JP6069874B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
3 処理室
5 ワーク保持装置
8 第1電極棒
9 第2電極棒
10 接続部材
21 高周波電源
22 ガス供給源
A アンテナ体
W ワーク
W1 被処理面
X 対象空間
Claims (1)
- 孔状または凹み状の対象空間に面する被処理面を備えた処理対象にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって、
真空状態に減圧可能な処理室にガス供給源から反応ガスが供給される真空チャンバと、
前記処理室内に設けられ、交流電源の給電側に接続される直線形状の給電側電極棒、および、前記交流電源の接地側に接続される、直線形状かつ円筒形状であり、内部に前記反応ガスの供給路が形成された接地側電極棒が、該給電側電極棒および該接地側電極棒の先端同士を通電可能に接続する接続部材により接続されて対向配置されるとともに、該交流電源からの電力供給によって両電極棒の周囲にプラズマを発生させるアンテナ体と、
前記処理対象の前記被処理面によって囲繞される前記対象空間の中央に前記アンテナ体を進入させた状態で、前記処理対象を前記処理室内に保持する処理対象保持手段と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
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