JP6463279B2 - 組成分析システムのためのレーザアブレーションセル及びトーチシステム - Google Patents
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Description
Claims (21)
- プラズマを生成可能な空間を取り囲む閉じ込めチューブと、
前記閉じ込めチューブの内側に配置されるプラズマガスチューブと、
前記プラズマガスチューブの内側に配置される外側管と、
前記外側管の内側に配置される移送管と
を備え、
前記閉じ込めチューブと前記プラズマガスチューブとの間には、前記空間内に前記プラズマを形成するための第1のガスを前記空間に供給する第1の流路が形成され、
前記プラズマガスチューブと前記外側管との間には、前記空間に形成される前記プラズマの基部の位置を前記閉じ込めチューブに対して調整するための第2のガスを前記空間に供給する第2の流路が形成され、
前記外側管と前記移送管との間には、前記プラズマ内に中央チャネルを形成するための第3のガスを前記空間に噴射する第3の流路が形成され、
前記移送管は、試料噴射端を有し、前記試料噴射端を介して材料を含むキャリア流れを前記空間に噴射できるように構成される、
装置。 - 前記外側管は、流体噴射端を有し、前記流体噴射端を介して前記第3のガスを前記空間に噴射できるように構成され、
前記試料噴射端は、前記流体噴射端よりも前記プラズマの近くに位置し、
前記流体噴射端は、前記流体噴射端と前記試料噴射端との間で比較的激しい乱流の流体流れを含む第1のゾーンを生成するように構成され、
前記試料噴射端は、前記第1のゾーンの流体流れの乱流よりも弱い比較的弱い乱流の流体流れを含む第2のゾーン内に位置する、
請求項1の装置。 - 前記外側管は、前記流体噴射端から噴射軸に沿って延び、
前記移送管は、前記試料噴射端から前記噴射軸に沿って延びる、
請求項2の装置。 - 前記試料噴射端は、1mmよりも大きな範囲の距離だけ前記流体噴射端を超えて延びる、請求項2又は3の装置。
- 前記流体噴射端は、1.5mmから3mmの範囲の内径を有する、請求項2から4のいずれか一項の装置。
- 前記外側管は、前記流体噴射端から噴射軸に沿って延び、
前記移送管は、前記試料噴射端から前記噴射軸に沿って延び、
前記噴射軸に沿って測定したときの前記流体噴射端と前記試料噴射端との間の距離は0mmから20mmの範囲にある、
請求項2から5のいずれか一項の装置。 - 前記噴射軸に沿って測定したときの前記流体噴射端と前記試料噴射端との間の前記距離は0mmから15mmの範囲にある、請求項6の装置。
- 前記移送管は、前記試料噴射端から噴射軸に沿って延び、
前記外側管の一部は、前記流体噴射端から前記噴射軸に沿って延び、
前記外側管は、前記第3のガスを受け入れるように構成された流体入力ポートを有し、
前記流体入力ポートは、前記噴射軸とは異なる軸に沿って前記第3のガスを前記外側管の前記一部に移送するように構成されている、
請求項2から7のいずれか一項の装置。 - 前記移送管は、前記試料噴射端から噴射軸に沿って延び、
前記外側管は、
前記噴射軸に垂直な方向に延びる第1の管部と、
前記第1の管部と前記流体噴射端との間で前記噴射軸に沿って延びる第2の管部と
を含み、
前記第1の管部は、前記移送管が前記外側管の内部に配置されるように前記移送管を挿入できる開口を含む、
請求項2から8のいずれか一項の装置。 - 前記第1の管部と前記移送管との間に介在する管ガイドをさらに備える、請求項9の装置。
- 前記外側管は、前記噴射軸に沿って前記第3のガスを移送可能な空間を規定する内面を含み、
前記管ガイドは、前記外側管の前記内面から離間している、
請求項10の装置。 - 前記試料噴射端は前記外側管の外側に位置している、請求項1から11のいずれか一項の装置。
- 前記外側管及び前記移送管は同軸である、請求項1から12のいずれか一項の装置。
- 前記移送管の内部空間と流体連通し、粒子を前記移送管の前記内部空間に移送するように構成された液滴生成器をさらに備える、請求項1から13のいずれか一項の装置。
- 前記液滴生成器と前記移送管との間に連結される脱溶媒ユニットをさらに備える、請求項14の装置。
- 前記移送管の前記試料噴射端とは反対側の試料受入端の内径は、前記試料噴射端の内径と等しい、請求項1から15のいずれか一項の装置。
- 前記外側管及び前記移送管それぞれにより移送される前記第3のガス及び前記キャリア流れを加熱するように構成されたヒータを含んでいない、請求項1から16のいずれか一項の装置。
- 前記試料噴射端は、0.5mm以上の内径を有する、請求項1から17のいずれか一項の装置。
- 前記試料噴射端は、1mm以上の内径を有する、請求項18の装置。
- 前記閉じ込めチューブ内にプラズマを生成するように構成されたプラズマトーチをさらに含む、請求項1から19のいずれか一項の装置。
- 前記プラズマトーチは、前記閉じ込めチューブを有する誘導結合プラズマ(ICP)トーチである、請求項20の装置。
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KR102229252B1 (ko) * | 2019-08-19 | 2021-03-18 | 한국과학기술연구원 | 에어로졸 발생 장치 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1574812A (en) * | 1976-05-06 | 1980-09-10 | Barringer Research Ltd | Spectrochemical analysis |
JPS6070960A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-04-22 | Nec Corp | フイ−ドスル− |
JPH0622719B2 (ja) * | 1985-05-13 | 1994-03-30 | 小野田セメント株式会社 | 複ト−チ型プラズマ溶射方法及びその装置 |
JPS62281755A (ja) * | 1986-05-29 | 1987-12-07 | Anelva Corp | 動力導入機 |
JP2643031B2 (ja) * | 1991-04-10 | 1997-08-20 | 動力炉・核燃料開発事業団 | 固体発光分光分析装置 |
EP0560537A1 (en) * | 1992-03-10 | 1993-09-15 | Mds Health Group Limited | Apparatus and method for liquid sample introduction |
US5850089A (en) * | 1992-03-13 | 1998-12-15 | American Research Corporation Of Virginia | Modulated-structure of PZT/PT ferroelectric thin films for non-volatile random access memories |
JP2804873B2 (ja) * | 1992-12-17 | 1998-09-30 | 三菱電機株式会社 | 微粒子分析装置および微粒子分析方法 |
FR2700852B1 (fr) * | 1993-01-27 | 1995-03-03 | Commissariat Energie Atomique | Cellule d'ablation d'un échantillon au laser. |
US5537206A (en) * | 1993-11-02 | 1996-07-16 | Nkk Corporation | Method for analyzing steel and apparatus therefor |
US5504327A (en) * | 1993-11-04 | 1996-04-02 | Hv Ops, Inc. (H-Nu) | Electrospray ionization source and method for mass spectrometric analysis |
FR2714464B1 (fr) * | 1993-12-23 | 1996-02-09 | Cogema | Procédé de contrôle de la contamination surfacique d'un solide et dispositif de mise en Óoeuvre. |
JPH085555A (ja) * | 1994-06-17 | 1996-01-12 | Hitachi Ltd | 元素分析用プラズマトーチ及びこれを用いた元素分析方法 |
JP4095646B2 (ja) * | 1995-12-27 | 2008-06-04 | 日本電信電話株式会社 | 元素分析装置 |
JPH1151904A (ja) * | 1997-08-05 | 1999-02-26 | Jeol Ltd | Icp−msのレーザーアブレーション方法及び装置 |
JP2001272349A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Shimadzu Corp | Icp発光分光分析用プラズマトーチ |
EP1402762B1 (en) * | 2001-07-03 | 2013-09-25 | Agilent Technologies Australia (M) Pty Ltd | Plasma torch |
JP3800621B2 (ja) * | 2002-01-18 | 2006-07-26 | 株式会社島津製作所 | Icp分析装置 |
JP4232951B2 (ja) * | 2002-11-07 | 2009-03-04 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 誘導結合プラズマトーチ |
US7460225B2 (en) * | 2004-03-05 | 2008-12-02 | Vassili Karanassios | Miniaturized source devices for optical and mass spectrometry |
JP2006038729A (ja) * | 2004-07-29 | 2006-02-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 誘導結合プラズマトーチ |
US7649170B2 (en) * | 2006-10-03 | 2010-01-19 | Academia Sinica | Dual-polarity mass spectrometer |
KR100801708B1 (ko) * | 2006-12-22 | 2008-02-11 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 오염물질 분석장비 및 방법 |
US8174691B1 (en) * | 2007-03-15 | 2012-05-08 | Arkansas State University—Jonesboro | Detection of a component of interest with an ultraviolet laser and method of using the same |
JP4982891B2 (ja) * | 2007-04-12 | 2012-07-25 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 反応性プラズマ中におけるラジカル及びダスト濃度測定方法 |
US8207472B2 (en) * | 2008-06-18 | 2012-06-26 | Electro Scientific Industries, Inc. | Debris capture and removal for laser micromachining |
US20100207038A1 (en) * | 2009-02-13 | 2010-08-19 | Loughborough University | Apparatus and method for laser irradiation |
US20110089320A1 (en) * | 2009-10-19 | 2011-04-21 | Wiederin Daniel R | Direct injection nebulizer |
JP5265811B2 (ja) * | 2010-06-03 | 2013-08-14 | 株式会社アルバック | スパッタ成膜装置 |
JP5482599B2 (ja) * | 2010-09-17 | 2014-05-07 | トヨタ自動車株式会社 | レーザーアブレーション質量分析装置 |
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