JPS6011463A - 新規なアゼチジノン化合物 - Google Patents

新規なアゼチジノン化合物

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JPS6011463A
JPS6011463A JP59120883A JP12088384A JPS6011463A JP S6011463 A JPS6011463 A JP S6011463A JP 59120883 A JP59120883 A JP 59120883A JP 12088384 A JP12088384 A JP 12088384A JP S6011463 A JPS6011463 A JP S6011463A
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マルコ・アルペジア−ニ
アンジエロ・ベデスキ
フランコ・ジユ−デイチ
マウリツイオ・フオリオ
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、アゼチジノンおよび該アゼチジノン、oニジ
ラン酸誘導体およびその薬学的に許容し得る塩の製造に
利用する方法に関する。
本発明の方法によって製造できるペニシラン酸誘導体は
、一般式(Iン を有している。
上記式中、R1は有機基、好適にはアシルアミノ基また
は場合によっては置換されている脂肪族または環状脂肪
族炭化水素基、もつとも好適には場合によっては1個ま
たはそれ以上のヒドロキシ、アミノ、シアノまたはメル
カプト基(ヒドロキシ、アミンおよびメルカプト基は遊
離であるかまたは保護されている)によって置換されて
いる01〜C12アルキル基を示す。
R2は水素原子、カルボキシ保護基、結合しているオキ
シカルボニル基と共に生体内で加水分解できるエステル
を形成する基または−co2 陰イオンと共にカルボキ
シレート塩を形成する有機または無機陽イオンを示す。
Yは ←)遊離または保護されたヒドロキシ基、(b) C2
〜C6アシルオキシ基、 (c) 遊離であるかまたは保護された未置換またはN
−アルキル置換されたカルバモイルオキシ基、 (d) 場合によってはハロゲン好適には弗素、C2〜
C6アシル好適にはアセチル、アミノ、ヒドロキシおよ
びメルカプト(アミノ、ヒドロキシまたはメルカプト基
は遊離であるかまたは保護されている)から選択された
1個またはそれ以上の置換分によって置換されている0
1〜C12アルコキシまたは01〜CI2アルキルチオ
基、(8) へテロシクリルチオ基5−Het(式中H
etは場合によってはヒドロキシ、01〜C6アルコキ
シ、ハロゲン、ホルミル、C2〜C6アシル、C1〜C
6アルキル、アミノ、01〜C6アルキルチオまたは(
CH2)n Zまたはcr−r=cn−z (式中2は
アミン、ジメチルアミノ、シアノ、カルバモイル、スル
ホニルオキシまたはカルボキシでありそし【スルホニル
オキシまたはカルボキシ基は遊離であるか、保護されて
いるか、01〜c4アルキルでエステル化されているか
または有機または無機塩基との塩の形態にある)から選
択された1個またはそれ以上の置換分によって着換され
ている単環式または二環式のNXSおよび0から選択さ
れた少なくとも1個のへテロ原子を含有する飽和または
不飽和の複素環式環を示す〕 から選択された置換分を示す。
一般式(I)のもつとも好適な化合物は、R1が1−ヒ
ドロキシエチル基を示し、R2が水素、ナトリウムまた
はカリウム原子またはp−ニトロベンジル、アセトニル
またはトリメチルシリルエチルのような化学的に解裂で
きる基またはピバロイルオキシメチル、アセトキシメチ
ルまたは7タリジルのような生体内で加水分解できる基
を示しそしてYがアセトキシまたはカルバモイルオキシ
基または基8−Het(式中Metは前述した通りであ
る)會示す化合物である。
酸、薬学的に許容し得る塩または生体内で加水分解でき
るエステルの形態の一般式(1)の化合物は、経腸また
は非経口的投与によって温血動物特に人間における細菌
感染の治療に有用である本発明者等の英国特許出願第2
045639号および同第8210410号に記載され
ている強力な広域スペクトルの抗菌剤である。
反応スキーム1は、一般式(1)のRネム誘導体に至る
2つの従来技術の方法を概略的に示すものである。反応
スキーム1の式においてR1、R2およびYは前述した
意義の若干を有する。方法Bははるかにより普通である
。従来技術の方法に対する主要文献は次の通りである。
方法A: んHenderson氏等「J、Chem、
 Soc、。
Chem、 Commun、 J 1’982年、第8
09頁。
方法B : L Ernest氏等「J、 Am、 C
hem、 Soc、J第100巻第8214頁(197
8年)。
これらの従来技術の方法は若干の欠点または限界を有し
ているがそれらは本発明によって少な(とも部分的に克
服できるものである。
従来技術の方法Aは、Y=I(に対してのみ記載されて
おりそしてY=HであるRネム化合物はY= 0COC
H5,0CONH2または5−Betである化合物に比
較して非常に減少された活性を有することが判った。異
なる研究所から入手できる細菌菌株の間の不適当な非同
等性にもかかわらず、第1表に示したデータは例証とみ
なすことができる。
Y=Hである従来既知のアゼチジノン中間体を官能化し
てYが前述した他の意義のいずれかを有する相当する化
合物を与えることは容易ではなくそして非常に望まれて
いたにもかかわらずそれはかつて達成されなかったとい
うことを認識第1表 (8R,5R,68) ヘネム(1,Y=Haνb) 
オJ:ヒ2− VB能化メチル)同族体(1、Y=OC
OCH5°)の抗菌活性間の比較209P 0.023 スミス ATCC13709−0,046 Fl−FV3− 0.046 ストレプトコツカ A206B8 31 63 −ス・
フェカリス ATCC80433,12BCefRO,
39 P99 − 3.12 214 − 6.25 クレブシエラ・プ A15130 8 16 −ノイモ
ニアエ ATCC100310°69Ciffia、デ
ータ源:オランダ特許(NL)第7909056号、D
erwent No、05333 C−b、それぞれの
一対のもつとも高い数値は、上記特許に報告されている
ものである。化合物はラセミ物質に関するものなので、
それぞれの一対のはじめの値のように低い数値は有意な
活性を有していない5S化合物を考1にすることによっ
て5R立体異性体に対して推定されるものである。
C,データ源: r、y、 Antibiot、J第3
5巻第1248頁(1982年) 従来技術の方法Bは、原料はニジリンのチアゾリジン部
分のすべての炭素原子の喪失(そしてしばしばその上に
硫黄原子の喪失)および式の重要な中間体を形成させる
ためのグリオキシレートシントンの導入を必要とする。
反応スキーム 1 反応スキーム2は一般式(I)のベネム誘導体に至る不
発明によって提供される新規の方法を示すO 本発明の方法A−反応スキーム2の左側に示されたこの
方法は一般式(II)のペニシラン酸スルホキシドを一
般式G辺(Yは水素以外の基であってそして好適にはア
セトキシ、N−遊離または置換されたカルバモイルオキ
シまたは低級アルコキシである)の2−チアセフェム誘
導体に変換することを可能にする。反応スキーム1に示
された従来技術の方法人はYが水素である2−チアセフ
ェムのみを与える。得られた2−チアセフェム中間体(
至)は次に脱硫して所望のペネム化合物(1)を得る。
反応スキーム2 本発明の方法B−反応スキーム2の右側に示されたこの
方法は、原料ペニシラン酸スルホキシド(11)の安価
な且つ化学的に安定ガニステル例えばメチルエステルか
ら出発して所望の4ネムカルボン酸のアセトニルエステ
ル((1)、R2=CH2COCH3)を与える。この
方法は、一般式(X)の新規なアゼチジノンラクトンを
経て進行しそしてベネムエステル(1)中にペニシラン
酸Ql)のすべての炭素原子を混入する。ペネム化合物
のアセトニルエステルは容易に加水分解されることがで
き(「、r、 Am、 Chem、 Soc、J第10
1巻第6606頁(1979年〕〕そしである場合にお
いては生体内で経口的によ(吸収され、その結果、治療
的に有用な化合物の中間体プレカーサーであるまたはそ
れ自体治療に有用な化合物でさえある。
アセトニルエステルは、本発明の特に好適な実施化によ
ってR1が1−ヒドロキシエチルである場合に、ペニシ
ラン酸核へのR1基の導入に対して普通必要とされる条
件(例えばグリニヤール型反応)下において不安定であ
る。本発明を家、はニジラン酸プレカーサーのすべての
炭素原子を利用することによって安価なペニシラン酸メ
チルをアセトニル6−ヒドロキシ−エチル−ベネムー3
−カルボキシレートに変換することを達成する方法を提
供する。従来技術方法B(反応スキーム1)に比較して
この方法は外部シントンの使用を最小にする。
前述した本発明の方法人およびBは以下の通り詳細に述
べることができる。本発明の方法Aによれば、陽性ノ・
ロゲン源の存在下において無水の不活性溶剤中でR/2
がカルボキシレート保護基好適にはp−ニトロベンジル
またはトリメチルシリルエチルであるペニシラン酸誘導
体(l[)を加熱せしめて次式 のスルフィニルハライド全形成させ、次にこのものをR
1が7タルイミドまたはアシルアミノ基である関連した
「古典的」ペニシリン誘導体(It)に対してS、 K
ukolja氏によって説明されている方法(「J、 
Am、 Chem、 Soc、 J第98巻第5040
頁(1976年)参照〕と実質的に同様な方法で、同一
または異なる溶剤または溶剤混合物中で酸好適にはルイ
ス酸と反応せしめて式(1)の3−メチレンセファムス
ルホキシドを得る。本発明の好適な態様によればR1が
遊離または保護された1−ヒドロキシモチルのような場
合によっては置換されたアルキル基である式(III)
の化合物は新規である。上記反応に対する適当な溶剤は
1,2−ジクロロエタン、ベンゼン、トルエンおよヒ四
塩化炭素である。反応は約60〜120℃の範囲の温度
で実施することができる。適当な陽性ハロゲン源は塩化
スルフリル、N−クロロフタルイミド、N−プロモサク
シンイミドおよび特にN−クロロサクシンイミドである
。好適なルイス酸は四塩化錫である。R1が(保護され
た)ヒドロキシエチル基である好適な場合においては、
好適には試薬から微量の水を共沸除去した後のベンゼン
中においておよびN−クロロサクシンイミドの新しく再
結晶した試料を使用することによって高収量が得られる
ということが判った。
濃厚な溶液を使用する場合は、交叉結合した第3級アミ
ン〔例えばヒューニツヒ(Hiinig)塩基〕、酸化
プロピレンまたは懸濁した無機塩のような添加した酸受
容体の存在が有利である。
次に、得られた化合物(I[[)を化合物(5)に変換
する。化合物(6))においてR1およびR/2は前述
した通りでありそしてWは (a) 基5−R4(式中R4はアルキルまたはアリー
ル基または好適にはへテロシクリル基特に2−ベンゾチ
アゾリルを示す)または 異なりて上記R4として定義される基であるかまたは好
適には全体の基が7タルイミドまたはサクシンイミド基
であるような基である〕または(C) 基8−R4(式
中R4は前述した通りであり− そして好適にはフェニルまたはp −) 1)ル基であ
る) かう選択された離脱性基である。
変換を達成するために、化合物(DI)を適箔な溶剤中
において適当な温度で加熱する。アリルスルホキシド(
II)および式 のスルフェネートの間の平衡が起こりそして後者の化合
物は反応混合物に加えられる式HW(式中Wは前述した
通りである)の化合物またはその塩またはシリル化誘導
体によってトラップすることができる。好適な溶剤は還
流温度または殆ど還流温度に近い温度におけるトルエン
である。
非常に一般的ではないけれども、β、γ−不飽和スルホ
キシドからのアリルアルコールの製造は有機化学におけ
る一般的方法である(J、 March氏著[Adva
nced Organic Chemistry J 
1977年版第1056頁)。β−ラクタム抗生物質の
分野において、それは非常に最近1−オキサ−1−デチ
アセフエム誘導体の合成においてR1がα−配向ベンズ
アミド基である式(III)の化合物に対し【利用され
ている[ 「Tetrahedron Lett、J第
23巻第6679頁(1982年)および特掬昭57−
58769号公報(Derwent No、29389
F) 〕o R’が置換または未置換のアミン基以外の
ものである化合物ある化合物(5)におけるように新規
である。特に本発明の特に好適な態様の一部であるR1
が1−ヒドロキシエチルである化合物@)は新規である
一般的なアリルアルコール合成においておよび特定の1
−オキサ−1−デチアセフエム製造(前記参照)におい
ては、基Wまたは他の親核基によって切断された後硫黄
原子は失われるのであるから、所望の化合物の分子中に
中間スルフェネートの硫黄および酸素原子を導入する思
想もまた新規である。次に化合物(旬を式W)の化合物
に変換する。化合物(V)において、R1およびR/2
は前述した通りでありそしてYは化合物(υに対して前
述した意義の一つであって保護されたヒドロキシ、低級
アルコキシ、アシロキシ、または遊離であるかN−保護
またはN−アルキル置換されたカルバモイルオキシ基の
一つを有し得る。
好適な保護されたヒドロキシ基はテトラヒドロピラニル
オキシまたはシリルオキシ基例えばt−ブチルジメチル
シリルオキシまたはカーボネ−I’ M RO−Co・
0例えばp−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシで
ある。好適なアシロキシ基はアセトキシでありそして好
適なカルバモイルオキシ基は0CONH2である。この
ように定義された化合物■)は新規である。化合物(V
lへの化合物(5)の変換は、例えば置換されたシリル
クロ2イド、クロロホルメートまたはジアゾアルカンま
たはアシルクロライドまたは無水物例えば塩化アセチル
または酢酸無水物またはイソシアネート例えばイソシア
ン酸エチルまたはトリクロロアセチルイソシアネートと
の反応によって有利に実施される。もし化合物(1)が
前述した試薬および化合物HWの混合物でかまたは化合
物贋の反応性誘導体で処理されると化合物(ト)はしば
しば化合物(I[I)から直接得られるということに留
意されたい。例えば2−アセチルチオ−ベンゾチアゾー
ルはYがアセチルでありそしてWが2−ベンゾチアゾリ
ルチオである化合物(7)への化合物(1)の変換を行
ない得る。
本発明の方法Aの次の工程においては、化合物(v)を
成立)の化合物に変換する。化合物(VDにおいて、R
1、R′2、wおよびYは前述した通りでありそしてL
は塩素、臭素、場合によっては置換されたアルカンスル
ホニルオキシまたはアレンスルホニルオキシ例えばメシ
ルオキシ、トシルオキシまたはトリフルオロメタンスル
ホニルオキシから選択される離脱性基である。波線1は
基りがアゼチジニル基に関してシスまたはトランスであ
り得ることを示す。変換ははじめに化合物(v)を加オ
ゾン分解して次式 のエノールまたはそのケト互変異性体を得、次にこの化
合物をヒドロキシ置換分を基りに変換するのに適当であ
ることが知られている試薬と反応させることによって実
施できる。この型の好適な試薬は塩化オキザリル(L=
(J)、塩化メシルまたはメシル無水物(L = 08
O2CH3)、トリフルオロメタンスルホニル無水物(
L=08020F3)である。これらは好適にはトリエ
チルアミンまたはピリジンのような塩基の存在下におい
てそしてジクロロメタンまたはテトラヒドロンランのよ
うな適当な溶剤中で使用される好適な基りはメシルオキ
シでありそしてアゼチジニル基に関して好適な幾何学的
配置は以下に示すシス配置(アルケン2幾何学的配置)
である。
次に化合物(至)を環化して2−チアセフェム(■)(
式中R1、R/2およびYは前述した通りである)を与
える。この環化は化合物(2)をジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルまたはエタノ
ール(場合によっては水と混合した)のような適当な溶
剤中においてトリエチルアミンまたはピリジンのような
塩基の存在下で硫化水素とかまたはスルフィドまたはヒ
ドロスルフィド例えば硫化ナトリウム、NaH8゜Bu
4NH8と反応せしめることによって単一工程で実施さ
れる。最良の収量は、試薬を一10〜+60℃の温度に
おいて出発物質を消費するのに必要な時間だけ反応せし
める場合に得られる。最後に、好適ニはクロロホルム、
アセトニトリル、テトラヒドロフラン、エタノール、ジ
メチルスルホキシドおよびアセトンから選択された適当
な溶剤中において3価の有機燐試薬好適にはトリフェニ
ルホスフィンと反応せしめることによって化合物(■)
を脱硫して式(IN式中R2はR/2でありそしてR1
、R12およびYは前述した通りである)のペネムにす
る。溶剤の型は基R1、R′2、Yによって得られるペ
ネム(■)の5−C原子の配置に対して顕著な作用を有
し得るものでありそしてそれは5Rベネムジアステレオ
マーのもつとも高い収量を達成するために注意をもって
選択しなければならない。本発明の方法においては、得
られた化合物(υはもし必要ならば他の化合物(1)K
変換することができる。この型の好適な変換はR1基上
の官能基の脱保護、または保獲されたヒドロキシ基Yの
脱保護、または異なるR2基へのR12の変換のような
標準反応からなる。特に−〇02R’がp−ニトロベン
ジルエステルのようなエステル基である場合は、それは
基−C02R2(式中R2は水素、ナトリウムまたはカ
リウムである)に変換することができる。R/2基と異
なるR2基または前述した原子との間のおよび(または
) Bj 、R2の異なる許容し得る意義の間の内部変
換は、もし必要ならば2−チアセフェム中間体(1’I
Oに対して実施することができる。酸条件に対する2−
チアセフェム核の良好な安定性のためにペネムに至る他
の古典的な方法に比較した方法Aの顕著な利点は、はネ
ム環系と相客しないエステル加水分解(例えばt−ブチ
ルまたはジフェニルメチルエステルの解裂)を2−チア
セフェムプレカーサーに対して実施することができ、他
方特におだやかな且つ容易な反応である最終的な環状網
を遊離酸に対して有機または無機塩基とのその塩に対し
てまたは種々な不安定エステル(例えばトリメチルシリ
ルエステル)に対して実施することができ、その結果仮
に高度に官能化されそして比較的不安定だとしても直接
所望の化合物を得ることができるということである。
本発明の方法Bによれば、化合物(■)(式中R1は前
述した通りでありそしてR′2は好適には容易に導入さ
れ且つペニシリンプレカーサーから中間体(III)の
段階までの収率、精製などに対して有利に実施できるメ
チルまたは一〇02部分と共にエステル基を形成する他
の残基である)をはじめに式(110(式中R1および
Yは前述した通りである)の重要なラクトン中間体に変
換する。
変換は5つの分離した工程で実施することができる。す
なわち (1)化合物(Ill)をはじめに前述したようにして
化合物(mに変換する。
e) 化合物(5)を2クトン化せしめて式(■)の中
間体を与える。このようなラクトン化は延長した加熱に
よっておよび(または)塩基性または酸性触媒にさらす
ことによって促進される。好適な塩基性触媒はジクロロ
メタンまたはテトラヒドロフランのような不活性有機溶
剤の存在下または不存在下におけるトリエチルアミンで
ある。これらの条件下において、方法は室温またはそれ
以下の温度で非常に急速でありそして殆ど定量的収率で
化合物(■)を与える。
た通りである)による化合物HWまたはその塩(式中W
は前述した通りである)の置換は、最後に再び非常に簡
単な操作条件(室温またはそれ以下におけるジクロロメ
タンのような不活性溶剤)下にそしてすぐれた収率で化
合物(幻を与える。
化合物(IK)への化合物(I[[)の変換は2工程ま
たは1工程でさえ遂行することができる。すなわちHW
の存在下における化合物(In)の延長した加熱は普通
(mの代りに直接(■)を与える。更に化合物は普通良
好な収率で(7)を与える。この直接的結果は前記チオ
酸による熱的に発生したスルフェネート、この場合にお
いては次式 の化合物の(従来未報告の)トラッピング次いで自発的
なまたは酸接触ラクトン化から起こると信じられる。
その後、アシルジチオアゼチジニルラクトン(力を3価
の有機燐試薬好適にはトリノエニルホスフインで脱硫し
て相当するチオエステル2クトン(力を得る。再び、こ
の方法は室温(好適にはジクロロメタンのよ5な不活性
有機溶剤が使用される)で急速であり、良好な収率を与
えそしてもとのアゼチジノンC−4配置の実質的な保持
(HlおよびS−8−C−CH2Yが互にシス配置され
1 ている場合でさえも合理的な可能性を越えてンをもって
進行する。これは天然のはニジラン酸プレカーサーを望
ましい5R配置を有するズネム化合物(I)〔抗菌活性
に対する本質的な立体化学の必要条件、[J、 Am、
 Chem、 Soc、J第101巻第6606頁(1
979年)〕に変換する能力を本発明の方法Bに与える
のに決定的である。化合物(幻は脱硫前に単離する必要
はな(、その結果(幻への(III)の単一ポットでの
変換が可能である。
特定の場合においてはラクトン化/基W置換/脱硫の操
作順序を逆にすることが有利である。
すなわちC力を与えるための(Sel+)の反応に対し
て記載したと同じ実験条件下における(IV)と式y−
cH2−5−saの化合物との反応は、式 の化合物を与える。あるいはまた該化合物は置換分特に
R′の性質および反応条件によって式(7)Oラクトン
と共にかまたはその式(埠のラクトンの代りに種々な量
で(III)および前述した化合物Y−CH2−C−8
Hから直接得ることができる。次に1 式(IKa )の化合物を(@への(5)の変換に対し
て記載したと同じ実験条件でラクトン化して式(力の化
金物を得るかまたは(X)への(的の脱硫に対して記載
した実験条件を使用することによって脱硫して式 の化合物となしそして次に再び(■)への(6)の変換
に対して記載した条件下でそのラクトン(X)に変換す
ることができる。すべてのこれらの方法の最終結果は重
要な中間体(力である。
次の工程は、ジクロロメタンのような適当な溶剤中にお
いて一70〜約0℃の間の温度で化合物へ)を加オゾン
分解してオキザールイミド(2)を得ることからなる。
この反応は有用な−N−C−CO2−1 部分を与えるのみでな(またペネム化合物(1)に導入
されるべく次の工程において結合されるアセトニルエス
テルを形成する。化合物国)はホスホラン(xm)のウ
イテイツヒ型閉環によってペネム化合物(I)に変換す
ることができる。この目的に対しては化合物(至)をは
じめにカルビノール(XIOに還元する。これはボラン
(例えばB2H6) 、水素化物(例えばNa BH4
、NaBH3CN )または金属(例えばkl/Hg、
Zn)のような種々な還元剤によって達成することがで
きる。好適な試薬は有機酸好適には酢酸の存在下におけ
る亜鉛末である。
この場合においては、反応は前記試薬を加えそして0〜
30℃の範囲の温度で攪拌することによって同じ加オゾ
ン分解容器(溶剤 ジクロロメタン)中で有利に実施さ
れる。
はネム化合物(1)を与える次の工程はウッドワード[
[J、 Am、 Chem、 Soc、 J第100巻
第8214頁(1978年)]によって記載されている
非常に一般的な方法に従うので簡単に記載する。カルビ
ノール(Xll)を相当するクロライドに変換しく好適
な試薬はピリジンまたはルチジン中の塩化チオニルであ
るフそして次にホスホランに変換し〔試薬として場合に
よっては塩基および(または)シリカゲルの存在下にお
けるトリフェニルホスフィンを使用〕、次にこれを不活
性溶剤(例えばベンゼン、トルエンまたはキシレン)中
で熱分解してペネム化合物(I) (R’およびYは前
述した通り、R2=アセトニル)を得る。このようにし
て得られた化合物(1)は場合によっては前述したよう
な異なる化合物(1)に変換することができる。特にア
セトニルエステルは水酸化ナトリウムの希溶液による簡
単な処理(「、T 、 Am、 Chem。
Soc、J第101巻第6606頁(1979年)〕に
よって容易に解裂してもとのベネム酸のナトリウム塩を
与えることができる。
例 1 4(6)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−ヒドロ
キシメチル−1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−1−プロプ−2−エニルー3(R)’−フタルイミド
ーアゼチジンー2−オン 乾燥トルエン50tnl!中の7 (R)−7タルイミ
ドー3−メチレンセファム−1−オキシドル−ニトロベ
ンジルエステル495m19の溶液を、2−メルカプト
ベンゾチアゾール250■と共に1時間還流する。溶剤
を除去して少量の4 (R)−ベンゾチアゾリルジチオ
−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒドロ−
フラン−3−イル)−3(R)−フタルイミド−アゼチ
ジンおよび過剰の2−メルカプトベンゾチアゾールを伴
った標記生成物(85%)からなるフオーム(泡状物)
を得る。この混合物を次の工程に対してそのまま有利に
使用することができる。シリカゲルクロマトグラフィー
処理後に、標記生成物の純粋な試料を得ることができる
。νmax (CHC/ 5フイルム)1780、 1
745、1720、 1605CIn 0 δ (cD
cz3ン 3.2゜br (IH,s 、 OH)、4
.47 (2H,s 、 CH20H)、5.22 (
IH,a 。
NCHCO)、5.31 (2H,s 、 0CH2A
r )、5.4’7 (’2H,m、 C:CH2)、
5.78 (IH,d 、 J=4.0Hz 、 N−
CH・CH3、7,2〜aO(l0J(、m。
Ar)、a19(2H,d、Ar) ppm0例 2 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−アセト
キシメチル−1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−1−プロプ−2−エニルツー3(6)−フタルイミド
−アゼチジン−2−オン〔方法A〕 乾燥ジクロロメタン7ml中の例1に記載したようにし
て製造した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(
2−ヒドロキシメチル−1−p−二トロベンジルオキシ
カルボニル−1−プロプ−2−エニル)−3(R)−フ
タルイミド−アゼチジン−2−オン663 myの溶液
を順次に塩化アセチル011mおよびピリジン0.1コ
で0℃で処理する。数分後に混合物を水で洗滌しそして
乾燥した有機層を蒸発して標記生成物を得る。νmaX
(フィルム)1785.1770sh、1740.17
20.1605c+a 。
δ(CDCJ3) 2.17 (3H,s 、 C0C
H5)、4.85(2H9brS、CIF(20)、5
.19 (IH,br s、NCHCO)、5.54 
(5H,br S、0CH2ArおよびC:CH,旦)
、5.54 (IH,br s 、 C:CH,H)、
5.81(2H。
ABQ + J = 5.5 Hz 、内部線の分子5
9H2、β−ラクタムプロトン)、7.2〜aO(10
H,m、 Ar)、a19(2H,d、Ar)ppm0
〔方法B〕 例1およびこの例の方法Aに記載した2工程変換は単一
ポットで有利に実施することができる。すなわち7(R
)−フタルイミド−3−メチレン−セファム−1−オキ
シドp−ニトロベンジルエステル1.5gをメルカプト
ベンゾチアゾール50619と共にトルエン中で1.5
時間還流する。
今後、混合物をジクロロメタンでうすめモして0℃で順
次に塩化アセチル0.32−およびピリジン0.29m
で処理する。反応をTLCによって追跡し、必要ならば
塩化アセチルおよびピリジンの添加を反復する。水それ
から水性の酸性炭酸塩で洗滌しそして溶剤を除去して標
記生成物(2g)を得る。このものはそのまま次の工程
に使用することができる。
〔方法C〕
7−フタルイミド−3−メチレンセファムスルホキシド
(0,5,9)を酢酸無水物(4d)を含有する乾燥ト
ルエン(24rd)中で1時間還流した場合、標記化合
物が良好な収率で得られる。
〔方法D〕 ″ 7−フタルイミド−6−メチレン−セファム−1−オキ
シドを2−アセチルチオベンゾチアゾールと共にトルエ
ン中で還流して標記生成物を得る。
例 3 4@−ベンゾチアゾリルジチオ−1−[2−(N−エチ
ルカルバモイルオキシ−メチル)−1−p−二トロベン
ジルオキシカルボニル−1−プロプ−2−エニル]−3
(R)−フタルイミド−アセチジン−2−オン乾燥トル
エン中の例1に記載したようにして製造した4(R)−
ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−ヒドロキシメチル
−1−p−二トロベンジルオキシカルボニル−1−プロ
プ−2−工二ル) −3(R)−フタルイミド−アゼチ
ジン−2−オン665 Qの溶液を室温で一夜イソシア
ン酸エチル1ゴで処理する。溶剤を除去して事実上定量
的収率で標記生成物を得る。νmax (CH(J5フ
ィルム)3410.1785.1770shq 172
0br、1610cm−’。
J (CDCJ5+D20) 1.15 (5H,t、
 CH2CH5)、3−2 (”L q+CH2CH3
) 、4.8 (2H,br s 、 CH20)、5
.25 (4H,br s 。
NCHCO+0CH2Ar+C:CH,H)、s、so
 (IH,br B 、C’:CH,H)、5.80 
(2H、ABq 、 J =5Hz 、β−ラクタムプ
ロトン)、7.2〜7.9(10H,m、Ar)、a1
5(2H,d、J=8Hz、Ar) ppm0反応は中
間体カルビノールを単離することなしに7(R)−フタ
ルイミド−3−メチレン−セファム−1−オキシドp−
ニトロベンジルエステルおよび2−メルカプトベンゾチ
アゾールから出発して有利に実施す為ことができる。カ
ラムクロマトグラフィー処理は70%以上の全収率で純
粋な標記生成物を与える。
例 4 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−(N−
トリクロロアセチル)−力ルパモイルオキシメチル−1
−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−1−プロプ−
2−エニル〕−3(R)−フタルイミド−アゼチジン−
2−オン イソシアン酸エチルの代りにトリクロロアセチルイソシ
アネートを使用する以外は例3に記載したように操作し
て標記生成物を得る。νmax(CHCJ3フィルム)
1800sh、1785sh、1775.1750.1
725.1660.1610cgL0 δ(CDCA’
3) 4.95 (2H,br s 。
C’H20)、5.5 (4H,m 、 0CH2Ar
 +NCHCO+C;CH,H)、5.55(IH,b
r s 、 C:CH,H)、5.82 (2H,s 
、β−ラクタムプロトン)、7.2〜7.9 (10’
H,m、 Ar)、a18(2H,d、J=8Hz、A
r) ppm6゜例 5 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−(2−
テトラヒドロピラニルオキシメチル)−1−p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−1−ゾロブー2−エニル)
−3(R)−フタルイミト−−アゼチジン−2−オン 乾燥ジクロロメタン中の例1に記載したようにして製造
した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−ヒ
ドロキシメチル−1−p−二トロベンジルオキシカルボ
ニル−1−プロツー2−エニル)−3(R)−フタルイ
ミド−アゼチジン−2−オン665 mgの溶液を接触
量のピリジニウムp−)ルエンスルホネートの存在下に
おいて大過剰のジヒドロピランと一夜反応せしめる。
水性処理および真空蒸発によって標記生成物を得る。ν
maX (フィルム)17’85.1775sh、17
40.1720.1610m−’。δ(CDC13)1
.64(6H,m、ピラニルch、cg2.C2)z5
A〜4.0(2H,m、OCH+、ピラニル)、4.3
0および4.41(2H。
ABq+sの中心、CH20)、4.70(IH,m、
ピラニルo、cH,o)、5.20および5.25(I
H,それぞれe、NベニH,CO) 、5.32 (2
H。
s 、 0CH2Ar) 、5.44 (2H,m 、
 C: CH2) 、571および5.74(1H1そ
れぞれd 、 J=5.QHz、 CH,CH,S)、
5.82および5.84(IH,それぞれd、J=5.
OHz、N、CH,CH)、7.20〜a25(12H
,m、Ar)ppm。
このようにする代りに、カルビノールを単離することな
しに室温における順次の還流下でのトルエン中での2−
メルカプトベンゾチアゾールとの反応およびトルエンお
よびジクロロメタン中でのジヒドロピランとの反応によ
って、7(6)−フタルイミド−6−メチレン−セファ
ム−1−オキシドp−ニトロベンジルエステルヲ標記生
成物(シリカゲルクロマトグラフィー処理後70チの収
率)に変換することができる。
例 6 (E)−1−(3−アセトキシ−2−メタンスルホニル
、t−+シー1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−1−プロプ−1−エニル)−4(R)−ベンゾチアゾ
リルジチオ−3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2
−オン ジクロロメタン/メタノール混合物中の例2の方法Bに
記載したようにして製造した粗製の4 (PJI−ベン
ゾチアゾリルジチオ−1−(2−アセトキシメチル−1
−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−1−プロプ−
2−エニル)−3(2)−フタルイミド−アゼチジン−
2−オンの溶液を、−70℃でオゾン処理する(TLC
監視)。次に硫化ジメチル1−を加えそして混合物を室
温で30分攪拌する。溶剤を除去して粗製の中間体エノ
ールを得、これを乾燥した蒸留ナト2ヒドロフラン中で
塩化メシル/ピリジン(モル当量量)と反応させる。も
し必要ならばTLCが変換の完了を示すまで更に塩化メ
シルおよびピリジンの量を加える。部分的真空蒸発後に
、反応混合物を水と酢酸エチルとの間に分配する。
有機層を蒸発しそして残留物をシリカケ゛ルカラムに通
して標記生成物を得る。νm&X (フィルム)179
0sh、 1770.1750sh、 1720.13
80.1170cIrL0例 7 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−1:3−(N
−エチルカルバモイルオキシ)−2−メタンスルホニル
オキシ−1−p−二トロベンジルオキシカルボニル−1
−プロプ−1−エニル)−3(R)−フタルイミドーア
ゼチジンー2−オン容量でろ:2のメタノール/ジクロ
ロメタン中の例3に記載したようにして製造した4(刊
−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−(N−4チルカ
ルバモイルオキシメチル)−1−プロプ−2−エニル)
 −3(R)−フタルイミド−アセチジン−2−オン6
00gの溶液を、出発物質がrr=cによってもはや検
出できなくなるまで一70℃でオゾン化する。溶液を窒
素でパージしそして次に硫化ジメチル1 +++/の存
在下において室温まで加温ぜしめる。溶剤の除去および
フラッシュクロマトグラフィー処理によって、若干の4
(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−6(R)−フタルイ
ミド−アゼチジン−2−オン次いで4(R)−ベンゾチ
アゾリルジチオ−1−[3−(N−エチルカルバモイル
オキシ)−2−ヒドロキシ−1−p−ニトロベンジルオ
キシカルボニル−1−−1o−f’−1−エニル) −
3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−オンを得る
。νmax (CHC15フイルムフ3650.178
5.1770.1720.1650儂 。
乾燥した蒸留テトラヒドロンラン4ゴ中の後者の物質4
00■を塩化メシル0.42mおよびピリジン0.44
−で処理する。室温で10分攪拌した後、溶剤を除去す
る。残留物を酢酸エチルにとりそして冷水性塩酸で洗滌
する。溶剤を再び留去して粗製の標記生成物を得る。フ
ラッシュクロマトグラフィー処理゛の後、純粋な試料が
得。
られる。νmaX (CHCA’5フィルム) 179
0.1770.1725.1365.1170cWt−
’。δ(CDC15+D20 ) 1.05 (5Hr
 t 、13)、3.20 (2H,q、 N聾2CH
5)、3.4 (3H,s、 5O2CH3)、5.1
〜5.4 (5H,m、 0CH2Ar +CH20C
O+NC’HCO)、5.85(2H。
S、β−ラクタムプロトン) 、Z2〜a2 (12H
rmyト) ppm。
例 8 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(3−(2〜
テトラヒドロピラニルオキシン−2−メタンスルホニル
オキシ−1−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−1
−−1’ローフ’−1−エニル〕−5(6)−フタルイ
ミド−アゼチジン−2−オン例6に記載した実験操作方
法によって、例5に記載したようにして製造した4(R
)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(2−(2−ナト2
ヒドロピラニルオキシメチル)−1−p−=)aベンジ
ルオキシカルボニル−1−プロプ−2−工二ル) −5
(R)−7タルイミドーアゼチジンー2−オンをはじめ
にエノール中間体〔νmax cヌジョール) 178
5 sh、 1770.1720.1660cm−’]
に変換しそして次に標記生成物〔νmax (CHCl
5フイルムン1795.1775.1725.1690
.1170crLL−1]に変換する。
例 9 p−ニトロベンジル(7R,6R) −7−フタルイミ
F−3−(N−エチルカルバモイルオキシメチル)−2
−チアセフェム−4−カルボキシレートジメチルホルム
アミド5−中の例7に記載したようにして製造した4(
R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−1:3−(N−エ
チル力ルパモイルオキシ)−2−メタンスルホニルオキ
シ−1−p−二Fロベンジルオキシ力ルボニル−1−プ
ロプ−1−エニル) −3(R)−フタルイミド−アゼ
チジン−2−オン150■の溶液をジメチルホルムアミ
ド中の水硫化ナトリウム−水化物14IPの溶液で処理
する。室温で20秒後に、混合物を酢酸エチルおよび水
の混合物に注加する。
有機層を水で数回洗滌し、乾燥し、蒸発しそしてシリカ
ゲルカラムに通してワックス状固体として標記生成物5
489を得る。νmax (CHCA! 5フイ#ム)
3400、1800、1775、1725.161Dc
IIL−’。 δ(CDC15) 144 (6H,t
 、 CH2CH3)、3.20(2H,m。
NHCH20H3) 、5.13 (IH,d 、J=
 5Hz 、CH,CH,S) 、5.20〜5.18
 (4H,m、CH20) 、6.10(IH,d、J
=5Hz、NCHCH) 、7.60およびa20(そ
れぞれ2H、d 、 ArN02 )、7.82(4H
m−+ ’U ’Qpmo λmax (CHCJ3)
 269および337nm0例6および8に記載した中
間体から出発する以外は同じ実験的操作方法によってp
−ニトロベンジル(7R,6R) −7−7タルイミド
ー3−アセトキシメチル−2−チアセフェム−4−カル
ボキシレートおよびp−ニトロベンジル(7R,(SR
)−7−フタルイミド−6−(2−テトラヒドロピラニ
ルオキシメチルツー2−チアセフェム−4−カルボキシ
レートが得られる。
例10 p−ニトロベンジル6−フタルイミ)−2−(N−エチ
ルカルバモイルオキシメチル) −ヘネA−6−カルボ
キシレート クロロホルム中のp−ニトロベンジル7−7タルイミド
ー3−(N−エチルカルバモイルオキシメチル)−2−
チアセフェム−4−カルボキシレート20089の溶液
を、トリフェニルホスフィン120j1gで処理する。
反応(TLC監視)はすぐに終る。溶剤の除去およびト
リフェニルホスフィンサルファイドおよび過剰の試薬か
らの精製は、殆ど定量的収率で5,6−シスおよびトラ
ンス異性体の1=9混合物として標記生成物を与える。
νmax (CHC75フィルム) 3400.180
0.1780shs 1720α−’。λmax: (
CHCA3) 267.505sh。
324nm0シス異性体の改善された量は、脱硫をより
極性の溶剤(特にテトラヒドロフランまたはアセトニト
リルン中で遂行することによって得ることができる。
例11 <6R,5Sl−6−7タルイミトー2− (N−エチ
ルカルバそイルオキシメチル)−ベネム−3−カルボン
酸 水2−および5重i%パラジウム付木炭50藁gを、酢
酸エチル2−中の(6R,58) −p−二トロベンジ
ル6−フタルイミトー2− (N−:x−fルカルパモ
イルオキシメチル)−ペネム−3−カルボキシレー) 
20 W=9の溶液に加える。混合物を水素下に室温で
1時間攪拌しそして次に更に触媒を加えた後頁に50分
攪拌する。濾過後、混合物を酢酸エチルと希酢酸との間
に分配する。
有機層から溶剤を除去して残留物を得る。これをジエチ
ルエーテルと共にすりつぶした後白色粉末(10mg)
として集める。νmax (CHC15フイルムン 3
320、1795sb、1775、1720、171J
OshcIL 。
δ(CDCV3 +D20 ) 1.15 (5H,t
、 、 CH2囲5)、4−25(2H。
q + CH2CH3) % 5.54 (2H、AB
 q y J =16 Hz + 内部線の分離40H
z (200MHz装置) I CH20)、5.82
および5.98(それぞれIH,d 、 J= 1.5
Hz )、Z9 (4H,m、 Ar) ppm0出発
物質の(6R,5R)異性体に対して遂行した同じ反応
は、標記生成物の(6Rt 5 R)異性体を与える。
λゆ(CHC15) 244.304および318nm
0例12 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(4−メチル
−2−オキソ−2,5−ジヒドロフラン−3−イル)−
3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−オン ベンゼン6〇−中の7(R)−フタルイミド−6−メチ
レン−セファム−1−オキシドp−ニトロベンジルエス
テル750 mgの溶液を2−メルカプトベンゾチアゾ
ール255 Myと共に15時間還流する。シリカゲル
上のクロマトグラフィー処理は順々にp−ニトロベンジ
ルアルコールおよび標記生成物を与える。νmaX (
CHC’isフィルム)1790、1775.1760
.1720fi−1゜δ(CD(J3) 2.35(3
H、s 、 CH5)、4.6 (2H,br s 、
 CH20)、5.9および6,25(2H1それぞれ
d 、 J=5Hz、β−ラクタムプロトン)、72〜
aO(4H,m、Ar)ppm。
例 13 4(R)−アセチルジチオ−1−(4−メチル−2−オ
キソ−2,5−ジヒドロフラン−3−イル)−3(R)
−フタルイミド−アゼチジン−2−オン〔方法A〕 トルエン5d中の7(R)−フタルイミド−6−メチレ
ン−セファム−1−オキシドp−ニトロベンジルエステ
ル100■の溶液をチオ酢酸の過剰(0,07m)と共
に還流する。出発物質が消失(TLC監視)したときに
混合物を冷却し、トリエチルアミン0.1コで処理し、
蒸発しそして次にシリカゲル上でクロマトグラフィー処
理してp−ニトロベンジルアルコールおよび標記生成物
(65’1n9)を得る。νmax(CHC1!3フィ
ルム)1790、1 1775.1760.1725crrL0 δ(CDC
’J3) 2.3および2.35(それぞれ3H,s 
、 CH5)、4,135 (2H,br s 、 C
H20) 、5.8(2H,br s 、β−ラクタム
プロトン)、7.2〜7.9 (4H,m、Ar)1)
1)m。
〔方法B〕
ジクロロメタン2〇−中の例12に記載したようにして
製造した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−1−(4
−メチル−2−オΦソー2,5−ジヒドロフラン−3−
イル) −3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−
オン300 myの溶液を室温でチオ酢酸0.043t
dで処理する。標記生成物および2−メルカプトベンゾ
チアゾールを与える即時反応が行われる。前者はクロマ
トグラフィー処理によって単離することができるまたは
より有利にはそのまま次の工程に対して使用することが
できる。
例 14 4(R)−アセチルチオ−1−(4−メチル−2−オキ
ソ−2,5−ジヒドロ7ランー3−イル)−5(R)−
フタルイミド−アゼチジン−2−オンクロロホルム10
ゴ中の例16に記載したようにして製造した4(R)−
アセチルジチオ−1−(4−メチル−2−オキソ−2,
5−ジヒドUフラン−6−イル)−3(R)−フタルイ
ミド−アゼチジン−2−オン0.59.9め溶液を)ト
リフエ5ルホスフイ7160■で処理する。溶剤を除去
してトリフェニルホスフィンサルファイドおよび標記生
成物の混合物を得る。後者は、シリカゲルクロマドグ2
フイー処理後に殆ど定量的収率で純粋に単離することが
できるまたは反応混合物をそのまま次の工程に使用する
ことができる。
’m5−z (CHcl 5フイルム)1790、17
75.1765.1725cIL0δ(CDCJg) 
2.2および2.6(それぞれ3H,s、CH5)、4
.75(2H,br s 、 CH20)、5.85 
(IH,d 、 J =5.5Hz 、 N、CH,C
H)、6.58 (IH,d、 J=5.5Hz 、 
CH,CH,S)、7.!1〜7.9 (AH,m 。
Ar)ppm。
例 15 1−アセトニルオキシオキザリル−4(R)−アセチル
チオ−3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−オン 乾燥酸素中のオゾンの流れを、出発物質がTLCによっ
てもはや検出できな(なるまで−70℃のジクロロメタ
ン20ゴ中の例14に記載したようにして製造した4(
R)−アセチルチオ−1−(4−メチル−2−オキソ−
シア5−ジヒドロフラン−3−イル)−5(R)−フタ
ルイミド−アゼチジン−2−オン400■の溶液に通す
。混合物を窒素の流れでパージしそして普通殆ど定量的
収率で標記生成物を含有する溶液を次の工程にそのまま
使用する。もし必要ならば大過剰の固体の異性重亜゛硫
酸ナトリウムを加えそして温度が+5℃に上昇したとき
に水を加え、有機層を分離しそして溶剤を除去すること
Kよって標記生成物を単離することができる。νmaX
 (CHCA’ 5フイルムフ1830.1780sh
、 1760.1720.1700shcIIL。
例16 アセトニル(5R,6R) −6−フタルイミド−2−
メチル−ペネム−6−カルボキシレート例15に記載し
たようにして得られた粗製のオゾン分解混合物を活性化
亜鉛末400 myおよび酢酸0.4コで処理する。室
温で1時間攪拌した後、混合物を戸遇しそして液体を水
それから水性の酸性炭酸塩で洗滌する。溶剤を除去して
粗製の1− (1−アセトニルオキシカルボニル−1−
ヒドロキシ−メチル)−4(R)−アセチルチオ−6(
R)−フタルイミド−アゼチジン−2−オンを得る。精
製することなしに、この物質を乾燥した蒸留テトラヒド
ロフランに溶解しそして窒素下−5℃でピリジン0.0
8 mlおよび塩化チオニル0.072dと反応させる
。10分後に、塩を戸去しそして揮発性物質を25℃で
真空除去してフオーム状物として粗製の1−(1−アセ
トニルオキシカルボニル−1−クロロ−メチル)−4(
R)−アセチルチオ−3(R)−7タルイミドーアゼチ
ジンー2−オンを得、これをすぐにテトラヒドロフラン
中のトリフェニルホスフィン0,26Iの溶液に溶解し
、シリカゲル51Iを加えそして溶剤を除去する。乾燥
した物質を一夜放置し次にシリカゲルカラムの頂部に充
填する酢酸エテル/シクロヘキサン混合物で溶離して7
オーム状物として1−(1−アセトニルオキシカルボニ
ル−1−ホスホラニリデン−メチル)−4(R)−アセ
チルチオ−3(R)−フタルイミド−アゼチジン−2−
オン200Il1gを得る。この生成物のトルエン溶液
を約115℃で48時間加熱しく約50チ変換)次いで
シリカゲルク四マドグラフィー処理して標記生成物25
■(溶離剤として使用したシクロヘキサン/酢酸エチル
混合物から直接結晶化する)、トリフェニルホスフィン
オキサイドおよびそれから出発ホスホラン(これは再循
環できる〕を得る。融点176〜178℃。
νmax CCHCl3) 1795.1770.17
27.1720.17051ffi。
δ(QDCJ3) 2.24 (3H,s 、 COC
H3)、2.42 (3H,s 、 CHs)、2.7
9 (2H,s 、 0CH2CO)、5.98(2H
,s、β−ラクタムプロトン)、7.82(4H,m、
Ar)ppm 0 λmax(CHCJ5ン292 s
h %308.324sh nm0 列 17 7(S)−[1(R)−t−ブチルジメチルクリルオキ
シエチル〕−2−メチレン−セファム−1−オキシドメ
チルエステル 乾燥ベンゼ/125tnl!中の6(S)−(1(R)
−t、 −ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−ペニ
シラネート−1−オキシドメチルエステル41sN−ク
ロロサクシンイミドIIiおよび亜硫酸ナトリウム8I
の混合物を10時間還流する。次に冷却した反応混合物
をジエチルエーテル[L5ゴおよび四塩化錫1.26f
f17!で処理する。2時間攪拌した後、酢酸エチルお
よび希塩酸を加える。
分離した有機層を乾燥しそして蒸発して残留物を得る。
どれをジイソプロピルエーテルから結晶化せしめる。融
点120〜122℃。νmax (KBr )1775
.1740.1265crrL−1゜δ(C’DC’1
5) 0.06およ−び0.11(それぞれ3H,s、
 SiMe2)、0.89 (9H,s 、 Bu )
、1.62<3H,d、J=6.5Hz、CH30M)
、3.58(IH,dd、J=2および4Hz、CH,
CH,CH)、3.8 (5H、br s 、 CH2
5および0CH5)、4.3(1B、 m、 CH5、
CH,CH)、4.75 (IH,d、 J=2Hz 
C’l(、CH,S)、5.0 (1H,s 、 N、
CH,CO)、5.25および5.50(2H9それぞ
れs l =CH2) ppm 。
例18 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S)−(1(
R) −1−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−1
−(2−ヒドロキシメチル−1−メトキシカルボニル−
1−プロプ−2−エニル)−アゼチジン−2−オン トルエン中の例17に記載したようにして製造した7(
S) −CI (R)−t、−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル〕−3−メチレン−セファム−1−オキシド
メチルエステル250■および2−メルカプトはンゾチ
アゾール110119の溶液を5時間還流する。溶剤を
除去して主た標記化合物からなる残留物を得る。相当す
るラクトンへの部分的変換がシリカゲル上で起こる(例
19を参照)けれども、フラッシュクロマトグラフィー
処理によって標記生成物を純粋に得ることができる。ν
max (CHCJ3フィルム) 、15400.17
65および1740crrL0 δ(CDC13) 0
.08 (6H,s、 SiMe2)、0.9(9H,
S 、 Bu ) 、1.3 (3H,d、 J=6H
7,CH3CH)、&45(1H,dd、 J=2およ
び3.5Hz 、 CH,、CH,CH)、4.;5(
3H。
m、CH2O旦、CHおよびCH20H)、5.0 (
IH,s 、 NCHCO)、5.2および5.35(
2H,それぞれs、 =CH2)、 5.38 (IH
,d。
J=2H2、CHCH8)、71〜79 (4H,m、
Ar、)、、ppm0例19 4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S)−[1(
R)−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル:)−1
−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒド四フラン
ー3−イル)−アゼチジン−2−オン〔方法A〕 トルエン10ゴ中の7(R)−(1−t、−ブチルジメ
チル7リルオキシエチル)−3−メチレン−セファム−
1−オキシドメチルエステル800mgおよび2−メル
カプトベンゾチアゾール335■の溶液を5時間還流す
る。冷却した反応混合物をトリエチルアミン0.01m
で処理する。1時間後に溶剤を真空除去しそして残留物
をジエチルエーテルから結晶化せしめて白色粉末(60
0my )として標記生成物を得る。
〔方法B〕
ジクロロメタン25づ中の例18に記載したようにして
製造した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S)
−(1(R)−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル
)−1−(2−ヒト冒キシメチルー1−メトキシカルボ
ニル−1−プロツー2−エニル)−アゼチジン−2−オ
ン100s+gの溶液を、トリエチルアミン0.01m
/の存在下において3時間攪拌する。溶剤を除去して標
記生成物を得る。νmax (CH(J3フィルh)1
775.1760 crn−1゜δ(CDCJ3ン0.
06および0.1(SR,それぞれ5.SiMe2)、
0.88 (9H,s、 Bu )、1.3 (3H,
d、 CH,C’H)、1゜8(?lH。
s、CH5)、K5 (iH,dd、 J==2および
3 Hz 、 CHCHCH)、4.15 (2H,A
Bq 、 J= 18Hz 、 CH20)、4.!1
(1H,m。
C1(50HCH)、5.9 (IH,d、 J=2H
z 、 CHCH3)、7.0〜7.8(4HF my
 Ar) ppm。
例20 4(R)−7セチルチオー5(S)−(: 1(R) 
−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−1−(4
−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒドロフラン−3−
イル)−アゼチジン−2−オン クロロホルム2ゴ中の例19に記載したようにして製造
した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−5CB)−[
: 1(R)−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル
]−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒドロ
フラン−3−イルツーアゼチジン−2−オ/220翼g
の溶液をチオ酢酸0.06−およびトリフェニルホスフ
ィ7130j11?で順次に処理する。溶剤の除去およ
びメルカプトベンゾチアゾールおよびトリフェニルホス
フィンサルファイドからの精製(シリカゲルクロマトグ
ラフィー処理)は標記生成物を与える。νmax(CH
(J13フィルム)1775shs 1760% 17
00cIn o δ(ccz3)0.06および0.1
(それぞれ5H、S 、 8iMe 2ン、0.85(
9H。
s 、Bu’ン、1.25 (3H,d、J=6.5H
z 、CH3CH)、2.15 および2.50(それ
ぞれ3H,s 、 CH5ン、3.45 (IH,dd
、 J=2.5および3.5 Hz 、 CHCHCH
)、4.3(’IH,m、 CH5CHCH)、4.6
7(2H,s 、 CH20)、5.9,5 (IH,
d、 J=2.5Hz 、CHCH8) ppm。
例21 1−アセトニルオキシオキザリル−4(R)−7セチル
チオー3(S)−1:1(R)−t−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル〕−アゼチジン−2−オンこの物質は
例15に記載した実験操作方法によって例20に記載し
たようにして製造された4(R)−7°セチルチオ−5
(S)−[: 1(R)−t−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル)−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5
−ジヒドロフラン−6−イル)−アゼチジン−2−オン
が得られる。
例22 アセトニル(5R,6S)−6−(1(R)−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル〕−2−メチル−ペネム
−6−カルボキシレート 例20に記載されたようにして製造された4(6)−ア
セチルチオ−3(S)−〔1(R)−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル)−1−(4−メチル−2−オキ
ソ−2,5−ジヒドロフラン−6−イル)−アゼチジン
−2−オンから出発してそして例15に記載した加オゾ
ン分解操作方法を使用し次いで例16に記載した操作順
序(亜鉛0.5gおよび酢酸a5ゴによる還元、塩化チ
オニル0.0171nlおよびピリジン[]、0191
ntによる塩素化、シリカゲル5g上におけるトリフェ
ニルホスフィン0.0629との反応、溶離および還流
トルエン中6時間の熱分解)を使用することによって、
シリカゲルクロマトグラフィー処理後、標記生成物(5
0+g、s、a%の全収率)が得られる。νmax (
CHC/3フィルム)1785.1710、i59Qc
m 。
δ(CDC# 3 ) o、07 (6Hr 8− S
 iMe 2 )、0.84 (9H,s 、 Bu 
)、1.22 (5H,d 、 J=6.5Hz 、 
CH5CH)、2.15 (6H,s、C0CH5)、
2.52 (IH,s 、 bH5)、i5B (IH
,dd、 J=2および5Hz)、4.2 (IH,m
、 CH2O)(CH)、4.60 (2H,s 、 
0CH2)、5.48(IH,d、J=2Hz、 CH
CH8) ppm、λmax (cHczs) 271
sh %2inm0 例23 アセトニル(5R,6S)−6−(1(R)−ヒドロキ
シエチル)−2−メチル−ペネム−3−カルボキシレー
ト テトラヒドロフラン2−中の例22に記載したようにし
て製造したアセトニル(5R,68) −6−(1(R
)−t、−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−2−
メチル−ペネム−6−カルボキシレート60■の溶液を
酢酸0.045−およびテトラブチルアンモニウムフル
オライド三水化物71■で処理する。20時間攪拌した
後、カラムクロマトグラフィー処理は白色固体として標
記生成物(18s+y)を与える。νmaX(CHCA
! 、) 1780.1735.1710cvL0 δ
(CDCI!5) 1.52 (5J d、 CH3C
H)、2.21 (6H,s 、 COCH3)、2.
57 (3H,a 、 CH5)、2.55(IH。
S、○H)、3.70 (IH,dd、 、T=2.0
および6,5 Hz 、 CHCHCH)、4.13 
(IH,m、 CH3CHCH)、4.73 (2H,
s 、 0CH2CO) 、5.61(IH,d、 、
T=2.OHz、 CHCH8) ppmo籍ax(C
HC113) 265および319nm0 例24 3(S)−(1(R) −t−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル]−4(R)−1−ブチルジフェニルシリル
オキシアセチルチオ−1−(4−メチル−2−オキソ−
2,5−ジヒドロフラン−6−イル)−アゼチジン−2
−オン 〔方法A〕 トルエン5ゴ中の例17に記載したようにして製造した
7(S)−(1(R) −t−ブチルジメチルシリルオ
キシエテル〕−6−メチレン−セファム−1−オキシド
メチルエステル97■の溶液をt−ブチルジフェニルシ
リルオキシチオ酢酸98即と共に16時間還流する。反
応混合物を10℃に冷却し、トリエチルアミン2滴を加
えそして次に溶剤を真空除去する。粗生成物をり四ロホ
ルムに溶解シ、トリフェニルホスフィンで処理しそして
次にシリカゲルクロマトグラフィー処理によって精製し
、標記化合物を溶離する。νmaX (CH” 5フイ
ルム)1778.1765.1700c+a 0δ(C
DC13) 0.06および0.1(それぞれ3H,s
、 SiMe2)、0゜85および1.10(それぞれ
9H,s、 Put)、123 (3H,a。
、T=6Hz、 CH3CH)、2.05 (3H,S
、 CH5) 、3.40 (IH,dd。
J=2.2および3Hz 、 CHCHCH) 、4.
12 (2H,s 、 0CH2CO)、4.25 (
I H、m 、CH5CHCH)、 4.53 (2H
,s 、 0CH2C:)、 5.92(IH,d、 
J=2.2Hz、 CHCH8) 、7.0〜7.6 
(10H,m、 Ar)1)I)m 。
〔方法B〕
ジクロロメタン50ゴ中の例19に記載したようにして
製造した4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S)
−(1(R) −t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル) −1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒ
ドロフランー6−イル)−アゼチジン−2−オンQ、7
5#の溶液を順次にt−ブチルジフェニルシリルオキシ
チオ酢酸0.4iおよびトリフェニルホスフィン0.3
7.9で処理する。溶剤を除去しそして夛ロマトグラフ
イー処理して標記生成物(0,64F )を得る。
例25 1−アセトニルオキシオキザリル−3(S)−(1(R
)−1−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−4(R
)−t−’7’チルジフェニルシリルオキシアセチルチ
オ−アゼチジン−2−オン この物質は例15に記載した実験操作方法によって、例
24に記載したようにして製造した3(S)−(1(R
) −t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4(
R)−t−’;)’チルジフェニルシリルオキシアセチ
ルチオ−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジヒ
ドロフラン−3−イル)−アゼチジンー2−オンから得
られる。
例26 アセトニル(5R,68ン−6−[:1(R)−t−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル]−2−(t−ブチル
ジフェニルシリルオキシメチル) −ヘネA−3−カル
ボキシレート 例16に記載したような一70℃におけるジクロロメタ
ン中の加オゾン分解、亜鉛11iおよび酢酸1−による
還元、塩化チオニル0,02−およびピリジン0.02
3tdによる塩素化、シリカゲル2g上のトリフェニル
ホスフィン0.15LKよるfFi換、シリカからの溶
離およびトルエン中における還流下8時間の熱分解は、
例25に記載したようにして製造した1−アセトニルオ
キシオキザリル−3(Sン−[1(R)−t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル) −4(R)−t−プチル
ジフェニルシリルオキシアセチルチオーアゼチジノー2
−オン150j19を標記ペネム45mpに変換する。
’max (CHC/3) 1785.1720sh、
 1708.1575cm。
δ(CDCJ3) 0.80および0.98(それぞれ
9H,s、Bu )、1.20(3H,d、J”6Hz
、CH30H)、2.08 (3H,s、C0CH5J
、3.68 (IH,dd、 J=2および4Hz−、
CHCHCH)、4.20(IH。
m、 CH5CHCH)、4.53 (2H,ABq、
 J=16Hz)、4.84(2H。
8.0CH2CO)、5.55(IH,d、J=2Hz
、CHCH8)、7.3〜7.66 (10H+ mr
 Ar) ppm。
例27 アセトニル(SR,<5S)−6−[1(R) −t−
ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−2−ヒト四キシ
メチルーペネムー6−カルボキシレートテトラヒドロフ
ラン1ゴ中の例26に記載したようにして製造したアセ
トニル(5R,68) −6−I:1(R)−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル)−2−(t−7’チル
ジフエニルシリルオキシメチル)−ペネム−6−カルボ
キシレート60ηの溶液を酢酸a01tntそして次に
テトラブチルアンモニウムフルオライド三水化物CLO
2Nで処理する。15分攪拌した後、溶剤を除去しそし
て短シリカゲルカラムに通し、か(して標記生成物を得
る。νmax (CDC15ン) 3400.1785
.1715sb、 1700cIIL−’。 δ (C
DC15ン 0.07 ((SH,a 、SiMez)
、0.87 (9H,s、Bu ) 、1.27 (3
H,d、J=6Hz、CH5CH) 、2.23 (5
H,s、 CH3) 、3.77 (IH,dd、 J
 =2および5Hz。
CHCHCH)、4.25 (IH,m、 C0CH5
J) 、4.62 (2H,br s 。
CH20H) 、4.76 (2H,s、 0CH2C
O) 、5.64 (IH,d、 J=2Hz) pp
m。
例28 ナトリウム(5R,6B)−6−[1(Rツーヒドロキ
シエチル〕−2−カルバモイルオキシメチル−ペネム−
3−カルボキシレート ジクロロメタン1d中の例27に記載したようにして製
造したアセトニル(5R,6s)−6−(1(8)−1
−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−2−ヒドロキ
シメチル−ペネム−3−カルボキシレート0.39の溶
液を一10℃でトリクロロアセチルイソシアネートD、
13tnlで処理する。反応混合物を真空濃縮しそして
残留物を酢酸[144mおよびテトラブチルアンモニウ
ムフルオライド三水化物0.7gを含有するテトラヒド
ロフラン4mgに溶解する。この混合物を窒素下で24
時間攪拌する。次に溶剤を除去しそして残留物を酢酸エ
チルと水性の酸性炭酸す) IJウムとの間に分配する
。乾燥した有機抽出液を濃縮しそして次にトルエンでう
すめてアセトニル(5R,68)−6−[1(R)−ヒ
ドロキシエチルツー2−カルバそイルオキシメチル−ペ
ネム−6−カルボキシレート(0,18Iりを白色の固
体として沈殿させる。この物質をアセトニトリル5ゴお
よび脱ガス水2.5mJに溶解しそして窒素下において
+5℃で0.11vi水酸化ナトリウム5.5−で満願
処理する。粉末状のドライアイスを加えそして混合物を
凍結乾燥して標記化合物を得る。δ(D20)1.51
 (5H,d 、 J =6.5Hz 、 CH3CH
)、3.91(IH,dd、J=1.5および6.0H
2,CHCHCH)、4.25(IH,m、0R30H
CH)、5.02および5.56(2H,それぞれd、
 J=14.5Hz、 CH20)、5.66 (IH
,d、 J=15Hz 、 CHCH8) ppm 0
ンmaz (H2O)258および506nm0 例 29 1−アセトニルオキシオキザリル−4(R)−力ルパモ
イルオキシアセチルテオ−3(S)−[i (R) −
(2,2,2−) リクロローエトキシカルボニルオキ
シ)−エチル〕−アゼチジンー2−オン〔A部〕 乾燥トルエン15m1に溶解したメチル6α−[1(R
)−(2,2,2−)ジクロロエトキシカルボニルオキ
シノーエチル〕−ヘニシリネート−1−オキシド4.2
9.Pを乾燥トルエン1257中の酸化プロピレン10
ゴ、酸化カルシウム1yおよび無水の硫化ナトリウム2
gの還流混合物に加える。次に、商業的N−クロロサク
シンイミド1,47Iを加える。混合物を油浴中125
℃で4時間攪拌しそして次に減圧0縮して約20rn1
.の容量にしそして室温に冷却する。ジエチルエーテル
1.5ゴを加えそして次に無水の四塩化錫1.2mlを
攪拌下で加える。45分後に、更に四塩化錫1.2−を
加える。20分後に溶剤(少量の不純物を含有する)を
傾瀉分離しそして粘稠なシロップ状残留物を酢酸エチル
で覆いそしてはげしい攪拌下で1N塩酸で処理する。有
機層を順次に塩化ナトリウムの水溶液、重炭酸ナトリウ
ムの水溶液および塩化す) IJウムの水溶液で洗滌し
そして次に溶剤を真空除去して無色のフオーム状物とし
て純粋な7(Sン−[: 1(R)−(2,2,2−)
ジクロロエトキシカルボニルオキシ)−エチル〕−3−
メチレン−セフェム−1−オキシドメチルエステル3.
95.!i’(92%)を得る。νmax (CHC’
J5ン1775.1740 br cm−1o δ(C
DCJ 5 ) 1.53 (3H,d 、 C’H5
CH)、3.69 (2H,s 、環内CH2八3.8
0 (4H、m 、 0CH5およびCH−CH−CH
)、4.78 (3H,m、 CH2CC/35および
C’H−C!H−8)、5.10 (IH、s 、 N
−CH−CO2)、5.20 (IH,m、CH3−C
HCH)、5.40および5.66(2H,それぞれS
、環外CH2)ppmO〔B部〕 ベンゼン15〇−中のA部の生成物3.95gの溶液を
2−メルカプトベンゾチアゾール148藁gと共に62
時間還流する。溶剤を真空除去しそして残留物をアセト
/にとる。4(R)−ベンゾチアゾリルジチオ−3(S
)−[1(R)−(2,2,2−)ジクロロエトキシカ
ルボニルオキシ)−エチル〕−1−(4−メチル−2−
オキソ−2,5−ジヒドロフランー6−イル]−アセチ
ジン−2−オンが析出する。融点190〜191℃。ν
max (KBr )1775.175L 1740s
hcIIL 、δ(CDCAt5) 1.50 (3H
d、C旦5CH)、 1.80 (3H,s 、CH3
ン、 3.62 (IH,dd 、J=2.5および6
.5Hz 、 CH−CH−CH)、4.20(2H,
ABqの中ノー、J=17Hz 、ラクトンCH2)、
4.72 (−2Hr s r CH2CCJ s )
、5.20(IH,m、 CH5CHCH)、5.90
 (IH,d、 J=2.5Hz、 CHCH3)、Z
 2〜Z9 (4H* m r Ar) ppmo母液
を回収しそして再び数時間加熱してこの工程で得られた
生成物のより多(を与えることができる。
〔C部〕
クロロホルム100ゴ中のB部の生成物Δ10yの懸濁
液をはげしい攪拌下でカルバモイルオキシチオ酢酸81
01gで処理する。30分後にジエチルエーテル100
ゴを加えそして固体を濾過によって集めて白色の固体と
して4(R)−カルバモイルオキシアセチルジチオ−3
(8)−(1(R) −(2,2,2−1−!Jジクロ
ロトキシカルボニルオキシン−エチル)−1−(4−メ
チル−2−オキソ−2,5−ジヒドロフラン−3−イル
)−アゼチジン−2−オン(2,85g、94%)を得
る。融点197〜199℃(分解)。νmax (KB
r) 1755br、 1720.1600m−1゜δ
(CDCAt5) 1.51.(3H,d、 J=6.
5Hz、C1f(5−CH)、2.16 (3H,s 
、 CH3)、3.46(IH,dd、J=2.5およ
び6.2Hz。
CH−CH−CM)、4.77 (2H、ABqの中心
、 J= 12Hz 、 CH2CC/3)、4.81
 (2H,s、 0CH2) 、5−23(IH,m、
 CH3−CH−CH)、5.75 (I H、d r
 J =2−5Hz 、CHCHS ) ppm。
〔D部〕
前記0部の生成物2.85gをクロロホルム300m/
中チドリフェニルホスフィン1.75 Fと共ニー夜攪
拌して透明な溶液を得る。過剰な試薬およびトリフェニ
ルホスフィンサルファイドの除去(シリカゲル隔膜上の
濾過、殆どベンゼンそしてそれから酢酸エチル/ベンゼ
ンによる溶離ンによって、純粋な4(R)−力ル/シモ
イルオキシアセチルチオ−5(8)−(1(R) −(
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ)−
エチル〕−1−(4−メチル−2−オキソ−2,5−ジ
ヒドロフラン−3−イル)−アゼチジン−2−オンが得
られる。白色のフオーム状物。2.28.F(85%)
νmax (CHC15フィルム)1780sh、17
55.1710ShcIrL0δ(CD(J5) 1.
51 (5H,d、 J=6.4Hz、 CH3−0H
)、2.16(5H,s、 CH3L 5.73(IH
,dd、、 J=2.6および6.2Hz。
CH−王すCM) 、4.71 (2H,ABqの中心
、CH2C’(J3八 4.77(2Hr s r 0
CH2) 、 530 (I H2m J CH5−g
 CH) 、 5.94(IH。
d、 J=2.6Hz、 CH−CH−8)ppm0L
かしながら、粗製の物質を次の工程にそのまま使用する
ことができる。
〔E部〕
乾燥オゾンを一70℃のジクロロメタン250ゴ中のD
部からの物質2.28gの***液に出発物質が消失する
まで通す。過剰のオゾンを窒素でフラッシュ除去しそし
て酸性亜硫酸ナトリウム10I!を少量ずつ加える。
冷却浴を除去しそして温度を撹拌下で+5℃に上昇させ
る。次に水を加えそして有機層を集める。真空蒸発して
1−アセトニルオキシオキサリル−4(R)−カルバモ
イルオキシアセチルチオ−3(S)−[: 1 (R)
−(2,2,2−)ジクロロエトキシカルボニルオキシ
ン−エチルクーアゼチジン−2−オンを得る。白色のフ
オーム状物質。2,251 (96%几 νmax 1
825、1765、171511 。δ(aχ舅り(!
+H,d、J=6.5Hz、 CH5CH)、 2.2
1 (3H,s、 CH5)、3.78(IE(、dd
、 J=3.7および6Hz 、 CH−CH−CH)
、4.70〜4.84(6H,m、 0CI(2) 、
5.27(IH,m、 CH3−CH−CH)、5.4
5(2Hr b S T NH2)、5.90 (IH
,d、 J=3.7Hz、 CH−CH−8)pI)m
第1頁の続き 205:00 209:00 ) (C07D 405104 205 :o。
307:00 ) (C07D 405/14 205 :0O 209:00 307:00 ) (C07D 417/14 205:00 209:00 205 :00 209:00 277:00 307:00 ) (C07D 417/14 205:00 209:00 277:00 309:00 ) @l! 間者 マルコ・アルペジアー二イタリア国20
100ミラノ・ヴイ アトルメッゾ2 @l! 間者 アンジエロ・ベデスキ イタリア国20100ミラノ・ヴイ アニーラデイリ・エンッオ8 0発 明 者 フランフ・ジューディチイタリア国20
020アレーゼ・ヴ イアヴエンティ・チンクエアプ リレ11 0発 明 者 マウリツィオ・フォリオイタリア国20
100ミラノ・ヴイ アペトラルカ24

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1ン 陽性へロゲン源の存在下において式(1)(式中
    、R1は有機基を示しそしてHt2はカルボキシレート
    保護基である)のペニシラン酸s−オキシドエステルを
    加熱しそして不活性溶剤中で酸と反応させ、次に得られ
    た式@)の3−メチレンセファムスルホキシドを高温度
    で化合物 Y−CH2−C−8H の存在下においてラクトン中間体(7)に直接変換する
    かまたは有機溶剤中での式〔式中、Wは(a)基5−R
    4(式中R4はアルキルまたはアリール基または好適に
    はへテロシクリル基特に2−ベンゾチアゾリルを示す)
    また異なりて上記R4として定義される基であるかまた
    は好適には全体の基がフタルイミドまたはサクシンイミ
    ド基であるような基である)りそし【好適にはフェニル
    またはp−トリル基である)から選択された脱離基であ
    る〕の化合物との反応による化合物(関 の形成そして次いで化合物(■) を得るための化合物(2)のラクトン化を経てラクトン
    中間体(イ)に変換し、そして (4)化合物面を化合物(V) に変換しそしてこの化合物(V) ′ff:加オゾン分
    解そして次いで塩基の存在下および溶剤中で基L(Lは
    塩素、臭素、場合によっては置換されたアルカンスルホ
    ニルオキシまたはアレンスルホニルオキシ例えばメシル
    オキシ、トシルオキシまたはトリフルオロメタンスルホ
    ニルオキシから選択された離脱性基である)を導入する
    のに適当な試薬との反応によって化合物(W)に変換し
    次に得られた化合物(資)(式中、波線は基りがアゼチ
    ジニル基に関してシスまたはトランスであり得ることを
    示す)を−10〜+30℃の温度で溶剤中で硫化物また
    はヒドロ硫化物で環化し、次に得られた化合物G[株] 全有機溶剤中で3価の有機燐試薬により脱硫して後記の
    最終化合物(1)を得るか、または(B) 化合物(恥
    を室温において3価の有機燐試薬によって脱硫し、得ら
    れたチオエステルラクトンへ) を有機溶剤中で一70℃〜0℃の温度で加オゾン分解し
    、得られたオキザルイミド(XOを還元しそして得られ
    た化合物(7) をクィ:ティッヒ型閉環によって5R配置を有する後記
    の最終化合物(1)に変換する 工程によって化合物(閏および(時を後記の最終化合物
    (I)に変換することを特徴とする、一般式(1) 〔式中、R1は有機基を示し、 R2は水素原子、カルボキシ保護基、結合しているオキ
    シカルボニル基と共に生体内で加水分解できるエステル
    を形成する基または−CO2陰イオンと共にカルボキシ
    レート塩を形成する有機または無機陽イオンを示しそし
    てYは (a) 遊離または保護されたヒドロキシ基、(b) 
    02〜C6アシルオキシ基、 (C) 遊離または保護された未置換またはN−アルキ
    ル置換されたカルバモイルオキシ基、(d) 場合によ
    ってはハロゲン好適には弗素、02〜C6アシル好適に
    はアセチル、アミノ、ヒドロキシおよびメルカプト(ア
    ミノ、ヒドロキシまたはメルカプト基は遊離または保護
    されている)から選択された1個またはそれ以上の置換
    分によって置換されている01〜C12アルコキシまた
    は01〜C12アルキルチオ基、(e) へテロシクリ
    ルチオ基5−net(式中Hetは場合によってはヒド
    ロキシ、01〜C6アルコキシ、ハロゲン、ホルミル、
    C2〜C6アシル、C1〜C6アルキル、アミノ、C1
    〜C6アルキルチオまたは(CH2)n ZまたはCH
    =C’H−Z (式中Zはアミノ、ジメチルアミノ、シ
    アン、カルバモイル、スルホニルオキシまたはカルボキ
    シでありそしてスルホニルオキシまたはカルボキシ基は
    遊離であるか、保護されているか、01〜C4アルキル
    でエステル化されているかまたは有機または無機塩基と
    の塩の形態にある)から選択された1個またはそれ以上
    の置換分によって置換されている単環式または二環式の
    N、SおよびOから選択された少なくとも1個のへテロ
    原子を含有する飽和または不飽和の複素環式環を示す〕 から選択された置換分を示す) の2−(置換メチル)−ベネム−3−カルボキシレート
    の製法。 2)式(III) (式中、R1は場合によつCは置換されているアルキル
    を示しそしてBI3はカルボキシレート保護基を示す)
    を有する3−メチレン−セファムスルホキシド。 5)式(m 〔式中、R1は置換または非置換のアミノ基を示しそし
    てWは (a) 基5−R4(式中R4はアルキルまたはアリー
    ル基または好適にはへテロシクリル基特に2−ベンゾチ
    アゾリルを示す)または○ は異なりてそして前記R4として定義される基であるか
    または全体の基が7タルイミドまたはサクシンイミド基
    であるようなものである)または を示すか、または R1は本明細書中に定義したような基を示しそ4)式(
    蜀 (式中R1は本8Aa書中に定義した通りである)のア
    ゼチジノンラクトン。
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