないかまたは１個またはそれ以上の （ａ′）１〜６個の炭素原子を有するアル コキシ基、２〜６個の炭素原子を有する脂 肪族アシル基、ヒドロキシ基および（また は）ハロゲン原子、 （ｂ′）置換されていないかまたは１個ま たはそれ以上のヒドロキシ基および（また は）ハロゲン原子によって置換されている １〜６個の炭素原子を有するアルキル基、 （ｃ′）置換されていないかまたは１個ま たはそれ以上のヒドロキシ基および（また は）ハロゲン原子によって置換されている ２〜６個の炭素原子を有するアルケニル 基、 （ｄ′）一般式−Ｓ−Ｒ＿３（式中Ｒ＿３は水素原子ま
   たは１〜６個の炭素原子を有するアルキル 基を示す）の基または一般式−Ｓ−ＣＨ＿２−ＣＯＯＲ
   ＿４（式中Ｒ＿４は水素原子、１〜６個の炭素原子を有
   するアルキル基またはカルボキシ保護 基を示す）の基、 （ｅ′）一般式−（ＣＨ＿２）＿ｍ−ＣＯＯＲ＿４また
   は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯＲ＿４または−（ＣＨ＿２）＿
   ｍＣＮまたは−（ＣＨ＿２）＿ｍ−ＣＯＮＨ＿２または
   −（ＣＨ＿２）＿ｍ−ＳＯ＿３Ｈ（式中ｍは０、１、２
   または３でありそしてＲ＿４は前述した通りである）の
   基、 （ｆ′）一般式▲数式、化学式、表等があります▼（式
   中ｍは 前述した通りでありそしてＲ＿５およびＲ＿６のそれぞ
   れは同一または異なりてそして水素原 子、１〜６個の炭素原子を有するアルキル 基または脂肪族アシル基を示すかまたはＲ＿５およびＲ
   ＿６の一方が水素である場合は他方はまたアミノ保護基
   であり得る）の基 によって置換されているチアゾリル、トリ アゾリル、チアジアゾリル、テトラゾリル、トリアジニ
   ル基のような少なくとも１個の 二重結合および少なくとも１個の酸素、硫 黄および（または）窒素ヘテロ原子を含有 する５原子または６原子の複素単環式環ま たは （Ｂ）縮合複素単環式環のそれぞれが同一または異なり
   て少なくとも１個の酸素、硫黄 または窒素ヘテロ原子を含有する５原子ま たは６原子複素単環式環である少なくとも ２個の二重結合を含有する複素二環式環 （この複素二環式環は置換されていないか または前述した（ａ′）、（ｂ′）、（ｃ′）、（ｅ′
   ）および（ｆ′）から選択された１個またはそれ以上の
   置換分によって置換されている） である）の２−チアセフエム誘導体を製造するか、また
   は ［８］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒ＿１およびＲ＿２は前述の定義を有しそして
   Ｚは前記［７］の方法に述べた通りである）の化合物を
   はじめにオゾン分解して一般式（VI）▲数式、化学式、
   表等があります▼（VI） の化合物を得、ヒドロキシ基をＬ基（式中Ｌは前記［７
   ］の方法に述べた通りである）に変換せしめて一般式（
   VIII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） の化合物を得、次にこの化合物をＨ＿２Ｓと有機塩基ま
   たは無機塩基との塩で処理することにより環化せしめて
   一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中Ｒ＿１およびＲ＿２は前述の定義を有しそしてＹ
   は水素原子である）の２−チアセフエム誘導体を製造す
   る ことからなる式（II）の２−チアセフエム誘導体の製造
   方法。