JP6073080B2 - 電磁波計測システム - Google Patents
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Description
DPC法によれば、コヒーレントな電磁波を対象物に照射し、この電磁波の照射軸に対して、ファーフィールドに配置された複数のディテクタによりそれぞれ信号を検出し、これら検出された信号強度の内の照射軸に対して対称位置にあるディテクタ間の信号強度の差出力を用いることにより、対称物のプロファイル情報を取得できる。この際、定性的にいえば、測定対象物の傾きが一方向に大きくなれば、一方のディテクタに入射される信号が大きくなる。また、測定対象物の傾きが逆方向に大きくなれば、他方のディテクタに入射される信号が大きくなる。
以上より、DPC法を用いた方法であっても、ディテクタから出力される信号が弱いと、外部からのノイズに影響されやすくなる。
結像光学系を用いた従来の顕微鏡においては、対物レンズにて捉える対称物の空間周波数の1次回折光の成分と0次回折光の成分とが干渉して像形成を行うため、レンズの開口に1次回折光が入射されないと、その空間周波数は再現されないことになる。他方、低い周波数から高い周波数に至るにつれてその1次回折光の回折角は次第に大きくなるので、レンズに入力される1次回折光の量が減っていくことになる。その結果として、1次回折光が入力されない周波数がカットオフになり、低い周波数から高い周波数に至る途中で、変調度が次第に落ちていくようになる。
図11のように開口半径がaで焦点距離がfの対物レンズ11に平行光束が入射しているとする。なお、図11においては、照射光軸を光軸L0で表し、この光軸L0に対して角度Θだけ傾く傾斜光軸を光軸L1で表している。通常の結像を用いた倒立型顕微鏡では、図11のように光束が試料Sを透過する透過型となるが、光束が試料Sで折り返される反射型として考えてもよい。また、式を簡単にするために、1次元の開口として扱う。
θ=2π(h/λ)sin(2πx/d)・・・・・(1)式
試料Sから回折された光の振幅Eは、焦点距離fだけ離れた面において、(1)式のフーリエ変換とレンズの開口とのコンボリューションとして、与えられるので、以下のように表される。ただし、(1)式の位相のフーリエ変換であるベッセル関数は、±1次まで取るものとする。
したがって、強度Iは下記(3)式のようになる。
本発明は上記背景に鑑みてなされたもので、DPC法により外部のノイズを除去してより微弱な強度の信号を取得し、かつ、通常のDPC法の再現空間周波数では取得不可能な空間周波数を取得し、実効上、分解能の高い電磁波計測システムを提供することを目的とする。
該照射手段から照射される電磁波の照射軸を挟んで対称な位置に配置され、おのおの測定対象物で0次回折波と±1次回折波に回折された電磁波を検出する少なくとも2つの検出素子を有する電磁波検出手段と、
これら2つの検出素子でおのおの検出された電磁波を前記変調に対応した復調を行い、これら測定対象物で回折された電磁波の出力間の差信号を作成する信号作成手段と、
この差信号の位相差あるいは出力差を求めて測定対象物のプロファイル情報を得る計測手段と、
を含む電磁波計測システムとされるものである。
収束照射の照射光軸上に位置し、前記測定対象物から出射された光束を平行な光束に変換する第1のレンズと、
第1のレンズからの透過光の内の照射光軸を挟んだ各側部分の光をそれぞれ受光する少なくとも2つの受光素子を有する第1の受光素子と、
前記照射光軸に対して第1の受光素子の受光素子が受光する各側にそれぞれ傾きを有した傾斜光軸上に位置し、かつ、前記測定対象物から出射された光束をそれぞれ平行な光束とする一対の第2のレンズと、
第1のレンズから出射された光束と前記各第2のレンズから出射された光束とをそれぞれ干渉させる光学素子と、
該光学素子により干渉された各光束を受光する一対の第2の受光素子と、
変調されている前記光源からの光を前記変調に対応した復調を行ってから、第1の受光素子の照射光軸を挟んで位置する受光素子間の出力差および、一対の第2の受光素子間の出力差をそれぞれ検出する出力差検出部と、
を含む電磁波計測システムとされるものである。
該光学素子が、
第1のレンズから出射された平行な光束を分割する第1のビームスプリッターと、
前記反射鏡から反射された光束と前記第1のビームスプリッターで分割された光束とを合成させる第2のビームスプリッターと、
を含むものや、前記一対の第2の受光素子が、複数の受光素子によりそれぞれ構成され、かつ照射光軸を挟んで相互に対称な位置に配置されているものが好適である。
平行照射の照射光軸に位置し、前記測定対象物から出射された光束を分割する第1のビームスプリッターと、
第1のビームスプリッターからの透過光の内の照射光軸を挟んだ各側部分の光をそれぞれ受光する少なくとも2つの受光素子を有する第1の受光素子と、
前記照射光軸に対して第1の受光素子の受光素子が受光する各側にそれぞれ傾きを有した傾斜光軸上に位置し、かつ、前記測定対象物から出射された光束と第1のビームスプリッターで分割された光束とをそれぞれ干渉させる一対の第2のビームスプリッターと、
一対の第2のビームスプリッターにより干渉された各光束をそれぞれ受光する一対の第2の受光素子と、
変調されている前記光源からの光を前記変調に対応した復調を行ってから、第1の受光素子の照射光軸を挟んで位置する受光素子間の出力差および、一対の第2の受光素子間の出力差をそれぞれ検出する出力差検出部と、
を含む電磁波計測システムとされるものである。
収束照射の照射光軸に対して傾きを有した傾斜光軸上に位置し、かつ、前記測定対象物から出射された光束を平行な光束とするレンズと、
該レンズに入射される光束の前記照射光軸に近い該レンズの部分を通過する第1の光束と該照射光軸から遠い該レンズの一方の半面を通過する第2の光束を干渉させる第1の光学素子と、
第1の光学素子により干渉された光束をそれぞれ検出する複数の第1の受光素子と、
前記傾斜光軸に対して前記第1の光学素子と反対方向に配置され、前記第1の光束と前記第2の光束を干渉させる第2の光学素子と、
第2の光学素子により干渉された光束をそれぞれ検出する複数の第2の受光素子と、
変調されている前記光源からの光を前記変調に対応した復調を行ってから、複数の第1の受光素子の任意の受光出力と複数の第2の受光素子の任意の受光出力との差の出力値を検出する出力差検出部と、
を含む電磁波計測システムとされるものである。
平行照射の照射光軸に対して傾きを有した傾斜光軸上に有る第1の光学素子と、
第1の光学素子により干渉された光を検出する複数の第1の受光素子と、
平行照射の照射光軸に対して第1の光学素子と逆の傾きを有した傾斜光軸上に有る第2の光学素子と、
第2の光学素子により干渉された光を検出する複数の第2の受光素子と、
変調されている前記光源からの光を前記変調に対応した復調を行ってから、複数の第1の受光素子の任意の受光出力と複数の第2の受光素子の任意の受光出力との差の出力値を検出する出力差検出部と、
を含み、
第1の光学素子および第2の光学素子が、
傾斜光軸上に位置し、かつ、前記測定対象物から出射された光束を収束させる第1のレンズと、
該第1のレンズから出射される光束の照射光軸に近い該第1のレンズの一方の半面の第1の光束を平行な光束とする第2のレンズと、
照射光軸から遠い該第1のレンズの他方の半面の第2の光束を平行な光束とする第3のレンズと、
第2のレンズと第3のレンズより出射された光束同士を干渉させる光学素子と、
をそれぞれ有する電磁波計測システムとされるものである。
前記第1の光束における像を反転する第1のプリズムと、
第1のプリズムからの光束と前記第2の光束との何れかをシフトして重ねる第2のプリズムと、
を含むものや、前記第1および第2の光学素子は、前記光束同士を干渉させる光学素子として、
前記第2の光束を反射するミラーと、
前記第1の光束と該ミラーで反射された光束を合成するビームスプリッターと、
を含むものや、前記第1および第2の光学素子は、前記光束同士を干渉させる光学素子として、収束レンズもしくは、収束レンズと拡大光学系を含むものや、前記第1および第2の光学素子は、前記光束同士を干渉させる光学素子として、収束レンズと該収束レンズの焦点付近に配置されたグレーティングを含むものや、変調および復調する際に用いた変調方式を単一周波数の振幅変調、位相変調、周波数変調としたものが好適である。
前述のようにDPC法は、試料に照射された電磁波に対してファーフィールドであって、電磁波の照射軸に対して対称に配置されたディテクタ同士の差動信号を検出することにより、試料のプロファイル情報を得るものである。
さらに、0次回折光および1次回折光の各主光線軸の間に光軸を有するレンズを配置し、試料から回折された0次回折光もしくは1次回折光を平行光束とし、この平行光束をレンズにより集光し、ほぼレンズの焦点付近に配置した適正な格子ピッチを有するグレーティングにより、実質上0次回折光と1次回折光を相互にシフト重ね合わせることで、干渉させる。
また、ファーフィールドに配置した2組の受光素子の差動信号が本来有する奥行き情報も同時に取得しているので、横分解能と同時に縦分解能にも優れた電磁波計測システムを提供することができ、レーザー走査顕微鏡に好適なものである。
図1に示すように、コヒーレントな電磁波とされる電子ビームを照射する照射手段である電子銃1と対向して収束レンズ2と収束絞り3が順次配置されていて、これらの下方に測定対象物である試料Sが設置されている。この試料Sのさらに下方に電磁波検出手段である検出器5を構成する一対の分割検出素子5A、5Bが位置している。但し、電子銃1から照射される電子ビームの中心軸である照射軸Lを挟んで対称な位置にこれら一対の分割検出素子5A、5Bは配置されていて、これら一対の分割検出素子5A、5Bが電子銃1からの電子ビームをおのおの検出することになる。
図2に示すように、コヒーレントな電磁波とされるレーザー光を照射する照射手段である半導体レーザー6と対向して、レーザー光を平行光束とするコリメーターレンズ7および光束を収束する対物レンズ8が順次配置されていて、これらの下方に試料Sが設置されている。この試料Sのさらに下方に電磁波検出手段である受光素子9を構成する一対の分割受光素子9A、9Bが位置している。
なお、図1および図2において、走査系が示されていないが、走査系は走査デバイスにいわゆる瞳伝達系を配置することで実現できるので、走査系をともに省略した。
簡単のために試料Sが高さhでピッチdの正弦波状の形状をしているものとする。すなわち、光学的な位相θが以下の(4)式で表されるとする。
θ=2π(h/λ)sin(2πx/d+θ0)・・・・・(4)式
また、半導体レーザー6の印加電流に対する光出力強度は、図3のようになる。つまり、電流の閾値をIthとし、スロープ効率をγとすれば、光出力Pは、P=γ(I−Ith)で表される。
ここで、電流Ioを中心として、振幅Ia、変調周波数fmのAM変調とすれば、印加電流Iは、I=Ia・cos(2πfmt)+Ioで表される。
従って、光出力Pは、P=γ(Ia・cos(2πfmt)+Io)cos(2πfct) となる。すなわち、半導体レーザー6に与えられる強度変調は、(γ(Ia・cos(2πfmt)+Io)cos(2πfct)となる。なおfcは光の振動数で、キャリアとみなすことができる。
そして、この光の振幅Eは、光軸を中心にした境界を対象軸とした2つの受光素子で受光され、以下の(5)式で表される。
ここで、復調方法については、包絡線検波を行うか、いわゆる直交変換を行えばよい。直交変換の場合、検出された(6)式や(7)式の光強度信号に、cos(2πfmt)をかけて、周期T=1/fmで実効上の積分を行う。
たとえば、デジタル処理では、適正にcos(2πfmt)をサンプリングして、{γ(Ia・cos(2πfmt)+Io)cos(2πfct)}2との積を1周期にわたり加算することで、試料で回折された光による変調された信号を検波することができる。
また、直交検波を行うと、cosωmtに関して残る項は下記式となる。
このため、変調項を含まない項は、外乱ノイズの影響を受けやすくなる。しかしながら、この微小な信号をとらえるために変調と対応する復調を行うと、この様な外部ノイズの影響を受けることがなくなる。
以下の数式において、強度変化に係る時間変化の項は、具体的に記載していないが、振幅Eには、強度変調項であるγ(Ia・cos(2πfmt)+Io)cos(2πfct)が掛っているとみなし、強度Iには、{γ(Ia・cos(2πfmt)+Io)cos(2πfct)}2のように積の形で掛っているとみなせば、復調された直交検波の結果、どのようになるか簡単に推察できる。
θ=2πh/λsin(2πx/d+θ0)・・・・・(4)式
他方、もし0次回折光と1次回折光とを干渉させないと、±1次回折光の強度は、下記式のようになり、差出力を取得すると0となる。
また、半導体レーザーの直接変調に関する利点も実施例1と同様なので、変復調関係の説明は割愛するが、本実施例を含め以下の実施例では、試料Sと受光素子間に光学系が挿入されているので、特に光軸L1側と光軸L2側とでバランスが外乱光により崩れやすい。この場合においても、変復調により外乱光の影響がなくなるので、このアンバランスが解消され、受光される光が非常に微弱でも検出回路系のゲインを高くすることで、高精度に検出でき、さらに高精度な検出が可能になる。
以下の数式において、強度変化に係る時間変化の項は、具体的に記載していないが、振幅Eには、強度変調項であるγ(Ia・cos(2πfmt)+Io)cos(2πfct)が掛っているとみなし、強度Iには、{γ(Ia・cos(2πfmt)+Io)cos(2πfct)}2のように積の形で掛っているとみなせば、復調された直交検波の結果、どのようになるか簡単に推察できる。
まず、図6で示した光学系と同様の光学系を、図6では示していないが0次回折光の光軸L0と対称となるように、−1次回折光に対しても配置する。これら対応する各受光素子の出力差を取得すると以下のように考えられる。説明を簡単にするために、試料Sが高さhでピッチdの正弦波状の形状をしているものとすれば、光学的な位相θが以下の式で表される。
ただし、(4)式の位相のフーリエ変換であるベッセル関数は±1次まで取るものとする。
図6に示すように光軸L3をレンズ36のほぼsin-1(NA)に相当する角度ξだけ傾ける。この際、光軸L3に対する垂直方向をy軸とし、(1)式の空間周波数1/dに相当する1次回折光の中心位置をY1とする。
このとき、上記(2)式を参考にして、光軸L3を角度ξだけ傾けた場合、(2)式の0次回折光は中心がaだけずれ、1次回折光の中心軸がy1になるので、下記の(12)式で複素振幅分布E1が与えられる。
y1=2aは、0次回折光から見れば、3aに相当した空間周波数までの情報を取得したことになる。したがって、同じNAのレンズを用いた時に比較して1.5倍の空間周波数まで取得できたことになる。その分、光学的な分解能が実質的に向上したことになる。
y1=-2aは、0次回折光から見れば、-3aに相当した空間周波数までの情報を取得したことになる。したがって、同じNAのレンズを用いた時に比較して1.5倍の空間周波数まで取得できたことになる。その分、光学的な分解能が実質的に向上したことになるのは、1次回折光と同様である。
さて、この様にして得た情報に対して、受光素子40と受光素子41の和の出力とそれと等価な−1次回折光の受光素子間で差出力ΔIを下記の式により得るようにする。
図7は、本実施例の電磁波計測システムの構成を示す概略図である。この図7に示すように、本実施例においては、0次回折光の光軸L0に対して、レンズ36を傾斜して設置することで、0次回折光の一部だけでなく、同じレンズを用いた場合に比較してより高い空間周波数を有した1次回折光の一部を取り入れ、結像光学系にて干渉を実現している。なお、図示しないものの、本実施例においては、軸L0に対して対象な位置に同様な光学系が配置されている。なお、変復調に関する説明は実施例1と同様なので、詳細は実施例2、3と同様に割愛する。
図8は、本実施例の電磁波計測システムの構成を示す概略図である。なお、実施例2、3、4と同様に、変復調に関する説明は、実施例1と同様なので、詳細は割愛する。
この図8に示すように、本実施例においては、試料Sに収束した光を入射せず、比較的大きな径を有する平行光束を入射することとする。この場合において、0次回折光の光軸L0に対して、レンズ36を傾斜して設置することとした。このことで、0次回折光の一部だけでなく、同じレンズを用いた場合に比較してより高い空間周波数を有した1次回折光の一部を取り入れることができる。なお、図示しないものの、本実施例においては、軸L0に対して対象な位置に同様な光学系が配置されている。
図9は、本実施例の電磁波計測システムの構成を示す概略図である。なお、実施例2、3、4、5と同様に、変復調に関する説明は、実施例1と同様なので、詳細は割愛する。本実施例は図7と同様な光学系に採用されるものであるが、本実施例においては、この図9に示すように拡大光学系53をなくす替りに、回折格子であるグレーティング54をレンズ52の焦点付近に配置した構造としている。なお、図示しないものの、本実施例においては、軸L0に対して対象な位置に同様な光学系が配置されている。
図10は、本実施例の電磁波計測システムの構成を示す概略図である。なお、実施例2、3、4、5、6と同様に、変復調に関する説明は、実施例1と同様なので、詳細は割愛する。
本実施例は図9と同様なグレーティング54を別の光学系に採用したものであるが、本実施例においては、この図10に示すように、レンズ15、16、17を有する他、反射鏡18、19を有する実施例1に近似した構造とされている。ただし、ビームスプリッター12A、12B、13、14等が無い替りに、レンズ55が反射鏡18の下方に配置され、このレンズ55と受光素子57との間であって、レンズ55の焦点位置にグレーティング54が配置された構造となっている。
他方、変調の周波数に関しては、試料の表面状態の計測や観察等をリアルタイムにハイビジョンクラスで画像化する場合には、60MHz程度の周波数で変調を行うことが考えられ、このようにすれば楽に画像化を実現できる。また、このように画像として表現する場合の他、データとして取得する場合等により、変調周波数は適宜選択することができる。
2 収束レンズ
3 収束絞り
5 検出器
5A、5B 分割検出素子
6 半導体レーザー
7 コリメーターレンズ
8 対物レンズ
9 受光素子
9A、9B 分割受光素子
10 レーザー光源
11 対物レンズ
12A,12B,13,14 ビームスプリッター
15,16,17 レンズ
18,19 反射鏡
24,25 受光素子群
26 受光素子
29 ビームスプリッター
30 信号作成器
31 データ処理部
33 比較器
34 データ処理部
36 レンズ
39 ロンボイドプリズム
40,41,42 受光素子
50 受光素子
52 レンズ
53 拡大光学系
54 グレーティング
55,56 レンズ
57,58 受光素子
64,65 レンズ
S 試料
L0 光軸
L1,L2,L3 傾斜光軸
Claims (13)
- コヒーレントな電磁波を変調してから測定対象物に対して照射する照射手段と、
該照射手段から照射される電磁波の照射軸を挟んで対称な位置に配置され、おのおの測定対象物で0次回折波と±1次回折波に回折された電磁波を検出する少なくとも2つの検出素子を有する電磁波検出手段と、
これら2つの検出素子でおのおの検出された電磁波を前記変調に対応した復調を行い、これら測定対象物で回折された電磁波の出力間の差信号を作成する信号作成手段と、
この差信号の位相差あるいは出力差を求めて測定対象物のプロファイル情報を得る計測手段と、
を含む電磁波計測システム。 - 変調した光を測定対象物に収束照射する光源と、
収束照射の照射光軸上に位置し、前記測定対象物から出射された光束を平行な光束に変換する第1のレンズと、
第1のレンズからの透過光の内の照射光軸を挟んだ各側部分の光をそれぞれ受光する少なくとも2つの受光素子を有する第1の受光素子と、
前記照射光軸に対して第1の受光素子の受光素子が受光する各側にそれぞれ傾きを有した傾斜光軸上に位置し、かつ、前記測定対象物から出射された光束をそれぞれ平行な光束とする一対の第2のレンズと、
第1のレンズから出射された光束と前記各第2のレンズから出射された光束とをそれぞれ干渉させる光学素子と、
該光学素子により干渉された各光束を受光する一対の第2の受光素子と、
変調されている前記光源からの光を前記変調に対応した復調を行ってから、第1の受光素子の照射光軸を挟んで位置する受光素子間の出力差および、一対の第2の受光素子間の出力差をそれぞれ検出する出力差検出部と、
を含む電磁波計測システム。 - 前記第2のレンズからの出射光を前記光学素子に反射させる反射鏡が第2のレンズと光学素子との間に配置され、
該光学素子が、
第1のレンズから出射された平行な光束を分割する第1のビームスプリッターと、
前記反射鏡から反射された光束と前記第1のビームスプリッターで分割された光束とを合成させる第2のビームスプリッターと、
を含む請求項2記載の電磁波計測システム。 - 前記一対の第2の受光素子が、複数の受光素子によりそれぞれ構成され、かつ照射光軸を挟んで相互に対称な位置に配置されている請求項2または請求項3に記載の電磁波計測システム。
- 変調した光を測定対象物に平行照射する光源と、
平行照射の照射光軸に位置し、前記測定対象物から出射された光束を分割する第1のビームスプリッターと、
第1のビームスプリッターからの透過光の内の照射光軸を挟んだ各側部分の光をそれぞれ受光する少なくとも2つの受光素子を有する第1の受光素子と、
前記照射光軸に対して第1の受光素子の受光素子が受光する各側にそれぞれ傾きを有した傾斜光軸上に位置し、かつ、前記測定対象物から出射された光束と第1のビームスプリッターで分割された光束とをそれぞれ干渉させる一対の第2のビームスプリッターと、
一対の第2のビームスプリッターにより干渉された各光束をそれぞれ受光する一対の第2の受光素子と、
変調されている前記光源からの光を前記変調に対応した復調を行ってから、第1の受光素子の照射光軸を挟んで位置する受光素子間の出力差および、一対の第2の受光素子間の出力差をそれぞれ検出する出力差検出部と、
を含む電磁波計測システム。 - 前記一対の第2の受光素子が、複数の受光素子によりそれぞれ構成され、かつ照射光軸を挟んで相互に対称な位置に配置されている請求項5記載の電磁波計測システム。
- 変調した光を測定対象物に収束照射する光源と、
収束照射の照射光軸に対して傾きを有した傾斜光軸上に位置し、かつ、前記測定対象物から出射された光束を平行な光束とするレンズと、
該レンズに入射される光束の前記照射光軸に近い該レンズの部分を通過する第1の光束と該照射光軸から遠い該レンズの一方の半面を通過する第2の光束を干渉させる第1の光学素子と、
第1の光学素子により干渉された光束をそれぞれ検出する複数の第1の受光素子と、
前記傾斜光軸に対して前記第1の光学素子と反対方向に配置され、前記第1の光束と前記第2の光束を干渉させる第2の光学素子と、
第2の光学素子により干渉された光束をそれぞれ検出する複数の第2の受光素子と、
変調されている前記光源からの光を前記変調に対応した復調を行ってから、複数の第1の受光素子の任意の受光出力と複数の第2の受光素子の任意の受光出力との差の出力値を検出する出力差検出部と、
を含む電磁波計測システム。 - 変調した光を測定対象物に平行照射する光源と、
平行照射の照射光軸に対して傾きを有した傾斜光軸上に有る第1の光学素子と、
第1の光学素子により干渉された光を検出する複数の第1の受光素子と、
平行照射の照射光軸に対して第1の光学素子と逆の傾きを有した傾斜光軸上に有る第2の光学素子と、
第2の光学素子により干渉された光を検出する複数の第2の受光素子と、
変調されている前記光源からの光を前記変調に対応した復調を行ってから、複数の第1の受光素子の任意の受光出力と複数の第2の受光素子の任意の受光出力との差の出力値を検出する出力差検出部と、
を含み、
第1の光学素子および第2の光学素子が、
傾斜光軸上に位置し、かつ、前記測定対象物から出射された光束を収束させる第1のレンズと、
該第1のレンズから出射される光束の照射光軸に近い該第1のレンズの一方の半面の第1の光束を平行な光束とする第2のレンズと、
照射光軸から遠い該第1のレンズの他方の半面の第2の光束を平行な光束とする第3のレンズと、
第2のレンズと第3のレンズより出射された光束同士を干渉させる光学素子と、
をそれぞれ有する電磁波計測システム。 - 前記第1および第2の光学素子は、前記光束同士を干渉させる光学素子として、
前記第1の光束における像を反転する第1のプリズムと、
第1のプリズムからの光束と前記第2の光束との何れかをシフトして重ねる第2のプリズムと、
を含む請求項7または請求項8に記載の電磁波計測システム。 - 前記第1および第2の光学素子は、前記光束同士を干渉させる光学素子として、
前記第2の光束を反射するミラーと、
前記第1の光束と該ミラーで反射された光束を合成するビームスプリッターと、
を含む請求項7または請求項8に記載の電磁波計測システム。 - 前記第1および第2の光学素子は、前記光束同士を干渉させる光学素子として、収束レンズもしくは、収束レンズと拡大光学系である請求項7または請求項8に記載の電磁波計測システム。
- 前記第1および第2の光学素子は、前記光束同士を干渉させる光学素子として、収束レンズと該収束レンズの焦点付近に配置されたグレーティングである請求項7または請求項8に記載の電磁波計測システム。
- 変調および復調する際に用いた変調方式を単一周波数の振幅変調、位相変調、周波数変調としたことを特徴とする請求項1、2、5、7、8の何れかに記載の電磁波計測システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012156271A JP6073080B2 (ja) | 2012-07-12 | 2012-07-12 | 電磁波計測システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014020784A JP2014020784A (ja) | 2014-02-03 |
JP6073080B2 true JP6073080B2 (ja) | 2017-02-01 |
Family
ID=50195860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012156271A Active JP6073080B2 (ja) | 2012-07-12 | 2012-07-12 | 電磁波計測システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6073080B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6623029B2 (ja) * | 2015-10-27 | 2019-12-18 | アストロデザイン株式会社 | 光学的距離計測装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0624109B2 (ja) * | 1987-10-03 | 1994-03-30 | 日本電子株式会社 | 磁区観察用位相差電子顕微鏡 |
JP2698671B2 (ja) * | 1989-03-20 | 1998-01-19 | 株式会社日立製作所 | パターン位置検出装置及び露光装置 |
JP2004177334A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Fujitsu Ltd | 複数段レンズの位置調整方法、レンズ組立装置、及び、レンズ検査装置 |
JP2006170899A (ja) * | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Sendai Nikon:Kk | 光電式エンコーダ |
JP2006320380A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Spectratech Inc | 光干渉断層計 |
JP5331673B2 (ja) * | 2009-12-28 | 2013-10-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査方法及び検査装置 |
JP6076618B2 (ja) * | 2012-05-14 | 2017-02-08 | アストロデザイン株式会社 | 光学的分解能向上装置 |
-
2012
- 2012-07-12 JP JP2012156271A patent/JP6073080B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014020784A (ja) | 2014-02-03 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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|
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