JP5804113B2 - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents
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Description
本実施形態に係る電気光学装置について、図1から図13を参照して説明する。尚、以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例として駆動回路内蔵型のTFT(Thin Film Transistor)アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を挙げて説明する。
先ず、第1実施形態に係る電気光学装置の全体構成について、図1及び図2を参照して説明する。ここに図1は、本実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図であり、図2は、図1のH−H´線断面図である。
このように構成すれば、マイクロレンズ210を透過した光源光が半導体素子30aに入射しないように、その光路を制御することができる。つまり、半導体素子30aに光源光が入射することによって、光リーク電流が発生してしまうことを防止することが出来る。尚、マイクロレンズの焦点距離fは、例えばマイクロレンズの材料、厚み及び表面の曲率等を変更することによって、適宜調整することができる。
次に、第2実施形態に係る電気光学装置について、図11及び図12を参照して説明する。ここに図11は、第2実施形態に係る電気光学装置の具体的な構成を示す断面図であり、図12は、第2実施形態に係る電気光学装置の変形例を示す断面図である。尚、第2実施形態は、上述の第1実施形態と比べて、マイクロレンズ部の一部の構成が異なり、その他の構成については概ね同様である。このため第2実施形態では、第1実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。
次に、第3実施形態に係る電気光学装置について、図13を参照して説明する。ここに図13は、第3実施形態に係る電気光学装置の具体的な構成を示す断面図である。尚、第3実施形態は、上述の第1実施形態と比べて、マイクロレンズ部の一部の構成が異なり、その他の構成については概ね同様である。このため第3実施形態では、第1実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図14は、プロジェクターの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクターについて説明する。
Claims (9)
- 基板と、
前記基板において、前記基板の第1面側に形成されたスイッチング素子と、
前記基板において、前記基板の前記第1面側に形成された遮光性の配線と、
前記基板に形成された複数の層からなるマイクロレンズ部と、を有し、
前記遮光性の配線は前記スイッチング素子からみて光源光の入射する側に前記スイッチング素子を覆うように設けられ、
前記マイクロレンズ部は、
屈折率が第1屈折率であり前記基板からなる第1層と、
前記第1層と前記遮光性の配線との間に形成され、前記第1屈折率とは異なる第2屈折率である第2層と、
前記第2層と前記遮光性の配線との間に形成され、前記第2屈折率とは異なる第3屈折率である第3層と、を含み、
前記マイクロレンズ部は、前記第1面側とは反対側である第2面側から入射した光の少なくとも一部が、前記第1層と前記第2層との間で集光され、かつ、前記第2層と前記第3層との間で拡散されるように形成されていることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1に記載の電気光学装置において、
前記マイクロレンズ部の前記第1層は、前記第1面側から前記第2面側に向けて凹むように形成され、
前記第2屈折率は、前記第1屈折率よりも大きいことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1または2に記載の電気光学装置において、
前記マイクロレンズ部の前記第2層は、前記第2面側から前記第1面側に向けて突出するように形成され、
前記第3屈折率は、前記第2屈折率よりも大きいことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1または2に記載の電気光学装置において、
前記マイクロレンズ部の前記第2層は、前記第1面側から前記第2面側に向けて凹むように形成され、
前記第3屈折率は、前記第2屈折率よりも小さいことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至4のいずれか一項に記載の電気光学装置において、
前記マイクロレンズ部は、前記第1層と前記第2層との間で第1レンズを形成し、前記第2層と前記第3層との間で第2レンズを形成していることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項5に記載の電気光学装置において、
前記マイクロレンズ部は、前記第1レンズの曲率と前記第2レンズの曲率とが同じ曲率となるように形成されていることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至6のいずれか一項に記載の電気光学装置において、
前記マイクロレンズ部は、前記第1屈折率と前記第3屈折率とが同じ屈折率になるように形成されていることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の電気光学装置において、
前記基板の前記第1面側に形成された画素電極と、
前記基板に対向配置された対向基板と、
前記基板と前記対向基板との間に形成された液晶と、を有し、
前記基板の前記第2面側に垂直な方向から、前記第2面側の前記遮光性の配線と重なる部分に入射した光の少なくとも一部は、前記第1層と前記第2層との間で集光され、かつ、前記第2層と前記第3層との間で拡散されて、前記対向基板から出射することを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の電気光学装置と、
前記第2面側に光を照射する光源と、を有することを特徴とする電子機器。
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