JP5298480B2 - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents
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また、上記の本発明に係る電気光学装置は、基板と、画素電極と、前記画素電極と前記基板との間に設けられた第1絶縁膜と、前記第1絶縁膜と前記基板との間に形成された着色層と、前記着色層と前記基板との間、及び前記第1絶縁膜と前記基板との間に配置された第1層間絶縁膜と、前記第1層間絶縁膜と前記基板との間に配置された第2層間絶縁膜と、前記第1層間絶縁膜と前記第2層間絶縁膜との間に配置される導電膜と、前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て前記第1絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールが形成される領域に、前記導電膜と前記基板との間に形成された調整膜と、を備え、前記画素電極と前記導電膜とは前記コンタクトホールを介して電気的に接続され、前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て、前記調整膜は前記着色層と重なる領域には設けられず、前記着色層は、前記第1絶縁膜の側に第1面を有し、前記基板の側に第2面を有し、前記基板と前記コンタクトホールの底との間の距離は、前記基板と前記第1面との間の距離より小さく、前記基板と前記第2面との間の距離より大きいことを特徴とする。
また、上記の本発明に係る第1の電気光学装置は上記課題を解決するために、基板上に、第1絶縁膜と、該第1絶縁膜上に設けられた画素電極と、前記第1絶縁膜より下層側に形成された着色層と、前記着色層より下層側に形成され、前記第1絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールを介して前記画素電極と電気的に接続された導電膜と、前記着色層と重なる領域には設けられず、前記コンタクトホールが形成される領域に、前記導電膜より下層側に形成された調整膜とを備える。
また、上記の本発明に係る電気光学装置は、基板と、画素電極と、前記画素電極と前記基板との間に設けられた第1絶縁膜と、前記第1絶縁膜と前記基板との間に形成された着色層と、前記着色層と前記基板との間、及び前記第1絶縁膜と前記基板との間に配置された第1層間絶縁膜と、前記第1層間絶縁膜と前記基板との間に配置された第2層間絶縁膜と、前記第1層間絶縁膜と前記第2層間絶縁膜との間に配置される導電膜と、前記導電膜と前記基板との間に形成される第2絶縁膜と、を備え、前記第2絶縁膜は、前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て前記第1絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールが形成される領域に、前記画素電極の側に向かって突出する第1突出部を有し、前記画素電極と前記導電膜とは前記コンタクトホールを介して電気的に接続され、前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て、前記第1突出部は前記着色層と重なる領域には設けられず、前記着色層は、前記第1絶縁膜の側に第1面を有し、前記基板の側に第2面を有し、前記基板と前記コンタクトホールの底との間の距離は、前記基板と前記第1面との間の距離より小さく、前記基板と前記第2面との間の距離より大きいことを特徴とする。
また、上記の本発明に係る第2の電気光学装置は上記課題を解決するために、基板上に、第1絶縁膜と、該第1絶縁膜上に設けられた画素電極と、前記第1絶縁膜より下層側に形成された着色層と、前記着色層より下層側に形成され、前記第1絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールを介して前記画素電極と電気的に接続された導電膜と、前記コンタクトホールが形成される領域において、前記導電膜より下層側に、上層側に向かって突出する第1突出部を有する第2絶縁膜と、を備え、前記第1突出部は前記着色層と重なる領域には設けられない。
また、上記の本発明に係る電気光学装置は、基板と、画素電極と、前記画素電極と前記基板との間に設けられた第1絶縁膜と、前記第1絶縁膜と前記基板との間に形成された着色層と、前記着色層と前記基板との間、及び前記第1絶縁膜と前記基板との間に配置された第1層間絶縁膜と、前記第1層間絶縁膜と前記基板との間に配置された第2層間絶縁膜と、前記第1層間絶縁膜と前記第2層間絶縁膜との間に配置される導電膜と、を備え、前記基板は、前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て前記第1絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールが形成される領域に、前記画素電極の側に向かって突出する第2突出部を有し、前記画素電極と前記導電膜とは前記コンタクトホールを介して電気的に接続され、前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て、前記第2突出部は前記着色層と重なる領域には設けられず、前記着色層は、前記第1絶縁膜の側に第1面を有し、前記基板の側に第2面を有し、前記基板と前記コンタクトホールの底との間の距離は、前記基板と前記第1面との間の距離より小さく、前記基板と前記第2面との間の距離より大きいことを特徴とする。
また、上記の本発明に係る第3の電気光学装置は上記課題を解決するために、基板上に、第1絶縁膜と、該第1絶縁膜上に設けられた画素電極と、前記第1絶縁膜より下層側に形成された着色層と、前記着色層より下層側に形成され、前記第1絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールを介して前記画素電極と電気的に接続された導電膜とを備え、前記基板は、前記コンタクトホールが形成される領域に、上層側に向かって突出する第2突出部を有し、前記第2突出部は前記着色層と重なる領域には設けられない。
前記基板の上に調整膜を形成する工程では、前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て、前記調整膜を前記コンタクトホールが形成される領域に配置すると共に前記着色層と重なる領域には配置せず、前記着色層は、前記第1絶縁膜の側に第1面を有し、前記基板の側に第2面を有し、前記基板と前記コンタクトホールの底との間の距離は、前記基板と前記第1面との間の距離より小さく、前記基板と前記第2面との間の距離より大きいことを特徴とする。
また、上記の本発明に係る第1の電気光学装置の製造方法は上記課題を解決するために、基板上に、調整膜を形成する工程と、前記調整膜より上層側に導電膜を形成する工程と、前記導電膜より上層側に着色層を形成する工程と、前記着色層より上層側に、前記導電膜及び前記着色層を覆うように、第1絶縁膜を形成する工程と、前記第1絶縁膜を貫通してコンタクトホールを開孔する工程と、前記コンタクトホールを介して前記導電膜に電気的に接続された画素電極を前記第1絶縁膜上に形成する工程とを備え、前記調整膜を形成する工程では、前記調整膜を、前記コンタクトホールが形成される領域に配置すると共に前記着色層と重なる領域には配置しない。
また、上記の本発明に係る第2の電気光学装置の製造方法は上記課題を解決するために、基板上に、上層側に向かって突出する第1突出部を有する第2絶縁膜を形成する工程と、前記第2絶縁膜より上層側に導電膜を形成する工程と、前記導電膜より上層側に着色層を形成する工程と、前記着色層より上層側に、前記導電膜及び前記着色層を覆うように、第1絶縁膜を形成する工程と、前記第1絶縁膜を貫通してコンタクトホールを開孔する工程と、前記コンタクトホールを介して前記導電膜に電気的に接続された画素電極を前記第1絶縁膜上に形成する工程とを備え、前記第2絶縁膜を形成する工程では、前記第1突出部を、前記コンタクトホールが形成される領域に配置すると共に前記着色層と重なる領域には配置しない。
また、上記の本発明に係る第3の電気光学装置の製造方法は上記課題を解決するために、基板に、上層側に向かって突出する第2突出部を形成する工程と、前記基板上に、導電膜を形成する工程と、前記導電膜より上層側に着色層を形成する工程と、前記着色層より上層側に、前記導電膜及び前記着色層を覆うように、第1絶縁膜を形成する工程と、前記第1絶縁膜を貫通してコンタクトホールを開孔する工程と、前記コンタクトホールを介して前記導電膜に電気的に接続された画素電極を前記第1絶縁膜上に形成する工程とを備え、前記第2突出部を形成する工程では、前記第2突出部を、前記コンタクトホールが形成される領域に配置すると共に前記着色層と重なる領域には配置しない。
<変形例>
次に、上述した本実施形態の変形例について説明する。
<電子機器>
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図11は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。
Claims (6)
- 基板と、
画素電極と、
前記画素電極と前記基板との間に設けられた第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜と前記基板との間に形成された着色層と、
前記着色層と前記基板との間、及び前記第1絶縁膜と前記基板との間に配置された第1層間絶縁膜と、
前記第1層間絶縁膜と前記基板との間に配置された第2層間絶縁膜と、
前記第1層間絶縁膜と前記第2層間絶縁膜との間に配置される第1導電膜と、
前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て前記第1絶縁膜を貫通して開孔された第1コンタクトホールが形成される領域に、前記導電膜と前記基板との間に形成された調整膜と、
前記画素電極に前記第1導電膜及び前記第1コンタクトホールを介して電気的に接続されたトランジスタと、
を備え、
前記画素電極と前記導電膜とは前記第1コンタクトホールを介して電気的に接続され、
前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て、前記調整膜は前記着色層と重なる領域には設けられず、
前記着色層は、前記第1絶縁膜の側に第1面を有し、前記基板の側に第2面を有し、
前記基板と前記第1コンタクトホールの底との間の距離は、前記基板と前記第1面との間の距離より小さく、前記基板と前記第2面との間の距離より大きく、
前記第1導電膜は前記第1層間絶縁膜を貫通して開孔された第2コンタクトホールを介して第2導電膜に電気的に接続され、
前記第2導電膜は前記トランジスタに電気的に接続され、
前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て、前記第1層間絶縁膜を貫通して開孔された第2コンタクトホールが形成される領域に、前記調整膜は配置されることを特徴とする電気光学装置。 - 前記第1導電膜と前記基板との間に形成される第2絶縁膜をさらに備え、
前記第2絶縁膜は、前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て前記第1絶縁膜を貫通して開孔された第1コンタクトホールが形成される領域に、前記画素電極の側に向かって突出する第1突出部を有することを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。 - 前記基板は、前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て前記第1絶縁膜を貫通して開孔された第1コンタクトホールが形成される領域に、前記画素電極の側に向かって突出する第2突出部を有することを特徴とする請求項1または2に記載の電気光学装置。
- 基板と、
画素電極と、
前記画素電極と前記基板との間に設けられた第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜と前記基板との間に形成された着色層と、
前記着色層と前記基板との間、及び前記第1絶縁膜と前記基板との間に配置された第1層間絶縁膜と、
前記第1層間絶縁膜と前記基板との間に配置された第2層間絶縁膜と、
前記第1層間絶縁膜と前記第2層間絶縁膜との間に配置される第1導電膜と、
前記第1導電膜と前記基板との間に形成される第2絶縁膜と、
前記画素電極に前記第1導電膜及び前記第1コンタクトホールを介して電気的に接続されたトランジスタと、
を備え、
前記第2絶縁膜は、前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て前記第1絶縁膜を貫通して開孔された第1コンタクトホールが形成される領域に、前記画素電極の側に向かって突出する第1突出部を有し、
前記画素電極と前記第1導電膜とは前記第1コンタクトホールを介して電気的に接続され、
前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て、前記第1突出部は前記着色層と重なる領域には設けられず、
前記着色層は、前記第1絶縁膜の側に第1面を有し、前記基板の側に第2面を有し、
前記基板と前記コンタクトホールの底との間の距離は、前記基板と前記第1面との間の距離より小さく、前記基板と前記第2面との間の距離より大きく、
前記第1導電膜は前記第1層間絶縁膜を貫通して開孔された第2コンタクトホールを介して第2導電膜に電気的に接続され、
前記第2導電膜は前記トランジスタに電気的に接続され、
前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て、前記第1層間絶縁膜を貫通して開孔された第2コンタクトホールが形成される領域に、前記第1突出部は配置されることを特徴とする電気光学装置。 - 基板と、
画素電極と、
前記画素電極と前記基板との間に設けられた第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜と前記基板との間に形成された着色層と、
前記着色層と前記基板との間、及び前記第1絶縁膜と前記基板との間に配置された第1層間絶縁膜と、
前記第1層間絶縁膜と前記基板との間に配置された第2層間絶縁膜と、
前記第1層間絶縁膜と前記第2層間絶縁膜との間に配置される第1導電膜と、
前記画素電極に電気的に接続されたトランジスタと、
を備え、
前記基板は、前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て前記第1絶縁膜を貫通して開孔された第1コンタクトホールが形成される領域に、前記画素電極の側に向かって突出する第2突出部を有し、
前記画素電極と前記第1導電膜とは前記第1コンタクトホールを介して電気的に接続され、
前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て、前記第2突出部は前記着色層と重なる領域には設けられず、
前記着色層は、前記第1絶縁膜の側に第1面を有し、前記基板の側に第2面を有し、
前記基板と前記第1コンタクトホールの底との間の距離は、前記基板と前記第1面との間の距離より小さく、前記基板と前記第2面との間の距離より大きく、
前記第1導電膜は前記第1層間絶縁膜を貫通して開孔された第2コンタクトホールを介して第2導電膜に電気的に接続され、
前記第2導電膜は前記トランジスタに電気的に接続され、
前記画素電極から前記基板に向かう方向から見て、前記第1層間絶縁膜を貫通して開孔された第2コンタクトホールが形成される領域に、前記第2突出部は配置されることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1から5のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
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