JPH01132771A - ポリ(フェニレンサルファイド)のメッキ方法 - Google Patents

ポリ(フェニレンサルファイド)のメッキ方法

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JPH01132771A
JPH01132771A JP62294485A JP29448587A JPH01132771A JP H01132771 A JPH01132771 A JP H01132771A JP 62294485 A JP62294485 A JP 62294485A JP 29448587 A JP29448587 A JP 29448587A JP H01132771 A JPH01132771 A JP H01132771A
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adhesive
plating
pps
layer
sulfuric acid
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JP62294485A
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Isamu Komori
勇 小森
Takashi Nishikawa
俊 西川
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Sunstar Giken KK
Sunstar Engineering Inc
Original Assignee
Sunstar Giken KK
Sunstar Engineering Inc
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/22Roughening, e.g. by etching
    • C23C18/24Roughening, e.g. by etching using acid aqueous solutions
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
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    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0333Organic insulating material consisting of one material containing S
    • HELECTRICITY
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    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
    • H05K3/181Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はポリ(フェニレンサルファイド)(以下、PP
Sという)のメッキ方法、更に詳しくは、PPS表面を
特定の化学処理および接着剤処理を行ってから化学メッ
キすることにより、密着性(剥離強度用こ優れたメッキ
層を形成することができるPPSのメッキ方法に関する
最近、産業機器、電子機器、半導体部品などのプリント
配線板の基材としてポリ(アリーレンサルファイトラが
使用されつつあるが、その中でも特に耐熱性番こ優れ、
比較的安価なものとしてPPSの需要が伸びている。P
PS基材に化学メッキ(または無電解メッキラで導電性
金属(銅、ニッケルなどノのメッキ層を形成し、次いで
該メッキ層に半田付で導体回路を形成することにより、
プリント配線板が得られる。しかしながら、PPS表面
は化学的に不活性であり、そのまま化学メッキに供して
も形成するメッキ層の密着性が悪く、このため目的プリ
ント配線板の回路に構造的結着性を失い、その企図する
機能が十分に果せな(なる。
このメッキ層の密着性を高めるため、従来より、たとえ
ばPPS基材に炭酸カルシウムや硫酸カルシウムを充填
し、かつこれらを選択的に化学エツチングしてアンカー
効果を期待したり、化学メッキ後に加熱エージング(熟
成うしたり、その他グリッドブラスト仕上や機械的摩耗
で表面を粗面化する方法が試みられている(特開昭59
−54290号公報参照〕が参照用上、十分満足できる
程度には至っていない(剥離強度1.5 kq−f/l
:ys以ドフ。
そこで、本発明者らは、PPSと化学メッキ層の密着性
を改善するため鋭意検討を進めたところ、PPS表面を
特定の化学処理および接着剤処理に供しておけば、剥離
強度2.0〜2゜5kQ−flcmもの密着性が得られ
ることを見出し、本発明を完成させる番こ至った。
すなわち、本発明は、PPSの表面を重クロム酸塩/硫
酸混液で化学エツチングし、次いでアクリロニトリル−
ブタジエン共重合ゴム(NBR〕、エポキシ樹脂および
/またはフェノール樹脂、および酸無水物からなる熱硬
化性接着剤を塗布した後、得られる接着剤層を無水クロ
ム酸/硫酸混液等0重クロム酸系エツチング液で粗面化
し、次いで活性化処理を施こしてから化学メッキするこ
とを特徴とするPPSのメッキ方法を提供するものであ
る。
本発明に係るPPSのメッキ方法は、PPSの化学エツ
チング−接着剤処理−接着剤層の粗面化−活性化処理−
化学メッキの工程に順じて実施する。
上記化学エツチングに用いる重クロム酸塩/硫酸混液は
、たとえば濃硫酸la中に重クロム酸カリウム、重クロ
ム酸ナトリウムなどの重クロム酸塩1〜30gを加え、
撹拌溶解することにより得られる。エツチングは室温〜
60℃で1〜20分間の浸漬により行った後、必要に応
じて水洗、中和、乾燥を行う。
上記接着剤処理に用いる熱硬化性接着剤は、NBR,エ
ポキシ樹脂(ビスフエ/−ルA型、フェノールノボラッ
ク型、クレゾールノボラック型、エステル系、エーテル
系、ウレタン変性型などの常温液状または固状うおよび
/またはフェノール樹脂(レゾール型が好ましいり、お
よび硬化剤として酸無水物(無水メチルナジック酸、ド
デセニル無水コハク酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘ
キサヒドロ無水7タル酸、メチルコンドメチレンテトラ
ヒドロ無水7タル酸、無水クロレンド酸、エチレングリ
コール無水トリメリット酸エステル、メチルテトラヒド
ロ無水フタル酸、メチルへキサヒドロ無水7タル酸など
ンを適当な有機溶剤(メチルエチルケトン、アセトン、
メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、テトラ
ヒドロ7ラン、ジオキサン、ジクロルエタンなど月こ希
釈溶解すること(こより得られる。各成分の配合割合は
、通常NBR100部(重量部、以下同様用こ対しエポ
キシ樹脂および/またはフェノール樹脂50〜200部
および酸無水物5〜20部の範囲となるように選定すれ
ばよい。該接着剤を通常、20〜200y/m2で塗布
した後、120〜180℃で20〜90分間加熱硬化す
る。なお、得られる接着剤層とPPS間の接着力を向上
せしめるため、接着剤塗布前に相溶性の良好なプライマ
ー処理を施こしてお(ことが有、利である。プライマー
としては、通常のウレタンプレポリマー系にNBR、エ
ポキシ樹脂、ポリイソシアネート化合物、シランカップ
リング剤等を適量配合したものが使用されてよい。
上記接着剤層の粗面化に用いる無水クロム酸/硫酸混液
は、たとえば5〜30%硫酸水溶液と20〜60%無水
クロム酸水溶液を混合することにより得られる。粗面化
は、40〜80℃で5〜30分の浸漬で行った後、必要
に応じて水洗、中和を行う。
上記活性化処理および化学メッキは、常法に従って行え
ばよい。なお、化学メッキ後、メッキ層の厚みを増大せ
しめるため、別途電気メッキを行ってもよい。
次に実施例および比較例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。
実施例1 厚み3mmのPPS基材に対し下記工程(1)〜(7)
の処理を順次連続して行い、銅メッキ層を形成する。
(1)化学エツチング 浴組成 濃硫酸            ・・・・・・・・・ 
11重クロム酸カリウム       ・・・・・・・
・・15g上記浴で室温にて5分間浸漬し、水洗した後
、濃塩酸200 mlと水800 mffの混合液中、
室温にて1分間浸漬させて中和し、水洗および乾燥する
(2)プライマー処理 成分                 1デスモジユ
ールRF(バイエル社m) ・・・・・・・・・ 10 シランカップリング剤     ・・・・・・・・・ 
 IMEK              ・・・・・・
・・・348計400 上記各成分の溶剤溶液とシランカップリング剤およびM
EKを混合してプライマーを得、これを50、F/m 
 で塗布し、30分間風乾する。
(3)接着剤処理 4−メチルへキサヒドロ無水フタル酸 ・・・・・・・・・    1 MEK              ・・・・・・・・
・ 34計95 上記各成分の溶剤溶液と酸無水物およびMEKを混合し
て接着剤を得、これを200.F/m  で塗布し、1
50℃で60分間加熱硬化する。
(4)接着剤層の粗面化 浴組成 濃硫酸           ・・・・・・・・・ 8
0mQ無水クロム酸        ・・・・・・・・
・160g水             ・・・・・・
・・・  残部針1e 上記浴で50℃にて5分間浸漬し、水洗、中和(上記(
1)と同じ)および水洗する。
(5)活性化処理 水700m1.a塩酸150m1およびPd/Sn系触
媒(ワールドメタル社製、PN−PS)100gの浴で
室温にて3分間浸漬しく触媒化)、水洗後、さらに水9
00m1および濃硫酸100m1の浴で50℃にて1分
間浸漬しく促進バ水洗する。
(6)化学メッキ 水750m5.化学銅メッキ液〔ワールドメタル社製、
(MCU−A)125gおよび(MCU−B、1125
.Flの浴で室温にて20分間浸漬した後、水洗および
風乾して10μ厚の銅メッキ層を形成する。
(7)電気メッキ 更に酸性銅溶液中でI A/ dm lこて電気メッキ
を行い、水洗および風乾して総厚35μの銅メッキ層と
する。
実施例2 実施例1において、工程(2)のプライマー処理を省略
する以外は同様にしてPPS基材に銅メッキ層を形成す
る。
比較例1 実施例1において、工程(1)の化学エツチングを省略
する以外は同様にしてPPS基材への銅メッキ層の形成
を試みたが、化学メッキの工程で均一なメッキ層が得ら
れなかった。
なお、実施例1および2について、得られる銅張PPS
材の剥離強度を測定したところ、それぞれ2.5kq−
f/αおよび2.0 kQ −f /Iy11であった

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ポリ(フエニレンサルフアイド)の表面を重クロム
    酸塩/硫酸混液で化学エッチングし、次いでアクリロニ
    トリル−ブタジエン共重合ゴム、エポキシ樹脂および/
    またはフエノール樹脂、および酸無水物からなる熱硬化
    性接着剤を塗布した後、得られる接着剤層を重クロム酸
    系エッチング液で粗面化し、次いで活性化処理を施こし
    てから化学メッキすることを特徴とするポリ(フエニレ
    ンサルフアイド)のメッキ方法。 2、重クロム酸塩/硫酸混液の化学エッチングと接着剤
    塗布間に、プライマー処理を施こす前記第1項記載の方
    法。 3、化学メッキの後にさらに電気メッキを行う前記第1
    項記載の方法。
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