JP6617294B2 - スチームアイロン - Google Patents

Description

本開示は、衣類を含む繊維製品（以下、単に衣類等という）のしわ伸ばしに用いられるスチームアイロン（Steam Iron）に関する。

従来のスチームアイロンは、かけ面（Ironing surface）と気化室とが設けられたベース（Base）と、ベースに一体的に組み込まれてベースを加熱するヒータ（Heater）とを有する。ベースに、その上面側に設けられたスチーム生成用の気化室と、その下面側に設けられたかけ面とを有する。ベースの温度は、アイロンがけの対象である衣類等に応じて、例えば、８０℃〜２００℃の範囲で調節可能に構成される。

スチームアイロンは、スチームを伴ったアイロンがけを行う「スチームモード（Steam-ironing mode）」と、スチームを伴わないアイロンがけを行う「ドライモード（Dry-ironing mode）」とを有する。

ドライモードの場合は、アイロンがけ時のベースの温度低下は少なく、ヒータの通電制御によってかけ面を設定温度に容易に維持することができる。一方、スチームモードの場合は、気化室に供給された水の気化のために熱が奪われ、噴出したスチームからの凝縮水を含んだ衣類等によってかけ面が冷却され、ベースの温度が低下する。

気化能力は温度に依存する。気化室を高温にすると気化能力が向上して多量のスチームが生成される。低温では気化能力が低下して、生成されるスチームの量が減少する。気化室の温度を上げると、ベースに設けられたかけ面の温度も上がり、かけ面の温度を下げると、ベースに設けられた気化室の温度も下がる。

従って、かけ面を、熱に弱い化学繊維などに適した低温に設定すると、気化室の温度も下がってスチーム量が減少し、スチームモードでのアイロンがけが難しくなる。

この問題を解決するために、例えば、下記先行技術が出願されている。

特許文献１は、ヒータと、温度制御用の感熱部とを有し、空間を隔ててベースの上方に設けられた気化室を備え、ベースの温度に影響されずに気化室の温度を適正に制御するスチームアイロンを開示する。

特許文献２は、ヒータと温度検出器とがベースと気化室とにそれぞれ設けられ、衣類等に応じて、かけ面の温度とスチーム量とを制御するスチームアイロンを開示する。

特許文献３は、気化室が設けられた第１のベースと、かけ面が設けられた第２のベースとを有し、第１のベースと第２のベースとの間に、外周リブとスチームリブとで隔てられた空気層である熱抵抗層が形成されたスチームアイロンを開示する。本先行技術では、第１のベースの温度が高く設定され、熱抵抗層がスチーム滞留層として用いられ、第２のベースで熱を放出した後にスチームが噴出される。

特許文献４は、ヒータにより加熱される気化室の下面側に断熱部を隔ててかけ面が設けられ、気化室からかけ面への熱の供給を制御することにより、かけ面の温度を低く維持しつつスチームを噴出するスチームアイロンを開示する。

特許文献５は、気化室が設けられた第１のベースの上面側を覆う蓋体と、下面側にかけ面部材が設けられた空間部とを有し、気化室で生成されたスチームを、空間部を通して噴出するスチームアイロンを開示する。

特許文献６は、気化室が設けられたベースと、ベースの上面側に設けられ、ラビリンスが形成されたスチーム通路とを有し、ラビリンスを経由してかけ面のスチーム孔からスチームを噴出するスチームアイロンを開示する。

実開昭５７−０９４４９８号公報 実開平０５−００９４９５号公報 特開２０００−１０７４９８号公報 特開２００２−１６６１００号公報 特開２００４−１２９９２１号公報 特開２００８−０９３０８７号公報

しかしながら、かけ面の温度が、衣類等に適した低温に設定されると、気化能力の著しい低下によりスチーム量が減少して、スチームによる良好なしわ伸ばし効果が得られない。スチーム量を増加させようとして気化室への給水量を増加させると、十分な気化能力がないため気化されない水滴を含むスチームが噴出し、衣類等を湿らせてしまう。

そこで、かけ面の温度を低温に設定した場合でも、気化室をスチームの生成に適した温度まで加熱することで、気化能力に応じた適正量のスチームを低温のかけ面から噴出してアイロンがけを行うことができる。

しかしながら、化学繊維などのアイロンがけを行うために、例えば、気化室がスチームの生成に適した温度である１６０℃に加熱されると、かけ面の温度が、例えば１３０℃に設定可能に構成されたアイロンの場合、以下の問題が生じる。

このようなアイロンにおいて、通電されて気化室が所定の温度までに加熱されると、サーモスタット（Thermostat）によりヒータへの通電が停止される。しかし、通電の停止後も気化室の温度は上昇を続け、所定の温度を超過する。

一方、低温に設定されたかけ面と、高温に加熱される気化室との間に所望の温度差が生じるように、気化室からの熱伝導が制限されるため、かけ面の温度は気化室より遅れて上昇する。

一般的に、ヒータへの通電がサーモスタットによって停止されると、アイロンは使用可能な状態である。しかし、使用開始時におけるベースの温度は、気化室の温度は所定の温度を超過する一方、かけ面の温度は所望の温度より少し低くなる。

従って、高温の気化室で生成されたスチームは、適正な気化能力により生成された、水滴を含まない良好な状態のスチームであるにも関わらず、低温のかけ面から噴出する際に冷却され、結露水がスチームに混じって噴出する可能性がある。

また、気化室とベースとの間に空間などを設けてベースの温度を所望の低温に保つ場合には、ベースがアイロンがけに適した温度まで上昇するまでに時間がかかってしまう。

本開示は、上記従来の問題点を解決するものであり、ベースを短時間で加熱し、ベースが低温に設定された場合でも、水滴を含まない良好な状態のスチームによってアイロンがけが行えるスチームアイロンを提供することを目的とする。

上記従来の問題点を解決するために、本開示の一態様に係るスチームアイロンは、ヒータを有する加熱体と、加熱体の上面側に形成され、スチームを生成する気化室と、加熱体の上面側を覆う蓋体と、加熱体の下面側に設けられたベースと、ベースに設けられたスチーム噴出孔と、気化室で生成されたスチームをスチーム噴出孔に導くスチーム通路とを備える。

スチーム通路は、加熱体の上面側に形成された加熱通路と、加熱体の下面側に形成された加熱室およびベース通路とを有する。加熱室を通過したスチームは、加熱通路を経由してベース通路に導かれ、スチーム噴出孔から噴出する。

本態様によれば、気化室で生成されたスチームが加熱室を通過する際に、ベースの温度を急速に上昇させる。その結果、本態様に係るスチームアイロンは、ベースの温度が低温に設定された場合でも、水滴を含まない良好な状態のスチームを伴ったアイロンがけを行うことができる。

図１は、本開示の実施の形態１に係るスチームアイロンの切欠縦断面図である。 図２は、実施の形態１に係るベース部を斜め上方から見た場合の分解斜視図である。 図３は、実施の形態１に係るベース部を斜め下方から見た場合の分解斜視図である。 図４は、実施の形態１に係るベース部の前部における縦断面図である。 図５は、実施の形態に係るベース部の中央部における縦断面図である。 図６Ａは、図５における６Ａ−６Ａ線断面図である。 図６Ｂは、図５における６Ｂ−６Ｂ線断面図である。 図７は、実施の形態１に係る加熱体およびベースの温度変化を示すグラフである。 図８は、実施の形態１の変形例に係るベース部の横断面図である。 図９は、本開示の実施の形態２に係るベース部を斜め上方から見た分解斜視図である。 図１０は、実施の形態２に係るベース部を斜め下方から見た分解斜視図である。 図１１Ａは、実施の形態２に係る加熱体の裏側への補助熱板の装着前の状態を示す図である。 図１１Ｂは、実施の形態２に係る加熱体の裏側への補助熱板の装着後の状態を示す図である。 図１２は、実施の形態２に係るベース部の中央部における要部縦断面図である。 図１３Ａは、図１２における１３Ａ−１３Ａ線断面図である。 図１３Ｂは、図１２における１３Ｂ−１３Ｂ線断面図である。

本開示の第１の態様に係るスチームアイロンは、ヒータを有する加熱体と、加熱体の上面側に形成され、スチームを生成する気化室と、加熱体の上面側を覆う蓋体と、加熱体の下面側に設けられたベースと、ベースに設けられたスチーム噴出孔と、気化室で生成されたスチームをスチーム噴出孔に導くスチーム通路とを備える。

スチーム通路は、加熱体の上面側に形成された加熱通路と、加熱体の下面側に形成された加熱室およびベース通路とを有する。加熱室を通過したスチームは、加熱通路を経由してベース通路に導かれ、スチーム噴出孔から噴出する。

本態様によれば、気化室で生成されたスチームが加熱室を通過する際にベースを加熱する。このため、ベースの温度が急速に上昇して、結露の発生が防止される。その結果、ベースの温度が低温に設定された場合でも、水滴を含まない良好な状態のスチームを伴ったアイロンがけを行うことができる。

本開示の第２の態様に係るスチームアイロンは、加熱室が、加熱体とベースとの間に形成され、気化室の下方に設けられる。本態様によれば、スチームが加熱室を通過するときに高温の気化室で加熱されるため、スチームの温度低下を抑制することができる。

本開示の第３の態様に係るスチームアイロンは、加熱室が、ベースの長手方向に細長い形状を有するものである。本態様によれば、加熱室がより広い範囲でベースを加熱するため、ベースの加熱が促進される。

本開示の第４の態様に係るスチームアイロンは、ベース通路が、加熱室の外周に沿って設けられたものである。本態様によれば、スチーム噴出孔がより広い範囲に分散して設けられ、しわ伸ばし効果が高められる。

本開示の第５の態様に係るスチームアイロンは、加熱体と蓋体との間に設けられた仕切板をさらに有し、加熱通路が、仕切板に沿って設けられた仕切通路と、加熱体を上下方向に貫通する連通部とを有するように構成されたものである。本態様によれば、加熱体に沿ったより長いスチーム通路が限られた空間内に形成される。これにより、気化の促進を図ることができる。

本開示の第６の態様に係るスチームアイロンは、加熱体と蓋体との間に設けられた仕切り板として、第１仕切板および第２仕切板を有する。仕切通路は、第１仕切板に沿って形成された第１仕切通路と、第２仕切板に沿って形成された第２仕切通路とを有する。連通部は、第１仕切通路と加熱室とを連通する第１連通部と、加熱室と第２仕切通路とを連通する第２連通部と、第２仕切通路とベース通路とを連通する第３連通部とを有する。

本態様によれば、スチーム通路が、加熱体の上下左右に沿って設けられることにより、限られた空間内により長い経路を有するように構成される。気化室からのスチームは、スチーム通路を通過する際に加熱体により加熱されて、気化の促進が図られる。

本開示の第７の態様に係るスチームアイロンは、ベースと加熱体とが、ベース通路の外周に沿って設けられた第１シール（Seal）部と、加熱室の外周とベース通路の内周に沿って設けられた第２シール部とでシールされる。本態様によれば、スチームや水滴の漏れをより確実に防止することができる。さらに、加熱体からベースへの熱伝導が緩衝されて、加熱体を気化に適した高温に設定しても、ベースの温度を低温に設定することができる。

本開示の第８の態様に係るスチームアイロンは、ヒータはほぼＵ字状の曲がり部を有し、気化室は、曲がり部の内側と外側とに形成される。本態様によれば、ヒータの熱容量の大きい部分で効率的に気化室を加熱して気化能力を高めることができ、多量のスチームを効率よく生成することができる。

本開示の第９の態様に係るスチームアイロンは、蓋体が薄板で形成されたものである。本態様によれば、蓋体の加工を容易にすることができる。

本開示の第１０の態様に係るスチームアイロンは、ベース通路内かつ第３連通部の下方に設けられ、加熱体と熱的に接続された補助熱板をさらに備える。

本態様によれば、スチーム噴出孔から噴出するスチームに結露水が混じる可能性をさらに抑制することができる。その結果、ベースの温度が低温に設定された場合でも、水滴を含まない良好な状態のスチームを伴ったアイロンがけを行うことができる。

以下、本開示の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。

（実施の形態１）
図１は、本開示の実施の形態１に係るスチームアイロン１の切欠縦断面図である。図２は、スチームアイロン１のベース部２ａを斜め上方から見た分解斜視図である。図３は、ベース部２ａを斜め下方から見た分解斜視図である。図４は、ベース部２ａの前部における要部縦断面図である。図５は、ベース部２ａの中央部における要部縦断面図である。図６Ａは、図５における６Ａ−６Ａ線断面図、図６Ｂは、図５における６Ｂ−６Ｂ線断面図である。

図１〜図４に示すように、スチームアイロン１は、衣類等に対してスチームを噴出するベース部２ａを備える。ベース部２ａは、ヒータ３が一体的に設けられた加熱体４ａと、加熱体４ａの上面側を覆うように設けられた蓋体７と、加熱体４ａの下面側を覆うように設けられたベース５とを有する。

加熱体４ａは、良熱伝導性のアルミニウムで成型され、埋設されたヒータ３を有する。ヒータ３は、シーズヒータなどで構成され、ほぼＵ字状の曲がり部３ａを有する。

加熱体４ａの上面側には、スチーム生成用の気化室６が形成される。気化室６は、ヒータ３の曲がり部３ａの内側部分と外側部分とを連通するように、加熱体４ａの前部に形成される。これにより、ヒータの熱容量の大きい部分で効率的に気化室を加熱して気化能力を高めることができ、その結果、多量のスチームを効率よく生成することができる。

加熱体４ａの上面側には、良熱伝導性のアルミニウムで成型された蓋体７がシール結合により設けられる。加熱体４ａと蓋体７との間には、気化室６および後述する加熱通路が形成される。蓋体７の下面には、後述する加熱通路を規定するための出張り（Ledge）７ａ、出張り７ｂ、出張り７ｃ、出張り７ｄが形成される。

ベース５は、良熱伝導性のアルミニウムで成型され、加熱体４ａに結合される。加熱体４ａとベース５との結合部分は、シリコン樹脂（Silicon resin）などのシール材によってシールされる。このシール材により、加熱体４ａからベース５への熱伝導が緩衝される。

加熱体４ａとベース５との間には、加熱室８およびベース通路９が形成される。加熱室８は、気化室６の下方に設けられる。このため、スチームが加熱室８を通過するときに高温の気化室６で加熱され、スチームの温度低下を抑制することができる。

加熱室８は、長手方向に細長い楕円形状を有し、ベース５の中央に形成される。このようにより広い範囲に形成された加熱室８により、ベース５をより広い範囲で効果的に加熱することができる。

ベース通路９は、加熱室８を囲むように加熱室８の外周に沿って形成される。ベース５には、しわ伸ばし効果を高めるため、多数のスチーム噴出孔１０が分散されて設けられる。ベース５の下面は、硬質で滑りやすくするための加工が施され、衣類等をプレスするかけ面１１として機能する。

スチームアイロン１が衣類等の上を前方にも後方にも滑らかに移動するように、かけ面１１の前部１１ａと後部１１ｂとは実質的に尖った形状を有する。

気化室６で生成されたスチームは、スチーム通路１２を通ってスチーム噴出孔１０から噴出する。スチーム通路１２は、加熱体４ａの上面側に形成された加熱通路である第１加熱通路１３および第２加熱通路１４と、加熱体４ａの下面側に形成された加熱室８およびベース通路９とを有する。

すなわち、スチーム通路１２とは、気化室６で生成されたスチームが、スチーム噴出孔１０から噴出するまでに通る経路全体の総称である。

第１加熱通路１３および第２加熱通路１４は、加熱体４ａの左右の周縁に沿って延在する。第１加熱通路１３は加熱体４ａの後方に形成され、第２加熱通路１４は第１加熱通路１３の前方に形成される。

第１加熱通路１３は、加熱体４ａと蓋体７との間に設けられたアルミニウム製の第１仕切板１５と、第１仕切板１５の上面に沿って、出張り７ａと出張り７ｂと第１仕切板１５とで規定された第１仕切通路１３ａとを有する。第１加熱通路１３はさらに、加熱体４ａの中央やや後方に位置し、加熱体４ａを上下方向に貫通して第１仕切通路１３ａと加熱室８とを連通する第１連通部１３ｂとを有する。

第２加熱通路１４は、加熱体４ａと蓋体７との間に設けられたアルミニウム製の第２仕切板１６と、第２仕切板１６の上面に沿って、出張り７ｃと出張り７ｄと第２仕切板１６とで規定された第２仕切通路１４ａとを有する。第２加熱通路１４はさらに、加熱体４ａの中央やや前方に位置し、加熱体４ａを上下方向に貫通して加熱室８と第２仕切通路１４ａとを連通する第２連通部１４ｂとを有する。

第２加熱通路１４には、加熱体４ａを上下方向に貫通し、第２仕切通路１４ａとベース通路９とを連通する第３連通部である連通孔１４ｃが形成される。

なお、第１仕切板１５と第２仕切板１６とは仕切板として機能し、第１連通部１３ｂと第２連通部１４ｂと連通孔１４ｃとは連通部として機能する。

気化室６で生成されたスチームは、第２仕切板１６および第１仕切板１５の下方を通って後方に流れる。第１仕切板１５および第２仕切板１６のそれぞれの上方に、第１仕切通路１３ａおよび第２仕切通路１４ａが設けられる。

第１仕切通路１３ａと第２仕切通路１４ａと第１連通部１３ｂと第２連通部１４ｂと連通孔１４ｃとが、気化室６を立体的に取り囲むように構成される。すなわち、スチーム通路１２は、加熱体４ａの上側、下側、左側、右側に沿った立体的構造を有する。

この構造のため、より長い経路を有するスチーム通路１２が、限られた空間内に形成される。気化室６で生成されたスチームは、スチーム通路１２を通過する際に、より長い時間加熱されるため、気化の促進が図られる。

複数（本実施の形態では四つ）の固着部１９は、加熱体４ａとベース５とを強固に結合させる。第１シール部１７と第２シール部１８は、加熱体４ａとベース５との結合部分をシールする。

第１シール部１７は、溝１７ａと突起１７ｂとシール材（図示せず）とを含む。溝１７ａは、ベース５の外周に沿ってベース５の上面に設けられる。突起１７ｂは、加熱体４ａの外周に沿って加熱体４ａの下面に設けられる。溝１７ａに突起１７ｂが挿入され、その嵌合部分の隙間にシール材（図示せず）が充填されて、第１シール部１７が形成される。

第２シール部１８は、溝１８ａと突起１８ｂとシール材１８ｃ（図４参照）とを含む。溝１８ａは、ベース５の上面かつ溝１７ａの内側に設けられる。突起１８ｂは、加熱体４ａの下面かつ突起１７ｂの内側に設けられる。溝１８ａに突起１８ｂが挿入され、その嵌合部分の隙間にシール材１８ｃが充填されて、第２シール部１８が構成される。

第１シール部１７、第２シール部１８により、スチームおよび水滴の漏れを確実に防止することができる。さらに、加熱室８により、加熱体４ａからベース５への熱伝導が緩衝される。

加熱体４ａの上面側には、そのほぼ全域を覆う断熱体２０が設けられる（図１参照）。断熱体２０は、耐熱性のＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート（Polybutylene terephthalate））樹脂の成型品で構成される。把手部２１は、ＰＰ（ポリプロピレン（Polypropylene））樹脂の成型品で構成され、断熱体２０の上方に設けられる。把手部２１の上部には、前後方向に延在するグリップ（Grip）２２が一体的に設けられる（図１参照）。

水タンク２３は、把手部２１の前部に設けられ、気化室６に供給される水を貯める。水タンク２３の前面には、注水口（図示せず）を開閉する注水口蓋２３ａが設けられる。水タンク２３内に貯められた水は、水タンク２３の底部に設けられたノズル２４から気化室６に滴下する。ノズル２４は、耐熱性のシリコンゴム（Silicone rubber）などで形成したノズルパッキング（Nozzle packing）２５を介して気化室６と連通する。

気化室６には、ノズル２４に対向して凸状の滴下部６ａが設けられる。ヒータ３による気化室６の加熱中に滴下部６ａに滴下した水は、曲がり部３ａの付近で瞬時に気化する。

気化室６への水の供給と停止は、ノズル２４を開閉する開閉ロッド２６の上下動によって行われる。開閉ロッド２６の上下動は、グリップ２２の前方に設けられた操作釦２７の手動操作により行われる（図１参照）。

開閉ロッド２６の下降に伴ってノズル２４が閉じると、気化室６に水が滴下せずスチームが噴出しないドライモードの状態となる。一方、開閉ロッド２６の上昇に伴ってノズル２４が開くと、気化室６に水が滴下してスチームが噴出するスチームモードの状態となる。

操作釦２７は、左右方向に回転自在に設けられる。使用者による操作釦２７の回転運動がカム（図示せず）を介して開閉ロッド２６に伝達されて、開閉ロッド２６が上下動する。このようにして、操作釦２７の操作により、ドライモードとスチームモードとが切り替わる。

サーモスタット２８は、加熱体４ａの上部に取り付けられ、加熱体４ａの温度に応じてヒータ３への通電をオンオフして、加熱体４ａを所定の温度（例えば、１６０℃）に制御する。電源スイッチ２９は、把手部２１に設けられ、スチームアイロン１のヒータ回路への通電をオンオフする。

以上のように構成されたスチームアイロン１について、以下その動作、作用を説明する。

スチームアイロン１を使用するために、使用者は、注水口蓋２３ａの開いた注水口から水タンク２３に注水した後、電源スイッチ２９をオンする。電源スイッチ２９がオンされてヒータ回路への通電が開始されると、サーモスタット２８によりヒータ３の通電が制御されて、加熱体４ａは、設定された温度に加熱される。

加熱体４ａが設定された温度に加熱された後、使用者による操作釦２７の操作に応じて、開閉ロッド２６が上昇しノズル２４が開くと、水タンク２３内の水が気化室６に滴下してスチームが発生する。発生したスチームは、スチーム通路１２を通ってスチーム噴出孔１０から噴出する。操作釦２７が操作されてノズル２４が閉じると、スチームの噴出が停止する。このようにして、アイロンがけ中にスチームモードからドライモードに設定変更することも可能である。

次に、スチームモードでアイロンがけを行う場合において、気化室６で生成されスチーム噴出孔１０から噴出するまでの、スチームの流れについて説明する。

図２において、水タンク２３内の水は、ノズル２４から気化室６の滴下部６ａに滴下すると気化してスチームとなる。気化室６で生成されたスチームは、第２連通部１４ｂの外側かつ第２仕切板１６の下側、および、第１連通部１３ｂの外側かつ第１仕切板１５の下側を通って後方、すなわち、矢印ａ方向に流れる。

気化室６から第１加熱通路１３に達したスチームは、図２、図５における矢印ｂに示すように、第１加熱通路１３の形状に沿って進行方向を変え、前方に流れる。

図３、図５および図６Ａにおける矢印ｃに示すように、スチームは、第１仕切通路１３ａを左右両側から中央に向かって流れ、第１連通部１３ｂを下方に流れて加熱室８に達する。図３、図５および図６Ｂにおける矢印ｄに示すように、スチームは、加熱室８から、第２連通部１４ｂを上方に流れ、第２仕切通路１４ａに達する。図６Ｂにおける矢印ｅに示すように、スチームは、第２仕切通路１４ａを中央から左右両方向に流れ、加熱体４ａの上面側に形成された第２加熱通路１４の前部に到達する。

図２における矢印ｆに示すように、スチームは第２加熱通路１４を後方に流れる。図３における矢印ｇに示すように、スチームは、第２加熱通路１４の後部に設けられた連通孔１４ｃからベース通路９に流れ込み、スチーム噴出孔１０からスチームアイロン１の外に噴出する。

次に、スチームモードでアイロンがけを行う場合における、ベース部２ａの温度について説明する。図７は、ヒータ３の通電開始からの加熱体４ａとベース５との温度変化を示すグラフである。図７に示すように、ヒータ３に通電されると加熱体４ａの温度が上昇し、加熱体４ａが所定の温度Ｔ１（例えば、１６０℃）に加熱されると、サーモスタット２８の働きによりヒータ３への通電が停止される。

加熱体４ａの温度は、ヒータ３への通電停止後も上昇を続け、温度Ｔ２（例えば、１９０℃）に達する。一方、ベース５の温度は、加熱体４ａからの熱伝導が制限されるため加熱体４ａより遅れて上昇する。

通電開始からスチームの使用可能な状態になるまでの立ち上がり時間ｔ１は、例えば、約５０秒である。このとき、ベース５の温度Ｔ３（例えば、８５℃）は所定の温度Ｔ４（例えば、１３０℃）より低い。仮にこの状態でスチームを噴出すると、スチームはベース５によって冷却され、結露水がスチームに混じって噴出し、アイロンがけ中の衣類等を濡らしてしまう。

本実施の形態によれば、気化室６で生成された高温のスチームが、加熱室８に流れ、加熱室８を加熱する。ベース５を加熱したスチームは、加熱体４ａの上面側に形成された第２加熱通路１４に流れ、加熱体４ａで再加熱された後、スチーム噴出孔１０から噴出する。これにより、加熱されたスチームが加熱室８を通過することによってベース５が加熱され、図７に示すように、ベース５の温度が温度Ｔ３（例えば、８５℃）から温度Ｔ５（例えば、１０５℃）に短時間で上昇する。

加熱室８を通ってベース５を加熱したスチームは、第２加熱通路１４を通過する際に、再び高温の加熱体４ａで加熱された後、ベース通路９に送られ、スチーム噴出孔１０を通って噴出する。噴出するスチームは、再加熱されることで結露水を含まない、より良好な状態となる。

従って、使用者は、通電開始直後でも、ベース５の温度が温度Ｔ４に上昇するのを待つ必要がなく、当初から水滴を含まない良好な状態のスチームを伴ったアイロンがけを行うことができる。

以上のように、本実施の形態に係るスチームアイロン１は、ヒータ３を有する加熱体４ａと、加熱体４ａの上面側に形成され、スチームを生成する気化室６と、加熱体４ａの上面側を覆う蓋体７と、加熱体４ａの下面側に設けられたベース５と、ベース５に設けられたスチーム噴出孔１０と、気化室６で生成されたスチームをスチーム噴出孔１０に導くスチーム通路１２とを備える。

スチーム通路１２は、加熱体４ａの上面側に形成された加熱通路（第１加熱通路１３、第２加熱通路１４）と、加熱体４ａの下面側に形成された加熱室８およびベース通路９とを有し、加熱室８を通過したスチームは、第２加熱通路１４を経由してベース通路９に導かれ、スチーム噴出孔１０から噴出する。

本実施の形態によれば、気化室６で生成されたスチームが、加熱室８を通過する際にベース５を加熱する。このため、ベース５の温度が短時間で上昇して、結露の発生が防止される。その結果、ベース５が低温に設定された場合でも、水滴を含まない良好な状態のスチームを伴ったアイロンがけを行うことができる。

本実施の形態に係るスチームアイロン１は、加熱室８が、加熱体４ａとベース５とで形成され、気化室６の下方に設けられる。本実施の形態によれば、スチームが加熱室８を通過するときに高温の気化室６で加熱されるため、スチームの温度低下を抑制することができる。

本実施の形態に係るスチームアイロン１は、加熱室８が、ベース５の長手方向に細長く形成されたものである。本実施の形態によれば、加熱室８がより広い範囲でベース５を加熱するため、ベース５の加熱が促進される。

本実施の形態に係るスチームアイロン１は、ベース通路９が、加熱室８の外周に沿って設けられたものである。本実施の形態によれば、スチーム噴出孔１０をベース５の広い範囲に分散して設けることができ、しわ伸ばし効果を高めることができる。

本実施の形態に係るスチームアイロン１は、加熱通路（第１加熱通路１３、第２加熱通路１４）が、加熱体４ａと蓋体７との間に設けられた仕切板（第１仕切板１５、第２仕切板１６）により、加熱体４ａに沿った立体的な階層構造を構成するものである。本実施の形態によれば、加熱体４ａに沿ったより長いスチーム通路１２が限られた空間内に形成される。これにより、気化の促進が図られる。

本実施の形態に係るスチームアイロン１は、加熱通路（第１加熱通路１３、第２加熱通路１４）が、加熱体４ａと蓋体７との間に第１仕切板１５および第２仕切板１６を有する。第１仕切板１５には、気化室６からのスチームを加熱室８に導く第１仕切通路１３ａが形成される。第２仕切板１６には、加熱室８からのスチームをベース通路９に導く第２仕切通路１４ａが形成される。本実施の形態によれば、加熱体４ａに沿ったより長いスチーム通路１２が限られた空間内に形成される。これにより、気化の促進が図られる。

本実施の形態に係るスチームアイロン１は、ベース５と加熱体４ａとが、ベース通路９の外周に沿って設けられた第１シール部１７と、ベース通路９の内周に沿って設けられた第２シール部１８とによりシールされる。

本実施の形態によれば、スチームや水滴の漏れを確実に防止することができる。さらに、加熱体４ａからベース５への熱伝導が緩衝されて、加熱体４ａを気化に適した高温に設定しても、ベース５の温度を低温に設定することができる。

本実施の形態に係るスチームアイロン１は、ヒータ３がほぼＵ字状の曲がり部を有し、気化室６は、曲がり部３ａの内側と外側とに形成されたものである。本実施の形態によれば、ヒータ３の熱容量の大きい部分で効率的に気化室６を加熱して気化能力を高めることができ、多量のスチームを効率よく生成することができる。

（変形例）
図８は、本実施の形態の変形例に係るスチームアイロン１のベース部２ａの、図５と同様の位置における横断面図である。

本変形例において、蓋体７は薄板で形成される。他の構成は基本的に上述の構成と同じであるため、同一または対応の箇所に同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。

図８に示すように、加熱体４ａは、仕切板（第１仕切板１５、第２仕切板１６）より高い側壁４ａａを有する。蓋体７は、良熱伝導性のアルミニウム製の薄板が打ち抜き加工されて形成される。蓋体７は、気化室６と加熱通路（第１加熱通路１３、第２加熱通路１４）とを含む加熱体４ａの上面を覆い、加熱体４ａの側壁４ａａとシール結合される。この構成により、蓋体７の加工および加熱体４ａの製造が容易になる。

（実施の形態２）
以下、本開示の実施の形態２に係るスチームアイロン１について説明する。本実施の形態において、実施の形態１と同一または相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。

図９は、本開示の実施の形態２に係るスチームアイロン１のベース部２ｂを斜め上方から見た分解斜視図である。図１０は、ベース部２ｂを斜め下方から見た分解斜視図である。

図９、図１０に示されるように、ベース通路９内に、ベース通路９の前部付近から後部付近に延在する補助熱板３０ａと補助熱板３０ｂとが設けられる。ベース５と加熱体４ｂとは、断熱リング３５を挟んでネジ３４でネジ止めされる。断熱リング３５は、ベース５と加熱体４ｂとの間の熱伝導を抑制する。

パッキング３２は、シリコンゴムで構成され、第１シール部１７に配置されて溝１７ａと突起１７ｂとの間をシールする。同様に、パッキング３３は、シリコンゴムで構成され、第２シール部１８に配置されて溝１８ａと突起１８ｂとの間をシールする。

図１１Ａは、加熱体４ｂの裏側に補助熱板３０ａ、３０ｂが装着される前の状態を示す図である。図１１Ｂは、加熱体４ｂの裏側に補助熱板３０ａ、３０ｂが装着された後の状態を示す図である。

図１１Ａ、図１１Ｂに示されるように、台座３１は、ベース通路９に面する加熱体４ｂの下面に、加熱体４ｂと一体的に形成される。補助熱板３０ａ、３０ｂは、連通孔１４ｃに対向するように台座３１に取り付けられる。この状態において、補助熱板３０ａ、３０ｂは、台座３１を介して加熱体４ｂと熱的に接続される。

図１２は、ベース部２ｂの中央部における要部縦断面図である。図１３Ａは、図１２における１３Ａ−１３Ａ線断面図、図１３Ｂは、図１２における１３Ｂ−１３Ｂ線断面図である。

図１３Ａ、図１３Ｂに示されるように、加熱体４ｂの下面と補助熱板３０ａ、３０ｂとの間には間隙３６ａが、ベース通路９の側壁と補助熱板３０ａ、３０ｂとの間には間隙３６ｂがそれぞれ設けられる。

以上のように構成されたスチームアイロン１について、以下その動作、作用を説明する。

スチームモードでのアイロンがけの場合、実施の形態１の場合と同様、気化室６で生成されたスチームは、スチーム通路１２を経由し、連通孔１４ｃを通過する。

連通孔１４ｃを通過したスチームの一部分は、間隙３６ａ、間隙３６ｂを経由して、ベース通路９の補助熱板３０ａ、３０ｂの下側に流れ込み、スチーム噴出孔１０からかけ面１１の外側に噴出する（図１０参照）。

連通孔１４ｃを通過したスチームの他の部分は、間隙３６ａを前方および後方に流れ、ベース通路９の前部および後部に達し、かけ面１１の前部１１ａおよび後部１１ｂに設けられたスチーム噴出孔１０からかけ面１１の外側に噴出する（図１０参照）。

スチームアイロン１の使用時、補助熱板３０ａ、３０ｂは、連通孔１４ｃの下方に位置しており、加熱体４ｂによって加熱される。そのため、連通孔１４ｃから、何らかの原因で結露水を含むスチームが噴出されることがあったとしても、その結露水は補助熱板３０ａ、３０ｂにより、受け止められ、加熱されて再び気化する。

以上のように、本実施の形態に係るスチームアイロン１は、ベース通路９内に設けられ、スチームアイロン１の使用時は第３連通部である連通孔１４ｃの下方に位置し、加熱体４ｂと熱的に接続された補助熱板３０ａ、３０ｂを備える。

本実施の形態によれば、スチーム噴出孔１０から噴出するスチームに結露水が混じる可能性をさらに抑制することができる。その結果、ベース５の温度が低温に設定された場合でも、水滴を含まない良好な状態のスチームを伴ったアイロンがけを行うことができる。

以上のように、本開示は、家庭用および業務用のスチームアイロンに適用可能である。

１ スチームアイロン
２ａ，２ｂ ベース部
３ ヒータ
４ａ，４ｂ 加熱体
４ａａ 側壁
５ ベース
６ 気化室
６ａ 滴下部
７ 蓋体
７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ 出張り
８ 加熱室
９ ベース通路
１０ スチーム噴出孔
１１ かけ面
１１ａ 前部
１１ｂ 後部
１２ スチーム通路
１３ 第１加熱通路
１３ａ 第１仕切通路
１３ｂ 第１連通部
１４ 第２加熱通路
１４ａ 第２仕切通路
１４ｂ 第２連通部
１４ｃ 連通孔
１５ 第１仕切板
１６ 第２仕切板
１７ 第１シール部
１８ 第２シール部
１７ａ，１８ａ 溝
１７ｂ，１８ｂ 突起
１８ｃ シール材
１９ 固着部
２０ 断熱体
２１ 把手部
２２ グリップ
２３ 水タンク
２３ａ 注水口蓋
２４ ノズル
２５ ノズルパッキング
２６ 開閉ロッド
２７ 操作釦
２８ サーモスタット
２９ 電源スイッチ
３０ａ，３０ｂ 補助熱板
３１ 台座
３２，３３ パッキング
３４ ネジ
３５ 断熱リング
３６ａ，３６ｂ 間隙

Claims (10)

1. ヒータを有する加熱体と、
   前記加熱体の上面側に形成され、スチームを生成する気化室と、
   前記加熱体の上面側を覆う蓋体と、
   前記加熱体の下面側に設けられたベースと、
   前記ベースに設けられたスチーム噴出孔と、
   前記気化室で生成されたスチームを前記スチーム噴出孔に導くスチーム通路と
   を備え、
   前記スチーム通路は、前記加熱体の上面側に形成された加熱通路と、前記加熱体の下面側に形成された加熱室およびベース通路とを有し、前記加熱通路のうち、気化室と加熱室とを連通する第１加熱通路を経由して前記加熱室を通過した前記スチームを、前記加熱通路のうち、加熱室とベース通路とを連通する第２加熱通路を経由して前記ベース通路に導き、前記スチーム噴出孔から噴出するように構成されたスチームアイロン。
2. 前記加熱室は、前記加熱体と前記ベースとの間に形成され、前記気化室の下方に設けられた請求項１記載のスチームアイロン。
3. 前記加熱室は、前記ベースの長手方向に細長い形状を有する請求項２記載のスチームアイロン。
4. 前記ベース通路は、前記加熱室の外周に沿って設けられた請求項３に記載のスチームアイロン。
5. 前記加熱体と前記蓋体との間に設けられた仕切板をさらに有し、
   前記加熱通路が、前記仕切板に沿って設けられた仕切通路と、前記加熱体を上下方向に貫通する連通部とを有するように構成された請求項１に記載のスチームアイロン。
6. 前記加熱体と前記蓋体との間に設けられた仕切り板として、第１仕切板および第２仕切板を有し、
   前記仕切通路が、前記第１仕切板に沿って形成された第１仕切通路と、前記第２仕切板に
   沿って形成された第２仕切通路とを有し、
   前記連通部が、前記第１仕切通路と前記加熱室とを連通する第１連通部と、前記加熱室と前記第２仕切通路とを連通する第２連通部と、前記第２仕切通路と前記ベース通路とを連通する第３連通部とを有する請求項５に記載のスチームアイロン。
7. 前記ベースと前記加熱体とは、少なくとも前記ベース通路の外周に沿って設けられた第１シール部と、前記ベース通路の内周に沿って設けられた第２シール部とにおいてシール結合された請求項４に記載のスチームアイロン。
8. 前記ヒータはほぼＵ字状の曲がり部を有し、
   前記気化室は、前記曲がり部の内側と外側とに形成された請求項１に記載のスチームアイロン。
9. 前記蓋体は、薄板で形成された請求項１に記載のスチームアイロン。
10. 前記ベース通路内かつ前記第３連通部の下方に設けられ、前記加熱体と熱的に接続された補助熱板をさらに備えた請求項６に記載のスチームアイロン。

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