JP5889130B2 - 誘導加熱調理器およびその制御方法 - Google Patents
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Description
前記温度推定回路は、
a)前記被加熱体の温度上昇率が所定の閾値以下となるときの前記被加熱体の規定表面温度(Tsh)、および前記被加熱体が規定表面温度(Tsh)に達するまでの規定加熱時間(τ)の関係を記憶し、
b)前記メモリ内の前記規定加熱時間(τ)における前記規定表面温度(Tsh)、前記規定加熱時間(τ)が経過したときの前記トッププレートの温度(Tg)およびその時間変化率(ΔTg/Δt)に基づいて、前記被加熱体の表面温度(Tp)を推定し、
前記制御回路は、前記温度推定回路で推定された推定温度(Tp)を用いて前記駆動回路を制御することを特徴とするものである。
図1〜図6を参照しながら、本願発明に係る誘導加熱調理器の実施の形態1について以下詳細に説明する。図1は、本願発明に係る誘導加熱調理器1の全体を概略的に図示する斜視図である。図1に示す誘導加熱調理器1は、概略、筐体2、その上側表面のほぼ全体を覆う耐熱性ガラスなどで形成されたトッププレート3、左右対称的に配置された誘導加熱式の一対のIH加熱部4a,4b、輻射加熱式のラジエント加熱部5、および魚などの調理に適したグリル部6を有する。なお各IH加熱部4a,4bは、トッププレート3と平行に螺旋状に捲回されてなる加熱コイル20(図2)を有する。
制御回路50は、ユーザが操作パネル7および火力調整ダイヤル8などを用いて設定した所望の火力に従って駆動回路60を駆動し、鍋Pの下方に設けられた加熱コイル20に高周波電流が供給されると、加熱コイル20の周囲における鍋Pの底板Bを含む交流磁場(閉磁路)が形成される。このとき鍋Pの底板Bの表面近傍に渦電流が形成され、そのジュール熱により鍋Pの底板Bが加熱される。すなわち被加熱体である鍋Pが直接的に誘導加熱される。
Tg:温度センサで測定されたトッププレートの温度
δa:鍋Pとトッププレートとの間の間隔
ρg:トッププレートの密度
cg:トッププレートの比熱
δg:トッププレートの厚み
λa:空気の熱伝導率
すなわち、上記係数Cはトッププレート3により一意的に決まる定数であるので、鍋Pの底板Bの温度Tpは、鍋Pの底板Bの下面とトッププレート3との間に形成される空気層Aの間隔(δa)、および温度センサ30が測定するトッププレート3の温度Tgとその時間変化率(ΔTg/Δt)を用いて表すことができる。
なお、この評価実験1においては、食材F等の対流による伝熱効果を排除するために、鍋Pの内部には食材Fを収容せず、いわゆる「空焚き状態」で鍋Pを加熱コイル20により誘導加熱した。
図4は、加熱コイル20に供給される電力を1000Wとしたとき、
i)温度センサ30で測定したトッププレート3の実測温度(Tg)、
ii)別の温度センサ(図示せず)で測定した鍋Pの底板Bの実測温度(Tb)、および
iii)上記[数3]で求められた鍋Pの推定温度(Tp)、
の時間的推移をプロットして得たグラフである。このとき空気層Aの間隔(δa)が1.5mmに規定されるように、鍋Pとトッププレート3との間にスペーサ(厚み1.5mm、図示せず)を配置し、加熱コイル20に250秒間高周波電流を供給して鍋Pを加熱した後、加熱コイル20への給電を停止した。
一方、上記[数3]で求められた鍋Pの推定温度(Tp)は、加熱開始直後から全般的に鍋Pの実測温度(Tb)に追従性よく近似(推定)している。したがって、上記[数3]で規定される本願発明に係る被加熱体温度の推定方法によれば、トッププレート3の実測温度(Tg)から鍋Pの表面温度(Tb)を極めて精緻に追従性よく推定できることが図4のグラフから確認された。
換言すると、トッププレート3を構成するガラスの密度、比熱、および厚みは、設計事項であり既知である(上記係数Cが一意的に決まる)ので、鍋Pとトッププレート3との間の間隔(δa)、トッププレート3の実測温度(Tg)およびその時間変化率(ΔTg/Δt)に基づいて、上記[数3]を用いて鍋Pの温度を追従性よく(リアルタイムで)正確に推定することができる。
評価実験1とは異なり、評価実験2では鍋Pに0.75リットルの水を入れ、加熱コイル20には比較的に大きな電力(3000W)を駆動回路60より供給した。このとき、
i)温度センサ30で測定したトッププレート3の実測温度(Tg)、
ii)別の温度センサ(図示せず)で測定した鍋Pの底板Bの実測温度(Tb)、および
iii)さらに別の温度センサ(図示せず)で測定した鍋P内の水の実測温度(Tf)、
の時間的推移をプロットして図5のグラフを得た。
a)加熱開始直後のトッププレート3の実測温度(Tg)が規定表面温度(Tsh)より大きいとき(Tg−Tsh>0)、および加熱開始直後のトッププレート3の実測温度(Tg)と規定表面温度(Tsh)との差が所定の温度差(TX)より小さいとき(Tsh−Tg>TX>0:TXは所定温度で、たとえば10℃である。)には、間隔(δa)等を算出した後に鍋Pの温度(Tb)を算出するという本願発明に係る温度推定処理を中止し、
b)加熱開始直後のトッププレート3の実測温度(Tg)が規定表面温度(Tsh)より大きく、その温度差が所定温度以上であるとき(Tsh−Tg>TX>0)に限って、本願発明に係る温度推定処理を行うことが好ましい。これにより、間隔(δa)等を算出した後に鍋Pの温度(Tb)を推定する際の精度(温度推定精度)を向上させることができる。
なお、被加熱体が油の場合、規定表面温度(Tsh)は140℃から200℃程度が好ましい。
図5に加え、図6および図7を参照しながら、本願発明に係る誘導加熱調理器の実施の形態2について以下詳細に説明する。実施の形態1において、規定表面温度(Tsh)および規定加熱時間(τ)は、加熱コイル20に供給される電力(W)に依存するので、それぞれの誘導加熱調理器について事前に設定できることを説明したが、実施の形態2においては、供給電力(W)に応じて規定表面温度(Tsh)を決定する手法について以下説明する。
20:加熱コイル、30:温度センサ、40:温度推定回路、50:制御回路、60:駆動回路、70:設定機器、80:警告機器、
P:被加熱体(鍋、フライパン)、B:被加熱体の底板、A:空気層。
Claims (12)
- 被加熱体が載置されるトッププレートと、
前記トッププレートの下方に配置された、前記被加熱体を誘導加熱する加熱コイルと、
前記加熱コイルに高周波電流を供給する駆動回路と、
前記トッププレートの下方に配置された、該トッププレートの温度(Tg)を検出する温度センサと、
a)前記被加熱体の温度上昇率が所定の閾値以下となるときの前記被加熱体の規定表面温度(Tsh)、および前記被加熱体が規定表面温度(Tsh)に達するまでの規定加熱時間(τ)の関係を記憶するメモリを有し、
b)前記メモリ内の前記規定加熱時間(τ)における前記規定表面温度(Tsh)、前記規定加熱時間(τ)が経過したときの前記トッププレートの温度(Tg)およびその時間変化率(ΔTg/Δt)に基づいて、前記被加熱体の表面温度(Tp)を推定する温度推定回路と、
前記温度推定回路で推定された推定温度(Tp)を用いて前記駆動回路を制御する制御回路とを備え、
前記温度推定回路は、次式により被加熱体の表面温度(T p )を推定することを特徴とする誘導加熱調理器。
T g :温度センサで検出されたトッププレートの温度
t :加熱開始からの時間
τ :規定加熱時間
T sh :規定加熱時間における被加熱体の規定表面温度
T g,t=τ :規定加熱時間が経過したときのトッププレートの温度
(ΔT g /Δt) t=τ :
規定加熱時間が経過したときのトッププレートの温度の時間変化率
(ΔT g /Δt):
規定加熱時間の経過後の所定の時間が経過したときのトッププレートの温度の時間変化率 - 前記温度推定回路は、
前記被加熱体と前記トッププレートとの間の間隔(δa)を、前記規定加熱時間(τ)が経過したときの前記トッププレートの温度(Tg)およびその時間変化率(ΔTg/Δt)、ならびに前記規定表面温度(Tsh)に基づいて算出し、
前記間隔(δa)に基づいて、前記被加熱体の表面温度(Tp)を推定する請求項1に記載の誘導加熱調理器。 - 規定加熱時間(τ)は、30秒〜90秒の間で設定されることを特徴とする請求項1または3に記載の誘導加熱調理器。
- 規定加熱時間(τ)経過後の複数の時点において、トッププレートの温度(Tg)が検出され、その時間変化率(ΔTg/Δt)が算出され、
温度推定回路は、これらの温度(Tg)および時間変化率(ΔTg/Δt)の平均値を用いて、被加熱体の表面温度(Tp)を推定することを特徴とする請求項1または3に記載の誘導加熱調理器。 - 加熱開始後のトッププレートの温度(Tg)と、規定表面温度(Tsh)とを比較して、
i)加熱開始後の前記トッププレートの実測温度(Tg)が規定表面温度(Tsh)より大きいとき(Tg−Tsh>0)、および加熱開始後の前記トッププレートの実測温度(Tg)と規定表面温度(Tsh)との差が所定の温度差(TX)より小さいとき(Tsh−Tg>TX>0)には、間隔(δa)を推定せず、
ii)加熱開始後の前記トッププレートの温度(Tg)が規定表面温度(Tsh)より大きく、その温度差が所定温度以上であるとき(Tsh−Tg>TX>0)には、前記間隔(δa)を推定することを特徴とする請求項3に記載の誘導加熱調理器。 - 温度推定回路は、加熱電力(W)に応じて規定表面温度(Tsh)を補正することを特徴とする請求項1または3に記載の誘導加熱調理器。
- 温度推定回路は、被加熱体の推定温度(Tp)、およびこれと該被加熱体内に収容された食材との間の温度差に相当する過熱度(ΔTbf)に応じて、食材の温度を100℃以下に維持するように、加熱コイルに供給する加熱電力(W)を調整することを特徴とする請求項7に記載の誘導加熱調理器。
- 制御回路は、被加熱体の推定温度(Tp)が、食材の沸点に該被加熱体内に収容された該食材との温度差に相当する過熱度(ΔTbf)を加えた温度を超え、その状態が所定期間以上継続したとき、突沸現象が発生すると判断して、加熱コイルへ供給される高周波電流を抑制または停止するように駆動回路を制御することを特徴とする請求項7に記載の誘導加熱調理器。
- 被加熱体が載置されるトッププレートと、
前記トッププレートの下方に配置された、前記被加熱体を誘導加熱する加熱コイルと、
前記加熱コイルに高周波電流を供給する駆動回路と、
前記トッププレートの下方に配置された、該トッププレートの温度(Tg)を検出する温度センサとを備えた誘導加熱調理器の制御方法であって、この制御方法は、
a)前記被加熱体の温度上昇率が所定の閾値以下となるときの前記被加熱体の規定表面温度(Tsh)、および前記被加熱体が規定表面温度(Tsh)に達するまでの規定加熱時間(τ)の関係を記憶するステップと、
b)記憶された前記規定加熱時間(τ)における前記規定表面温度(Tsh)、前記規定加熱時間(τ)が経過したときの前記トッププレートの温度(Tg)およびその時間変化率(ΔTg/Δt)に基づいて、前記被加熱体の表面温度(Tp)を推定するステップと、
推定された推定温度(Tp)を用いて前記駆動回路を制御するステップとを有し、
前記被加熱体の表面温度(T p )を推定する前記ステップは、次式により被加熱体の表面温度(T p )を推定することを特徴とする制御方法。
T g :温度センサで検出されたトッププレートの温度
t :加熱開始からの時間
τ :規定加熱時間
T sh :規定加熱時間における被加熱体の規定表面温度
T g,t=τ :規定加熱時間が経過したときのトッププレートの温度
(ΔT g /Δt) t=τ :
規定加熱時間が経過したときのトッププレートの温度の時間変化率
(ΔT g /Δt):
規定加熱時間の経過後の所定の時間が経過したときのトッププレートの温度の時間変化率 - 前記被加熱体の表面温度(Tp)を推定するステップは、
前記被加熱体と前記トッププレートとの間の間隔(δa)を、前記規定加熱時間(τ)が経過したときの前記トッププレートの温度(Tg)およびその時間変化率(ΔTg/Δt)、ならびに前記規定表面温度(Tsh)に基づいて算出し、
前記間隔(δa)に基づいて、前記被加熱体の表面温度(Tp)を推定する請求項10に記載の制御方法。
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