JP6888369B2 - 転写シート - Google Patents

Description

本発明は、転写シートに関する。

従来、建築物の壁材、間仕切り等に使用される建材として、各種の図柄が印刷された転写シートを、被転写体となる金属板、木質板等の基材に転写した化粧材が用いられている。例えば、天然の木材と同じ木目調の図柄が印刷された転写シートを、金属板に転写することにより、天然の木材と同じ意匠を有する金属製の化粧材を得ることができる。
上記のような転写シートにおいて、亀裂を有する着色インキの塗膜或いは印刷層により意匠外観を表現することが提案されている（例えば、特許文献１参照）。

特公平２−５１９２号公報

上記建材用紙の製造方法は、転写層の構成層として加熱や紫外線等で硬化する硬化性樹脂層を有し、この硬化性樹脂層を半硬化させた状態で有機溶剤と接触させることにより亀裂を発生させる。その際、予め硬化性樹脂層表面にレジスト層を所望の模様状に形成しておき、レジスト層の非形成領域のみに亀裂を発生させることにより、亀裂領域と非亀裂領域とから成る模様を有する転写層を得るものである。この転写層を被転写基材上に転写することにより、平面視に於いて被転写基材表面に亀裂領域と非亀裂領域とから構成される意匠外観が形成される。
但し、亀裂発生のためには、有機溶剤と接触させて半硬化の硬化性樹脂層中から未硬化成分を溶出させる湿式工程が必要であり、製造工程中に有機溶剤の乾燥時間が必要となるため、製造時間が長くなる（生産性が低い）。また、有機溶剤との接触及び乾燥の際には、防爆の規格、性能を具備した乾燥装置が必要となり、有機溶剤取扱いの消防法上の規制も厳しくなる。その結果、製造設備の導入コストも上がり、その保守管理も煩雑となる。また、亀裂を発生させる塗膜或いは印刷層の材料も特定の硬化性樹脂に限定されるため、選択可能な材料の範囲も狭くなる。

本発明の目的は、有機溶剤との接触工程が不要で、亀裂を発生させる層の材料的な制約も少なく、意図した領域に、より自然な凹凸を再現可能な転写シートを提供することである。

本発明は、以下のような解決手段により前記課題を解決する。
（１） 離型性支持体と、印刷層と、接合層と、がこの順に積層され、前記印刷層は、亀裂予定領域と、非亀裂領域と、を有し、前記亀裂予定領域の前記離型性支持体と反対側の面には、前記接合層として亀裂発生接合層が配置されており、前記非亀裂領域の前記離型性支持体と反対側の面には、前記接合層として亀裂抑制接合層が配置されているか、又は前記接合層との間に亀裂抑制層が配置されている転写シート。

本発明によれば、有機溶剤との接触工程が不要で、亀裂を発生させる層の材料的な制約も少なく、意図した領域に、より自然な凹凸を再現可能な転写シートを提供することができる。

第１実施形態の化粧材１００を説明する図である。 第１実施形態の転写シート１の断面図である。 第１実施形態の化粧材１００の製造方法を説明する断面図である。 第１実施形態の化粧材１００の製造方法を説明する断面図である。 第２実施形態（第３実施形態）の転写シート１の断面図である。 第２実施形態（第３実施形態）の化粧材１００の断面図である。

以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。なお、図１を含め、以下に示す各図は、模式的に示した図であり、各部の大きさ、形状は、理解を容易にするため、適宜に誇張している。
本明細書中に記載する各部材の寸法等の数値及び材料名等は、実施形態としての一例であり、これに限定されるものではなく、適宜に選択して使用してよい。

〔第１実施形態〕
（化粧材１００の構成）
図１は、第１実施形態の化粧材１００を説明する図である。なお、図１に示す化粧材１００の基本的な構成は、後述する第２及び第３実施形態の化粧材に共通する。
図１に示すように、化粧材１００は、印刷層３０、粘着層４０及び基材６０を備える。化粧材１００は、後述するように、転写シート１を基材６０に転写することにより製造される。基材６０に転写する前の転写シート１は、基材フィルム１０、剥離層２０、印刷層３０、粘着層４０及び剥離フィルム５０（いずれも後述）を備えるが、図１では、亀裂領域３０Ｃ及び非亀裂領域３０Ｎの配置を分かりやすくするため、転写シート１のうち、印刷層３０、粘着層４０のみを図示する。他の層、フィルムについては、図２以降で説明する。

＜印刷層３０＞
印刷層３０は、後述する転写シート１の図柄（意匠）が形成される印刷図柄層である。印刷層３０を構成する樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（塩酢ビ）樹脂、アクリル−塩酢ビ樹脂等が挙げられる。また、印刷層３０には、着色顔料、着色染料等が添加される。印刷層３０の層厚（ｄｒｙ）は、約５μｍ程度である。

印刷層３０は、亀裂領域３０Ｃと、非亀裂領域３０Ｎと、を有する。
亀裂領域３０Ｃは、図柄に合わせて亀裂Ｃが形成された領域である。転写シート１を基材６０に転写する前、印刷層３０において、亀裂領域３０Ｃの領域には、後述する亀裂予定領域３０Ｐが形成されている。転写シート１の段階では、その亀裂予定領域３０Ｐには、亀裂Ｃが形成されていない。転写シート１を基材６０に転写した後、経時（加熱、冷却又はこれらの組み合わせ）により亀裂予定領域３０Ｐに亀裂Ｃが形成されることにより、図１に示すような亀裂領域３０Ｃとなる。

本実施形態において、亀裂領域３０Ｃは、図柄に応じて適宜に設定可能であり、図１に示すようなライン状（ストライプ状）の矩形領域に限定されない。亀裂領域３０Ｃは、少なくとも一つの亀裂Ｃに外接する包絡線が閉領域を形成するときに、その包絡線により区画される領域であれば、どのような形状であってもよい。ここで、閉領域は、一部に印刷層３０の端部（端縁）を含んでいてもよい。

非亀裂領域３０Ｎは、亀裂が形成されていない領域である。第１実施形態の非亀裂領域３０Ｎにおいては、粘着層４０との間に、後述するハードコート層８０（図１には不図示）が形成されている。
本実施形態において、印刷層３０に形成された図柄は、図１に示すように、複数のラインからなるストライプ状の模様である。このストライプ状の模様は、亀裂領域３０Ｃ（亀裂予定領域３０Ｐ）に対応するラインＬ１と、非亀裂領域３０Ｎに対応するラインＬ２とが交互に配列されている（図１では、その一部を示す）。
本実施形態では、図柄の一部であるラインＬ１に亀裂領域３０Ｃを形成する例を示すが、亀裂領域３０Ｃは、必ずしも図柄に合わせて形成しなくてもよい。

図１に示すようなストライプ状の模様は、印刷層３０に形成される図柄の一例を示したものであり、この例に限定されない。印刷層３０に形成される図柄は、例えば、木目調、石目調等の天然の素材を模したものでもよい。
また、印刷層３０において、亀裂領域３０Ｃ、非亀裂領域３０Ｎは、必ずしも規則的に配置されていなくてもよく、それぞれがランダムに配置されていてもよい。例えば、印刷層３０のほぼ全面を亀裂領域３０Ｃとした場合に、非亀裂領域３０Ｎが部分的に配置されていてもよいし、印刷層３０のほぼ全面を非亀裂領域３０Ｎとした場合に、亀裂領域３０Ｃが部分的に配置されていてもよい。

また、図示していないが、印刷層３０の粘着層４０側に、印刷コート層を積層してもよい。印刷コート層は、基材６０（下地）を見えにくくするための隠蔽層として機能する。この印刷コート層は、印刷層３０の全面を覆うように形成され、例えば、白色、グレー、茶色等に着色される。印刷コート層を積層した場合、亀裂領域３０Ｃにおける亀裂は、主に印刷コート層に形成されるが、視者には、印刷層３０の表面に亀裂が形成されているように観察される。亀裂領域３０Ｃに亀裂が生じる理由及び非亀裂領域３０Ｎに亀裂が形成されない理由等については、後述する。

第１実施形態においては、接合層として、粘着剤から成る粘着剤層（以下、粘着層とも称呼する）を用いる。粘着層（粘着剤層）４０は、転写シート１を基材６０に転写する際に、転写シート１と基材６０とを接合する層（接合層）である。粘着層４０の構成については、後述する。

基材６０は、転写シート１が転写される被転写体である。図１には図示していないが、第１実施形態において、基材６０は、基材本体６１と、シーラー層６２と、を備える（図３（Ｂ）参照）。シーラー層６２は、必須の層ではないが、基材本体６１の表面が粗面、多孔質等の場合には、接合層との接着性を確保するために設けることが好ましい。なお、シーラー層６２を含む基材６０の詳細については、後述する。

（転写シート１の構成）
次に、転写シート１の構成について説明する。
図２は、第１実施形態の転写シート１の断面図である。転写シート１は、図２に示す形態で保管したり、搬送したりすることができる。
図２に示すように、転写シート１は、基材フィルム１０、剥離層２０、印刷層３０、ハードコート層８０、粘着層４０及び剥離フィルム５０を備える。

本実施形態における転写シート１は、剥離層以下の転写層に対して離型性を有する離型性支持体として、可撓性で薄膜のフィルムの形態を採用する（以下、これを基材フィルムとも称呼する）。この基材フィルム１０上に、剥離層２０、印刷層３０、ハードコート層８０、及び粘着層４０から成る転写層、更に粘着層に対して離型性を有する剥離フィルム５０が、この順に積層されている。なお、本発明における「この順に積層」とは、直接積層のみならず、間接的な積層も含む意味であり、例えば、基材フィルム１０と剥離層２０との間に、他の層があっても許容する意味である。

＜基材フィルム１０＞
基材フィルム（離型性支持体）１０は、印刷層３０を支持するフィルムである。基材フィルム１０は、剥離層２０等から成る転写層に対して離型性を有し、転写シート１が基材６０（後述）に転写された後、剥離層２０との界面から離型される。基材フィルム１０としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンアフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂等から成るフィルムが挙げられる。このうち、強度及び柔軟性に優れる点で、２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好ましい。なお、基材フィルム１０における剥離層２０側の表面には、従来公知の剥離層が形成されていてもよく、剥離処理が施されていてもよい。
基材フィルム１０の膜厚は、好ましくは１０μｍ以上２００μｍであり、より好ましくは２０μｍ以上６０μｍ以下である。

＜剥離層２０＞
剥離層２０は、転写シート１から基材フィルム１０の剥離を容易にするために積層される層である。剥離層２０は、転写シート１が基材６０に転写され、基材フィルム１０が離型された後、転写シート１の最も外側の層として残存する。その剥離層２０の表面には、耐候性付与層７０（後述）が形成される。剥離層２０を構成する樹脂としては、例えば、アクリルポリオール、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル−塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、或いはこれら樹脂の２種類以上の混合物、例えば、アクリル樹脂と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体との混合物等が挙げられる。なお、これらの組成物において、更に、イソシアネート等が剥離強度の調整用に微量添加されていてもよい。また、これらの組成物に、例えば、紫外線吸収剤（ＵＶＡ）、光安定剤（ＨＡＬＳ（ヒンダードアミン系ラジカル捕捉剤）等のラジカル補足剤）等の耐候剤を添加してもよい。
剥離層２０の層厚（ｄｒｙ）は、１μｍ以上２μｍ以下程度である。

なお、本実施形態において、基材フィルム１０と剥離層２０との間の剥離強度（ＪＩＳ Ｚ０２３７準拠）は、後述する剥離フィルム５０と粘着層４０との間の剥離強度の少なくとも２倍以上となるように設定される。転写シート１から剥離フィルム５０を離型したときに、基材フィルム１０が剥離層２０から離型しないようにするためである。但し、これに限らず、剥離強度を逆転させて、転写シート１から剥離フィルム５０を離型したときに、剥離層２０が基材フィルム１０側に残るように構成してもよい。

＜粘着層４０＞
本実施形態の粘着層（亀裂発生接合層）４０は、粘着剤組成物の硬化物からなる。粘着剤組成物は、例えば、主剤としてのアクリル系粘着剤と、イソシアネート系硬化剤と、を含有する。
粘着層４０の層厚は、１０μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましい。なお、第１実施形態の転写シート１において、非亀裂領域３０Ｎ（印刷層３０）の基材フィルム１０と反対側の面には、粘着層４０との間に亀裂抑制層としてのハードコート層８０が積層されている。そのため、第１実施形態の転写シート１において、粘着層４０の層厚は、部分的に異なる。

［アクリル系粘着剤］
好ましいアクリル系粘着剤としては、例えば、アクリル酸エステルと他の単量体とを共重合させたアクリル酸エステル共重合体が挙げられる。アクリル酸エステルとしては、例えば、アクリル酸エチル、アクリル酸−ｎ−ブチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸イソオクチル、アクリル酸イソノニル、アクリル酸ヒドロキシルエチル、アクリル酸プロピレングリコール、アクリルアミド、アクリル酸グリシジル等が挙げられる。これらは、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

他の単量体としては、例えば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、アクリル酸ヒドロキシルエチル、メタクリル酸ヒドロキシルエチル、アクリル酸プロピレングリコール、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸−ｔｅｒｔ−ブチルアミノエチル、メタクリル酸−ｎ−エチルヘキシル等が挙げられる。これらは、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
なお、上記アクリル系粘着剤の市販品としては、例えば、ニッセツ（日本カーバイド社製）、ＳＫダイン（綜研化学社製）等を好適に用いることができる。

［イソシアネート系硬化剤］
粘着剤組成物は、イソシアネート系硬化剤を含有する。イソシアネート系硬化剤は、転写シート１を基材６０（後述）に転写する際の粘着性を得るために添加される。アクリル系粘着剤は、水酸基を有するため、イソシアネート系硬化剤を用いることにより、更に部分架橋を向上させることができ、粘着層４０となったときに、内部破壊がなく適度な貯蔵弾性率を得られる。

イソシアネート系硬化剤としては、例えば、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート化合物の３量体、ポリイソシアネート化合物とポリオール化合物とを反応させて得られるイソシアネート基を末端に有するウレタンプレポリマー、このウレタンプレポリマーの３量体等が挙げられる。

ポリイソシアネート化合物としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，５−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、３−メチルジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−２，４′−ジイソシアネート、リジンイソシアネート等が挙げられる。

粘着層４０における上記イソシアネート系硬化剤の含有量は、アクリル系粘着剤の固形分１００質量部に対して固形分換算で０．１質量部以上１．０質量部以下であることが好ましい。配合量が０．１質量部よりも少なくなると、応力の緩和性は発現されるが、内部破壊が生じる場合があり好ましくない。一方で、含有量が１．０質量部よりも多くなると、架橋による粘着層４０の硬化が過剰となって、印刷層３０に亀裂が生じやすくなる。

＜ハードコート層８０＞
ハードコート層８０は、粘着層４０の流動性により生じる応力が、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎに作用するのを抑制する層（亀裂抑制層）であり、粘着層４０の流動性により生じる応力の緩衝層とも言える。ハードコート層８０は、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎにおいて、基材フィルム１０と反対側の面に積層されている。
印刷層３０において、粘着層（亀裂発生接合層）４０側の面にハードコート層８０が積層されることにより、非亀裂領域３０Ｎでは、粘着層４０の流動性による応力がほとんど作用しないため、亀裂Ｃが形成されることがない。

ハードコート層８０を構成する樹脂としては、例えば、アクリル−塩酢ビ（塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体）樹脂、塩酢ビ樹脂等が挙げられる。ハードコート層８０として使用可能な樹脂は、ガラス転移点（Ｔｇ）が常温以上であることが好ましい。ハードコート層８０のガラス転移点が常温よりも低いと、寒暖の変化によりハードコート層８０自体が変形してしまい、その変形が印刷層３０に応力として作用するためである。なお、ハードコート層８０のガラス転移点は、印刷層３０よりも低く、接合層より高い、ほぼ中間にあることが好ましい。各層の粘弾性が変化する際、この関係にあれば、変形による応力を吸収しやすいためである。

ハードコート層８０は、印刷層３０よりも軟らかく、粘着層４０よりも硬いことが好ましい。ハードコート層８０が印刷層３０よりも硬いと、粘着層４０の流動性により生じる応力により、自身に亀裂が生じるからである。また、ハードコート層８０が粘着層４０よりも軟らかいと、粘着層４０の流動性による応力を印刷層３０に伝えてしまい、印刷層３０に亀裂が生じやすくなるからである。ハードコート層８０、印刷層３０及び粘着層４０の硬さは、例えば、押込み硬度、引掻き硬度、反発硬度等の測定手法により特定することができる。

また、ハードコート層８０は、着色顔料を添加しないことが好ましい。先に説明したように、印刷層３０には着色顔料が添加されるが、その着色顔料が亀裂のきっかけとなることがある。そのため、ハードコート層８０に着色顔料を添加しないようにすることで、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎにおける亀裂の発生をより効果的に抑制できる。
ハードコート層８０の層厚（ｄｒｙ）は、１μｍ以上が好ましい。

＜剥離フィルム５０＞
剥離フィルム５０は、転写シート１をロール状に巻き取って保管する際に、粘着層４０が離型性支持体である基材フィルム１０と接着して離型不能となることを防止するためのフィルムである。剥離フィルム５０は、転写シート１を基材６０に転写する際に、転写シート１から離型される。剥離フィルム５０としては、例えば、シリコン離型タイプのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、未処理のポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン等が挙げられる。
剥離フィルム５０の厚さは、１０μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、２０μｍ以上６０μｍ以下がより好ましい。

なお、基材フィルム１０の転写層とは反対側の面が粘着層４０との離型性を十分に有する場合、剥離フィルム５０は省略される。例えば、基材フィルム１０の転写層とは反対側の面にシリコン樹脂、フッ素樹脂等から成る離型剤の層が形成されている場合は、通常、剥離フィルム５０無しで巻き取られる。

＜第１実施形態の印刷層３０における亀裂の発生等について＞
上述した転写シート１を基材６０に転写した後、経時により印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐに亀裂が生じる理由及び印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎに亀裂が生じない理由について説明する。

転写シート１が基材６０に転写される前、粘着層４０の流動性により生じる応力は、印刷層３０に作用するが、印刷層３０よりも剛性のある剥離フィルム５０及び基材フィルム１０により印刷層３０の伸縮が抑制される。そのため、印刷層３０は、長期間保管、在庫しても亀裂が発生しにくく、その形状を維持することができる。

一方、剥離フィルム５０が離型された転写シート１が基材６０に転写され、粘着層４０が硬い基材６０に貼り付けられると、粘着層（亀裂発生接合層）４０の流動性により生じる応力が印刷層３０に作用するが、基材フィルム１０により印刷層３０の伸縮は、ある程抑制される。その後、転写シート１から基材フィルム１０が離型されると、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐは、粘着層４０の流動性により生じる応力により形状を維持できなくなり、亀裂が生じる。亀裂予定領域３０Ｐは、亀裂が生じることにより、亀裂領域３０Ｃとなる（図１参照）。

なお、印刷層３０は、基材フィルム１０側に張力を掛けた状態で形成される場合がある。また、印刷層３０を基材フィルム１０に形成した後、溶剤の乾燥により収縮等が発生する場合もある。この場合、印刷層３０には、転写シート１の面方向（亀裂の発生する方向）に沿って内部に応力が掛かることになる。そのため、印刷層３０（亀裂予定領域３０Ｐ）に、粘着層４０の流動性により生じる応力が作用すると、その応力と内部に掛かっている応力とが相互に作用することになるため、より一層亀裂が生じやすくなる。

印刷層３０に亀裂を生じさせる粘着層（亀裂発生接合層）４０の具体例としては、上記のような粘着剤組成物の硬化物が例示でき、粘着剤組成物としては、主剤としてのアクリル系粘着剤と、イソシアネート系硬化剤と、を含有する組成物が例示できる。
また、亀裂発生接合層は、亀裂を発生させる物性面の観点から、例えば、粘弾性として、ガラス転移点がおよそ−２０℃から２０℃の間である層を例示できる。このようなガラス転移点の層は、常温付近での粘弾性変化が大きいため、少しの温度変化でも亀裂を発生させることができる。

一方、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎにおいて、粘着層（亀裂発生接合層）４０の流動性により生じる応力は、粘着層４０よりも硬いハードコート層（亀裂抑制層）８０により抑制されるため、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎにほとんど作用しなくなる。このように、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎでは、粘着層４０の流動性による応力がほとんど作用しなくなるため、形状を維持することができる。従って、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎでは、図４に示すように、亀裂の発生が抑制される。

また、図２に示すように、粘着層４０において、ハードコート層８０の積層された非亀裂領域３０Ｎに対応する領域では、粘着層４０の厚さが亀裂予定領域３０Ｐに対応する領域よりも薄くなるため、粘着層４０の流動性により生じる応力がより緩和される。そのため、非亀裂領域３０Ｎにおける亀裂の発生をより効果的に抑制できる。
従って、本実施形態の化粧材１００によれば、意図した領域である亀裂予定領域３０Ｐに、より自然な凹凸を亀裂により再現可能であり、他の領域である非亀裂領域３０Ｎには、亀裂が生じさせないようにすることができる。

また、本実施形態の転写シート１においては、亀裂予定領域３０Ｐに亀裂を発生させるために、有機溶剤との接触工程が不要となるため、製造時間の短縮により生産性を向上させることができる。更に、亀裂を発生させる塗膜或いは印刷層３０の材料も特定の硬化性樹脂に限定されないため、選択可能な材料の範囲をより広くできる。

＜粘着層４０の他の実施形態＞
上記第１実施形態の転写シート１において、転写シート１と基材６０との間において接合層となる層（接合層）は、接着剤層であってもよい。接着剤層としては、流動性の高いものが好ましく、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコン系接着剤、ＵＶ硬化型接着剤等が挙げられる。
接着剤層の層厚（ｄｒｙ）は、１０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上３００μｍ以下であることがより好ましい。
接合層として、接着剤層を使用した場合でも、転写シート１を基材６０に転写した後、例えば、炉内等において寒暖の変化を繰り返し、接着剤層の伸縮を促すことによって、亀裂予定領域３０Ｐに亀裂を生じさせることができる。

（化粧材１００の製造方法）
次に、第１実施形態の化粧材１００の製造方法について説明する。
図３及び図４は、それぞれ第１実施形態の化粧材１００の製造方法を説明する断面図である。

まず、図３（Ａ）に示すように、転写シート１から剥離フィルム５０を離型する。転写シート１から剥離フィルム５０を離型することにより、粘着層４０の印刷層３０とは反対側の面（粘着面）が露出する。なお、前述したように、本実施形態においては、基材フィルム１０と剥離層２０との間の剥離強度は、剥離フィルム５０と粘着層４０との間の剥離強度の少なくとも２倍以上となるように設定されるため、転写シート１から剥離フィルム５０を離型したときに、基材フィルム１０が剥離層２０から離型することはない。

次に、図３（Ｂ）に示すように、剥離フィルム５０を離型した転写シート１を、基材６０に転写（貼付け）する。転写シート１の基材６０への転写は、例えば、ロール・ツゥ・ロール、ロール・ツゥ・シート等の形態により連続して行うことができる。ここで、「ロール・ツゥ・ロール」とは、帯状の転写シート１をロール（巻取）から引き出して平板状の被転写体（基材本体６１）に供給し、転写層を被転写体上に転写した後、転写層を離型後の帯状の離形性支持体（基材フィルム１０）を再度ロールに巻き取る加工形態を言う。また、「ロール・ツゥ・シート」とは、帯状の転写シート１をロール（巻取）から引き出して平板状の被転写体に供給し、転写層を被転写体上に転写する前後において、転写シート１を概ね被転写体１枚分の寸法に切断して枚葉化し、転写層を離型後の枚葉の離形性支持体を１枚毎に除去（廃棄）する加工形態を言う。また、転写シート１を手作業により基材６０に転写し、その後、ヘラ等により押圧して、基材６０の表面に均一に密着させてもよい。

基材６０は、基材本体６１と、シーラー層６２と、を備える。
基材本体６１は、転写シート１が転写される被転写体である。基材本体６１としては、例えば、無機材、木材、樹脂等の材料から成る板、壁等が挙げられる。このうち、無機材としては、例えば、石材、コンクリート、ガラス、金属等が挙げられる。また、基材本体６１は、無機材から成る陶磁器等の焼き物であってもよい。

シーラー層６２は、基材本体６１の表面を滑らかにして、基材本体６１と転写シート１との密着性を高めるための下塗り層である。シーラー層６２は、基材本体６１の表面（被転写面）の平滑性が十分な場合には省略される。
転写シート１を基材６０に転写した後、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐには、経時により亀裂が形成され、亀裂領域３０Ｃとなる。亀裂予定領域３０Ｐに亀裂が形成されたか否かは、目視により観察することができる。

次に、図４（Ｃ）に示すように、基材６０に転写された転写シート１から基材フィルム１０を離型する。転写シート１から基材フィルム１０を離型することにより、剥離層２０の印刷層３０とは反対側の面が露出する。図４（Ｃ）において、転写シート１の粘着層４０と基材６０とは、強い粘着力で接合されているため、転写シート１から基材フィルム１０を離型した際に、転写シート１が基材６０から離型することはない。

なお、図４（Ｃ）及び図４（Ｄ）は、基材６０上に接合された転写シート１から基材フィルム１０を離型した後、経時により印刷層３０に亀裂が発生する例を示している。通常、粘着層４０の流動性により生じる応力で印刷層３０に亀裂が発生するのは、転写シート１から基材フィルム１０が離型され、印刷層３０へ作用する応力の抑制が解除されてから、１日から３０日程度の時間経過を要するため、このような形態となる。但し、基材フィルム１０に弾性率が低く、薄い物を用い、転写層への十分な加熱と冷却を繰り返す等して、基材フィルム１０が転写層上に存在している状態で印刷層３０に十分な応力を及ぼすことができる場合には、亀裂予定領域３０Ｐに亀裂が形成された後に転写シート１から基材フィルム１０を離型してもよい。

次に、図４（Ｄ）に示すように、剥離層２０の露出した面の上に、耐候性付与層７０を形成する。耐候性付与層７０は、いわゆるオーバープリント層（ＯＰ層）であり、剥離層２０の保護層となる層である。
なお、剥離層２０上に耐候性付与層７０を形成する工程は、亀裂予定領域３０Ｐに亀裂が形成された後に行う必要がある。亀裂予定領域３０Ｐに亀裂が形成される前に耐候性付与層７０を形成すると、亀裂予定領域３０Ｐに亀裂が生じにくくなるためである。
耐候性付与層７０の厚さについては、特に限定されないが、例えば、１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲が好ましく、より好ましくは１５μｍ以上４０μｍ以下である。

耐候性付与層７０としては、例えば、電離放射線硬化性の樹脂とワックスとを含有する層を用いることができる。電離放射線硬化性の樹脂とすることで、従来の水性ＯＰ層において必要であった、平滑化のためのプレス工程を不要とすることができる。

耐候性付与層７０は、ダイコート、カーテンフローコート、コンマコート、スプレーコート等のコーティング法を用いて形成できる。材料としては、例えば、各種の電離放射線硬化性の樹脂とワックスとを含有する、樹脂組成物、フッ素系樹脂組成物、珪素形樹脂組成物等から成る樹脂層形成用インキ（塗料）を剥離層２０上に塗布することにより積層形成することができる。樹脂層形成用インキは、溶剤として有機溶剤を含んでいてもよい。

電離放射線硬化性の樹脂は、紫外線、電子線等の電離放射線によって硬化する樹脂である。電離放射線性硬化性の樹脂としては、例えば、２官能以上の多官能アクリレート、２官能以上の多官能メタクリレート等の光重合性モノマーを、光重合開始剤等により重合硬化させる樹脂を挙げることができる。

ワックスは、耐候性付与層７０の表面状態を調整するために含有される。ワックスとしては、合成ワックス、天然ワックス等を用いることができる。合成ワックスとしては、ポリエチレンワックス等が例示でき、天然ワックスとしては、例えば、パラフィンワックス等の石油ワックス、蜜蝋、鯨蝋等の動物ワックス、木蝋、米糠蝋等の植物ワックス、モンタンワックス等の鉱物ワックスを用いることができる。
以上の工程を経ることにより、基材６０に転写シート１が転写された化粧材１００を得ることができる。

上記実施形態では、粘着層４０及びハードコート層８０を有する転写シート１を基材６０に転写して化粧材１００を製造する例について説明したが、これに限定されない。基材６０側に粘着層４０及びハードコート層８０を積層しておき、基材フィルム１０、剥離層２０及び印刷層３０を積層した転写シート１を、粘着層４０及びハードコート層８０が積層された基材６０に転写することにより化粧材１００を製造してもよい。このような形態による化粧材１００の製造形態は、後述する第２及び第３実施形態に共通する。

〔第２実施形態〕
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
第２実施形態の化粧材１００の基本的な構成は、第１実施形態（図１参照）と同じである。第２実施形態の化粧材１００は、粘着層１４０の一部が亀裂抑制層を兼ねる点が第１実施形態と相違する。第２実施形態の化粧材１００において、その他の構成は、第１実施形態の化粧材１００と同じである。

第２実施形態の説明及び図面では、第１実施形態と同等の機能を果たす部分、部材等には、第１実施形態と同一の符号又は末尾（下２桁）に同一の符号を付して、重複する説明を適宜に省略する。例えば、転写シート、化粧材については、第１実施形態と同一の符号「１」、「１００」を付し、粘着層については、符号「１４０」を付している。

（転写シート１の構成）
図５は、第２実施形態の転写シート１の断面図である。図６は、第２実施形態の化粧材１００の断面図である。
図５に示すように、第２実施形態の転写シート１は、基材フィルム１０、剥離層２０、印刷層３０、粘着層１４０及び剥離フィルム５０を備える。第２実施形態の転写シート１は、ハードコート層８０を備えていない点で第１実施形態の転写シート１と相違する。
第２実施形態の転写シート１において、基材フィルム１０、剥離層２０、印刷層３０及び剥離フィルム５０の構成（材料、厚み等）は、第１実施形態と実質的に同じであるため、説明を適宜に省略する。

第２実施形態の粘着層（接合層）１４０は、図５に示すように、亀裂予定領域３０Ｐに対応する第１粘着層１４１（亀裂発生接合層）と、非亀裂領域３０Ｎに対応する第２粘着層（亀裂抑制接合層）１４２と、を備える。これらの粘着層は、それぞれ組成が異なる粘着剤組成物を、上記対応する領域に合わせて塗工することにより形成される。

第１粘着層１４１及び第２粘着層１４２は、それぞれ粘着剤組成物の硬化物からなる。このうち、第１粘着層１４１を構成する粘着剤組成物は、主剤としてのアクリル系粘着剤と、イソシアネート系硬化剤と、を含有する。また、第２粘着層１４２を構成する粘着剤組成物は、主剤としてのアクリル系粘着剤と、イソシアネート系硬化剤と、を含有し、更に、可塑剤（後述）を含有する。
なお、第１粘着層１４１及び第２粘着層１４２に共通の材料となるアクリル系粘着剤、イソシアネート系硬化剤の構成は、第１実施形態と同じであるため、説明を省略する。

［可塑剤］
以下、第２粘着層１４２に添加される可塑剤について説明する。
第２粘着層１４２を構成する粘着剤に可塑剤を添加することにより、経時により印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎに亀裂が生じることを抑制できる。粘着層１４０に含まれる可塑剤としては、例えば、フタル酸エステル系可塑剤、アジピン酸エステル系可塑剤等が挙げられる。

粘着剤組成物に含まれるフタル酸エステル系可塑剤としては、例えば、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル（ＤＯＰ）、フタル酸ジメチル（ＤＭＰ）、フタル酸ジエチル（ＤＥＰ）、フタル酸ジブチル（ＤＢＰ）、フタル酸ヘプチルノニル（ＨＮＰ）、フタル酸ジ−ｎ−オクチル（ＤＮＯＰ）、フタル酸ジ−ｉ−オクチル（ＤＣａｐＰ）、フタル酸ジイソノニル（ＤＩＮＰ），フタル酸ジ−ｉ−デシル（ＤＩＤＰ）、フタル酸ジトリデシル（ＤＴＤＰ）、フタル酸ジシクロヘキシル（ＤＣＨＰ）、フタル酸ブチルベンジル（ＢＤＰ）、エチルフタリルエチルグリコレート（ＥＰＥＧ）、ブチルフタリルブチルグリコレート（ＢＰＢＧ）等が挙げられ、これらの１種又は２種以上を併用してもよい。

また、粘着剤組成物に含まれるアジピン酸エステル系可塑剤としては、例えば、アジピン酸ジオクチル（ＤＯＡ）、アジピン酸ジイソノニル（ＤＩＮＡ）、アジピン酸ジイソデシル（ＤＩＤＡ）、アジピン酸ジメチル（ＤＭＡ）、アジピン酸ジエチル（ＤＥＡ）、アジピン酸ジイソプロピル（ＤＩＰＡ）、アジピン酸ジプロピル（ＤＰＡ）、アジピン酸ジイソブチル（ＤＩＢＡ）、アジピン酸ジブチル（ＤＢＡ）等が挙げられ、これらの１種又は２種以上を併用してもよい。

なお、環境規制物質の観点から、フタル酸エステル系可塑剤よりも、アジピン酸エステル系可塑剤を使用した方が好ましい。また、アジピン酸エステル系可塑剤の中でも、汎用性や樹脂への相溶性の観点から、アジピン酸ジオクチル（ＤＯＡ）を用いることが好ましい。

可塑剤の配合量は、アクリル系粘着剤の固形分１００質量部に対して固形分換算で０．１〜１０質量部であることが好ましく、１〜７質量部であることがより好ましい。配合量が０．１質量部よりも少なくなると、得られる粘着層１４０に十分な応力の緩和性が発現されにくく、耐久性が得られない場合がある。一方、含有量が１０質量部よりも多くなると、後述するように、印刷層３０に掛かる応力が第２粘着層１４２の内部で緩和されにくくなるため、印刷層３０は、自身に掛かる応力により形状を維持できなくなり、亀裂が発生することが起こり得る。また、含有量が１０質量部よりも多くなると、ブリードアウトした可塑剤により粘着力が大幅に低下するため、主に第２粘着層１４２に浮き、剥がれが発生しやすくなる。上記範囲であれば、後述する理由により印刷層３０が形状を維持できるようになるため、亀裂の発生を抑制できる。また、転写シート１を基材６０に転写した後、高温多湿の環境下において、主に第２粘着層１４２が基材６０から浮いたり、剥がれたりすることを抑制できる。

＜第２実施形態の印刷層３０における亀裂の発生等について＞
上述した転写シート１を基材６０に転写した後、経時により印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐに亀裂が生じる理由及び印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎに亀裂が生じない理由について説明する。

転写シート１が基材６０に転写される前、粘着層１４０（第１粘着層１４１、第２粘着層１４２）の流動性により生じる応力は、印刷層３０に作用するが、印刷層３０よりも剛性のある剥離フィルム５０及び基材フィルム１９により印刷層３０の伸縮が抑制される。そのため、印刷層３０は、その形状を維持することができる。

一方、剥離フィルム５０が離型された転写シート１が基材６０に転写され、粘着層１４０が硬い基材６０に貼り付けられると、粘着層１４０の流動性により生じる応力が印刷層３０に作用するが、基材フィルム１０により印刷層３０の伸縮は、ある程度抑制される。その後、転写シート１から基材フィルム１０が離型されると、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐは、第１粘着層（亀裂発生接合層）１４１の流動性により生じる応力により形状を維持できなくなる。そのため、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐは、亀裂が生じて、亀裂領域３０Ｃとなる（図１参照）。

なお、印刷層３０は、基材フィルム１０側に張力を掛けた状態で形成される場合がある。また、印刷層３０を基材フィルム１０に形成した後、溶剤の乾燥により収縮等が発生する場合もある。この場合、印刷層３０には、転写シート１の面方向（亀裂の発生する方向）に沿って内部に応力が掛かることになる。そのため、印刷層３０（亀裂予定領域３０Ｐ）に、第１粘着層１４１の流動性により生じる応力が作用すると、その応力と内部に掛かっている応力とが相互に作用することになるため、より一層亀裂が生じやすくなる。

これに対して、粘着層１４０の第２粘着層１４２は、アクリル系粘着剤の固形分１００質量部に対して、固形分換算で０．１〜１０質量部の可塑剤が配合されている。これによれば、第２粘着層（亀裂抑制接合層）１４２は、流動性がより高められることにより粘性が低下するため、流動性により生じる応力が緩和（低減）される。そのため、転写シート１が基材６０に転写された後、第２粘着層１４２の流動性により生じる応力は、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎにほとんど作用しなくなるため、非亀裂領域３０Ｎは、形状を維持することができる。従って、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎでは、図６に示すように、亀裂の発生が抑制される。

なお、第１粘着層１４１流動性を高めるには、層厚を厚くすることが望ましいが、生産性が低下することが考えられる。そのため、粘着層１４０の厚みを、前述した１０μｍ以上５０μｍ以下（より好ましくは１５μｍ以上３０μｍ以下）の範囲とすることにより、生産性を低下させることなく、第１粘着層１４１に対応する亀裂予定領域３０Ｐにおいて、亀裂の発生を促進させることができる。
第２実施形態の化粧材１００の製造方法は、第１実施形態と実質的に同じであるため、説明を省略する。

〔第３実施形態〕
次に、本発明の第３実施形態について説明する。
第３実施形態の化粧材１００の基本的な構成は、第１実施形態（図１参照）と同じである。第３実施形態の化粧材１００は、粘着層２４０の一部が亀裂抑制層を兼ねる点が第１実施形態と相違する。第３実施形態の化粧材１００において、その他の構成は、第１実施形態の化粧材１００と同じである。

第３実施形態の説明及び図面では、第１実施形態と同等の機能を果たす部分、部材等には、第１実施形態と同一の符号又は末尾（下２桁）に同一の符号を付して、重複する説明を適宜に省略する。例えば、転写シート、化粧材については、第１実施形態と同一の符号「１」、「１００」を付し、粘着層については、符号「２４０」を付している。

（転写シート１の構成）
第３実施形態の転写シート１の構成は、第２実施形態と同じであるため、第２実施形態の図５及び図６を援用して説明する。
図５に示すように、第３実施形態の転写シート１は、基材フィルム１０、剥離層２０、印刷層３０、粘着層２４０及び剥離フィルム５０を備える。第３実施形態の転写シート１は、粘着層２４０の一部にブロックイソシアネートを含有する点で第２実施形態の転写シート１と相違する。
第３実施形態の転写シート１において、基材フィルム１０、剥離層２０、印刷層３０及び剥離フィルム５０の構成（材料、厚み等）は、第１実施形態と実質的に同じであるため、説明を適宜に省略する。

第３実施形態の粘着層（接合層）２４０は、図５に示すように、亀裂予定領域３０Ｐに対応する第１粘着層（亀裂発生接合層）２４１と、非亀裂領域３０Ｎに対応する第２粘着層（亀裂抑制接合層）２４２と、を備える。これらの粘着層は、それぞれ組成が異なる粘着剤を、上記対応する領域に合わせて塗工することにより形成される。

第１粘着層２４１及び第２粘着層２４２は、それぞれ粘着剤組成物の硬化物からなる。このうち、第１粘着層２４１を構成する粘着剤組成物は、主剤としてのアクリル系粘着剤と、イソシアネート系硬化剤と、を含有する。また、第２粘着層２４２を構成する粘着剤組成物は、主剤としてのアクリル系粘着剤と、イソシアネート系硬化剤と、を含有し、更に、ブロックイソシアネート（後述）を含有する。
なお、第１粘着層２４１及び第２粘着層２４２に共通の材料となるアクリル系粘着剤、イソシアネート系硬化剤の構成は、第１実施形態と同じであるため、説明を省略する。

本実施形態において、後述する加熱前の粘着層２４０は、アクリル系粘着剤と、イソシアネート系硬化剤と、を含有する組成物の第１の硬化物を含有する。そのときのゲル分率は、３０％以上７０％以下である。また、加熱後の粘着層２４０において、第１粘着層２４１は、上記第１の硬化物を含有する。そのときのゲル分率は、上記範囲である。また、加熱後の粘着層２４０において、第２粘着層２４２は、上記第１の硬化物とブロックイソシアネートとの第２の硬化物を含有する。そのときのゲル分率は、好ましくは８０％以上である。
粘着層２４０の層厚は、１０μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましい。

［ブロックイソシアネート］
粘着剤組成物は、ブロックイソシアネートを含有する。ブロックイソシアネートは、転写シート１を基材６０に転写した後、加熱により架橋反応させて、第２粘着層２４２の流動性を低下させるために添加される。第２粘着層２４２は、加熱による架橋反応により、ゲル分率が８０％以上となり、流動性は低下するが、基材（被転写体）６０に対する密着力が低下することはない。

ブロックイソシアネートは、イソシアネート化合物の活性イソシアネート基をブロック剤により保護したものである。ブロックイソシアネートは、架橋剤として働くため、上記のイソシアネート化合物は、１分子中に２個以上のイソシアネート基を有する。ブロックイソシアネートは、１種類単独で使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。

イソシアネート化合物の具体例としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤＩ）等の脂肪族ジイソシアネート類；イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）等の脂環族ジイソシアネート類；キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）等の芳香族脂肪族ジイソシアネート類；トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）等の芳香族ジイソシアネート類；ダイマー酸ジイソシアネート（ＤＤＩ）、水素化されたＴＤＩ（ＨＴＤＩ）、水素化されたＸＤＩ（Ｈ６ＸＤＩ）、水素化されたＭＤＩ（Ｈ１２ＭＤＩ）等の水添ジイソシアネート類；これらジイソシアネート化合物の２量体、３量体、更に高分子量のポリイソシアネート類；トリメチロールプロパン等多価アルコールもしくは水、又は低分子量ポリエステル樹脂との付加物等が挙げられる。

ブロック剤の具体例としては、例えば、メチルエチルケトオキシム、アセトキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム等のオキシム類；ｍ−クレゾール、キシレノール等のフェノール類；メタノール、エタノール、ブタノール、２−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコールモノエチルエーテル等のアルコール類；ε−カプロラクタム等のラクタム類、マロン酸ジエチル、アセト酢酸エステル等のジケトン類；チオフェノール等のメルカプタン類等が挙げられる。その他、チオ尿素等の尿素類；イミダゾール類；カルバミン酸類等が挙げられる。

ブロックイソシアネートは、上記イソシアネート化合物とブロック剤とを、フリーのイソシアネート基がなくなるまで常法により反応させて得ることができる。また、ブロックイソシアネートとしては、市販品を使用することもできる。市販品としては、例えば、商品名デュラネート（旭化成社製）、商品名Ｋ−１６用硬化剤（昭和インク工業社製）等が例示できる。
第２粘着層２４２における上記ブロックイソシアネートの含有量は、ゲル分率に合わせて設定される。

ブロックイソシアネートは、架橋温度が１１０℃以上となる種類の中から選択することが好ましく、１２０℃以上がより好ましい。これは、粘着層２４０が８０〜１００℃程度の温度で成膜されるので、架橋温度が１００℃以下のブロックイソシアネートを選択した場合、成膜の段階で架橋反応が進行してしまうためである。第２粘着層２４２を成膜する段階で架橋反応が進行すると、転写シート１を基材６０に転写する前に、第２粘着層２４２のゲル分率が８０％以上となり、転写シート１を基材６０に転写する際に適切な粘着力が得られなくなる。そのため、ブロックイソシアネートとして、架橋温度が１１０℃以上となる種類の中から選択し、第２粘着層２４２のゲル分率が３０％以上７０％以下となるように配合することにより、転写シート１を基材６０に転写する際に、適切な粘着力を得ることができる。また、加熱後は、架橋反応によりゲル分率を８０％以上にすることができるため、第２粘着層２４２の流動性を低下させることができる。

転写シート１を転写した基材６０の加熱時間は、ブロックイソシアネートの架橋温度により異なるが、およそ５分以上３０分以下である。例えば、ブロックイソシアネートの架橋温度が１１０℃の場合、加熱時間は、およそ１５分以上３０分以下である。なお、架橋温度が１１０℃のブロックイソシアネートを添加した場合でも、加熱温度を１１０℃以上、例えば１２０℃とすることにより、より早く架橋反応を進行させることができる。

＜第３実施形態の印刷層３０における亀裂の発生等について＞
上述した転写シート１を基材６０に転写した後、加熱により印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐに亀裂が生じる理由及び印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎに亀裂が生じない理由について説明する。

転写シート１が基材６０に転写される前、粘着層２４０（第１粘着層２４１、第２粘着層２４２）の流動性により生じる応力は、印刷層３０に作用するが、印刷層３０よりも剛性のある剥離フィルム５０及び基材フィルム１０により印刷層３０の伸縮が抑制される。そのため、印刷層３０は、その形状を維持することができる。

一方、剥離フィルム５０が離型された転写シート１が基材６０に転写され、粘着層２４０が硬い基材６０に貼り付けられると、粘着層２４０の流動性により生じる応力が印刷層３０に作用するが、基材フィルム１０により印刷層３０の伸縮は、ある程度抑制される。その後、転写シート１から基材フィルム１０が離型されると、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐは、第１粘着層（亀裂発生接合層）２４１の流動性により生じる応力により形状を維持できなくなる。そのため、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐは、亀裂が生じて、亀裂領域３０Ｃとなる（図１参照）。

なお、印刷層３０は、基材フィルム１０側に張力を掛けた状態で形成される場合がある。また、印刷層３０を基材フィルム１０に形成した後、溶剤の乾燥により収縮等が発生する場合もある。この場合、印刷層３０には、転写シート１の面方向（亀裂の発生する方向）に沿って内部に応力が掛かることになる。そのため、印刷層３０（亀裂予定領域３０Ｐ）に、第１粘着層２４１の流動性により生じる応力が作用すると、その応力と内部に掛かっている応力とが相互に作用することになるため、より一層亀裂が生じやすくなる。

これに対して、粘着層２４０の第２粘着層２４２は、アクリル系粘着剤に対して、ブロックイソシアネートが配合されている。これによれば、転写シート１を基材６０に転写した後、加熱により架橋反応させることにより、第２粘着層（亀裂抑制接合層）２４２は、ゲル分率が８０％以上となり、流動性が低下するため、流動性により生じる応力が緩和（低減）される。このように、架橋反応により第２粘着層２４２の流動性が低下することにより、流動性により生じる応力が印刷層３０非亀裂領域３０Ｎにほとんど作用しなくなるため、非亀裂領域３０Ｎは、形状を維持することができる。従って、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎでは、図６に示すように、亀裂の発生が抑制される。

また、架橋反応により第２粘着層２４２の流動性が低下することにより、第２粘着層２４２と基材６０との密着性が向上するため、第２粘着層２４２が基材６０から浮くことをより効果的に抑制できる。また、架橋反応により第２粘着層２４２の流動性が低下することにより、使用環境下の温度変化により生じる印刷層３０と第２粘着層２４２との流動性の差に起因する非亀裂領域３０Ｎの亀裂を長期的に抑制できる。

なお、第２粘着層２４２の流動性をより低下させるには、粘着層２４０を薄くすることが望ましいが、基材６０との粘着性が低下することが考えられる。そのため、粘着層２４０の厚みを、前述した１０μｍ以上５０μｍ以下（より好ましくは１５μｍ以上３０μｍ以下）の範囲とすることにより、基材６０との粘着性を低下させることなく、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎにおける亀裂の発生を抑制することができる。

第３実施形態の化粧材１００の製造方法は、第１実施形態の化粧材１００と実質的に同じである。第３実施形態の化粧材１００は、基材６０に転写された転写シート１から基材フィルム１０を離型した後、化粧材１００を加熱する点が第１実施形態と相違する。化粧材１００を加熱することにより、粘着層２４０の第２粘着層２４２に含有されたブロックイソシアネートのブロック剤が解離し、活性イソシアネート基が再生されるため、第２粘着層２４２は、架橋反応により硬化する。

なお、加熱の工程は、化粧材１００に熱風を吹き付けてもよいし、化粧材１００を所定温度に設定された加熱炉内に設置してもよい。また、内部に熱源を備えたローラを、化粧材１００の表面（剥離層２０）に押し付けながら所定時間に亘って移動させてもよい。
また、化粧材１００への加熱は、剥離層２０の上に耐候性付与層７０を形成した後に実施してもよい。その場合は、転写シート１から基材フィルム１０を離型した後、剥離層２０の上に、出来る限り早く耐候性付与層７０を形成する必要がある。加熱前の粘着層２４０は、全体として流動性を有するため、転写シート１を基材６０に転写した後は、その流動性により生じる応力により、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎに亀裂が生じやすくなるためである。

以下、上記各実施形態の実施例及び比較例を示して、本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例に何ら限定されるものではない。

＜第１実施形態＞
［実施例１］
基材フィルム１０として、２６μｍ厚のＰＥＴフィルム（「ダイアホイル」 三菱樹脂株式会社製）を用意し、その一方の面にアクリル−ウレタン樹脂組成物（「ＫＳＩ」 昭和インク工業株式会社製）を塗布して、膜厚（ｄｒｙ）１μｍの剥離層２０を形成した。この剥離層２０上に、アクリル−塩酢ビ樹脂組成物と着色顔料からなるグラビアインキ（「ＥＩＳ」 昭和インク工業株式会社製）を用いて複数回の印刷を行い、図１に示すような印刷層３０を形成した。

次に、印刷層３０において、非亀裂領域３０Ｎとなる複数の領域の上に、塩酢ビ樹脂（「ＦＨＳ」 ＤＩＣグラフィックス社製）を塗布して、膜厚（ｄｒｙ）２μｍの亀裂抑制層（図２に示すハードコート層８０）を形成した。
また、剥離フィルム５０として、２５μｍ厚のＰＥＴセパレータ（「トークロ離型フィルム」 東洋クロス株式会社社製）を用意し、その上に、アクリル酸エステル樹脂（「ニッセツ」 日本カーバイド工業社製）からなる粘着剤層を、膜厚（ｄｒｙ）２０μｍとなるようにコーティングし、乾燥させることにより、図２に示すような粘着層４０とハードコート層８０とが混在する層を形成した。
そして、基材フィルム１０側の印刷層３０（亀裂予定領域３０Ｐ）とハードコート層８０とで形成される露出面と、剥離フィルム５０（ＰＥＴセパレータ）側の粘着層４０とを貼り合わせた後、３日間、４０℃で加温養生することにより、実施例１の転写シートを得た。

［比較例１］
ハードコート層８０（亀裂抑制層）を、印刷層３０の全面に形成したほかは、上記実施例１と同じ条件で比較例１の転写シートを得た。
［比較例２］
ハードコート層８０を、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎに対応する領域に形成しなかったほかは、上記実施例１と同じ条件で比較例２の転写シートを得た。

上記３種の転写シートを、それぞれ１ｍｍ厚のアルミニウム板（基材）上に転写して化粧材を作製し、所定時間の経過後に、それぞれの化粧材の外観を目視により観察した。その結果、ハードコート層８０を印刷層３０の全面に形成した比較例１の化粧材は、印刷層３０（亀裂予定領域３０Ｐ及び非亀裂領域３０Ｎ）のいずれにも亀裂は観察されなかった。また、ハードコート層８０を印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎに対応する領域に形成しなかった比較例２の化粧材は、印刷層３０（亀裂予定領域３０Ｐ及び非亀裂領域３０Ｎ）に無数の亀裂が観察された。

一方、ハードコート層８０を非亀裂領域３０Ｎにのみ形成した実施例１の化粧材は、亀裂予定領域３０Ｐに無数の亀裂が形成され、亀裂領域３０Ｃとなったことが観察された。また、非亀裂領域３０Ｎには亀裂は観察されなかった。
以上の結果から、実施例１の化粧材は、亀裂予定領域３０Ｐに、より自然な凹凸を亀裂により再現することができ、非亀裂領域３０Ｎには、亀裂が生じないようにできることが確認された。

＜第２実施形態＞
［実施例２］
基材フィルム１０として、２６μｍ厚のＰＥＴフィルム（「ダイアホイル」 三菱樹脂株式会社製）を用意し、その一方の面にアクリル−ウレタン樹脂組成物（「ＫＳＩ」 昭和インク工業株式会社製）を塗布して、膜厚（ｄｒｙ）１μｍの剥離層２０を形成した。この剥離層２０上にアクリル−塩酢ビ樹脂組成物と着色顔料からなるグラビアインキ（「ＥＩＳ」 昭和インク工業株式会社）を用いて複数回の印刷を行い、図５に示すような印刷層３０を形成した。この印刷層３０には、図柄に合わせて亀裂予定領域３０Ｐ及び非亀裂領域３０Ｎが形成されている。

剥離フィルム５０として、２５μｍ厚のＰＥＴセパレータ（「トークロ離型フィルム」 東洋クロス社製）を用意し、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐ（図５参照）と対応する領域の上に、アクリル酸エステル粘着組成物（「ＯＣ３９４９」 固形分３９．５％ サイデン化学社製）１００部と、イソシアネート系硬化剤（「Ｋ−１３０」 固形分８０％ サイデン化学社製）０．０５部と、を酢酸エチルで希釈した溶液を膜厚（ｄｒｙ）３０μｍとなるようにコーティングし、乾燥させることにより、第１粘着層１４１を形成した。
なお、剥離フィルム５０において、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐと対応する領域とは、剥離フィルム５０と基材フィルム１０とを貼り合わせた際に、粘着層１４０において、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐと平面的に重なる領域である。

また、同じ剥離フィルム５０（ＰＥＴセパレータ）において、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎ（図５参照）と対応する領域の上に、アクリル酸エステル粘着組成物（「ＯＣ３９４９」 固形分３９．５％ サイデン化学社製）１００部と、イソシアネート系硬化剤（「Ｋ−１３０」 固形分８０％ サイデン化学社製）０．０５部と、アジピン酸エステル系可塑剤（「ＤＯＡ」 固形分１００ ％ ジェイプラス社製）０．５部と、を酢酸エチルで希釈した溶液を膜厚（ｄｒｙ）３０μｍとなるようにコーティングし、乾燥させることにより、第２粘着層１４２を形成した。

なお、剥離フィルム５０において、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎと対応する領域とは、剥離フィルム５０と基材フィルム１０とを貼り合わせた際に、粘着層１４０において、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎと平面的に重なる領域である。
そして、基材フィルム１０側の印刷層３０と、剥離フィルム５０（ＰＥＴセパレータ）側の粘着層１４０とを貼り合わせた後、７日間、室温にて養生することにより、実施例２の転写シートを得た。

［比較例３］
粘着層１４０の全領域を、可塑剤（アジピン酸エステル系可塑剤）を添加しない粘着剤組成物の硬化物で形成したほかは、上記実施例２と同じ条件で比較例３の転写シートを得た。
［比較例４］
粘着層１４０の全領域を、可塑剤（アジピン酸エステル系可塑剤）を添加した粘着剤組成物の硬化物で形成したほかは、上記実施例２と同じ条件で比較例４の転写シートを得た。

上記３種の転写シートを、それぞれ１ｍｍ厚のアルミニウム板（基材）上に転写して化粧材を作製し、室温２０℃〜２５℃の雰囲気中に放置し、２１日間の経過後に、それぞれの化粧材の外観を目視により観察した。その結果、粘着層１４０の全領域を、可塑剤を添加しない粘着剤組成物の硬化物で形成した比較例３の化粧材は、亀裂予定領域３０Ｐだけでなく、非亀裂領域３０Ｎにも亀裂が観察された。また、粘着層１４０の全領域を、可塑剤を添加した粘着剤組成物の硬化物で形成した比較例４の化粧材は、非亀裂領域３０Ｎだけでなく、亀裂予定領域３０Ｐにも亀裂は観察されなかった。

一方、実施例１の化粧材は、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐに無数の亀裂が観察され、亀裂領域３０Ｃとなったことが観察された。また、非亀裂領域３０Ｎには亀裂は観察されなかった。
以上の結果から、実施例２の化粧材は、亀裂予定領域３０Ｐに、より自然な凹凸を亀裂により再現することができ、非亀裂領域３０Ｎには、亀裂が生じないようにできることが確認された。これは、実施例２の転写シートを転写した化粧材では、第２粘着層１４２に添加された可塑剤により、第２粘着層１４２の流動性がより高められることにより粘性が低下したため、流動性により生じる応力が緩和され、非亀裂領域３０Ｎにほとんど作用しなくなったためと推測される。

＜第３実施形態＞
［実施例３］
基材フィルム１０として、２６μｍ厚のＰＥＴフィルム（「ダイアホイル」 三菱樹脂株式会社製）を用意し、その一方の面にアクリル−ウレタン樹脂組成物（「ＫＳＩ」 昭和インク工業株式会社製）を塗布して、膜厚（ｄｒｙ）１μｍの剥離層２０を形成した。この剥離層２０上にアクリル−塩酢ビ樹脂組成物と着色顔料からなるグラビアインキ（「ＥＩＳ」 昭和インク工業株式会社）を用いて複数回の印刷を行い、図５に示すような印刷層３０を形成した。この印刷層３０には、図柄に合わせて亀裂予定領域３０Ｐ及び非亀裂領域３０Ｎが形成されている。

剥離フィルム５０として、２５μｍ厚のＰＥＴセパレータ（「トークロ離型フィルム」 東洋クロス社製）を用意し、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐ（図５参照）と対応する領域の上に、アクリル酸エステル粘着組成物（「ＯＣ３９４９」 固形分３９．５％ サイデン化学社製）１００部と、イソシアネート系硬化剤（「Ｋ−１３０」 固形分８０％ サイデン化学社製）０．０５部と、を酢酸エチルで希釈した溶液を膜厚（ｄｒｙ）３０μｍとなるようにコーティングし、乾燥させることにより、第１粘着層２４１を形成した。
なお、剥離フィルム５０において、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐと対応する領域とは、剥離フィルム５０と基材フィルム１０とを貼り合わせた際に、粘着層２４０において、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐと平面的に重なる領域である。

また、同じ剥離フィルム５０（ＰＥＴセパレータ）において、アクリル酸エステル粘着組成物（「ニッセツ」 日本カーバイド工業社製、アクリル酸エステル粘着剤１００質量部に対して硬化剤としてＴＤＩを２質量部含有）の固形分１００質量部に対して、ブロックイソシアネート（「Ｋ１６用硬化剤」 昭和インク株式会社製）を固形分２質量部となるように添加した粘着層を、膜厚（ｄｒｙ）２０μｍとなるように塗工し、乾燥させることにより、第２粘着層２４２を形成した。

なお、剥離フィルム５０において、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎと対応する領域とは、剥離フィルム５０と基材フィルム１０とを貼り合わせた際に、粘着層２４０において、印刷層３０の非亀裂領域３０Ｎと平面的に重なる領域である。
そして、基材フィルム１０側の印刷層３０と、剥離フィルム５０（ＰＥＴセパレータ）側の粘着層２４０とを貼り合わせた後、３日間、４０℃で加温養生することにより、実施例の転写シートを得た。

［比較例５］
粘着層２４０の全領域を、ブロックイソシアネートを添加しない第１粘着層２４１と同じ粘着剤組成物の硬化物で形成した以外は、実施例３と同じ条件で比較例５の転写シートを作製した。
［比較例６］
粘着層２４０の全領域を、ブロックイソシアネートを添加した第２粘着層２４２と同じ粘着剤組成物の硬化物で形成した以外は、実施例３と同じ条件で比較例６の転写シートを作製した。

上記３種の転写シートを、それぞれ１ｍｍ厚のアルミニウム板（基材）上に転写して化粧材を作製し、その化粧材を１２０℃で２０分加熱した。その後、所定時間の経過後に、それぞれの化粧材の外観を目視により観察した。その結果、粘着層２４０の全領域を、ブロックイソシアネートを添加しない粘着剤組成物の硬化物で形成した比較例５化粧材は、亀裂予定領域３０Ｐだけでなく、非亀裂領域３０Ｎにも亀裂が観察された。また、粘着層２４０の全領域を、ブロックイソシアネートを添加した粘着剤組成物の硬化物で形成した比較例６の化粧材は、非亀裂領域３０Ｎだけでなく、亀裂予定領域３０Ｐにも亀裂は観察されなかった。

一方、実施例３の化粧材は、印刷層３０の亀裂予定領域３０Ｐに無数の亀裂が観察され、亀裂領域３０Ｃとなったことが観察された。また、非亀裂領域３０Ｎには亀裂は観察されなかった。
以上の結果から、実施例３の化粧材は、亀裂予定領域３０Ｐに、より自然な凹凸を亀裂により再現することができ、非亀裂領域３０Ｎには、亀裂が生じないようにできることが確認された。これは、実施例３の転写シートを転写した化粧材では、１２０℃で２０分加熱することにより、第２粘着層２４２に添加されたブロックイソシアネートが架橋反応してゲル分率が８０％以上となり、第２粘着層２４２の流動性が低下したため、その流動性により生じる応力が第２粘着層２４２に対応する非亀裂領域３０Ｎにほとんど作用しなくなったためと推測される。

（ゲル分率の測定）
粘着層のゲル分率は、以下のような手法により測定した。
乾燥後の粘着層の厚みが２０μｍとなるようにセパレータ（剥離フィルム）の表面に塗工により形成した。その後、粘着層のもう一方の面に同じくセパレータを貼り合わせて試験片とし、４０℃で３日間保管した（常温で７日間保管でも可）。ここでは、粘着層にブロックイソシアネートを含有しない試験片を「試料１」とし、粘着層にブロックイソシアネートを含有する試験片を「試料２」とする。

この試験片を５０ｃｍ^２のサイズに切り出し、計量した（以下、切り出した試験片の粘着剤重量を、「試験片の粘着剤重量」ともいう）。この試験片をサンプル瓶に入れ、酢酸エチル５０ｃｃに浸漬させ、２４時間経過後に、２００メッシュ（１インチ当たり２００網目）のＳＵＳ金網で濾過した。ステンレス（ＳＵＳ）金網で捕捉された粘着剤の濾過残留物を、ＳＵＳ金網ごと８０℃で２時間乾燥させ、残留物を計量した（以下、乾燥した残留物の重量を、「粘着残留物重量」ともいう）。
これらの値を基にして、以下の式からゲル分率を測定した。
ゲル分率［％］＝（粘着残留物重量）／（試験片の粘着剤重量）×１００
なお、セパレータ、サンプル瓶、ＳＵＳ金網の重量を個別に計量し、上記測定値から差し引いている。

（測定結果）
ブロックイソシアネートを含有しない試料１については、ゲル分率は、５７．２％であった。
ブロックイソシアネートを含有する試料２についても、ゲル分率は、５７．２％であった。そして、試料２を１２０℃で１時間加熱した後のゲル分率は、９４．１％であった。また、試料２について、加熱時間を４時間にした場合、ゲル分率は、９４．８％となり、加熱時間を１時間とした場合に比べて大きな差は確認されなかった。
以上により、実施例の試料２においては、加熱（架橋工程）の前後でゲル分率が変化していることが理解できる。

本発明に係る転写シートは、被転写体（基材）に対して優れた意匠性、耐候性を与えることができる。この化粧材は、建築物の壁材（外装材、内装材）、間仕切り、扉、窓枠、家具、室内装飾品等のほか、自動車、鉄道車両、船舶、航空機等の室内用カバー材、各種標識、屋外広告等のパネル材等にも適用することができる。

１ 転写シート
１０ 基材フィルム
２０ 剥離層
３０ 印刷層
３０Ｃ 亀裂領域
３０Ｐ 亀裂予定領域
３０Ｎ 非亀裂領域
４０，１４０，２４０ 粘着層
５０ 剥離フィルム
６０ 基材
７０ 耐候性付与層
８０ ハードコート層
１４１，２４１ 第１粘着層
２４１，２４２ 第２粘着層

Claims (4)

1. 離型性支持体と、印刷層と、接合層と、がこの順に積層された転写シートにおいて、
   前記印刷層は、亀裂予定領域と、非亀裂領域と、を有し、
   前記亀裂予定領域の前記離型性支持体と反対側の面には、前記接合層として亀裂発生接合層が配置されており、
   前記非亀裂領域の前記離型性支持体と反対側の面には、前記接合層として亀裂抑制接合層が配置されているか、又は前記接合層との間に亀裂抑制層が配置され、
   前記亀裂予定領域は、前記離型性支持体が当該転写シートから剥離された場合に、前記亀裂発生接合層の流動性により生じる応力により亀裂が形成される転写シート。
2. 前記非亀裂領域の前記離型性支持体と反対側の面には、前記接合層として亀裂抑制接合層が配置されており、
   前記亀裂発生接合層は、アクリル系粘着剤とイソシアネート系硬化剤とを含有しており、
   前記亀裂抑制接合層は、アクリル系粘着剤とイソシアネート系硬化剤と可塑剤を含有しており、
   前記可塑剤は、フタル酸エステル系可塑剤、アジピン酸エステル系可塑剤のいずれかである請求項１に記載の転写シート。
3. 前記可塑剤の配合量は、前記アクリル系粘着剤の固形分１００質量部に対して固形分換算で０．１〜１０質量部である請求項２に記載の転写シート。
4. 前記非亀裂領域の前記離型性支持体と反対側の面には、前記接合層として亀裂抑制接合層が配置されており、
   前記亀裂発生接合層は、アクリル系粘着剤とイソシアネート系硬化剤とを含有しており、
   前記亀裂抑制接合層は、アクリル系粘着剤とイソシアネート系硬化剤とブロックイソシアネートを含有している請求項１に記載の転写シート。

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