JP6841552B2 - 半導体集積回路装置、半導体集積回路装置を用いた電流制御装置、及び、電流制御装置を用いた自動変速機制御装置 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 103
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 32
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
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- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0248—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
- H01L27/0251—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
- H01L27/0266—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using field effect transistors as protective elements
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- G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
- G05F3/00—Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
- G05F3/02—Regulating voltage or current
- G05F3/08—Regulating voltage or current wherein the variable is dc
- G05F3/10—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
- G05F3/16—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
- G05F3/20—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
- G05F3/26—Current mirrors
- G05F3/262—Current mirrors using field-effect transistors only
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/56—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
- H03K17/687—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
- H03K17/6871—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/06—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
- H01L27/0611—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region
- H01L27/0617—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region comprising components of the field-effect type
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- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
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Description
本発明の第1の実施の形態を図1を参照しつつ説明する。
本発明の一実施例を図2〜図5を参照しつつ説明する。
本発明の第2の実施の形態を図6を参照しつつ説明する。本実施の形態では、第1の実施の形態との相違点についてのみ説明するものとし、本実施の形態で用いる図面において第1の実施の形態と同様の部材には同じ符号を付し、説明を省略する。
本発明の他の実施例を図7及び図8を参照しつつ説明する。
本発明のさらに他の実施例を図9を参照しつつ説明する。本実施例では、実施例2との相違点についてのみ説明するものとし、本実施例で用いる図面において実施例2と同様の部材には同じ符号を付し、説明を省略する。
本発明の第3の実施の形態を図10を参照しつつ説明する。本実施の形態では、上記の各実施の形態及び実施例との相違点についてのみ説明するものとし、本実施の形態で用いる図面において上記の各実施の形態及び実施例と同様の部材には同じ符号を付し、説明を省略する。
本発明の第4の実施の形態を図11を参照しつつ説明する。本実施の形態では、上記の各実施の形態及び実施例との相違点についてのみ説明するものとし、本実施の形態で用いる図面において上記の各実施の形態及び実施例と同様の部材には同じ符号を付し、説明を省略する。
なお、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内の様々な変形例や組み合わせが含まれる。また、本発明は、上記の実施の形態で説明した全ての構成を備えるものに限定されず、その構成の一部を削除したものも含まれる。
Claims (12)
- 半導体基板上に形成された半導体集積回路装置であって、
バイアスを生成するMOS型トランジスタのウエルおよび前記バイアスを受けるMOS型トランジスタのウエルがいずれも前記半導体基板から絶縁分離されて形成されたカレントミラー回路と、
前記バイアスを生成するMOS型トランジスタのゲート電極とウエルの間、及び、前記バイアスを受けるMOS型トランジスタのゲート電極とウエルの間に、前記半導体基板を介さずに第1の配線層で接続された接続回路とを備え、
前記接続回路は、前記半導体集積回路装置の製造時には、前記ゲート電極と前記ウエルの間を電気的に短絡状態とし、実装動作時には、前記ゲート電極と前記ウエルの間を少なくとも1方向に切断状態とすることを特徴とする半導体集積回路装置。 - 請求項1に記載の半導体集積回路装置において、
前記バイアスを生成するMOS型トランジスタのゲート電極と前記バイアスを受けるMOS型トランジスタのゲート電極とは、前記第1の配線層より下層の第1の配線層で接続されおり、
前記バイアスを生成するMOS型トランジスタのウエルと前記バイアスを受けるMOS型トランジスタのウエルとは、前記第1の配線層より下層の第2の配線層で接続されていることを特徴とする半導体集積回路装置。 - 請求項2に記載の半導体集積回路装置において、
前記バイアスを生成するMOS型トランジスタのゲート電極とドレインは前記第1の配線層より上層の第2の配線層で接続されていることを特徴とする半導体集積回路装置。 - 請求項3に記載の半導体集積回路装置において、
前記第1の配線層は、前記ゲート電極を生成する層で構成され、
前記第2の配線層は、前記ウエルを構成する層で構成されていることを特徴とする半導体集積回路装置。 - 請求項4に記載の半導体集積回路装置において、
前記接続回路と前記バイアスを生成するMOS型トランジスタのチャネル領域の重心点との距離をL1、前記接続回路と前記バイアスを受けるMOS型トランジスタのチャネル領域の重心点との距離をL2としたとき、距離L1と距離L2が略等しいことを特徴とする半導体集積回路装置。 - 請求項1〜5の何れか1項に記載の半導体集積回路装置において、
前記接続回路は、前記第1の配線層で半導体層に接続された制御線を備え、
前記制御線は、前記半導体集積回路装置の実装動作時に所定の電圧が与えられることを特徴とする半導体集積回路装置。 - 請求項6に記載の半導体集積回路装置において、
前記制御線は、前記半導体基板上に形成された電源線に接続されていることを特徴とする半導体集積回路装置。 - 請求項6又は7に記載の半導体集積回路装置において、
前記接続回路は、ディプリーション型のMOS型トランジスタで構成されることを特徴とする半導体集積回路装置。 - 請求項6又は7に記載の半導体集積回路装置において、
前記接続回路は、ソース電極を互いに接続し、ゲート電極を互いに接続した、2つのMOS型トランジスタで構成されることを特徴とする半導体集積回路装置。 - 請求項1〜9の何れか1項に記載の半導体集積回路装置において、
前記半導体基板はSOI基板であって、前記カレントミラー回路は前記SOI基板上に形成され、
前記SOI基板に埋め込まれた絶縁膜で形成され、前記カレントミラー回路をそれ以外の回路と分離するトレンチ溝を備えたことを特徴とする半導体集積回路装置。 - 半導体基板上に形成され、電流を駆動するメインMOS型トランジスタと、
前記メインMOS型トランジスタに並列に接続され、前記メインMOS型トランジスタの電流検出を行うセンスMOS型トランジスタと、
前記センスMOS型トランジスタに接続された請求項1に記載の半導体集積回路装置のカレントミラー回路と、
前記カレントミラー回路に接続された抵抗素子と、
前記抵抗素子に流れる電流を検出するための検出器とを備え、
前記カレントミラー回路を構成するバイアスを生成するMOS型トランジスタのウエルと、前記バイアスを受けるMOS型トランジスタのウエルは、いずれも前記半導体基板から絶縁分離されていることを特徴とする電流制御装置。 - 請求項11に記載の電流制御装置と、
前記電流制御装置を制御するマイクロコントローラと
を有することを特徴とする自動変速機制御装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018032560A JP6841552B2 (ja) | 2018-02-26 | 2018-02-26 | 半導体集積回路装置、半導体集積回路装置を用いた電流制御装置、及び、電流制御装置を用いた自動変速機制御装置 |
US16/970,645 US11043508B2 (en) | 2018-02-26 | 2019-01-28 | Semiconductor integrated circuit device, current control device using semiconductor integrated circuit device, and automatic transmission control device using current control device |
DE112019000268.6T DE112019000268B4 (de) | 2018-02-26 | 2019-01-28 | Integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung, Stromsteuervorrichtung, die die integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung verwendet, und Automatikgetriebesteuervorrichtung, die die Stromsteuervorrichtung verwendet |
PCT/JP2019/002640 WO2019163417A1 (ja) | 2018-02-26 | 2019-01-28 | 半導体集積回路装置、半導体集積回路装置を用いた電流制御装置、及び、電流制御装置を用いた自動変速機制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018032560A JP6841552B2 (ja) | 2018-02-26 | 2018-02-26 | 半導体集積回路装置、半導体集積回路装置を用いた電流制御装置、及び、電流制御装置を用いた自動変速機制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019149430A JP2019149430A (ja) | 2019-09-05 |
JP6841552B2 true JP6841552B2 (ja) | 2021-03-10 |
Family
ID=67687192
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018032560A Active JP6841552B2 (ja) | 2018-02-26 | 2018-02-26 | 半導体集積回路装置、半導体集積回路装置を用いた電流制御装置、及び、電流制御装置を用いた自動変速機制御装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11043508B2 (ja) |
JP (1) | JP6841552B2 (ja) |
DE (1) | DE112019000268B4 (ja) |
WO (1) | WO2019163417A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112782439B (zh) * | 2020-01-06 | 2023-01-31 | 保定钰鑫电气科技有限公司 | 一种小电流接地***中单相接地故障检测用特征电流的制造方法 |
JP7392237B2 (ja) | 2020-02-20 | 2023-12-06 | 日清紡マイクロデバイス株式会社 | 半導体集積回路 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002141421A (ja) | 2000-10-31 | 2002-05-17 | Toshiba Corp | 半導体集積回路装置 |
US6404275B1 (en) * | 2001-11-29 | 2002-06-11 | International Business Machines Corporation | Modified current mirror circuit for BiCMOS application |
JP2008210902A (ja) | 2007-02-24 | 2008-09-11 | Seiko Instruments Inc | カレントミラー回路 |
JP2010016210A (ja) | 2008-07-04 | 2010-01-21 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2014241537A (ja) | 2013-06-12 | 2014-12-25 | 株式会社東芝 | 静電気保護回路 |
JP7297549B2 (ja) * | 2019-06-21 | 2023-06-26 | エイブリック株式会社 | 電圧電流変換回路、及び充放電制御装置 |
-
2018
- 2018-02-26 JP JP2018032560A patent/JP6841552B2/ja active Active
-
2019
- 2019-01-28 WO PCT/JP2019/002640 patent/WO2019163417A1/ja active Application Filing
- 2019-01-28 US US16/970,645 patent/US11043508B2/en active Active
- 2019-01-28 DE DE112019000268.6T patent/DE112019000268B4/de active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019149430A (ja) | 2019-09-05 |
DE112019000268B4 (de) | 2023-07-13 |
DE112019000268T5 (de) | 2020-08-27 |
US20200381454A1 (en) | 2020-12-03 |
WO2019163417A1 (ja) | 2019-08-29 |
US11043508B2 (en) | 2021-06-22 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
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