JPS6011463A - 新規なアゼチジノン化合物 - Google Patents
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- C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
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- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アゼチジノンおよび該アゼチジノン、oニジ
ラン酸誘導体およびその薬学的に許容し得る塩の製造に
利用する方法に関する。
ラン酸誘導体およびその薬学的に許容し得る塩の製造に
利用する方法に関する。
本発明の方法によって製造できるペニシラン酸誘導体は
、一般式(Iン を有している。
、一般式(Iン を有している。
上記式中、R1は有機基、好適にはアシルアミノ基また
は場合によっては置換されている脂肪族または環状脂肪
族炭化水素基、もつとも好適には場合によっては1個ま
たはそれ以上のヒドロキシ、アミノ、シアノまたはメル
カプト基(ヒドロキシ、アミンおよびメルカプト基は遊
離であるかまたは保護されている)によって置換されて
いる01〜C12アルキル基を示す。
は場合によっては置換されている脂肪族または環状脂肪
族炭化水素基、もつとも好適には場合によっては1個ま
たはそれ以上のヒドロキシ、アミノ、シアノまたはメル
カプト基(ヒドロキシ、アミンおよびメルカプト基は遊
離であるかまたは保護されている)によって置換されて
いる01〜C12アルキル基を示す。
R2は水素原子、カルボキシ保護基、結合しているオキ
シカルボニル基と共に生体内で加水分解できるエステル
を形成する基または−co2 陰イオンと共にカルボキ
シレート塩を形成する有機または無機陽イオンを示す。
シカルボニル基と共に生体内で加水分解できるエステル
を形成する基または−co2 陰イオンと共にカルボキ
シレート塩を形成する有機または無機陽イオンを示す。
Yは
←)遊離または保護されたヒドロキシ基、(b) C2
〜C6アシルオキシ基、 (c) 遊離であるかまたは保護された未置換またはN
−アルキル置換されたカルバモイルオキシ基、 (d) 場合によってはハロゲン好適には弗素、C2〜
C6アシル好適にはアセチル、アミノ、ヒドロキシおよ
びメルカプト(アミノ、ヒドロキシまたはメルカプト基
は遊離であるかまたは保護されている)から選択された
1個またはそれ以上の置換分によって置換されている0
1〜C12アルコキシまたは01〜CI2アルキルチオ
基、(8) へテロシクリルチオ基5−Het(式中H
etは場合によってはヒドロキシ、01〜C6アルコキ
シ、ハロゲン、ホルミル、C2〜C6アシル、C1〜C
6アルキル、アミノ、01〜C6アルキルチオまたは(
CH2)n Zまたはcr−r=cn−z (式中2は
アミン、ジメチルアミノ、シアノ、カルバモイル、スル
ホニルオキシまたはカルボキシでありそし【スルホニル
オキシまたはカルボキシ基は遊離であるか、保護されて
いるか、01〜c4アルキルでエステル化されているか
または有機または無機塩基との塩の形態にある)から選
択された1個またはそれ以上の置換分によって着換され
ている単環式または二環式のNXSおよび0から選択さ
れた少なくとも1個のへテロ原子を含有する飽和または
不飽和の複素環式環を示す〕 から選択された置換分を示す。
〜C6アシルオキシ基、 (c) 遊離であるかまたは保護された未置換またはN
−アルキル置換されたカルバモイルオキシ基、 (d) 場合によってはハロゲン好適には弗素、C2〜
C6アシル好適にはアセチル、アミノ、ヒドロキシおよ
びメルカプト(アミノ、ヒドロキシまたはメルカプト基
は遊離であるかまたは保護されている)から選択された
1個またはそれ以上の置換分によって置換されている0
1〜C12アルコキシまたは01〜CI2アルキルチオ
基、(8) へテロシクリルチオ基5−Het(式中H
etは場合によってはヒドロキシ、01〜C6アルコキ
シ、ハロゲン、ホルミル、C2〜C6アシル、C1〜C
6アルキル、アミノ、01〜C6アルキルチオまたは(
CH2)n Zまたはcr−r=cn−z (式中2は
アミン、ジメチルアミノ、シアノ、カルバモイル、スル
ホニルオキシまたはカルボキシでありそし【スルホニル
オキシまたはカルボキシ基は遊離であるか、保護されて
いるか、01〜c4アルキルでエステル化されているか
または有機または無機塩基との塩の形態にある)から選
択された1個またはそれ以上の置換分によって着換され
ている単環式または二環式のNXSおよび0から選択さ
れた少なくとも1個のへテロ原子を含有する飽和または
不飽和の複素環式環を示す〕 から選択された置換分を示す。
一般式(I)のもつとも好適な化合物は、R1が1−ヒ
ドロキシエチル基を示し、R2が水素、ナトリウムまた
はカリウム原子またはp−ニトロベンジル、アセトニル
またはトリメチルシリルエチルのような化学的に解裂で
きる基またはピバロイルオキシメチル、アセトキシメチ
ルまたは7タリジルのような生体内で加水分解できる基
を示しそしてYがアセトキシまたはカルバモイルオキシ
基または基8−Het(式中Metは前述した通りであ
る)會示す化合物である。
ドロキシエチル基を示し、R2が水素、ナトリウムまた
はカリウム原子またはp−ニトロベンジル、アセトニル
またはトリメチルシリルエチルのような化学的に解裂で
きる基またはピバロイルオキシメチル、アセトキシメチ
ルまたは7タリジルのような生体内で加水分解できる基
を示しそしてYがアセトキシまたはカルバモイルオキシ
基または基8−Het(式中Metは前述した通りであ
る)會示す化合物である。
酸、薬学的に許容し得る塩または生体内で加水分解でき
るエステルの形態の一般式(1)の化合物は、経腸また
は非経口的投与によって温血動物特に人間における細菌
感染の治療に有用である本発明者等の英国特許出願第2
045639号および同第8210410号に記載され
ている強力な広域スペクトルの抗菌剤である。
るエステルの形態の一般式(1)の化合物は、経腸また
は非経口的投与によって温血動物特に人間における細菌
感染の治療に有用である本発明者等の英国特許出願第2
045639号および同第8210410号に記載され
ている強力な広域スペクトルの抗菌剤である。
反応スキーム1は、一般式(1)のRネム誘導体に至る
2つの従来技術の方法を概略的に示すものである。反応
スキーム1の式においてR1、R2およびYは前述した
意義の若干を有する。方法Bははるかにより普通である
。従来技術の方法に対する主要文献は次の通りである。
2つの従来技術の方法を概略的に示すものである。反応
スキーム1の式においてR1、R2およびYは前述した
意義の若干を有する。方法Bははるかにより普通である
。従来技術の方法に対する主要文献は次の通りである。
方法A: んHenderson氏等「J、Chem、
Soc、。
Soc、。
Chem、 Commun、 J 1’982年、第8
09頁。
09頁。
方法B : L Ernest氏等「J、 Am、 C
hem、 Soc、J第100巻第8214頁(197
8年)。
hem、 Soc、J第100巻第8214頁(197
8年)。
これらの従来技術の方法は若干の欠点または限界を有し
ているがそれらは本発明によって少な(とも部分的に克
服できるものである。
ているがそれらは本発明によって少な(とも部分的に克
服できるものである。
従来技術の方法Aは、Y=I(に対してのみ記載されて
おりそしてY=HであるRネム化合物はY= 0COC
H5,0CONH2または5−Betである化合物に比
較して非常に減少された活性を有することが判った。異
なる研究所から入手できる細菌菌株の間の不適当な非同
等性にもかかわらず、第1表に示したデータは例証とみ
なすことができる。
おりそしてY=HであるRネム化合物はY= 0COC
H5,0CONH2または5−Betである化合物に比
較して非常に減少された活性を有することが判った。異
なる研究所から入手できる細菌菌株の間の不適当な非同
等性にもかかわらず、第1表に示したデータは例証とみ
なすことができる。
Y=Hである従来既知のアゼチジノン中間体を官能化し
てYが前述した他の意義のいずれかを有する相当する化
合物を与えることは容易ではなくそして非常に望まれて
いたにもかかわらずそれはかつて達成されなかったとい
うことを認識第1表 (8R,5R,68) ヘネム(1,Y=Haνb)
オJ:ヒ2− VB能化メチル)同族体(1、Y=OC
OCH5°)の抗菌活性間の比較209P 0.023 スミス ATCC13709−0,046 Fl−FV3− 0.046 ストレプトコツカ A206B8 31 63 −ス・
フェカリス ATCC80433,12BCefRO,
39 P99 − 3.12 214 − 6.25 クレブシエラ・プ A15130 8 16 −ノイモ
ニアエ ATCC100310°69Ciffia、デ
ータ源:オランダ特許(NL)第7909056号、D
erwent No、05333 C−b、それぞれの
一対のもつとも高い数値は、上記特許に報告されている
ものである。化合物はラセミ物質に関するものなので、
それぞれの一対のはじめの値のように低い数値は有意な
活性を有していない5S化合物を考1にすることによっ
て5R立体異性体に対して推定されるものである。
てYが前述した他の意義のいずれかを有する相当する化
合物を与えることは容易ではなくそして非常に望まれて
いたにもかかわらずそれはかつて達成されなかったとい
うことを認識第1表 (8R,5R,68) ヘネム(1,Y=Haνb)
オJ:ヒ2− VB能化メチル)同族体(1、Y=OC
OCH5°)の抗菌活性間の比較209P 0.023 スミス ATCC13709−0,046 Fl−FV3− 0.046 ストレプトコツカ A206B8 31 63 −ス・
フェカリス ATCC80433,12BCefRO,
39 P99 − 3.12 214 − 6.25 クレブシエラ・プ A15130 8 16 −ノイモ
ニアエ ATCC100310°69Ciffia、デ
ータ源:オランダ特許(NL)第7909056号、D
erwent No、05333 C−b、それぞれの
一対のもつとも高い数値は、上記特許に報告されている
ものである。化合物はラセミ物質に関するものなので、
それぞれの一対のはじめの値のように低い数値は有意な
活性を有していない5S化合物を考1にすることによっ
て5R立体異性体に対して推定されるものである。
C,データ源: r、y、 Antibiot、J第3
5巻第1248頁(1982年) 従来技術の方法Bは、原料はニジリンのチアゾリジン部
分のすべての炭素原子の喪失(そしてしばしばその上に
硫黄原子の喪失)および式の重要な中間体を形成させる
ためのグリオキシレートシントンの導入を必要とする。
5巻第1248頁(1982年) 従来技術の方法Bは、原料はニジリンのチアゾリジン部
分のすべての炭素原子の喪失(そしてしばしばその上に
硫黄原子の喪失)および式の重要な中間体を形成させる
ためのグリオキシレートシントンの導入を必要とする。
反応スキーム 1
反応スキーム2は一般式(I)のベネム誘導体に至る不
発明によって提供される新規の方法を示すO 本発明の方法A−反応スキーム2の左側に示されたこの
方法は一般式(II)のペニシラン酸スルホキシドを一
般式G辺(Yは水素以外の基であってそして好適にはア
セトキシ、N−遊離または置換されたカルバモイルオキ
シまたは低級アルコキシである)の2−チアセフェム誘
導体に変換することを可能にする。反応スキーム1に示
された従来技術の方法人はYが水素である2−チアセフ
ェムのみを与える。得られた2−チアセフェム中間体(
至)は次に脱硫して所望のペネム化合物(1)を得る。
発明によって提供される新規の方法を示すO 本発明の方法A−反応スキーム2の左側に示されたこの
方法は一般式(II)のペニシラン酸スルホキシドを一
般式G辺(Yは水素以外の基であってそして好適にはア
セトキシ、N−遊離または置換されたカルバモイルオキ
シまたは低級アルコキシである)の2−チアセフェム誘
導体に変換することを可能にする。反応スキーム1に示
された従来技術の方法人はYが水素である2−チアセフ
ェムのみを与える。得られた2−チアセフェム中間体(
至)は次に脱硫して所望のペネム化合物(1)を得る。
反応スキーム2
本発明の方法B−反応スキーム2の右側に示されたこの
方法は、原料ペニシラン酸スルホキシド(11)の安価
な且つ化学的に安定ガニステル例えばメチルエステルか
ら出発して所望の4ネムカルボン酸のアセトニルエステ
ル((1)、R2=CH2COCH3)を与える。この
方法は、一般式(X)の新規なアゼチジノンラクトンを
経て進行しそしてベネムエステル(1)中にペニシラン
酸Ql)のすべての炭素原子を混入する。ペネム化合物
のアセトニルエステルは容易に加水分解されることがで
き(「、r、 Am、 Chem、 Soc、J第10
1巻第6606頁(1979年〕〕そしである場合にお
いては生体内で経口的によ(吸収され、その結果、治療
的に有用な化合物の中間体プレカーサーであるまたはそ
れ自体治療に有用な化合物でさえある。
方法は、原料ペニシラン酸スルホキシド(11)の安価
な且つ化学的に安定ガニステル例えばメチルエステルか
ら出発して所望の4ネムカルボン酸のアセトニルエステ
ル((1)、R2=CH2COCH3)を与える。この
方法は、一般式(X)の新規なアゼチジノンラクトンを
経て進行しそしてベネムエステル(1)中にペニシラン
酸Ql)のすべての炭素原子を混入する。ペネム化合物
のアセトニルエステルは容易に加水分解されることがで
き(「、r、 Am、 Chem、 Soc、J第10
1巻第6606頁(1979年〕〕そしである場合にお
いては生体内で経口的によ(吸収され、その結果、治療
的に有用な化合物の中間体プレカーサーであるまたはそ
れ自体治療に有用な化合物でさえある。
アセトニルエステルは、本発明の特に好適な実施化によ
ってR1が1−ヒドロキシエチルである場合に、ペニシ
ラン酸核へのR1基の導入に対して普通必要とされる条
件(例えばグリニヤール型反応)下において不安定であ
る。本発明を家、はニジラン酸プレカーサーのすべての
炭素原子を利用することによって安価なペニシラン酸メ
チルをアセトニル6−ヒドロキシ−エチル−ベネムー3
−カルボキシレートに変換することを達成する方法を提
供する。従来技術方法B(反応スキーム1)に比較して
この方法は外部シントンの使用を最小にする。
ってR1が1−ヒドロキシエチルである場合に、ペニシ
ラン酸核へのR1基の導入に対して普通必要とされる条
件(例えばグリニヤール型反応)下において不安定であ
る。本発明を家、はニジラン酸プレカーサーのすべての
炭素原子を利用することによって安価なペニシラン酸メ
チルをアセトニル6−ヒドロキシ−エチル−ベネムー3
−カルボキシレートに変換することを達成する方法を提
供する。従来技術方法B(反応スキーム1)に比較して
この方法は外部シントンの使用を最小にする。
前述した本発明の方法人およびBは以下の通り詳細に述
べることができる。本発明の方法Aによれば、陽性ノ・
ロゲン源の存在下において無水の不活性溶剤中でR/2
がカルボキシレート保護基好適にはp−ニトロベンジル
またはトリメチルシリルエチルであるペニシラン酸誘導
体(l[)を加熱せしめて次式 のスルフィニルハライド全形成させ、次にこのものをR
1が7タルイミドまたはアシルアミノ基である関連した
「古典的」ペニシリン誘導体(It)に対してS、 K
ukolja氏によって説明されている方法(「J、
Am、 Chem、 Soc、 J第98巻第5040
頁(1976年)参照〕と実質的に同様な方法で、同一
または異なる溶剤または溶剤混合物中で酸好適にはルイ
ス酸と反応せしめて式(1)の3−メチレンセファムス
ルホキシドを得る。本発明の好適な態様によればR1が
遊離または保護された1−ヒドロキシモチルのような場
合によっては置換されたアルキル基である式(III)
の化合物は新規である。上記反応に対する適当な溶剤は
1,2−ジクロロエタン、ベンゼン、トルエンおよヒ四
塩化炭素である。反応は約60〜120℃の範囲の温度
で実施することができる。適当な陽性ハロゲン源は塩化
スルフリル、N−クロロフタルイミド、N−プロモサク
シンイミドおよび特にN−クロロサクシンイミドである
。好適なルイス酸は四塩化錫である。R1が(保護され
た)ヒドロキシエチル基である好適な場合においては、
好適には試薬から微量の水を共沸除去した後のベンゼン
中においておよびN−クロロサクシンイミドの新しく再
結晶した試料を使用することによって高収量が得られる
ということが判った。
べることができる。本発明の方法Aによれば、陽性ノ・
ロゲン源の存在下において無水の不活性溶剤中でR/2
がカルボキシレート保護基好適にはp−ニトロベンジル
またはトリメチルシリルエチルであるペニシラン酸誘導
体(l[)を加熱せしめて次式 のスルフィニルハライド全形成させ、次にこのものをR
1が7タルイミドまたはアシルアミノ基である関連した
「古典的」ペニシリン誘導体(It)に対してS、 K
ukolja氏によって説明されている方法(「J、
Am、 Chem、 Soc、 J第98巻第5040
頁(1976年)参照〕と実質的に同様な方法で、同一
または異なる溶剤または溶剤混合物中で酸好適にはルイ
ス酸と反応せしめて式(1)の3−メチレンセファムス
ルホキシドを得る。本発明の好適な態様によればR1が
遊離または保護された1−ヒドロキシモチルのような場
合によっては置換されたアルキル基である式(III)
の化合物は新規である。上記反応に対する適当な溶剤は
1,2−ジクロロエタン、ベンゼン、トルエンおよヒ四
塩化炭素である。反応は約60〜120℃の範囲の温度
で実施することができる。適当な陽性ハロゲン源は塩化
スルフリル、N−クロロフタルイミド、N−プロモサク
シンイミドおよび特にN−クロロサクシンイミドである
。好適なルイス酸は四塩化錫である。R1が(保護され
た)ヒドロキシエチル基である好適な場合においては、
好適には試薬から微量の水を共沸除去した後のベンゼン
中においておよびN−クロロサクシンイミドの新しく再
結晶した試料を使用することによって高収量が得られる
ということが判った。
濃厚な溶液を使用する場合は、交叉結合した第3級アミ
ン〔例えばヒューニツヒ(Hiinig)塩基〕、酸化
プロピレンまたは懸濁した無機塩のような添加した酸受
容体の存在が有利である。
ン〔例えばヒューニツヒ(Hiinig)塩基〕、酸化
プロピレンまたは懸濁した無機塩のような添加した酸受
容体の存在が有利である。
次に、得られた化合物(I[[)を化合物(5)に変換
する。化合物(6))においてR1およびR/2は前述
した通りでありそしてWは (a) 基5−R4(式中R4はアルキルまたはアリー
ル基または好適にはへテロシクリル基特に2−ベンゾチ
アゾリルを示す)または 異なりて上記R4として定義される基であるかまたは好
適には全体の基が7タルイミドまたはサクシンイミド基
であるような基である〕または(C) 基8−R4(式
中R4は前述した通りであり− そして好適にはフェニルまたはp −) 1)ル基であ
る) かう選択された離脱性基である。
する。化合物(6))においてR1およびR/2は前述
した通りでありそしてWは (a) 基5−R4(式中R4はアルキルまたはアリー
ル基または好適にはへテロシクリル基特に2−ベンゾチ
アゾリルを示す)または 異なりて上記R4として定義される基であるかまたは好
適には全体の基が7タルイミドまたはサクシンイミド基
であるような基である〕または(C) 基8−R4(式
中R4は前述した通りであり− そして好適にはフェニルまたはp −) 1)ル基であ
る) かう選択された離脱性基である。
変換を達成するために、化合物(DI)を適箔な溶剤中
において適当な温度で加熱する。アリルスルホキシド(
II)および式 のスルフェネートの間の平衡が起こりそして後者の化合
物は反応混合物に加えられる式HW(式中Wは前述した
通りである)の化合物またはその塩またはシリル化誘導
体によってトラップすることができる。好適な溶剤は還
流温度または殆ど還流温度に近い温度におけるトルエン
である。
において適当な温度で加熱する。アリルスルホキシド(
II)および式 のスルフェネートの間の平衡が起こりそして後者の化合
物は反応混合物に加えられる式HW(式中Wは前述した
通りである)の化合物またはその塩またはシリル化誘導
体によってトラップすることができる。好適な溶剤は還
流温度または殆ど還流温度に近い温度におけるトルエン
である。
非常に一般的ではないけれども、β、γ−不飽和スルホ
キシドからのアリルアルコールの製造は有機化学におけ
る一般的方法である(J、 March氏著[Adva
nced Organic Chemistry J
1977年版第1056頁)。β−ラクタム抗生物質の
分野において、それは非常に最近1−オキサ−1−デチ
アセフエム誘導体の合成においてR1がα−配向ベンズ
アミド基である式(III)の化合物に対し【利用され
ている[ 「Tetrahedron Lett、J第
23巻第6679頁(1982年)および特掬昭57−
58769号公報(Derwent No、29389
F) 〕o R’が置換または未置換のアミン基以外の
ものである化合物ある化合物(5)におけるように新規
である。特に本発明の特に好適な態様の一部であるR1
が1−ヒドロキシエチルである化合物@)は新規である
。
キシドからのアリルアルコールの製造は有機化学におけ
る一般的方法である(J、 March氏著[Adva
nced Organic Chemistry J
1977年版第1056頁)。β−ラクタム抗生物質の
分野において、それは非常に最近1−オキサ−1−デチ
アセフエム誘導体の合成においてR1がα−配向ベンズ
アミド基である式(III)の化合物に対し【利用され
ている[ 「Tetrahedron Lett、J第
23巻第6679頁(1982年)および特掬昭57−
58769号公報(Derwent No、29389
F) 〕o R’が置換または未置換のアミン基以外の
ものである化合物ある化合物(5)におけるように新規
である。特に本発明の特に好適な態様の一部であるR1
が1−ヒドロキシエチルである化合物@)は新規である
。
一般的なアリルアルコール合成においておよび特定の1
−オキサ−1−デチアセフエム製造(前記参照)におい
ては、基Wまたは他の親核基によって切断された後硫黄
原子は失われるのであるから、所望の化合物の分子中に
中間スルフェネートの硫黄および酸素原子を導入する思
想もまた新規である。次に化合物(旬を式W)の化合物
に変換する。化合物(V)において、R1およびR/2
は前述した通りでありそしてYは化合物(υに対して前
述した意義の一つであって保護されたヒドロキシ、低級
アルコキシ、アシロキシ、または遊離であるかN−保護
またはN−アルキル置換されたカルバモイルオキシ基の
一つを有し得る。
−オキサ−1−デチアセフエム製造(前記参照)におい
ては、基Wまたは他の親核基によって切断された後硫黄
原子は失われるのであるから、所望の化合物の分子中に
中間スルフェネートの硫黄および酸素原子を導入する思
想もまた新規である。次に化合物(旬を式W)の化合物
に変換する。化合物(V)において、R1およびR/2
は前述した通りでありそしてYは化合物(υに対して前
述した意義の一つであって保護されたヒドロキシ、低級
アルコキシ、アシロキシ、または遊離であるかN−保護
またはN−アルキル置換されたカルバモイルオキシ基の
一つを有し得る。
好適な保護されたヒドロキシ基はテトラヒドロピラニル
オキシまたはシリルオキシ基例えばt−ブチルジメチル
シリルオキシまたはカーボネ−I’ M RO−Co・
0例えばp−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシで
ある。好適なアシロキシ基はアセトキシでありそして好
適なカルバモイルオキシ基は0CONH2である。この
ように定義された化合物■)は新規である。化合物(V
lへの化合物(5)の変換は、例えば置換されたシリル
クロ2イド、クロロホルメートまたはジアゾアルカンま
たはアシルクロライドまたは無水物例えば塩化アセチル
または酢酸無水物またはイソシアネート例えばイソシア
ン酸エチルまたはトリクロロアセチルイソシアネートと
の反応によって有利に実施される。もし化合物(1)が
前述した試薬および化合物HWの混合物でかまたは化合
物贋の反応性誘導体で処理されると化合物(ト)はしば
しば化合物(I[I)から直接得られるということに留
意されたい。例えば2−アセチルチオ−ベンゾチアゾー
ルはYがアセチルでありそしてWが2−ベンゾチアゾリ
ルチオである化合物(7)への化合物(1)の変換を行
ない得る。
オキシまたはシリルオキシ基例えばt−ブチルジメチル
シリルオキシまたはカーボネ−I’ M RO−Co・
0例えばp−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシで
ある。好適なアシロキシ基はアセトキシでありそして好
適なカルバモイルオキシ基は0CONH2である。この
ように定義された化合物■)は新規である。化合物(V
lへの化合物(5)の変換は、例えば置換されたシリル
クロ2イド、クロロホルメートまたはジアゾアルカンま
たはアシルクロライドまたは無水物例えば塩化アセチル
または酢酸無水物またはイソシアネート例えばイソシア
ン酸エチルまたはトリクロロアセチルイソシアネートと
の反応によって有利に実施される。もし化合物(1)が
前述した試薬および化合物HWの混合物でかまたは化合
物贋の反応性誘導体で処理されると化合物(ト)はしば
しば化合物(I[I)から直接得られるということに留
意されたい。例えば2−アセチルチオ−ベンゾチアゾー
ルはYがアセチルでありそしてWが2−ベンゾチアゾリ
ルチオである化合物(7)への化合物(1)の変換を行
ない得る。
本発明の方法Aの次の工程においては、化合物(v)を
成立)の化合物に変換する。化合物(VDにおいて、R
1、R′2、wおよびYは前述した通りでありそしてL
は塩素、臭素、場合によっては置換されたアルカンスル
ホニルオキシまたはアレンスルホニルオキシ例えばメシ
ルオキシ、トシルオキシまたはトリフルオロメタンスル
ホニルオキシから選択される離脱性基である。波線1は
基りがアゼチジニル基に関してシスまたはトランスであ
り得ることを示す。変換ははじめに化合物(v)を加オ
ゾン分解して次式 のエノールまたはそのケト互変異性体を得、次にこの化
合物をヒドロキシ置換分を基りに変換するのに適当であ
ることが知られている試薬と反応させることによって実
施できる。この型の好適な試薬は塩化オキザリル(L=
(J)、塩化メシルまたはメシル無水物(L = 08
O2CH3)、トリフルオロメタンスルホニル無水物(
L=08020F3)である。これらは好適にはトリエ
チルアミンまたはピリジンのような塩基の存在下におい
てそしてジクロロメタンまたはテトラヒドロンランのよ
うな適当な溶剤中で使用される好適な基りはメシルオキ
シでありそしてアゼチジニル基に関して好適な幾何学的
配置は以下に示すシス配置(アルケン2幾何学的配置)
である。
成立)の化合物に変換する。化合物(VDにおいて、R
1、R′2、wおよびYは前述した通りでありそしてL
は塩素、臭素、場合によっては置換されたアルカンスル
ホニルオキシまたはアレンスルホニルオキシ例えばメシ
ルオキシ、トシルオキシまたはトリフルオロメタンスル
ホニルオキシから選択される離脱性基である。波線1は
基りがアゼチジニル基に関してシスまたはトランスであ
り得ることを示す。変換ははじめに化合物(v)を加オ
ゾン分解して次式 のエノールまたはそのケト互変異性体を得、次にこの化
合物をヒドロキシ置換分を基りに変換するのに適当であ
ることが知られている試薬と反応させることによって実
施できる。この型の好適な試薬は塩化オキザリル(L=
(J)、塩化メシルまたはメシル無水物(L = 08
O2CH3)、トリフルオロメタンスルホニル無水物(
L=08020F3)である。これらは好適にはトリエ
チルアミンまたはピリジンのような塩基の存在下におい
てそしてジクロロメタンまたはテトラヒドロンランのよ
うな適当な溶剤中で使用される好適な基りはメシルオキ
シでありそしてアゼチジニル基に関して好適な幾何学的
配置は以下に示すシス配置(アルケン2幾何学的配置)
である。
次に化合物(至)を環化して2−チアセフェム(■)(
式中R1、R/2およびYは前述した通りである)を与
える。この環化は化合物(2)をジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルまたはエタノ
ール(場合によっては水と混合した)のような適当な溶
剤中においてトリエチルアミンまたはピリジンのような
塩基の存在下で硫化水素とかまたはスルフィドまたはヒ
ドロスルフィド例えば硫化ナトリウム、NaH8゜Bu
4NH8と反応せしめることによって単一工程で実施さ
れる。最良の収量は、試薬を一10〜+60℃の温度に
おいて出発物質を消費するのに必要な時間だけ反応せし
める場合に得られる。最後に、好適ニはクロロホルム、
アセトニトリル、テトラヒドロフラン、エタノール、ジ
メチルスルホキシドおよびアセトンから選択された適当
な溶剤中において3価の有機燐試薬好適にはトリフェニ
ルホスフィンと反応せしめることによって化合物(■)
を脱硫して式(IN式中R2はR/2でありそしてR1
、R12およびYは前述した通りである)のペネムにす
る。溶剤の型は基R1、R′2、Yによって得られるペ
ネム(■)の5−C原子の配置に対して顕著な作用を有
し得るものでありそしてそれは5Rベネムジアステレオ
マーのもつとも高い収量を達成するために注意をもって
選択しなければならない。本発明の方法においては、得
られた化合物(υはもし必要ならば他の化合物(1)K
変換することができる。この型の好適な変換はR1基上
の官能基の脱保護、または保獲されたヒドロキシ基Yの
脱保護、または異なるR2基へのR12の変換のような
標準反応からなる。特に−〇02R’がp−ニトロベン
ジルエステルのようなエステル基である場合は、それは
基−C02R2(式中R2は水素、ナトリウムまたはカ
リウムである)に変換することができる。R/2基と異
なるR2基または前述した原子との間のおよび(または
) Bj 、R2の異なる許容し得る意義の間の内部変
換は、もし必要ならば2−チアセフェム中間体(1’I
Oに対して実施することができる。酸条件に対する2−
チアセフェム核の良好な安定性のためにペネムに至る他
の古典的な方法に比較した方法Aの顕著な利点は、はネ
ム環系と相客しないエステル加水分解(例えばt−ブチ
ルまたはジフェニルメチルエステルの解裂)を2−チア
セフェムプレカーサーに対して実施することができ、他
方特におだやかな且つ容易な反応である最終的な環状網
を遊離酸に対して有機または無機塩基とのその塩に対し
てまたは種々な不安定エステル(例えばトリメチルシリ
ルエステル)に対して実施することができ、その結果仮
に高度に官能化されそして比較的不安定だとしても直接
所望の化合物を得ることができるということである。
式中R1、R/2およびYは前述した通りである)を与
える。この環化は化合物(2)をジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルまたはエタノ
ール(場合によっては水と混合した)のような適当な溶
剤中においてトリエチルアミンまたはピリジンのような
塩基の存在下で硫化水素とかまたはスルフィドまたはヒ
ドロスルフィド例えば硫化ナトリウム、NaH8゜Bu
4NH8と反応せしめることによって単一工程で実施さ
れる。最良の収量は、試薬を一10〜+60℃の温度に
おいて出発物質を消費するのに必要な時間だけ反応せし
める場合に得られる。最後に、好適ニはクロロホルム、
アセトニトリル、テトラヒドロフラン、エタノール、ジ
メチルスルホキシドおよびアセトンから選択された適当
な溶剤中において3価の有機燐試薬好適にはトリフェニ
ルホスフィンと反応せしめることによって化合物(■)
を脱硫して式(IN式中R2はR/2でありそしてR1
、R12およびYは前述した通りである)のペネムにす
る。溶剤の型は基R1、R′2、Yによって得られるペ
ネム(■)の5−C原子の配置に対して顕著な作用を有
し得るものでありそしてそれは5Rベネムジアステレオ
マーのもつとも高い収量を達成するために注意をもって
選択しなければならない。本発明の方法においては、得
られた化合物(υはもし必要ならば他の化合物(1)K
変換することができる。この型の好適な変換はR1基上
の官能基の脱保護、または保獲されたヒドロキシ基Yの
脱保護、または異なるR2基へのR12の変換のような
標準反応からなる。特に−〇02R’がp−ニトロベン
ジルエステルのようなエステル基である場合は、それは
基−C02R2(式中R2は水素、ナトリウムまたはカ
リウムである)に変換することができる。R/2基と異
なるR2基または前述した原子との間のおよび(または
) Bj 、R2の異なる許容し得る意義の間の内部変
換は、もし必要ならば2−チアセフェム中間体(1’I
Oに対して実施することができる。酸条件に対する2−
チアセフェム核の良好な安定性のためにペネムに至る他
の古典的な方法に比較した方法Aの顕著な利点は、はネ
ム環系と相客しないエステル加水分解(例えばt−ブチ
ルまたはジフェニルメチルエステルの解裂)を2−チア
セフェムプレカーサーに対して実施することができ、他
方特におだやかな且つ容易な反応である最終的な環状網
を遊離酸に対して有機または無機塩基とのその塩に対し
てまたは種々な不安定エステル(例えばトリメチルシリ
ルエステル)に対して実施することができ、その結果仮
に高度に官能化されそして比較的不安定だとしても直接
所望の化合物を得ることができるということである。
本発明の方法Bによれば、化合物(■)(式中R1は前
述した通りでありそしてR′2は好適には容易に導入さ
れ且つペニシリンプレカーサーから中間体(III)の
段階までの収率、精製などに対して有利に実施できるメ
チルまたは一〇02部分と共にエステル基を形成する他
の残基である)をはじめに式(110(式中R1および
Yは前述した通りである)の重要なラクトン中間体に変
換する。
述した通りでありそしてR′2は好適には容易に導入さ
れ且つペニシリンプレカーサーから中間体(III)の
段階までの収率、精製などに対して有利に実施できるメ
チルまたは一〇02部分と共にエステル基を形成する他
の残基である)をはじめに式(110(式中R1および
Yは前述した通りである)の重要なラクトン中間体に変
換する。
変換は5つの分離した工程で実施することができる。す
なわち (1)化合物(Ill)をはじめに前述したようにして
化合物(mに変換する。
なわち (1)化合物(Ill)をはじめに前述したようにして
化合物(mに変換する。
e) 化合物(5)を2クトン化せしめて式(■)の中
間体を与える。このようなラクトン化は延長した加熱に
よっておよび(または)塩基性または酸性触媒にさらす
ことによって促進される。好適な塩基性触媒はジクロロ
メタンまたはテトラヒドロフランのような不活性有機溶
剤の存在下または不存在下におけるトリエチルアミンで
ある。これらの条件下において、方法は室温またはそれ
以下の温度で非常に急速でありそして殆ど定量的収率で
化合物(■)を与える。
間体を与える。このようなラクトン化は延長した加熱に
よっておよび(または)塩基性または酸性触媒にさらす
ことによって促進される。好適な塩基性触媒はジクロロ
メタンまたはテトラヒドロフランのような不活性有機溶
剤の存在下または不存在下におけるトリエチルアミンで
ある。これらの条件下において、方法は室温またはそれ
以下の温度で非常に急速でありそして殆ど定量的収率で
化合物(■)を与える。
た通りである)による化合物HWまたはその塩(式中W
は前述した通りである)の置換は、最後に再び非常に簡
単な操作条件(室温またはそれ以下におけるジクロロメ
タンのような不活性溶剤)下にそしてすぐれた収率で化
合物(幻を与える。
は前述した通りである)の置換は、最後に再び非常に簡
単な操作条件(室温またはそれ以下におけるジクロロメ
タンのような不活性溶剤)下にそしてすぐれた収率で化
合物(幻を与える。
化合物(IK)への化合物(I[[)の変換は2工程ま
たは1工程でさえ遂行することができる。すなわちHW
の存在下における化合物(In)の延長した加熱は普通
(mの代りに直接(■)を与える。更に化合物は普通良
好な収率で(7)を与える。この直接的結果は前記チオ
酸による熱的に発生したスルフェネート、この場合にお
いては次式 の化合物の(従来未報告の)トラッピング次いで自発的
なまたは酸接触ラクトン化から起こると信じられる。
たは1工程でさえ遂行することができる。すなわちHW
の存在下における化合物(In)の延長した加熱は普通
(mの代りに直接(■)を与える。更に化合物は普通良
好な収率で(7)を与える。この直接的結果は前記チオ
酸による熱的に発生したスルフェネート、この場合にお
いては次式 の化合物の(従来未報告の)トラッピング次いで自発的
なまたは酸接触ラクトン化から起こると信じられる。
その後、アシルジチオアゼチジニルラクトン(力を3価
の有機燐試薬好適にはトリノエニルホスフインで脱硫し
て相当するチオエステル2クトン(力を得る。再び、こ
の方法は室温(好適にはジクロロメタンのよ5な不活性
有機溶剤が使用される)で急速であり、良好な収率を与
えそしてもとのアゼチジノンC−4配置の実質的な保持
(HlおよびS−8−C−CH2Yが互にシス配置され
1 ている場合でさえも合理的な可能性を越えてンをもって
進行する。これは天然のはニジラン酸プレカーサーを望
ましい5R配置を有するズネム化合物(I)〔抗菌活性
に対する本質的な立体化学の必要条件、[J、 Am、
Chem、 Soc、J第101巻第6606頁(1
979年)〕に変換する能力を本発明の方法Bに与える
のに決定的である。化合物(幻は脱硫前に単離する必要
はな(、その結果(幻への(III)の単一ポットでの
変換が可能である。
の有機燐試薬好適にはトリノエニルホスフインで脱硫し
て相当するチオエステル2クトン(力を得る。再び、こ
の方法は室温(好適にはジクロロメタンのよ5な不活性
有機溶剤が使用される)で急速であり、良好な収率を与
えそしてもとのアゼチジノンC−4配置の実質的な保持
(HlおよびS−8−C−CH2Yが互にシス配置され
1 ている場合でさえも合理的な可能性を越えてンをもって
進行する。これは天然のはニジラン酸プレカーサーを望
ましい5R配置を有するズネム化合物(I)〔抗菌活性
に対する本質的な立体化学の必要条件、[J、 Am、
Chem、 Soc、J第101巻第6606頁(1
979年)〕に変換する能力を本発明の方法Bに与える
のに決定的である。化合物(幻は脱硫前に単離する必要
はな(、その結果(幻への(III)の単一ポットでの
変換が可能である。
特定の場合においてはラクトン化/基W置換/脱硫の操
作順序を逆にすることが有利である。
作順序を逆にすることが有利である。
すなわちC力を与えるための(Sel+)の反応に対し
て記載したと同じ実験条件下における(IV)と式y−
cH2−5−saの化合物との反応は、式 の化合物を与える。あるいはまた該化合物は置換分特に
R′の性質および反応条件によって式(7)Oラクトン
と共にかまたはその式(埠のラクトンの代りに種々な量
で(III)および前述した化合物Y−CH2−C−8
Hから直接得ることができる。次に1 式(IKa )の化合物を(@への(5)の変換に対し
て記載したと同じ実験条件でラクトン化して式(力の化
金物を得るかまたは(X)への(的の脱硫に対して記載
した実験条件を使用することによって脱硫して式 の化合物となしそして次に再び(■)への(6)の変換
に対して記載した条件下でそのラクトン(X)に変換す
ることができる。すべてのこれらの方法の最終結果は重
要な中間体(力である。
て記載したと同じ実験条件下における(IV)と式y−
cH2−5−saの化合物との反応は、式 の化合物を与える。あるいはまた該化合物は置換分特に
R′の性質および反応条件によって式(7)Oラクトン
と共にかまたはその式(埠のラクトンの代りに種々な量
で(III)および前述した化合物Y−CH2−C−8
Hから直接得ることができる。次に1 式(IKa )の化合物を(@への(5)の変換に対し
て記載したと同じ実験条件でラクトン化して式(力の化
金物を得るかまたは(X)への(的の脱硫に対して記載
した実験条件を使用することによって脱硫して式 の化合物となしそして次に再び(■)への(6)の変換
に対して記載した条件下でそのラクトン(X)に変換す
ることができる。すべてのこれらの方法の最終結果は重
要な中間体(力である。
次の工程は、ジクロロメタンのような適当な溶剤中にお
いて一70〜約0℃の間の温度で化合物へ)を加オゾン
分解してオキザールイミド(2)を得ることからなる。
いて一70〜約0℃の間の温度で化合物へ)を加オゾン
分解してオキザールイミド(2)を得ることからなる。
この反応は有用な−N−C−CO2−1
部分を与えるのみでな(またペネム化合物(1)に導入
されるべく次の工程において結合されるアセトニルエス
テルを形成する。化合物国)はホスホラン(xm)のウ
イテイツヒ型閉環によってペネム化合物(I)に変換す
ることができる。この目的に対しては化合物(至)をは
じめにカルビノール(XIOに還元する。これはボラン
(例えばB2H6) 、水素化物(例えばNa BH4
、NaBH3CN )または金属(例えばkl/Hg、
Zn)のような種々な還元剤によって達成することがで
きる。好適な試薬は有機酸好適には酢酸の存在下におけ
る亜鉛末である。
されるべく次の工程において結合されるアセトニルエス
テルを形成する。化合物国)はホスホラン(xm)のウ
イテイツヒ型閉環によってペネム化合物(I)に変換す
ることができる。この目的に対しては化合物(至)をは
じめにカルビノール(XIOに還元する。これはボラン
(例えばB2H6) 、水素化物(例えばNa BH4
、NaBH3CN )または金属(例えばkl/Hg、
Zn)のような種々な還元剤によって達成することがで
きる。好適な試薬は有機酸好適には酢酸の存在下におけ
る亜鉛末である。
この場合においては、反応は前記試薬を加えそして0〜
30℃の範囲の温度で攪拌することによって同じ加オゾ
ン分解容器(溶剤 ジクロロメタン)中で有利に実施さ
れる。
30℃の範囲の温度で攪拌することによって同じ加オゾ
ン分解容器(溶剤 ジクロロメタン)中で有利に実施さ
れる。
はネム化合物(1)を与える次の工程はウッドワード[
[J、 Am、 Chem、 Soc、 J第100巻
第8214頁(1978年)]によって記載されている
非常に一般的な方法に従うので簡単に記載する。カルビ
ノール(Xll)を相当するクロライドに変換しく好適
な試薬はピリジンまたはルチジン中の塩化チオニルであ
るフそして次にホスホランに変換し〔試薬として場合に
よっては塩基および(または)シリカゲルの存在下にお
けるトリフェニルホスフィンを使用〕、次にこれを不活
性溶剤(例えばベンゼン、トルエンまたはキシレン)中
で熱分解してペネム化合物(I) (R’およびYは前
述した通り、R2=アセトニル)を得る。このようにし
て得られた化合物(1)は場合によっては前述したよう
な異なる化合物(1)に変換することができる。特にア
セトニルエステルは水酸化ナトリウムの希溶液による簡
単な処理(「、T 、 Am、 Chem。
[J、 Am、 Chem、 Soc、 J第100巻
第8214頁(1978年)]によって記載されている
非常に一般的な方法に従うので簡単に記載する。カルビ
ノール(Xll)を相当するクロライドに変換しく好適
な試薬はピリジンまたはルチジン中の塩化チオニルであ
るフそして次にホスホランに変換し〔試薬として場合に
よっては塩基および(または)シリカゲルの存在下にお
けるトリフェニルホスフィンを使用〕、次にこれを不活
性溶剤(例えばベンゼン、トルエンまたはキシレン)中
で熱分解してペネム化合物(I) (R’およびYは前
述した通り、R2=アセトニル)を得る。このようにし
て得られた化合物(1)は場合によっては前述したよう
な異なる化合物(1)に変換することができる。特にア
セトニルエステルは水酸化ナトリウムの希溶液による簡
単な処理(「、T 、 Am、 Chem。
Soc、J第101巻第6606頁(1979年)〕に
よって容易に解裂してもとのベネム酸のナトリウム塩を
与えることができる。
よって容易に解裂してもとのベネム酸のナトリウム塩を
与えることができる。
例 1
4(6)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−ヒドロ
キシメチル−1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−1−プロプ−2−エニルー3(R)’−フタルイミド
ーアゼチジンー2−オン 乾燥トルエン50tnl!中の7 (R)−7タルイミ
ドー3−メチレンセファム−1−オキシドル−ニトロベ
ンジルエステル495m19の溶液を、2−メルカプト
ベンゾチアゾール250■と共に1時間還流する。溶剤
を除去して少量の4 (R)−ベンゾチアゾリルジチオ
−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒドロ−
フラン−3−イル)−3(R)−フタルイミド−アゼチ
ジンおよび過剰の2−メルカプトベンゾチアゾールを伴
った標記生成物(85%)からなるフオーム(泡状物)
を得る。この混合物を次の工程に対してそのまま有利に
使用することができる。シリカゲルクロマトグラフィー
処理後に、標記生成物の純粋な試料を得ることができる
。νmax (CHC/ 5フイルム)1780、 1
745、1720、 1605CIn 0 δ (cD
cz3ン 3.2゜br (IH,s 、 OH)、4
.47 (2H,s 、 CH20H)、5.22 (
IH,a 。
キシメチル−1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−1−プロプ−2−エニルー3(R)’−フタルイミド
ーアゼチジンー2−オン 乾燥トルエン50tnl!中の7 (R)−7タルイミ
ドー3−メチレンセファム−1−オキシドル−ニトロベ
ンジルエステル495m19の溶液を、2−メルカプト
ベンゾチアゾール250■と共に1時間還流する。溶剤
を除去して少量の4 (R)−ベンゾチアゾリルジチオ
−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒドロ−
フラン−3−イル)−3(R)−フタルイミド−アゼチ
ジンおよび過剰の2−メルカプトベンゾチアゾールを伴
った標記生成物(85%)からなるフオーム(泡状物)
を得る。この混合物を次の工程に対してそのまま有利に
使用することができる。シリカゲルクロマトグラフィー
処理後に、標記生成物の純粋な試料を得ることができる
。νmax (CHC/ 5フイルム)1780、 1
745、1720、 1605CIn 0 δ (cD
cz3ン 3.2゜br (IH,s 、 OH)、4
.47 (2H,s 、 CH20H)、5.22 (
IH,a 。
NCHCO)、5.31 (2H,s 、 0CH2A
r )、5.4’7 (’2H,m、 C:CH2)、
5.78 (IH,d 、 J=4.0Hz 、 N−
CH・CH3、7,2〜aO(l0J(、m。
r )、5.4’7 (’2H,m、 C:CH2)、
5.78 (IH,d 、 J=4.0Hz 、 N−
CH・CH3、7,2〜aO(l0J(、m。
Ar)、a19(2H,d、Ar) ppm0例 2
4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−アセト
キシメチル−1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−1−プロプ−2−エニルツー3(6)−フタルイミド
−アゼチジン−2−オン〔方法A〕 乾燥ジクロロメタン7ml中の例1に記載したようにし
て製造した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(
2−ヒドロキシメチル−1−p−二トロベンジルオキシ
カルボニル−1−プロプ−2−エニル)−3(R)−フ
タルイミド−アゼチジン−2−オン663 myの溶液
を順次に塩化アセチル011mおよびピリジン0.1コ
で0℃で処理する。数分後に混合物を水で洗滌しそして
乾燥した有機層を蒸発して標記生成物を得る。νmaX
(フィルム)1785.1770sh、1740.17
20.1605c+a 。
キシメチル−1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−1−プロプ−2−エニルツー3(6)−フタルイミド
−アゼチジン−2−オン〔方法A〕 乾燥ジクロロメタン7ml中の例1に記載したようにし
て製造した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(
2−ヒドロキシメチル−1−p−二トロベンジルオキシ
カルボニル−1−プロプ−2−エニル)−3(R)−フ
タルイミド−アゼチジン−2−オン663 myの溶液
を順次に塩化アセチル011mおよびピリジン0.1コ
で0℃で処理する。数分後に混合物を水で洗滌しそして
乾燥した有機層を蒸発して標記生成物を得る。νmaX
(フィルム)1785.1770sh、1740.17
20.1605c+a 。
δ(CDCJ3) 2.17 (3H,s 、 C0C
H5)、4.85(2H9brS、CIF(20)、5
.19 (IH,br s、NCHCO)、5.54
(5H,br S、0CH2ArおよびC:CH,旦)
、5.54 (IH,br s 、 C:CH,H)、
5.81(2H。
H5)、4.85(2H9brS、CIF(20)、5
.19 (IH,br s、NCHCO)、5.54
(5H,br S、0CH2ArおよびC:CH,旦)
、5.54 (IH,br s 、 C:CH,H)、
5.81(2H。
ABQ + J = 5.5 Hz 、内部線の分子5
9H2、β−ラクタムプロトン)、7.2〜aO(10
H,m、 Ar)、a19(2H,d、Ar)ppm0
〔方法B〕 例1およびこの例の方法Aに記載した2工程変換は単一
ポットで有利に実施することができる。すなわち7(R
)−フタルイミド−3−メチレン−セファム−1−オキ
シドp−ニトロベンジルエステル1.5gをメルカプト
ベンゾチアゾール50619と共にトルエン中で1.5
時間還流する。
9H2、β−ラクタムプロトン)、7.2〜aO(10
H,m、 Ar)、a19(2H,d、Ar)ppm0
〔方法B〕 例1およびこの例の方法Aに記載した2工程変換は単一
ポットで有利に実施することができる。すなわち7(R
)−フタルイミド−3−メチレン−セファム−1−オキ
シドp−ニトロベンジルエステル1.5gをメルカプト
ベンゾチアゾール50619と共にトルエン中で1.5
時間還流する。
今後、混合物をジクロロメタンでうすめモして0℃で順
次に塩化アセチル0.32−およびピリジン0.29m
で処理する。反応をTLCによって追跡し、必要ならば
塩化アセチルおよびピリジンの添加を反復する。水それ
から水性の酸性炭酸塩で洗滌しそして溶剤を除去して標
記生成物(2g)を得る。このものはそのまま次の工程
に使用することができる。
次に塩化アセチル0.32−およびピリジン0.29m
で処理する。反応をTLCによって追跡し、必要ならば
塩化アセチルおよびピリジンの添加を反復する。水それ
から水性の酸性炭酸塩で洗滌しそして溶剤を除去して標
記生成物(2g)を得る。このものはそのまま次の工程
に使用することができる。
7−フタルイミド−3−メチレンセファムスルホキシド
(0,5,9)を酢酸無水物(4d)を含有する乾燥ト
ルエン(24rd)中で1時間還流した場合、標記化合
物が良好な収率で得られる。
(0,5,9)を酢酸無水物(4d)を含有する乾燥ト
ルエン(24rd)中で1時間還流した場合、標記化合
物が良好な収率で得られる。
〔方法D〕 ″
7−フタルイミド−6−メチレン−セファム−1−オキ
シドを2−アセチルチオベンゾチアゾールと共にトルエ
ン中で還流して標記生成物を得る。
シドを2−アセチルチオベンゾチアゾールと共にトルエ
ン中で還流して標記生成物を得る。
例 3
4@−ベンゾチアゾリルジチオ−1−[2−(N−エチ
ルカルバモイルオキシ−メチル)−1−p−二トロベン
ジルオキシカルボニル−1−プロプ−2−エニル]−3
(R)−フタルイミド−アセチジン−2−オン乾燥トル
エン中の例1に記載したようにして製造した4(R)−
ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−ヒドロキシメチル
−1−p−二トロベンジルオキシカルボニル−1−プロ
プ−2−工二ル) −3(R)−フタルイミド−アゼチ
ジン−2−オン665 Qの溶液を室温で一夜イソシア
ン酸エチル1ゴで処理する。溶剤を除去して事実上定量
的収率で標記生成物を得る。νmax (CH(J5フ
ィルム)3410.1785.1770shq 172
0br、1610cm−’。
ルカルバモイルオキシ−メチル)−1−p−二トロベン
ジルオキシカルボニル−1−プロプ−2−エニル]−3
(R)−フタルイミド−アセチジン−2−オン乾燥トル
エン中の例1に記載したようにして製造した4(R)−
ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−ヒドロキシメチル
−1−p−二トロベンジルオキシカルボニル−1−プロ
プ−2−工二ル) −3(R)−フタルイミド−アゼチ
ジン−2−オン665 Qの溶液を室温で一夜イソシア
ン酸エチル1ゴで処理する。溶剤を除去して事実上定量
的収率で標記生成物を得る。νmax (CH(J5フ
ィルム)3410.1785.1770shq 172
0br、1610cm−’。
J (CDCJ5+D20) 1.15 (5H,t、
CH2CH5)、3−2 (”L q+CH2CH3
) 、4.8 (2H,br s 、 CH20)、5
.25 (4H,br s 。
CH2CH5)、3−2 (”L q+CH2CH3
) 、4.8 (2H,br s 、 CH20)、5
.25 (4H,br s 。
NCHCO+0CH2Ar+C:CH,H)、s、so
(IH,br B 、C’:CH,H)、5.80
(2H、ABq 、 J =5Hz 、β−ラクタムプ
ロトン)、7.2〜7.9(10H,m、Ar)、a1
5(2H,d、J=8Hz、Ar) ppm0反応は中
間体カルビノールを単離することなしに7(R)−フタ
ルイミド−3−メチレン−セファム−1−オキシドp−
ニトロベンジルエステルおよび2−メルカプトベンゾチ
アゾールから出発して有利に実施す為ことができる。カ
ラムクロマトグラフィー処理は70%以上の全収率で純
粋な標記生成物を与える。
(IH,br B 、C’:CH,H)、5.80
(2H、ABq 、 J =5Hz 、β−ラクタムプ
ロトン)、7.2〜7.9(10H,m、Ar)、a1
5(2H,d、J=8Hz、Ar) ppm0反応は中
間体カルビノールを単離することなしに7(R)−フタ
ルイミド−3−メチレン−セファム−1−オキシドp−
ニトロベンジルエステルおよび2−メルカプトベンゾチ
アゾールから出発して有利に実施す為ことができる。カ
ラムクロマトグラフィー処理は70%以上の全収率で純
粋な標記生成物を与える。
例 4
4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−(N−
トリクロロアセチル)−力ルパモイルオキシメチル−1
−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−1−プロプ−
2−エニル〕−3(R)−フタルイミド−アゼチジン−
2−オン イソシアン酸エチルの代りにトリクロロアセチルイソシ
アネートを使用する以外は例3に記載したように操作し
て標記生成物を得る。νmax(CHCJ3フィルム)
1800sh、1785sh、1775.1750.1
725.1660.1610cgL0 δ(CDCA’
3) 4.95 (2H,br s 。
トリクロロアセチル)−力ルパモイルオキシメチル−1
−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−1−プロプ−
2−エニル〕−3(R)−フタルイミド−アゼチジン−
2−オン イソシアン酸エチルの代りにトリクロロアセチルイソシ
アネートを使用する以外は例3に記載したように操作し
て標記生成物を得る。νmax(CHCJ3フィルム)
1800sh、1785sh、1775.1750.1
725.1660.1610cgL0 δ(CDCA’
3) 4.95 (2H,br s 。
C’H20)、5.5 (4H,m 、 0CH2Ar
+NCHCO+C;CH,H)、5.55(IH,b
r s 、 C:CH,H)、5.82 (2H,s
、β−ラクタムプロトン)、7.2〜7.9 (10’
H,m、 Ar)、a18(2H,d、J=8Hz、A
r) ppm6゜例 5 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−(2−
テトラヒドロピラニルオキシメチル)−1−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−1−ゾロブー2−エニル)
−3(R)−フタルイミト−−アゼチジン−2−オン 乾燥ジクロロメタン中の例1に記載したようにして製造
した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−ヒ
ドロキシメチル−1−p−二トロベンジルオキシカルボ
ニル−1−プロツー2−エニル)−3(R)−フタルイ
ミド−アゼチジン−2−オン665 mgの溶液を接触
量のピリジニウムp−)ルエンスルホネートの存在下に
おいて大過剰のジヒドロピランと一夜反応せしめる。
+NCHCO+C;CH,H)、5.55(IH,b
r s 、 C:CH,H)、5.82 (2H,s
、β−ラクタムプロトン)、7.2〜7.9 (10’
H,m、 Ar)、a18(2H,d、J=8Hz、A
r) ppm6゜例 5 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−(2−
テトラヒドロピラニルオキシメチル)−1−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−1−ゾロブー2−エニル)
−3(R)−フタルイミト−−アゼチジン−2−オン 乾燥ジクロロメタン中の例1に記載したようにして製造
した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−ヒ
ドロキシメチル−1−p−二トロベンジルオキシカルボ
ニル−1−プロツー2−エニル)−3(R)−フタルイ
ミド−アゼチジン−2−オン665 mgの溶液を接触
量のピリジニウムp−)ルエンスルホネートの存在下に
おいて大過剰のジヒドロピランと一夜反応せしめる。
水性処理および真空蒸発によって標記生成物を得る。ν
maX (フィルム)17’85.1775sh、17
40.1720.1610m−’。δ(CDC13)1
.64(6H,m、ピラニルch、cg2.C2)z5
A〜4.0(2H,m、OCH+、ピラニル)、4.3
0および4.41(2H。
maX (フィルム)17’85.1775sh、17
40.1720.1610m−’。δ(CDC13)1
.64(6H,m、ピラニルch、cg2.C2)z5
A〜4.0(2H,m、OCH+、ピラニル)、4.3
0および4.41(2H。
ABq+sの中心、CH20)、4.70(IH,m、
ピラニルo、cH,o)、5.20および5.25(I
H,それぞれe、NベニH,CO) 、5.32 (2
H。
ピラニルo、cH,o)、5.20および5.25(I
H,それぞれe、NベニH,CO) 、5.32 (2
H。
s 、 0CH2Ar) 、5.44 (2H,m 、
C: CH2) 、571および5.74(1H1そ
れぞれd 、 J=5.QHz、 CH,CH,S)、
5.82および5.84(IH,それぞれd、J=5.
OHz、N、CH,CH)、7.20〜a25(12H
,m、Ar)ppm。
C: CH2) 、571および5.74(1H1そ
れぞれd 、 J=5.QHz、 CH,CH,S)、
5.82および5.84(IH,それぞれd、J=5.
OHz、N、CH,CH)、7.20〜a25(12H
,m、Ar)ppm。
このようにする代りに、カルビノールを単離することな
しに室温における順次の還流下でのトルエン中での2−
メルカプトベンゾチアゾールとの反応およびトルエンお
よびジクロロメタン中でのジヒドロピランとの反応によ
って、7(6)−フタルイミド−6−メチレン−セファ
ム−1−オキシドp−ニトロベンジルエステルヲ標記生
成物(シリカゲルクロマトグラフィー処理後70チの収
率)に変換することができる。
しに室温における順次の還流下でのトルエン中での2−
メルカプトベンゾチアゾールとの反応およびトルエンお
よびジクロロメタン中でのジヒドロピランとの反応によ
って、7(6)−フタルイミド−6−メチレン−セファ
ム−1−オキシドp−ニトロベンジルエステルヲ標記生
成物(シリカゲルクロマトグラフィー処理後70チの収
率)に変換することができる。
例 6
(E)−1−(3−アセトキシ−2−メタンスルホニル
、t−+シー1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−1−プロプ−1−エニル)−4(R)−ベンゾチアゾ
リルジチオ−3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2
−オン ジクロロメタン/メタノール混合物中の例2の方法Bに
記載したようにして製造した粗製の4 (PJI−ベン
ゾチアゾリルジチオ−1−(2−アセトキシメチル−1
−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−1−プロプ−
2−エニル)−3(2)−フタルイミド−アゼチジン−
2−オンの溶液を、−70℃でオゾン処理する(TLC
監視)。次に硫化ジメチル1−を加えそして混合物を室
温で30分攪拌する。溶剤を除去して粗製の中間体エノ
ールを得、これを乾燥した蒸留ナト2ヒドロフラン中で
塩化メシル/ピリジン(モル当量量)と反応させる。も
し必要ならばTLCが変換の完了を示すまで更に塩化メ
シルおよびピリジンの量を加える。部分的真空蒸発後に
、反応混合物を水と酢酸エチルとの間に分配する。
、t−+シー1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−1−プロプ−1−エニル)−4(R)−ベンゾチアゾ
リルジチオ−3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2
−オン ジクロロメタン/メタノール混合物中の例2の方法Bに
記載したようにして製造した粗製の4 (PJI−ベン
ゾチアゾリルジチオ−1−(2−アセトキシメチル−1
−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−1−プロプ−
2−エニル)−3(2)−フタルイミド−アゼチジン−
2−オンの溶液を、−70℃でオゾン処理する(TLC
監視)。次に硫化ジメチル1−を加えそして混合物を室
温で30分攪拌する。溶剤を除去して粗製の中間体エノ
ールを得、これを乾燥した蒸留ナト2ヒドロフラン中で
塩化メシル/ピリジン(モル当量量)と反応させる。も
し必要ならばTLCが変換の完了を示すまで更に塩化メ
シルおよびピリジンの量を加える。部分的真空蒸発後に
、反応混合物を水と酢酸エチルとの間に分配する。
有機層を蒸発しそして残留物をシリカケ゛ルカラムに通
して標記生成物を得る。νm&X (フィルム)179
0sh、 1770.1750sh、 1720.13
80.1170cIrL0例 7 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−1:3−(N
−エチルカルバモイルオキシ)−2−メタンスルホニル
オキシ−1−p−二トロベンジルオキシカルボニル−1
−プロプ−1−エニル)−3(R)−フタルイミドーア
ゼチジンー2−オン容量でろ:2のメタノール/ジクロ
ロメタン中の例3に記載したようにして製造した4(刊
−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−(N−4チルカ
ルバモイルオキシメチル)−1−プロプ−2−エニル)
−3(R)−フタルイミド−アセチジン−2−オン6
00gの溶液を、出発物質がrr=cによってもはや検
出できなくなるまで一70℃でオゾン化する。溶液を窒
素でパージしそして次に硫化ジメチル1 +++/の存
在下において室温まで加温ぜしめる。溶剤の除去および
フラッシュクロマトグラフィー処理によって、若干の4
(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−6(R)−フタルイ
ミド−アゼチジン−2−オン次いで4(R)−ベンゾチ
アゾリルジチオ−1−[3−(N−エチルカルバモイル
オキシ)−2−ヒドロキシ−1−p−ニトロベンジルオ
キシカルボニル−1−−1o−f’−1−エニル) −
3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−オンを得る
。νmax (CHC15フイルムフ3650.178
5.1770.1720.1650儂 。
して標記生成物を得る。νm&X (フィルム)179
0sh、 1770.1750sh、 1720.13
80.1170cIrL0例 7 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−1:3−(N
−エチルカルバモイルオキシ)−2−メタンスルホニル
オキシ−1−p−二トロベンジルオキシカルボニル−1
−プロプ−1−エニル)−3(R)−フタルイミドーア
ゼチジンー2−オン容量でろ:2のメタノール/ジクロ
ロメタン中の例3に記載したようにして製造した4(刊
−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−(N−4チルカ
ルバモイルオキシメチル)−1−プロプ−2−エニル)
−3(R)−フタルイミド−アセチジン−2−オン6
00gの溶液を、出発物質がrr=cによってもはや検
出できなくなるまで一70℃でオゾン化する。溶液を窒
素でパージしそして次に硫化ジメチル1 +++/の存
在下において室温まで加温ぜしめる。溶剤の除去および
フラッシュクロマトグラフィー処理によって、若干の4
(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−6(R)−フタルイ
ミド−アゼチジン−2−オン次いで4(R)−ベンゾチ
アゾリルジチオ−1−[3−(N−エチルカルバモイル
オキシ)−2−ヒドロキシ−1−p−ニトロベンジルオ
キシカルボニル−1−−1o−f’−1−エニル) −
3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−オンを得る
。νmax (CHC15フイルムフ3650.178
5.1770.1720.1650儂 。
乾燥した蒸留テトラヒドロンラン4ゴ中の後者の物質4
00■を塩化メシル0.42mおよびピリジン0.44
−で処理する。室温で10分攪拌した後、溶剤を除去す
る。残留物を酢酸エチルにとりそして冷水性塩酸で洗滌
する。溶剤を再び留去して粗製の標記生成物を得る。フ
ラッシュクロマトグラフィー処理゛の後、純粋な試料が
得。
00■を塩化メシル0.42mおよびピリジン0.44
−で処理する。室温で10分攪拌した後、溶剤を除去す
る。残留物を酢酸エチルにとりそして冷水性塩酸で洗滌
する。溶剤を再び留去して粗製の標記生成物を得る。フ
ラッシュクロマトグラフィー処理゛の後、純粋な試料が
得。
られる。νmaX (CHCA’5フィルム) 179
0.1770.1725.1365.1170cWt−
’。δ(CDC15+D20 ) 1.05 (5Hr
t 、13)、3.20 (2H,q、 N聾2CH
5)、3.4 (3H,s、 5O2CH3)、5.1
〜5.4 (5H,m、 0CH2Ar +CH20C
O+NC’HCO)、5.85(2H。
0.1770.1725.1365.1170cWt−
’。δ(CDC15+D20 ) 1.05 (5Hr
t 、13)、3.20 (2H,q、 N聾2CH
5)、3.4 (3H,s、 5O2CH3)、5.1
〜5.4 (5H,m、 0CH2Ar +CH20C
O+NC’HCO)、5.85(2H。
S、β−ラクタムプロトン) 、Z2〜a2 (12H
rmyト) ppm。
rmyト) ppm。
例 8
4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(3−(2〜
テトラヒドロピラニルオキシン−2−メタンスルホニル
オキシ−1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−1
−−1’ローフ’−1−エニル〕−5(6)−フタルイ
ミド−アゼチジン−2−オン例6に記載した実験操作方
法によって、例5に記載したようにして製造した4(R
)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−(2−ナト2
ヒドロピラニルオキシメチル)−1−p−=)aベンジ
ルオキシカルボニル−1−プロプ−2−工二ル) −5
(R)−7タルイミドーアゼチジンー2−オンをはじめ
にエノール中間体〔νmax cヌジョール) 178
5 sh、 1770.1720.1660cm−’]
に変換しそして次に標記生成物〔νmax (CHCl
5フイルムン1795.1775.1725.1690
.1170crLL−1]に変換する。
テトラヒドロピラニルオキシン−2−メタンスルホニル
オキシ−1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−1
−−1’ローフ’−1−エニル〕−5(6)−フタルイ
ミド−アゼチジン−2−オン例6に記載した実験操作方
法によって、例5に記載したようにして製造した4(R
)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−(2−ナト2
ヒドロピラニルオキシメチル)−1−p−=)aベンジ
ルオキシカルボニル−1−プロプ−2−工二ル) −5
(R)−7タルイミドーアゼチジンー2−オンをはじめ
にエノール中間体〔νmax cヌジョール) 178
5 sh、 1770.1720.1660cm−’]
に変換しそして次に標記生成物〔νmax (CHCl
5フイルムン1795.1775.1725.1690
.1170crLL−1]に変換する。
例 9
p−ニトロベンジル(7R,6R) −7−フタルイミ
F−3−(N−エチルカルバモイルオキシメチル)−2
−チアセフェム−4−カルボキシレートジメチルホルム
アミド5−中の例7に記載したようにして製造した4(
R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−1:3−(N−エ
チル力ルパモイルオキシ)−2−メタンスルホニルオキ
シ−1−p−二Fロベンジルオキシ力ルボニル−1−プ
ロプ−1−エニル) −3(R)−フタルイミド−アゼ
チジン−2−オン150■の溶液をジメチルホルムアミ
ド中の水硫化ナトリウム−水化物14IPの溶液で処理
する。室温で20秒後に、混合物を酢酸エチルおよび水
の混合物に注加する。
F−3−(N−エチルカルバモイルオキシメチル)−2
−チアセフェム−4−カルボキシレートジメチルホルム
アミド5−中の例7に記載したようにして製造した4(
R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−1:3−(N−エ
チル力ルパモイルオキシ)−2−メタンスルホニルオキ
シ−1−p−二Fロベンジルオキシ力ルボニル−1−プ
ロプ−1−エニル) −3(R)−フタルイミド−アゼ
チジン−2−オン150■の溶液をジメチルホルムアミ
ド中の水硫化ナトリウム−水化物14IPの溶液で処理
する。室温で20秒後に、混合物を酢酸エチルおよび水
の混合物に注加する。
有機層を水で数回洗滌し、乾燥し、蒸発しそしてシリカ
ゲルカラムに通してワックス状固体として標記生成物5
489を得る。νmax (CHCA! 5フイ#ム)
3400、1800、1775、1725.161Dc
IIL−’。 δ(CDC15) 144 (6H,t
、 CH2CH3)、3.20(2H,m。
ゲルカラムに通してワックス状固体として標記生成物5
489を得る。νmax (CHCA! 5フイ#ム)
3400、1800、1775、1725.161Dc
IIL−’。 δ(CDC15) 144 (6H,t
、 CH2CH3)、3.20(2H,m。
NHCH20H3) 、5.13 (IH,d 、J=
5Hz 、CH,CH,S) 、5.20〜5.18
(4H,m、CH20) 、6.10(IH,d、J
=5Hz、NCHCH) 、7.60およびa20(そ
れぞれ2H、d 、 ArN02 )、7.82(4H
。
5Hz 、CH,CH,S) 、5.20〜5.18
(4H,m、CH20) 、6.10(IH,d、J
=5Hz、NCHCH) 、7.60およびa20(そ
れぞれ2H、d 、 ArN02 )、7.82(4H
。
m−+ ’U ’Qpmo λmax (CHCJ3)
269および337nm0例6および8に記載した中
間体から出発する以外は同じ実験的操作方法によってp
−ニトロベンジル(7R,6R) −7−7タルイミド
ー3−アセトキシメチル−2−チアセフェム−4−カル
ボキシレートおよびp−ニトロベンジル(7R,(SR
)−7−フタルイミド−6−(2−テトラヒドロピラニ
ルオキシメチルツー2−チアセフェム−4−カルボキシ
レートが得られる。
269および337nm0例6および8に記載した中
間体から出発する以外は同じ実験的操作方法によってp
−ニトロベンジル(7R,6R) −7−7タルイミド
ー3−アセトキシメチル−2−チアセフェム−4−カル
ボキシレートおよびp−ニトロベンジル(7R,(SR
)−7−フタルイミド−6−(2−テトラヒドロピラニ
ルオキシメチルツー2−チアセフェム−4−カルボキシ
レートが得られる。
例10
p−ニトロベンジル6−フタルイミ)−2−(N−エチ
ルカルバモイルオキシメチル) −ヘネA−6−カルボ
キシレート クロロホルム中のp−ニトロベンジル7−7タルイミド
ー3−(N−エチルカルバモイルオキシメチル)−2−
チアセフェム−4−カルボキシレート20089の溶液
を、トリフェニルホスフィン120j1gで処理する。
ルカルバモイルオキシメチル) −ヘネA−6−カルボ
キシレート クロロホルム中のp−ニトロベンジル7−7タルイミド
ー3−(N−エチルカルバモイルオキシメチル)−2−
チアセフェム−4−カルボキシレート20089の溶液
を、トリフェニルホスフィン120j1gで処理する。
反応(TLC監視)はすぐに終る。溶剤の除去およびト
リフェニルホスフィンサルファイドおよび過剰の試薬か
らの精製は、殆ど定量的収率で5,6−シスおよびトラ
ンス異性体の1=9混合物として標記生成物を与える。
リフェニルホスフィンサルファイドおよび過剰の試薬か
らの精製は、殆ど定量的収率で5,6−シスおよびトラ
ンス異性体の1=9混合物として標記生成物を与える。
νmax (CHC75フィルム) 3400.180
0.1780shs 1720α−’。λmax: (
CHCA3) 267.505sh。
0.1780shs 1720α−’。λmax: (
CHCA3) 267.505sh。
324nm0シス異性体の改善された量は、脱硫をより
極性の溶剤(特にテトラヒドロフランまたはアセトニト
リルン中で遂行することによって得ることができる。
極性の溶剤(特にテトラヒドロフランまたはアセトニト
リルン中で遂行することによって得ることができる。
例11
<6R,5Sl−6−7タルイミトー2− (N−エチ
ルカルバそイルオキシメチル)−ベネム−3−カルボン
酸 水2−および5重i%パラジウム付木炭50藁gを、酢
酸エチル2−中の(6R,58) −p−二トロベンジ
ル6−フタルイミトー2− (N−:x−fルカルパモ
イルオキシメチル)−ペネム−3−カルボキシレー)
20 W=9の溶液に加える。混合物を水素下に室温で
1時間攪拌しそして次に更に触媒を加えた後頁に50分
攪拌する。濾過後、混合物を酢酸エチルと希酢酸との間
に分配する。
ルカルバそイルオキシメチル)−ベネム−3−カルボン
酸 水2−および5重i%パラジウム付木炭50藁gを、酢
酸エチル2−中の(6R,58) −p−二トロベンジ
ル6−フタルイミトー2− (N−:x−fルカルパモ
イルオキシメチル)−ペネム−3−カルボキシレー)
20 W=9の溶液に加える。混合物を水素下に室温で
1時間攪拌しそして次に更に触媒を加えた後頁に50分
攪拌する。濾過後、混合物を酢酸エチルと希酢酸との間
に分配する。
有機層から溶剤を除去して残留物を得る。これをジエチ
ルエーテルと共にすりつぶした後白色粉末(10mg)
として集める。νmax (CHC15フイルムン 3
320、1795sb、1775、1720、171J
OshcIL 。
ルエーテルと共にすりつぶした後白色粉末(10mg)
として集める。νmax (CHC15フイルムン 3
320、1795sb、1775、1720、171J
OshcIL 。
δ(CDCV3 +D20 ) 1.15 (5H,t
、 、 CH2囲5)、4−25(2H。
、 、 CH2囲5)、4−25(2H。
q + CH2CH3) % 5.54 (2H、AB
q y J =16 Hz + 内部線の分離40H
z (200MHz装置) I CH20)、5.82
および5.98(それぞれIH,d 、 J= 1.5
Hz )、Z9 (4H,m、 Ar) ppm0出発
物質の(6R,5R)異性体に対して遂行した同じ反応
は、標記生成物の(6Rt 5 R)異性体を与える。
q y J =16 Hz + 内部線の分離40H
z (200MHz装置) I CH20)、5.82
および5.98(それぞれIH,d 、 J= 1.5
Hz )、Z9 (4H,m、 Ar) ppm0出発
物質の(6R,5R)異性体に対して遂行した同じ反応
は、標記生成物の(6Rt 5 R)異性体を与える。
λゆ(CHC15) 244.304および318nm
0例12 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(4−メチル
−2−オキソ−2,5−ジヒドロフラン−3−イル)−
3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−オン ベンゼン6〇−中の7(R)−フタルイミド−6−メチ
レン−セファム−1−オキシドp−ニトロベンジルエス
テル750 mgの溶液を2−メルカプトベンゾチアゾ
ール255 Myと共に15時間還流する。シリカゲル
上のクロマトグラフィー処理は順々にp−ニトロベンジ
ルアルコールおよび標記生成物を与える。νmaX (
CHC’isフィルム)1790、1775.1760
.1720fi−1゜δ(CD(J3) 2.35(3
H、s 、 CH5)、4.6 (2H,br s 、
CH20)、5.9および6,25(2H1それぞれ
d 、 J=5Hz、β−ラクタムプロトン)、72〜
aO(4H,m、Ar)ppm。
0例12 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(4−メチル
−2−オキソ−2,5−ジヒドロフラン−3−イル)−
3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−オン ベンゼン6〇−中の7(R)−フタルイミド−6−メチ
レン−セファム−1−オキシドp−ニトロベンジルエス
テル750 mgの溶液を2−メルカプトベンゾチアゾ
ール255 Myと共に15時間還流する。シリカゲル
上のクロマトグラフィー処理は順々にp−ニトロベンジ
ルアルコールおよび標記生成物を与える。νmaX (
CHC’isフィルム)1790、1775.1760
.1720fi−1゜δ(CD(J3) 2.35(3
H、s 、 CH5)、4.6 (2H,br s 、
CH20)、5.9および6,25(2H1それぞれ
d 、 J=5Hz、β−ラクタムプロトン)、72〜
aO(4H,m、Ar)ppm。
例 13
4(R)−アセチルジチオ−1−(4−メチル−2−オ
キソ−2,5−ジヒドロフラン−3−イル)−3(R)
−フタルイミド−アゼチジン−2−オン〔方法A〕 トルエン5d中の7(R)−フタルイミド−6−メチレ
ン−セファム−1−オキシドp−ニトロベンジルエステ
ル100■の溶液をチオ酢酸の過剰(0,07m)と共
に還流する。出発物質が消失(TLC監視)したときに
混合物を冷却し、トリエチルアミン0.1コで処理し、
蒸発しそして次にシリカゲル上でクロマトグラフィー処
理してp−ニトロベンジルアルコールおよび標記生成物
(65’1n9)を得る。νmax(CHC1!3フィ
ルム)1790、1 1775.1760.1725crrL0 δ(CDC
’J3) 2.3および2.35(それぞれ3H,s
、 CH5)、4,135 (2H,br s 、 C
H20) 、5.8(2H,br s 、β−ラクタム
プロトン)、7.2〜7.9 (4H,m、Ar)1)
1)m。
キソ−2,5−ジヒドロフラン−3−イル)−3(R)
−フタルイミド−アゼチジン−2−オン〔方法A〕 トルエン5d中の7(R)−フタルイミド−6−メチレ
ン−セファム−1−オキシドp−ニトロベンジルエステ
ル100■の溶液をチオ酢酸の過剰(0,07m)と共
に還流する。出発物質が消失(TLC監視)したときに
混合物を冷却し、トリエチルアミン0.1コで処理し、
蒸発しそして次にシリカゲル上でクロマトグラフィー処
理してp−ニトロベンジルアルコールおよび標記生成物
(65’1n9)を得る。νmax(CHC1!3フィ
ルム)1790、1 1775.1760.1725crrL0 δ(CDC
’J3) 2.3および2.35(それぞれ3H,s
、 CH5)、4,135 (2H,br s 、 C
H20) 、5.8(2H,br s 、β−ラクタム
プロトン)、7.2〜7.9 (4H,m、Ar)1)
1)m。
ジクロロメタン2〇−中の例12に記載したようにして
製造した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(4
−メチル−2−オΦソー2,5−ジヒドロフラン−3−
イル) −3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−
オン300 myの溶液を室温でチオ酢酸0.043t
dで処理する。標記生成物および2−メルカプトベンゾ
チアゾールを与える即時反応が行われる。前者はクロマ
トグラフィー処理によって単離することができるまたは
より有利にはそのまま次の工程に対して使用することが
できる。
製造した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(4
−メチル−2−オΦソー2,5−ジヒドロフラン−3−
イル) −3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−
オン300 myの溶液を室温でチオ酢酸0.043t
dで処理する。標記生成物および2−メルカプトベンゾ
チアゾールを与える即時反応が行われる。前者はクロマ
トグラフィー処理によって単離することができるまたは
より有利にはそのまま次の工程に対して使用することが
できる。
例 14
4(R)−アセチルチオ−1−(4−メチル−2−オキ
ソ−2,5−ジヒドロ7ランー3−イル)−5(R)−
フタルイミド−アゼチジン−2−オンクロロホルム10
ゴ中の例16に記載したようにして製造した4(R)−
アセチルジチオ−1−(4−メチル−2−オキソ−2,
5−ジヒドUフラン−6−イル)−3(R)−フタルイ
ミド−アゼチジン−2−オン0.59.9め溶液を)ト
リフエ5ルホスフイ7160■で処理する。溶剤を除去
してトリフェニルホスフィンサルファイドおよび標記生
成物の混合物を得る。後者は、シリカゲルクロマドグ2
フイー処理後に殆ど定量的収率で純粋に単離することが
できるまたは反応混合物をそのまま次の工程に使用する
ことができる。
ソ−2,5−ジヒドロ7ランー3−イル)−5(R)−
フタルイミド−アゼチジン−2−オンクロロホルム10
ゴ中の例16に記載したようにして製造した4(R)−
アセチルジチオ−1−(4−メチル−2−オキソ−2,
5−ジヒドUフラン−6−イル)−3(R)−フタルイ
ミド−アゼチジン−2−オン0.59.9め溶液を)ト
リフエ5ルホスフイ7160■で処理する。溶剤を除去
してトリフェニルホスフィンサルファイドおよび標記生
成物の混合物を得る。後者は、シリカゲルクロマドグ2
フイー処理後に殆ど定量的収率で純粋に単離することが
できるまたは反応混合物をそのまま次の工程に使用する
ことができる。
’m5−z (CHcl 5フイルム)1790、17
75.1765.1725cIL0δ(CDCJg)
2.2および2.6(それぞれ3H,s、CH5)、4
.75(2H,br s 、 CH20)、5.85
(IH,d 、 J =5.5Hz 、 N、CH,C
H)、6.58 (IH,d、 J=5.5Hz 、
CH,CH,S)、7.!1〜7.9 (AH,m 。
75.1765.1725cIL0δ(CDCJg)
2.2および2.6(それぞれ3H,s、CH5)、4
.75(2H,br s 、 CH20)、5.85
(IH,d 、 J =5.5Hz 、 N、CH,C
H)、6.58 (IH,d、 J=5.5Hz 、
CH,CH,S)、7.!1〜7.9 (AH,m 。
Ar)ppm。
例 15
1−アセトニルオキシオキザリル−4(R)−アセチル
チオ−3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−オン 乾燥酸素中のオゾンの流れを、出発物質がTLCによっ
てもはや検出できな(なるまで−70℃のジクロロメタ
ン20ゴ中の例14に記載したようにして製造した4(
R)−アセチルチオ−1−(4−メチル−2−オキソ−
シア5−ジヒドロフラン−3−イル)−5(R)−フタ
ルイミド−アゼチジン−2−オン400■の溶液に通す
。混合物を窒素の流れでパージしそして普通殆ど定量的
収率で標記生成物を含有する溶液を次の工程にそのまま
使用する。もし必要ならば大過剰の固体の異性重亜゛硫
酸ナトリウムを加えそして温度が+5℃に上昇したとき
に水を加え、有機層を分離しそして溶剤を除去すること
Kよって標記生成物を単離することができる。νmaX
(CHCA’ 5フイルムフ1830.1780sh
、 1760.1720.1700shcIIL。
チオ−3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−オン 乾燥酸素中のオゾンの流れを、出発物質がTLCによっ
てもはや検出できな(なるまで−70℃のジクロロメタ
ン20ゴ中の例14に記載したようにして製造した4(
R)−アセチルチオ−1−(4−メチル−2−オキソ−
シア5−ジヒドロフラン−3−イル)−5(R)−フタ
ルイミド−アゼチジン−2−オン400■の溶液に通す
。混合物を窒素の流れでパージしそして普通殆ど定量的
収率で標記生成物を含有する溶液を次の工程にそのまま
使用する。もし必要ならば大過剰の固体の異性重亜゛硫
酸ナトリウムを加えそして温度が+5℃に上昇したとき
に水を加え、有機層を分離しそして溶剤を除去すること
Kよって標記生成物を単離することができる。νmaX
(CHCA’ 5フイルムフ1830.1780sh
、 1760.1720.1700shcIIL。
例16
アセトニル(5R,6R) −6−フタルイミド−2−
メチル−ペネム−6−カルボキシレート例15に記載し
たようにして得られた粗製のオゾン分解混合物を活性化
亜鉛末400 myおよび酢酸0.4コで処理する。室
温で1時間攪拌した後、混合物を戸遇しそして液体を水
それから水性の酸性炭酸塩で洗滌する。溶剤を除去して
粗製の1− (1−アセトニルオキシカルボニル−1−
ヒドロキシ−メチル)−4(R)−アセチルチオ−6(
R)−フタルイミド−アゼチジン−2−オンを得る。精
製することなしに、この物質を乾燥した蒸留テトラヒド
ロフランに溶解しそして窒素下−5℃でピリジン0.0
8 mlおよび塩化チオニル0.072dと反応させる
。10分後に、塩を戸去しそして揮発性物質を25℃で
真空除去してフオーム状物として粗製の1−(1−アセ
トニルオキシカルボニル−1−クロロ−メチル)−4(
R)−アセチルチオ−3(R)−7タルイミドーアゼチ
ジンー2−オンを得、これをすぐにテトラヒドロフラン
中のトリフェニルホスフィン0,26Iの溶液に溶解し
、シリカゲル51Iを加えそして溶剤を除去する。乾燥
した物質を一夜放置し次にシリカゲルカラムの頂部に充
填する酢酸エテル/シクロヘキサン混合物で溶離して7
オーム状物として1−(1−アセトニルオキシカルボニ
ル−1−ホスホラニリデン−メチル)−4(R)−アセ
チルチオ−3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−
オン200Il1gを得る。この生成物のトルエン溶液
を約115℃で48時間加熱しく約50チ変換)次いで
シリカゲルク四マドグラフィー処理して標記生成物25
■(溶離剤として使用したシクロヘキサン/酢酸エチル
混合物から直接結晶化する)、トリフェニルホスフィン
オキサイドおよびそれから出発ホスホラン(これは再循
環できる〕を得る。融点176〜178℃。
メチル−ペネム−6−カルボキシレート例15に記載し
たようにして得られた粗製のオゾン分解混合物を活性化
亜鉛末400 myおよび酢酸0.4コで処理する。室
温で1時間攪拌した後、混合物を戸遇しそして液体を水
それから水性の酸性炭酸塩で洗滌する。溶剤を除去して
粗製の1− (1−アセトニルオキシカルボニル−1−
ヒドロキシ−メチル)−4(R)−アセチルチオ−6(
R)−フタルイミド−アゼチジン−2−オンを得る。精
製することなしに、この物質を乾燥した蒸留テトラヒド
ロフランに溶解しそして窒素下−5℃でピリジン0.0
8 mlおよび塩化チオニル0.072dと反応させる
。10分後に、塩を戸去しそして揮発性物質を25℃で
真空除去してフオーム状物として粗製の1−(1−アセ
トニルオキシカルボニル−1−クロロ−メチル)−4(
R)−アセチルチオ−3(R)−7タルイミドーアゼチ
ジンー2−オンを得、これをすぐにテトラヒドロフラン
中のトリフェニルホスフィン0,26Iの溶液に溶解し
、シリカゲル51Iを加えそして溶剤を除去する。乾燥
した物質を一夜放置し次にシリカゲルカラムの頂部に充
填する酢酸エテル/シクロヘキサン混合物で溶離して7
オーム状物として1−(1−アセトニルオキシカルボニ
ル−1−ホスホラニリデン−メチル)−4(R)−アセ
チルチオ−3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−
オン200Il1gを得る。この生成物のトルエン溶液
を約115℃で48時間加熱しく約50チ変換)次いで
シリカゲルク四マドグラフィー処理して標記生成物25
■(溶離剤として使用したシクロヘキサン/酢酸エチル
混合物から直接結晶化する)、トリフェニルホスフィン
オキサイドおよびそれから出発ホスホラン(これは再循
環できる〕を得る。融点176〜178℃。
νmax CCHCl3) 1795.1770.17
27.1720.17051ffi。
27.1720.17051ffi。
δ(QDCJ3) 2.24 (3H,s 、 COC
H3)、2.42 (3H,s 、 CHs)、2.7
9 (2H,s 、 0CH2CO)、5.98(2H
,s、β−ラクタムプロトン)、7.82(4H,m、
Ar)ppm 0 λmax(CHCJ5ン292 s
h %308.324sh nm0 列 17 7(S)−[1(R)−t−ブチルジメチルクリルオキ
シエチル〕−2−メチレン−セファム−1−オキシドメ
チルエステル 乾燥ベンゼ/125tnl!中の6(S)−(1(R)
−t、 −ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−ペニ
シラネート−1−オキシドメチルエステル41sN−ク
ロロサクシンイミドIIiおよび亜硫酸ナトリウム8I
の混合物を10時間還流する。次に冷却した反応混合物
をジエチルエーテル[L5ゴおよび四塩化錫1.26f
f17!で処理する。2時間攪拌した後、酢酸エチルお
よび希塩酸を加える。
H3)、2.42 (3H,s 、 CHs)、2.7
9 (2H,s 、 0CH2CO)、5.98(2H
,s、β−ラクタムプロトン)、7.82(4H,m、
Ar)ppm 0 λmax(CHCJ5ン292 s
h %308.324sh nm0 列 17 7(S)−[1(R)−t−ブチルジメチルクリルオキ
シエチル〕−2−メチレン−セファム−1−オキシドメ
チルエステル 乾燥ベンゼ/125tnl!中の6(S)−(1(R)
−t、 −ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−ペニ
シラネート−1−オキシドメチルエステル41sN−ク
ロロサクシンイミドIIiおよび亜硫酸ナトリウム8I
の混合物を10時間還流する。次に冷却した反応混合物
をジエチルエーテル[L5ゴおよび四塩化錫1.26f
f17!で処理する。2時間攪拌した後、酢酸エチルお
よび希塩酸を加える。
分離した有機層を乾燥しそして蒸発して残留物を得る。
どれをジイソプロピルエーテルから結晶化せしめる。融
点120〜122℃。νmax (KBr )1775
.1740.1265crrL−1゜δ(C’DC’1
5) 0.06およ−び0.11(それぞれ3H,s、
SiMe2)、0.89 (9H,s 、 Bu )
、1.62<3H,d、J=6.5Hz、CH30M)
、3.58(IH,dd、J=2および4Hz、CH,
CH,CH)、3.8 (5H、br s 、 CH2
5および0CH5)、4.3(1B、 m、 CH5、
CH,CH)、4.75 (IH,d、 J=2Hz
。
点120〜122℃。νmax (KBr )1775
.1740.1265crrL−1゜δ(C’DC’1
5) 0.06およ−び0.11(それぞれ3H,s、
SiMe2)、0.89 (9H,s 、 Bu )
、1.62<3H,d、J=6.5Hz、CH30M)
、3.58(IH,dd、J=2および4Hz、CH,
CH,CH)、3.8 (5H、br s 、 CH2
5および0CH5)、4.3(1B、 m、 CH5、
CH,CH)、4.75 (IH,d、 J=2Hz
。
C’l(、CH,S)、5.0 (1H,s 、 N、
CH,CO)、5.25および5.50(2H9それぞ
れs l =CH2) ppm 。
CH,CO)、5.25および5.50(2H9それぞ
れs l =CH2) ppm 。
例18
4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S)−(1(
R) −1−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−1
−(2−ヒドロキシメチル−1−メトキシカルボニル−
1−プロプ−2−エニル)−アゼチジン−2−オン トルエン中の例17に記載したようにして製造した7(
S) −CI (R)−t、−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル〕−3−メチレン−セファム−1−オキシド
メチルエステル250■および2−メルカプトはンゾチ
アゾール110119の溶液を5時間還流する。溶剤を
除去して主た標記化合物からなる残留物を得る。相当す
るラクトンへの部分的変換がシリカゲル上で起こる(例
19を参照)けれども、フラッシュクロマトグラフィー
処理によって標記生成物を純粋に得ることができる。ν
max (CHCJ3フィルム) 、15400.17
65および1740crrL0 δ(CDC13) 0
.08 (6H,s、 SiMe2)、0.9(9H,
S 、 Bu ) 、1.3 (3H,d、 J=6H
7,CH3CH)、&45(1H,dd、 J=2およ
び3.5Hz 、 CH,、CH,CH)、4.;5(
3H。
R) −1−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−1
−(2−ヒドロキシメチル−1−メトキシカルボニル−
1−プロプ−2−エニル)−アゼチジン−2−オン トルエン中の例17に記載したようにして製造した7(
S) −CI (R)−t、−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル〕−3−メチレン−セファム−1−オキシド
メチルエステル250■および2−メルカプトはンゾチ
アゾール110119の溶液を5時間還流する。溶剤を
除去して主た標記化合物からなる残留物を得る。相当す
るラクトンへの部分的変換がシリカゲル上で起こる(例
19を参照)けれども、フラッシュクロマトグラフィー
処理によって標記生成物を純粋に得ることができる。ν
max (CHCJ3フィルム) 、15400.17
65および1740crrL0 δ(CDC13) 0
.08 (6H,s、 SiMe2)、0.9(9H,
S 、 Bu ) 、1.3 (3H,d、 J=6H
7,CH3CH)、&45(1H,dd、 J=2およ
び3.5Hz 、 CH,、CH,CH)、4.;5(
3H。
m、CH2O旦、CHおよびCH20H)、5.0 (
IH,s 、 NCHCO)、5.2および5.35(
2H,それぞれs、 =CH2)、 5.38 (IH
,d。
IH,s 、 NCHCO)、5.2および5.35(
2H,それぞれs、 =CH2)、 5.38 (IH
,d。
J=2H2、CHCH8)、71〜79 (4H,m、
Ar、)、、ppm0例19 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S)−[1(
R)−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル:)−1
−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒド四フラン
ー3−イル)−アゼチジン−2−オン〔方法A〕 トルエン10ゴ中の7(R)−(1−t、−ブチルジメ
チル7リルオキシエチル)−3−メチレン−セファム−
1−オキシドメチルエステル800mgおよび2−メル
カプトベンゾチアゾール335■の溶液を5時間還流す
る。冷却した反応混合物をトリエチルアミン0.01m
で処理する。1時間後に溶剤を真空除去しそして残留物
をジエチルエーテルから結晶化せしめて白色粉末(60
0my )として標記生成物を得る。
Ar、)、、ppm0例19 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S)−[1(
R)−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル:)−1
−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒド四フラン
ー3−イル)−アゼチジン−2−オン〔方法A〕 トルエン10ゴ中の7(R)−(1−t、−ブチルジメ
チル7リルオキシエチル)−3−メチレン−セファム−
1−オキシドメチルエステル800mgおよび2−メル
カプトベンゾチアゾール335■の溶液を5時間還流す
る。冷却した反応混合物をトリエチルアミン0.01m
で処理する。1時間後に溶剤を真空除去しそして残留物
をジエチルエーテルから結晶化せしめて白色粉末(60
0my )として標記生成物を得る。
ジクロロメタン25づ中の例18に記載したようにして
製造した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S)
−(1(R)−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル
)−1−(2−ヒト冒キシメチルー1−メトキシカルボ
ニル−1−プロツー2−エニル)−アゼチジン−2−オ
ン100s+gの溶液を、トリエチルアミン0.01m
/の存在下において3時間攪拌する。溶剤を除去して標
記生成物を得る。νmax (CH(J3フィルh)1
775.1760 crn−1゜δ(CDCJ3ン0.
06および0.1(SR,それぞれ5.SiMe2)、
0.88 (9H,s、 Bu )、1.3 (3H,
d、 CH,C’H)、1゜8(?lH。
製造した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S)
−(1(R)−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル
)−1−(2−ヒト冒キシメチルー1−メトキシカルボ
ニル−1−プロツー2−エニル)−アゼチジン−2−オ
ン100s+gの溶液を、トリエチルアミン0.01m
/の存在下において3時間攪拌する。溶剤を除去して標
記生成物を得る。νmax (CH(J3フィルh)1
775.1760 crn−1゜δ(CDCJ3ン0.
06および0.1(SR,それぞれ5.SiMe2)、
0.88 (9H,s、 Bu )、1.3 (3H,
d、 CH,C’H)、1゜8(?lH。
s、CH5)、K5 (iH,dd、 J==2および
3 Hz 、 CHCHCH)、4.15 (2H,A
Bq 、 J= 18Hz 、 CH20)、4.!1
(1H,m。
3 Hz 、 CHCHCH)、4.15 (2H,A
Bq 、 J= 18Hz 、 CH20)、4.!1
(1H,m。
C1(50HCH)、5.9 (IH,d、 J=2H
z 、 CHCH3)、7.0〜7.8(4HF my
Ar) ppm。
z 、 CHCH3)、7.0〜7.8(4HF my
Ar) ppm。
例20
4(R)−7セチルチオー5(S)−(: 1(R)
−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−1−(4
−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒドロフラン−3−
イル)−アゼチジン−2−オン クロロホルム2ゴ中の例19に記載したようにして製造
した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−5CB)−[
: 1(R)−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル
]−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒドロ
フラン−3−イルツーアゼチジン−2−オ/220翼g
の溶液をチオ酢酸0.06−およびトリフェニルホスフ
ィ7130j11?で順次に処理する。溶剤の除去およ
びメルカプトベンゾチアゾールおよびトリフェニルホス
フィンサルファイドからの精製(シリカゲルクロマトグ
ラフィー処理)は標記生成物を与える。νmax(CH
(J13フィルム)1775shs 1760% 17
00cIn o δ(ccz3)0.06および0.1
(それぞれ5H、S 、 8iMe 2ン、0.85(
9H。
−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−1−(4
−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒドロフラン−3−
イル)−アゼチジン−2−オン クロロホルム2ゴ中の例19に記載したようにして製造
した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−5CB)−[
: 1(R)−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル
]−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒドロ
フラン−3−イルツーアゼチジン−2−オ/220翼g
の溶液をチオ酢酸0.06−およびトリフェニルホスフ
ィ7130j11?で順次に処理する。溶剤の除去およ
びメルカプトベンゾチアゾールおよびトリフェニルホス
フィンサルファイドからの精製(シリカゲルクロマトグ
ラフィー処理)は標記生成物を与える。νmax(CH
(J13フィルム)1775shs 1760% 17
00cIn o δ(ccz3)0.06および0.1
(それぞれ5H、S 、 8iMe 2ン、0.85(
9H。
s 、Bu’ン、1.25 (3H,d、J=6.5H
z 、CH3CH)、2.15 および2.50(それ
ぞれ3H,s 、 CH5ン、3.45 (IH,dd
、 J=2.5および3.5 Hz 、 CHCHCH
)、4.3(’IH,m、 CH5CHCH)、4.6
7(2H,s 、 CH20)、5.9,5 (IH,
d、 J=2.5Hz 、CHCH8) ppm。
z 、CH3CH)、2.15 および2.50(それ
ぞれ3H,s 、 CH5ン、3.45 (IH,dd
、 J=2.5および3.5 Hz 、 CHCHCH
)、4.3(’IH,m、 CH5CHCH)、4.6
7(2H,s 、 CH20)、5.9,5 (IH,
d、 J=2.5Hz 、CHCH8) ppm。
例21
1−アセトニルオキシオキザリル−4(R)−7セチル
チオー3(S)−1:1(R)−t−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル〕−アゼチジン−2−オンこの物質は
例15に記載した実験操作方法によって例20に記載し
たようにして製造された4(R)−7°セチルチオ−5
(S)−[: 1(R)−t−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル)−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5
−ジヒドロフラン−6−イル)−アゼチジン−2−オン
が得られる。
チオー3(S)−1:1(R)−t−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル〕−アゼチジン−2−オンこの物質は
例15に記載した実験操作方法によって例20に記載し
たようにして製造された4(R)−7°セチルチオ−5
(S)−[: 1(R)−t−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル)−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5
−ジヒドロフラン−6−イル)−アゼチジン−2−オン
が得られる。
例22
アセトニル(5R,6S)−6−(1(R)−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル〕−2−メチル−ペネム
−6−カルボキシレート 例20に記載されたようにして製造された4(6)−ア
セチルチオ−3(S)−〔1(R)−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル)−1−(4−メチル−2−オキ
ソ−2,5−ジヒドロフラン−6−イル)−アゼチジン
−2−オンから出発してそして例15に記載した加オゾ
ン分解操作方法を使用し次いで例16に記載した操作順
序(亜鉛0.5gおよび酢酸a5ゴによる還元、塩化チ
オニル0.0171nlおよびピリジン[]、0191
ntによる塩素化、シリカゲル5g上におけるトリフェ
ニルホスフィン0.0629との反応、溶離および還流
トルエン中6時間の熱分解)を使用することによって、
シリカゲルクロマトグラフィー処理後、標記生成物(5
0+g、s、a%の全収率)が得られる。νmax (
CHC/3フィルム)1785.1710、i59Qc
m 。
ルジメチルシリルオキシエチル〕−2−メチル−ペネム
−6−カルボキシレート 例20に記載されたようにして製造された4(6)−ア
セチルチオ−3(S)−〔1(R)−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル)−1−(4−メチル−2−オキ
ソ−2,5−ジヒドロフラン−6−イル)−アゼチジン
−2−オンから出発してそして例15に記載した加オゾ
ン分解操作方法を使用し次いで例16に記載した操作順
序(亜鉛0.5gおよび酢酸a5ゴによる還元、塩化チ
オニル0.0171nlおよびピリジン[]、0191
ntによる塩素化、シリカゲル5g上におけるトリフェ
ニルホスフィン0.0629との反応、溶離および還流
トルエン中6時間の熱分解)を使用することによって、
シリカゲルクロマトグラフィー処理後、標記生成物(5
0+g、s、a%の全収率)が得られる。νmax (
CHC/3フィルム)1785.1710、i59Qc
m 。
δ(CDC# 3 ) o、07 (6Hr 8− S
iMe 2 )、0.84 (9H,s 、 Bu
)、1.22 (5H,d 、 J=6.5Hz 、
CH5CH)、2.15 (6H,s、C0CH5)、
2.52 (IH,s 、 bH5)、i5B (IH
,dd、 J=2および5Hz)、4.2 (IH,m
、 CH2O)(CH)、4.60 (2H,s 、
0CH2)、5.48(IH,d、J=2Hz、 CH
CH8) ppm、λmax (cHczs) 271
sh %2inm0 例23 アセトニル(5R,6S)−6−(1(R)−ヒドロキ
シエチル)−2−メチル−ペネム−3−カルボキシレー
ト テトラヒドロフラン2−中の例22に記載したようにし
て製造したアセトニル(5R,68) −6−(1(R
)−t、−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−2−
メチル−ペネム−6−カルボキシレート60■の溶液を
酢酸0.045−およびテトラブチルアンモニウムフル
オライド三水化物71■で処理する。20時間攪拌した
後、カラムクロマトグラフィー処理は白色固体として標
記生成物(18s+y)を与える。νmaX(CHCA
! 、) 1780.1735.1710cvL0 δ
(CDCI!5) 1.52 (5J d、 CH3C
H)、2.21 (6H,s 、 COCH3)、2.
57 (3H,a 、 CH5)、2.55(IH。
iMe 2 )、0.84 (9H,s 、 Bu
)、1.22 (5H,d 、 J=6.5Hz 、
CH5CH)、2.15 (6H,s、C0CH5)、
2.52 (IH,s 、 bH5)、i5B (IH
,dd、 J=2および5Hz)、4.2 (IH,m
、 CH2O)(CH)、4.60 (2H,s 、
0CH2)、5.48(IH,d、J=2Hz、 CH
CH8) ppm、λmax (cHczs) 271
sh %2inm0 例23 アセトニル(5R,6S)−6−(1(R)−ヒドロキ
シエチル)−2−メチル−ペネム−3−カルボキシレー
ト テトラヒドロフラン2−中の例22に記載したようにし
て製造したアセトニル(5R,68) −6−(1(R
)−t、−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−2−
メチル−ペネム−6−カルボキシレート60■の溶液を
酢酸0.045−およびテトラブチルアンモニウムフル
オライド三水化物71■で処理する。20時間攪拌した
後、カラムクロマトグラフィー処理は白色固体として標
記生成物(18s+y)を与える。νmaX(CHCA
! 、) 1780.1735.1710cvL0 δ
(CDCI!5) 1.52 (5J d、 CH3C
H)、2.21 (6H,s 、 COCH3)、2.
57 (3H,a 、 CH5)、2.55(IH。
S、○H)、3.70 (IH,dd、 、T=2.0
および6,5 Hz 、 CHCHCH)、4.13
(IH,m、 CH3CHCH)、4.73 (2H,
s 、 0CH2CO) 、5.61(IH,d、 、
T=2.OHz、 CHCH8) ppmo籍ax(C
HC113) 265および319nm0 例24 3(S)−(1(R) −t−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル]−4(R)−1−ブチルジフェニルシリル
オキシアセチルチオ−1−(4−メチル−2−オキソ−
2,5−ジヒドロフラン−6−イル)−アゼチジン−2
−オン 〔方法A〕 トルエン5ゴ中の例17に記載したようにして製造した
7(S)−(1(R) −t−ブチルジメチルシリルオ
キシエテル〕−6−メチレン−セファム−1−オキシド
メチルエステル97■の溶液をt−ブチルジフェニルシ
リルオキシチオ酢酸98即と共に16時間還流する。反
応混合物を10℃に冷却し、トリエチルアミン2滴を加
えそして次に溶剤を真空除去する。粗生成物をり四ロホ
ルムに溶解シ、トリフェニルホスフィンで処理しそして
次にシリカゲルクロマトグラフィー処理によって精製し
、標記化合物を溶離する。νmaX (CH” 5フイ
ルム)1778.1765.1700c+a 0δ(C
DC13) 0.06および0.1(それぞれ3H,s
、 SiMe2)、0゜85および1.10(それぞれ
9H,s、 Put)、123 (3H,a。
および6,5 Hz 、 CHCHCH)、4.13
(IH,m、 CH3CHCH)、4.73 (2H,
s 、 0CH2CO) 、5.61(IH,d、 、
T=2.OHz、 CHCH8) ppmo籍ax(C
HC113) 265および319nm0 例24 3(S)−(1(R) −t−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル]−4(R)−1−ブチルジフェニルシリル
オキシアセチルチオ−1−(4−メチル−2−オキソ−
2,5−ジヒドロフラン−6−イル)−アゼチジン−2
−オン 〔方法A〕 トルエン5ゴ中の例17に記載したようにして製造した
7(S)−(1(R) −t−ブチルジメチルシリルオ
キシエテル〕−6−メチレン−セファム−1−オキシド
メチルエステル97■の溶液をt−ブチルジフェニルシ
リルオキシチオ酢酸98即と共に16時間還流する。反
応混合物を10℃に冷却し、トリエチルアミン2滴を加
えそして次に溶剤を真空除去する。粗生成物をり四ロホ
ルムに溶解シ、トリフェニルホスフィンで処理しそして
次にシリカゲルクロマトグラフィー処理によって精製し
、標記化合物を溶離する。νmaX (CH” 5フイ
ルム)1778.1765.1700c+a 0δ(C
DC13) 0.06および0.1(それぞれ3H,s
、 SiMe2)、0゜85および1.10(それぞれ
9H,s、 Put)、123 (3H,a。
、T=6Hz、 CH3CH)、2.05 (3H,S
、 CH5) 、3.40 (IH,dd。
、 CH5) 、3.40 (IH,dd。
J=2.2および3Hz 、 CHCHCH) 、4.
12 (2H,s 、 0CH2CO)、4.25 (
I H、m 、CH5CHCH)、 4.53 (2H
,s 、 0CH2C:)、 5.92(IH,d、
J=2.2Hz、 CHCH8) 、7.0〜7.6
(10H,m、 Ar)1)I)m 。
12 (2H,s 、 0CH2CO)、4.25 (
I H、m 、CH5CHCH)、 4.53 (2H
,s 、 0CH2C:)、 5.92(IH,d、
J=2.2Hz、 CHCH8) 、7.0〜7.6
(10H,m、 Ar)1)I)m 。
ジクロロメタン50ゴ中の例19に記載したようにして
製造した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S)
−(1(R) −t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル) −1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒ
ドロフランー6−イル)−アゼチジン−2−オンQ、7
5#の溶液を順次にt−ブチルジフェニルシリルオキシ
チオ酢酸0.4iおよびトリフェニルホスフィン0.3
7.9で処理する。溶剤を除去しそして夛ロマトグラフ
イー処理して標記生成物(0,64F )を得る。
製造した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S)
−(1(R) −t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル) −1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒ
ドロフランー6−イル)−アゼチジン−2−オンQ、7
5#の溶液を順次にt−ブチルジフェニルシリルオキシ
チオ酢酸0.4iおよびトリフェニルホスフィン0.3
7.9で処理する。溶剤を除去しそして夛ロマトグラフ
イー処理して標記生成物(0,64F )を得る。
例25
1−アセトニルオキシオキザリル−3(S)−(1(R
)−1−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−4(R
)−t−’7’チルジフェニルシリルオキシアセチルチ
オ−アゼチジン−2−オン この物質は例15に記載した実験操作方法によって、例
24に記載したようにして製造した3(S)−(1(R
) −t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4(
R)−t−’;)’チルジフェニルシリルオキシアセチ
ルチオ−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒ
ドロフラン−3−イル)−アゼチジンー2−オンから得
られる。
)−1−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−4(R
)−t−’7’チルジフェニルシリルオキシアセチルチ
オ−アゼチジン−2−オン この物質は例15に記載した実験操作方法によって、例
24に記載したようにして製造した3(S)−(1(R
) −t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4(
R)−t−’;)’チルジフェニルシリルオキシアセチ
ルチオ−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒ
ドロフラン−3−イル)−アゼチジンー2−オンから得
られる。
例26
アセトニル(5R,68ン−6−[:1(R)−t−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル]−2−(t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル) −ヘネA−3−カル
ボキシレート 例16に記載したような一70℃におけるジクロロメタ
ン中の加オゾン分解、亜鉛11iおよび酢酸1−による
還元、塩化チオニル0,02−およびピリジン0.02
3tdによる塩素化、シリカゲル2g上のトリフェニル
ホスフィン0.15LKよるfFi換、シリカからの溶
離およびトルエン中における還流下8時間の熱分解は、
例25に記載したようにして製造した1−アセトニルオ
キシオキザリル−3(Sン−[1(R)−t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル) −4(R)−t−プチル
ジフェニルシリルオキシアセチルチオーアゼチジノー2
−オン150j19を標記ペネム45mpに変換する。
チルジメチルシリルオキシエチル]−2−(t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル) −ヘネA−3−カル
ボキシレート 例16に記載したような一70℃におけるジクロロメタ
ン中の加オゾン分解、亜鉛11iおよび酢酸1−による
還元、塩化チオニル0,02−およびピリジン0.02
3tdによる塩素化、シリカゲル2g上のトリフェニル
ホスフィン0.15LKよるfFi換、シリカからの溶
離およびトルエン中における還流下8時間の熱分解は、
例25に記載したようにして製造した1−アセトニルオ
キシオキザリル−3(Sン−[1(R)−t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル) −4(R)−t−プチル
ジフェニルシリルオキシアセチルチオーアゼチジノー2
−オン150j19を標記ペネム45mpに変換する。
’max (CHC/3) 1785.1720sh、
1708.1575cm。
1708.1575cm。
δ(CDCJ3) 0.80および0.98(それぞれ
9H,s、Bu )、1.20(3H,d、J”6Hz
、CH30H)、2.08 (3H,s、C0CH5J
、3.68 (IH,dd、 J=2および4Hz−、
CHCHCH)、4.20(IH。
9H,s、Bu )、1.20(3H,d、J”6Hz
、CH30H)、2.08 (3H,s、C0CH5J
、3.68 (IH,dd、 J=2および4Hz−、
CHCHCH)、4.20(IH。
m、 CH5CHCH)、4.53 (2H,ABq、
J=16Hz)、4.84(2H。
J=16Hz)、4.84(2H。
8.0CH2CO)、5.55(IH,d、J=2Hz
、CHCH8)、7.3〜7.66 (10H+ mr
Ar) ppm。
、CHCH8)、7.3〜7.66 (10H+ mr
Ar) ppm。
例27
アセトニル(SR,<5S)−6−[1(R) −t−
ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−2−ヒト四キシ
メチルーペネムー6−カルボキシレートテトラヒドロフ
ラン1ゴ中の例26に記載したようにして製造したアセ
トニル(5R,68) −6−I:1(R)−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル)−2−(t−7’チル
ジフエニルシリルオキシメチル)−ペネム−6−カルボ
キシレート60ηの溶液を酢酸a01tntそして次に
テトラブチルアンモニウムフルオライド三水化物CLO
2Nで処理する。15分攪拌した後、溶剤を除去しそし
て短シリカゲルカラムに通し、か(して標記生成物を得
る。νmax (CDC15ン) 3400.1785
.1715sb、 1700cIIL−’。 δ (C
DC15ン 0.07 ((SH,a 、SiMez)
、0.87 (9H,s、Bu ) 、1.27 (3
H,d、J=6Hz、CH5CH) 、2.23 (5
H,s、 CH3) 、3.77 (IH,dd、 J
=2および5Hz。
ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−2−ヒト四キシ
メチルーペネムー6−カルボキシレートテトラヒドロフ
ラン1ゴ中の例26に記載したようにして製造したアセ
トニル(5R,68) −6−I:1(R)−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル)−2−(t−7’チル
ジフエニルシリルオキシメチル)−ペネム−6−カルボ
キシレート60ηの溶液を酢酸a01tntそして次に
テトラブチルアンモニウムフルオライド三水化物CLO
2Nで処理する。15分攪拌した後、溶剤を除去しそし
て短シリカゲルカラムに通し、か(して標記生成物を得
る。νmax (CDC15ン) 3400.1785
.1715sb、 1700cIIL−’。 δ (C
DC15ン 0.07 ((SH,a 、SiMez)
、0.87 (9H,s、Bu ) 、1.27 (3
H,d、J=6Hz、CH5CH) 、2.23 (5
H,s、 CH3) 、3.77 (IH,dd、 J
=2および5Hz。
CHCHCH)、4.25 (IH,m、 C0CH5
J) 、4.62 (2H,br s 。
J) 、4.62 (2H,br s 。
CH20H) 、4.76 (2H,s、 0CH2C
O) 、5.64 (IH,d、 J=2Hz) pp
m。
O) 、5.64 (IH,d、 J=2Hz) pp
m。
例28
ナトリウム(5R,6B)−6−[1(Rツーヒドロキ
シエチル〕−2−カルバモイルオキシメチル−ペネム−
3−カルボキシレート ジクロロメタン1d中の例27に記載したようにして製
造したアセトニル(5R,6s)−6−(1(8)−1
−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−2−ヒドロキ
シメチル−ペネム−3−カルボキシレート0.39の溶
液を一10℃でトリクロロアセチルイソシアネートD、
13tnlで処理する。反応混合物を真空濃縮しそして
残留物を酢酸[144mおよびテトラブチルアンモニウ
ムフルオライド三水化物0.7gを含有するテトラヒド
ロフラン4mgに溶解する。この混合物を窒素下で24
時間攪拌する。次に溶剤を除去しそして残留物を酢酸エ
チルと水性の酸性炭酸す) IJウムとの間に分配する
。乾燥した有機抽出液を濃縮しそして次にトルエンでう
すめてアセトニル(5R,68)−6−[1(R)−ヒ
ドロキシエチルツー2−カルバそイルオキシメチル−ペ
ネム−6−カルボキシレート(0,18Iりを白色の固
体として沈殿させる。この物質をアセトニトリル5ゴお
よび脱ガス水2.5mJに溶解しそして窒素下において
+5℃で0.11vi水酸化ナトリウム5.5−で満願
処理する。粉末状のドライアイスを加えそして混合物を
凍結乾燥して標記化合物を得る。δ(D20)1.51
(5H,d 、 J =6.5Hz 、 CH3CH
)、3.91(IH,dd、J=1.5および6.0H
2,CHCHCH)、4.25(IH,m、0R30H
CH)、5.02および5.56(2H,それぞれd、
J=14.5Hz、 CH20)、5.66 (IH
,d、 J=15Hz 、 CHCH8) ppm 0
ンmaz (H2O)258および506nm0 例 29 1−アセトニルオキシオキザリル−4(R)−力ルパモ
イルオキシアセチルテオ−3(S)−[i (R) −
(2,2,2−) リクロローエトキシカルボニルオキ
シ)−エチル〕−アゼチジンー2−オン〔A部〕 乾燥トルエン15m1に溶解したメチル6α−[1(R
)−(2,2,2−)ジクロロエトキシカルボニルオキ
シノーエチル〕−ヘニシリネート−1−オキシド4.2
9.Pを乾燥トルエン1257中の酸化プロピレン10
ゴ、酸化カルシウム1yおよび無水の硫化ナトリウム2
gの還流混合物に加える。次に、商業的N−クロロサク
シンイミド1,47Iを加える。混合物を油浴中125
℃で4時間攪拌しそして次に減圧0縮して約20rn1
.の容量にしそして室温に冷却する。ジエチルエーテル
1.5ゴを加えそして次に無水の四塩化錫1.2mlを
攪拌下で加える。45分後に、更に四塩化錫1.2−を
加える。20分後に溶剤(少量の不純物を含有する)を
傾瀉分離しそして粘稠なシロップ状残留物を酢酸エチル
で覆いそしてはげしい攪拌下で1N塩酸で処理する。有
機層を順次に塩化ナトリウムの水溶液、重炭酸ナトリウ
ムの水溶液および塩化す) IJウムの水溶液で洗滌し
そして次に溶剤を真空除去して無色のフオーム状物とし
て純粋な7(Sン−[: 1(R)−(2,2,2−)
ジクロロエトキシカルボニルオキシ)−エチル〕−3−
メチレン−セフェム−1−オキシドメチルエステル3.
95.!i’(92%)を得る。νmax (CHC’
J5ン1775.1740 br cm−1o δ(C
DCJ 5 ) 1.53 (3H,d 、 C’H5
CH)、3.69 (2H,s 、環内CH2八3.8
0 (4H、m 、 0CH5およびCH−CH−CH
)、4.78 (3H,m、 CH2CC/35および
C’H−C!H−8)、5.10 (IH、s 、 N
−CH−CO2)、5.20 (IH,m、CH3−C
HCH)、5.40および5.66(2H,それぞれS
、環外CH2)ppmO〔B部〕 ベンゼン15〇−中のA部の生成物3.95gの溶液を
2−メルカプトベンゾチアゾール148藁gと共に62
時間還流する。溶剤を真空除去しそして残留物をアセト
/にとる。4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S
)−[1(R)−(2,2,2−)ジクロロエトキシカ
ルボニルオキシ)−エチル〕−1−(4−メチル−2−
オキソ−2,5−ジヒドロフランー6−イル]−アセチ
ジン−2−オンが析出する。融点190〜191℃。ν
max (KBr )1775.175L 1740s
hcIIL 、δ(CDCAt5) 1.50 (3H
。
シエチル〕−2−カルバモイルオキシメチル−ペネム−
3−カルボキシレート ジクロロメタン1d中の例27に記載したようにして製
造したアセトニル(5R,6s)−6−(1(8)−1
−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−2−ヒドロキ
シメチル−ペネム−3−カルボキシレート0.39の溶
液を一10℃でトリクロロアセチルイソシアネートD、
13tnlで処理する。反応混合物を真空濃縮しそして
残留物を酢酸[144mおよびテトラブチルアンモニウ
ムフルオライド三水化物0.7gを含有するテトラヒド
ロフラン4mgに溶解する。この混合物を窒素下で24
時間攪拌する。次に溶剤を除去しそして残留物を酢酸エ
チルと水性の酸性炭酸す) IJウムとの間に分配する
。乾燥した有機抽出液を濃縮しそして次にトルエンでう
すめてアセトニル(5R,68)−6−[1(R)−ヒ
ドロキシエチルツー2−カルバそイルオキシメチル−ペ
ネム−6−カルボキシレート(0,18Iりを白色の固
体として沈殿させる。この物質をアセトニトリル5ゴお
よび脱ガス水2.5mJに溶解しそして窒素下において
+5℃で0.11vi水酸化ナトリウム5.5−で満願
処理する。粉末状のドライアイスを加えそして混合物を
凍結乾燥して標記化合物を得る。δ(D20)1.51
(5H,d 、 J =6.5Hz 、 CH3CH
)、3.91(IH,dd、J=1.5および6.0H
2,CHCHCH)、4.25(IH,m、0R30H
CH)、5.02および5.56(2H,それぞれd、
J=14.5Hz、 CH20)、5.66 (IH
,d、 J=15Hz 、 CHCH8) ppm 0
ンmaz (H2O)258および506nm0 例 29 1−アセトニルオキシオキザリル−4(R)−力ルパモ
イルオキシアセチルテオ−3(S)−[i (R) −
(2,2,2−) リクロローエトキシカルボニルオキ
シ)−エチル〕−アゼチジンー2−オン〔A部〕 乾燥トルエン15m1に溶解したメチル6α−[1(R
)−(2,2,2−)ジクロロエトキシカルボニルオキ
シノーエチル〕−ヘニシリネート−1−オキシド4.2
9.Pを乾燥トルエン1257中の酸化プロピレン10
ゴ、酸化カルシウム1yおよび無水の硫化ナトリウム2
gの還流混合物に加える。次に、商業的N−クロロサク
シンイミド1,47Iを加える。混合物を油浴中125
℃で4時間攪拌しそして次に減圧0縮して約20rn1
.の容量にしそして室温に冷却する。ジエチルエーテル
1.5ゴを加えそして次に無水の四塩化錫1.2mlを
攪拌下で加える。45分後に、更に四塩化錫1.2−を
加える。20分後に溶剤(少量の不純物を含有する)を
傾瀉分離しそして粘稠なシロップ状残留物を酢酸エチル
で覆いそしてはげしい攪拌下で1N塩酸で処理する。有
機層を順次に塩化ナトリウムの水溶液、重炭酸ナトリウ
ムの水溶液および塩化す) IJウムの水溶液で洗滌し
そして次に溶剤を真空除去して無色のフオーム状物とし
て純粋な7(Sン−[: 1(R)−(2,2,2−)
ジクロロエトキシカルボニルオキシ)−エチル〕−3−
メチレン−セフェム−1−オキシドメチルエステル3.
95.!i’(92%)を得る。νmax (CHC’
J5ン1775.1740 br cm−1o δ(C
DCJ 5 ) 1.53 (3H,d 、 C’H5
CH)、3.69 (2H,s 、環内CH2八3.8
0 (4H、m 、 0CH5およびCH−CH−CH
)、4.78 (3H,m、 CH2CC/35および
C’H−C!H−8)、5.10 (IH、s 、 N
−CH−CO2)、5.20 (IH,m、CH3−C
HCH)、5.40および5.66(2H,それぞれS
、環外CH2)ppmO〔B部〕 ベンゼン15〇−中のA部の生成物3.95gの溶液を
2−メルカプトベンゾチアゾール148藁gと共に62
時間還流する。溶剤を真空除去しそして残留物をアセト
/にとる。4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S
)−[1(R)−(2,2,2−)ジクロロエトキシカ
ルボニルオキシ)−エチル〕−1−(4−メチル−2−
オキソ−2,5−ジヒドロフランー6−イル]−アセチ
ジン−2−オンが析出する。融点190〜191℃。ν
max (KBr )1775.175L 1740s
hcIIL 、δ(CDCAt5) 1.50 (3H
。
d、C旦5CH)、 1.80 (3H,s 、CH3
ン、 3.62 (IH,dd 、J=2.5および6
.5Hz 、 CH−CH−CH)、4.20(2H,
ABqの中ノー、J=17Hz 、ラクトンCH2)、
4.72 (−2Hr s r CH2CCJ s )
、5.20(IH,m、 CH5CHCH)、5.90
(IH,d、 J=2.5Hz、 CHCH3)、Z
2〜Z9 (4H* m r Ar) ppmo母液
を回収しそして再び数時間加熱してこの工程で得られた
生成物のより多(を与えることができる。
ン、 3.62 (IH,dd 、J=2.5および6
.5Hz 、 CH−CH−CH)、4.20(2H,
ABqの中ノー、J=17Hz 、ラクトンCH2)、
4.72 (−2Hr s r CH2CCJ s )
、5.20(IH,m、 CH5CHCH)、5.90
(IH,d、 J=2.5Hz、 CHCH3)、Z
2〜Z9 (4H* m r Ar) ppmo母液
を回収しそして再び数時間加熱してこの工程で得られた
生成物のより多(を与えることができる。
クロロホルム100ゴ中のB部の生成物Δ10yの懸濁
液をはげしい攪拌下でカルバモイルオキシチオ酢酸81
01gで処理する。30分後にジエチルエーテル100
ゴを加えそして固体を濾過によって集めて白色の固体と
して4(R)−カルバモイルオキシアセチルジチオ−3
(8)−(1(R) −(2,2,2−1−!Jジクロ
ロトキシカルボニルオキシン−エチル)−1−(4−メ
チル−2−オキソ−2,5−ジヒドロフラン−3−イル
)−アゼチジン−2−オン(2,85g、94%)を得
る。融点197〜199℃(分解)。νmax (KB
r) 1755br、 1720.1600m−1゜δ
(CDCAt5) 1.51.(3H,d、 J=6.
5Hz、C1f(5−CH)、2.16 (3H,s
、 CH3)、3.46(IH,dd、J=2.5およ
び6.2Hz。
液をはげしい攪拌下でカルバモイルオキシチオ酢酸81
01gで処理する。30分後にジエチルエーテル100
ゴを加えそして固体を濾過によって集めて白色の固体と
して4(R)−カルバモイルオキシアセチルジチオ−3
(8)−(1(R) −(2,2,2−1−!Jジクロ
ロトキシカルボニルオキシン−エチル)−1−(4−メ
チル−2−オキソ−2,5−ジヒドロフラン−3−イル
)−アゼチジン−2−オン(2,85g、94%)を得
る。融点197〜199℃(分解)。νmax (KB
r) 1755br、 1720.1600m−1゜δ
(CDCAt5) 1.51.(3H,d、 J=6.
5Hz、C1f(5−CH)、2.16 (3H,s
、 CH3)、3.46(IH,dd、J=2.5およ
び6.2Hz。
CH−CH−CM)、4.77 (2H、ABqの中心
、 J= 12Hz 、 CH2CC/3)、4.81
(2H,s、 0CH2) 、5−23(IH,m、
CH3−CH−CH)、5.75 (I H、d r
J =2−5Hz 、CHCHS ) ppm。
、 J= 12Hz 、 CH2CC/3)、4.81
(2H,s、 0CH2) 、5−23(IH,m、
CH3−CH−CH)、5.75 (I H、d r
J =2−5Hz 、CHCHS ) ppm。
前記0部の生成物2.85gをクロロホルム300m/
中チドリフェニルホスフィン1.75 Fと共ニー夜攪
拌して透明な溶液を得る。過剰な試薬およびトリフェニ
ルホスフィンサルファイドの除去(シリカゲル隔膜上の
濾過、殆どベンゼンそしてそれから酢酸エチル/ベンゼ
ンによる溶離ンによって、純粋な4(R)−力ル/シモ
イルオキシアセチルチオ−5(8)−(1(R) −(
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)−
エチル〕−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジ
ヒドロフラン−3−イル)−アゼチジン−2−オンが得
られる。白色のフオーム状物。2.28.F(85%)
。
中チドリフェニルホスフィン1.75 Fと共ニー夜攪
拌して透明な溶液を得る。過剰な試薬およびトリフェニ
ルホスフィンサルファイドの除去(シリカゲル隔膜上の
濾過、殆どベンゼンそしてそれから酢酸エチル/ベンゼ
ンによる溶離ンによって、純粋な4(R)−力ル/シモ
イルオキシアセチルチオ−5(8)−(1(R) −(
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)−
エチル〕−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジ
ヒドロフラン−3−イル)−アゼチジン−2−オンが得
られる。白色のフオーム状物。2.28.F(85%)
。
νmax (CHC15フィルム)1780sh、17
55.1710ShcIrL0δ(CD(J5) 1.
51 (5H,d、 J=6.4Hz、 CH3−0H
)、2.16(5H,s、 CH3L 5.73(IH
,dd、、 J=2.6および6.2Hz。
55.1710ShcIrL0δ(CD(J5) 1.
51 (5H,d、 J=6.4Hz、 CH3−0H
)、2.16(5H,s、 CH3L 5.73(IH
,dd、、 J=2.6および6.2Hz。
CH−王すCM) 、4.71 (2H,ABqの中心
、CH2C’(J3八 4.77(2Hr s r 0
CH2) 、 530 (I H2m J CH5−g
CH) 、 5.94(IH。
、CH2C’(J3八 4.77(2Hr s r 0
CH2) 、 530 (I H2m J CH5−g
CH) 、 5.94(IH。
d、 J=2.6Hz、 CH−CH−8)ppm0L
かしながら、粗製の物質を次の工程にそのまま使用する
ことができる。
かしながら、粗製の物質を次の工程にそのまま使用する
ことができる。
乾燥オゾンを一70℃のジクロロメタン250ゴ中のD
部からの物質2.28gの***液に出発物質が消失する
まで通す。過剰のオゾンを窒素でフラッシュ除去しそし
て酸性亜硫酸ナトリウム10I!を少量ずつ加える。
部からの物質2.28gの***液に出発物質が消失する
まで通す。過剰のオゾンを窒素でフラッシュ除去しそし
て酸性亜硫酸ナトリウム10I!を少量ずつ加える。
冷却浴を除去しそして温度を撹拌下で+5℃に上昇させ
る。次に水を加えそして有機層を集める。真空蒸発して
1−アセトニルオキシオキサリル−4(R)−カルバモ
イルオキシアセチルチオ−3(S)−[: 1 (R)
−(2,2,2−)ジクロロエトキシカルボニルオキシ
ン−エチルクーアゼチジン−2−オンを得る。白色のフ
オーム状物質。2,251 (96%几 νmax 1
825、1765、171511 。δ(aχ舅り(!
+H,d、J=6.5Hz、 CH5CH)、 2.2
1 (3H,s、 CH5)、3.78(IE(、dd
、 J=3.7および6Hz 、 CH−CH−CH)
、4.70〜4.84(6H,m、 0CI(2) 、
5.27(IH,m、 CH3−CH−CH)、5.4
5(2Hr b S T NH2)、5.90 (IH
,d、 J=3.7Hz、 CH−CH−8)pI)m
。
る。次に水を加えそして有機層を集める。真空蒸発して
1−アセトニルオキシオキサリル−4(R)−カルバモ
イルオキシアセチルチオ−3(S)−[: 1 (R)
−(2,2,2−)ジクロロエトキシカルボニルオキシ
ン−エチルクーアゼチジン−2−オンを得る。白色のフ
オーム状物質。2,251 (96%几 νmax 1
825、1765、171511 。δ(aχ舅り(!
+H,d、J=6.5Hz、 CH5CH)、 2.2
1 (3H,s、 CH5)、3.78(IE(、dd
、 J=3.7および6Hz 、 CH−CH−CH)
、4.70〜4.84(6H,m、 0CI(2) 、
5.27(IH,m、 CH3−CH−CH)、5.4
5(2Hr b S T NH2)、5.90 (IH
,d、 J=3.7Hz、 CH−CH−8)pI)m
。
第1頁の続き
205:00
209:00 )
(C07D 405104
205 :o。
307:00 )
(C07D 405/14
205 :0O
209:00
307:00 )
(C07D 417/14
205:00
209:00
205 :00
209:00
277:00
307:00 )
(C07D 417/14
205:00
209:00
277:00
309:00 )
@l! 間者 マルコ・アルペジアー二イタリア国20
100ミラノ・ヴイ アトルメッゾ2 @l! 間者 アンジエロ・ベデスキ イタリア国20100ミラノ・ヴイ アニーラデイリ・エンッオ8 0発 明 者 フランフ・ジューディチイタリア国20
020アレーゼ・ヴ イアヴエンティ・チンクエアプ リレ11 0発 明 者 マウリツィオ・フォリオイタリア国20
100ミラノ・ヴイ アペトラルカ24
100ミラノ・ヴイ アトルメッゾ2 @l! 間者 アンジエロ・ベデスキ イタリア国20100ミラノ・ヴイ アニーラデイリ・エンッオ8 0発 明 者 フランフ・ジューディチイタリア国20
020アレーゼ・ヴ イアヴエンティ・チンクエアプ リレ11 0発 明 者 マウリツィオ・フォリオイタリア国20
100ミラノ・ヴイ アペトラルカ24
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1ン 陽性へロゲン源の存在下において式(1)(式中
、R1は有機基を示しそしてHt2はカルボキシレート
保護基である)のペニシラン酸s−オキシドエステルを
加熱しそして不活性溶剤中で酸と反応させ、次に得られ
た式@)の3−メチレンセファムスルホキシドを高温度
で化合物 Y−CH2−C−8H の存在下においてラクトン中間体(7)に直接変換する
かまたは有機溶剤中での式〔式中、Wは(a)基5−R
4(式中R4はアルキルまたはアリール基または好適に
はへテロシクリル基特に2−ベンゾチアゾリルを示す)
また異なりて上記R4として定義される基であるかまた
は好適には全体の基がフタルイミドまたはサクシンイミ
ド基であるような基である)りそし【好適にはフェニル
またはp−トリル基である)から選択された脱離基であ
る〕の化合物との反応による化合物(関 の形成そして次いで化合物(■) を得るための化合物(2)のラクトン化を経てラクトン
中間体(イ)に変換し、そして (4)化合物面を化合物(V) に変換しそしてこの化合物(V) ′ff:加オゾン分
解そして次いで塩基の存在下および溶剤中で基L(Lは
塩素、臭素、場合によっては置換されたアルカンスルホ
ニルオキシまたはアレンスルホニルオキシ例えばメシル
オキシ、トシルオキシまたはトリフルオロメタンスルホ
ニルオキシから選択された離脱性基である)を導入する
のに適当な試薬との反応によって化合物(W)に変換し
次に得られた化合物(資)(式中、波線は基りがアゼチ
ジニル基に関してシスまたはトランスであり得ることを
示す)を−10〜+30℃の温度で溶剤中で硫化物また
はヒドロ硫化物で環化し、次に得られた化合物G[株] 全有機溶剤中で3価の有機燐試薬により脱硫して後記の
最終化合物(1)を得るか、または(B) 化合物(恥
を室温において3価の有機燐試薬によって脱硫し、得ら
れたチオエステルラクトンへ) を有機溶剤中で一70℃〜0℃の温度で加オゾン分解し
、得られたオキザルイミド(XOを還元しそして得られ
た化合物(7) をクィ:ティッヒ型閉環によって5R配置を有する後記
の最終化合物(1)に変換する 工程によって化合物(閏および(時を後記の最終化合物
(I)に変換することを特徴とする、一般式(1) 〔式中、R1は有機基を示し、 R2は水素原子、カルボキシ保護基、結合しているオキ
シカルボニル基と共に生体内で加水分解できるエステル
を形成する基または−CO2陰イオンと共にカルボキシ
レート塩を形成する有機または無機陽イオンを示しそし
てYは (a) 遊離または保護されたヒドロキシ基、(b)
02〜C6アシルオキシ基、 (C) 遊離または保護された未置換またはN−アルキ
ル置換されたカルバモイルオキシ基、(d) 場合によ
ってはハロゲン好適には弗素、02〜C6アシル好適に
はアセチル、アミノ、ヒドロキシおよびメルカプト(ア
ミノ、ヒドロキシまたはメルカプト基は遊離または保護
されている)から選択された1個またはそれ以上の置換
分によって置換されている01〜C12アルコキシまた
は01〜C12アルキルチオ基、(e) へテロシクリ
ルチオ基5−net(式中Hetは場合によってはヒド
ロキシ、01〜C6アルコキシ、ハロゲン、ホルミル、
C2〜C6アシル、C1〜C6アルキル、アミノ、C1
〜C6アルキルチオまたは(CH2)n ZまたはCH
=C’H−Z (式中Zはアミノ、ジメチルアミノ、シ
アン、カルバモイル、スルホニルオキシまたはカルボキ
シでありそしてスルホニルオキシまたはカルボキシ基は
遊離であるか、保護されているか、01〜C4アルキル
でエステル化されているかまたは有機または無機塩基と
の塩の形態にある)から選択された1個またはそれ以上
の置換分によって置換されている単環式または二環式の
N、SおよびOから選択された少なくとも1個のへテロ
原子を含有する飽和または不飽和の複素環式環を示す〕 から選択された置換分を示す) の2−(置換メチル)−ベネム−3−カルボキシレート
の製法。 2)式(III) (式中、R1は場合によつCは置換されているアルキル
を示しそしてBI3はカルボキシレート保護基を示す)
を有する3−メチレン−セファムスルホキシド。 5)式(m 〔式中、R1は置換または非置換のアミノ基を示しそし
てWは (a) 基5−R4(式中R4はアルキルまたはアリー
ル基または好適にはへテロシクリル基特に2−ベンゾチ
アゾリルを示す)または○ は異なりてそして前記R4として定義される基であるか
または全体の基が7タルイミドまたはサクシンイミド基
であるようなものである)または を示すか、または R1は本明細書中に定義したような基を示しそ4)式(
蜀 (式中R1は本8Aa書中に定義した通りである)のア
ゼチジノンラクトン。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB838316415A GB8316415D0 (en) | 1983-06-16 | 1983-06-16 | Azetidinone intermediates |
GB8316415 | 1983-06-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6011463A true JPS6011463A (ja) | 1985-01-21 |
Family
ID=10544319
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59120883A Pending JPS6011463A (ja) | 1983-06-16 | 1984-06-14 | 新規なアゼチジノン化合物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6011463A (ja) |
BE (1) | BE899892A (ja) |
DE (1) | DE3421722A1 (ja) |
GB (1) | GB8316415D0 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10087190B1 (en) * | 2017-04-24 | 2018-10-02 | Purdue Research Foundation | Lactones |
-
1983
- 1983-06-16 GB GB838316415A patent/GB8316415D0/en active Pending
-
1984
- 1984-06-12 DE DE19843421722 patent/DE3421722A1/de not_active Withdrawn
- 1984-06-13 BE BE0/213120A patent/BE899892A/fr not_active IP Right Cessation
- 1984-06-14 JP JP59120883A patent/JPS6011463A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB8316415D0 (en) | 1983-07-20 |
BE899892A (fr) | 1984-10-01 |
DE3421722A1 (de) | 1984-12-20 |
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