JP2010002450A - マイクロレンズ基板、並びに電気光学装置及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】マイクロレンズ基板の設計及び製造を容易にすると共に、電気光学装置等において高品質な画像を表示させる。
【解決手段】マイクロレンズ基板は、基板上に、複数の画素毎に設けられており、入射する光を集光する複数の集光レンズが配列される集光レンズ面(310)と、複数の画素毎に設けられており、入射する光を拡散する複数の拡散レンズが配列される拡散レンズ面(320)とを備えている。マイクロレンズ基板における集光レンズ及び拡散レンズは、入射する光が明視方向に屈折するように、互いにレンズの中心がずれるように形成されている。
【選択図】図4
【解決手段】マイクロレンズ基板は、基板上に、複数の画素毎に設けられており、入射する光を集光する複数の集光レンズが配列される集光レンズ面(310)と、複数の画素毎に設けられており、入射する光を拡散する複数の拡散レンズが配列される拡散レンズ面(320)とを備えている。マイクロレンズ基板における集光レンズ及び拡散レンズは、入射する光が明視方向に屈折するように、互いにレンズの中心がずれるように形成されている。
【選択図】図4
Description
本発明は、例えば液晶装置等に用いられるマイクロレンズ基板、並びに該マイクロレンズ基板を備える電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。
この種のマイクロレンズ基板は、例えばプロジェクタにおいてライトバルブを構成する液晶装置において、対向基板として設けられる。このようなマイクロレンズ基板は、各画素に対応して、例えば球面状のレンズ曲面を有するマイクロレンズが形成される。液晶装置において、マイクロレンズ基板は、対向基板として各マイクロレンズが画素電極と対向するように配置され、対向基板と画素電極等が作りこまれたTFT(Thin Film Transistor)アレイ基板との間に液晶が挟持される。
このような液晶装置では、該液晶装置に入射される投射光等の光を、マイクロレンズによって屈折させて集光し、各画素に入射させることで、光の利用効率を向上させて明るい表示が実現される。
他方で、液晶装置は、典型的にはコントラストの異方性を示し、光が入射する方向によりコントラストが変化する。このため、液晶装置に入射される光は、コントラストが高くなる方向(即ち、明視方向)に入射されることが好ましい。このため、例えば特許文献1では、マイクロレンズの光学中心軸を垂直な方向から傾けて形成するという技術が開示されている。
しかしながら、特許文献1に係るマイクロレンズは、レンズ面が通常の半球面の形状とは異なり、比較的複雑な形状となってしまう。また、光学中心軸を傾ける角度の設定も複雑であり、極めて高い精度が求められる。即ち、上述した技術には、マイクロレンズの設計及び製造工程が複雑高度化してしまうという技術的問題点がある。
本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、設計及び製造が容易であると共に、高品質な画像を表示させることが可能なマイクロレンズ基板、並びに該マイクロレンズ基板を備える電気光学装置、及び該電気光学装置を備える電子機器を提供することを課題とする。
本発明のマイクロレンズ基板は上記課題を解決するために、複数の画素に入射する光を屈折させる複数のレンズが配列されるマイクロレンズ基板であって、基板上に、前記複数の画素毎に設けられており、前記入射する光を集光する複数の集光レンズが配列される集光レンズ面と、前記複数の画素毎に設けられており、前記入射する光を拡散する複数の拡散レンズが配列される拡散レンズ面とを備え、前記集光レンズ及び前記拡散レンズは、前記入射する光が明視方向に屈折するように、互いにレンズの中心がずれるように形成されている。
本発明のマイクロレンズ基板によれば、基板上に、入射する光を集光する複数の集光レンズが配列される集光レンズ面と、入射する光を拡散する複数の拡散レンズが配列される拡散レンズ面とが備えられている。集光レンズ及び拡散レンズは、例えばマイクロレンズ基板が用いられる電気光学装置における複数の画素毎に設けられている。言い換えれば、複数の画素の各々に対応するように、集光レンズ及び拡散レンズが配列される。よって、画素に入射しようとする光は、集光レンズによって集光され、拡散レンズによって拡散される。
尚、集光レンズ及び拡散レンズは、いずれのレンズが光の入射側に配置されていてもよい。即ち、集光レンズに入射して集光された光が、拡散レンズに入射して拡散されるようにしてもよいし、逆に、拡散レンズに入射して拡散された光が、集光レンズに入射して集光されるようにしてもよい。また、集光レンズ及び拡散レンズは、夫々凸レンズであってもよいし、凹レンズであってもよい。
本発明では特に、集光レンズ及び拡散レンズは、入射する光が明視方向に屈折するように、互いにレンズの中心がずれるように形成されている。尚、ここでの「明視方向」とは、光が入射される画素において、コントラストが向上するような光の入射方向を意味しており、例えばコントラストの異方性を示す液晶等の電気光学物質において、よりコントラストの高い画像を表示できるような光の入射方向を指す。また、「明視方向に屈折するように」とは、屈折された光が最もコントラストが向上するような方向となることを要せず、屈折しない場合と比較して、コントラストが向上できればよい趣旨である。更に、「レンズの中心」とは、厳密なレンズの中心位置を指すものではなく、集光レンズ及び拡散レンズにおける光学中心を意味している。
上述したように構成すれば、マイクロレンズ基板に入射する光は、先ず集光レンズ及び拡散レンズのうち一方のレンズに入射し、集光又は拡散される。続いて、入射光は集光レンズ及び拡散レンズのうち他方のレンズに入射する。この際、集光レンズ及び拡散レンズにおけるレンズの中心がずれていることにより、入射光は集光又は拡散されると共に、ずれに対応した方向(即ち、明視方向)に屈折される。よって、入射光によって表示される画像のコントラストを向上させることができる。
ちなみに、入射光を明視方向に屈折するだけであれば、レンズの形状を変形させることでも可能であるが、この場合、レンズの設計や製造工程が複雑化してしまう。しかるに本発明のマイクロレンズ基板によれば、例えばレンズが通常の半球面の形状であったとしても、2つのレンズのずれを利用して光を屈折させることができる。即ち、レンズの形状は単純なもので済む。更に、ずれ量(即ち、レンズの中心をどれだけずらすか)によって、屈折方向を適宜調整できるため、より好適に光を明視方向に屈折させることができる。
また、入射光を明視方向に屈折することは、使用する2つのレンズがいずれも集光レンズであっても可能であるが、2つの集光レンズによって集光する場合(即ち、集光された光を更に集光する場合)、光が集光され過ぎることにより、光漏れ等が発生するおそれがある。これに対しても本発明は、集光された光は拡散される、或いは拡散された光は集光されるので、光の集光及び拡散を互いに打ち消すことができる。従って、好適に光漏れを防止することが可能である。
以上説明したように、本発明のマイクロレンズ基板によれば、比較的容易に設計及び製造を行うことが可能であり、効果的に画質を向上させることが可能である。
本発明のマイクロレンズ基板の一態様では、前記集光レンズ面は、前記拡散レンズ面に対して、前記入射する光の入射側に形成されている。
この態様によれば、集光レンズ面が、拡散レンズ面に対して入射する光の入射側に形成されているため、入射光は先ず集光レンズにおいて集光された後、拡散レンズで拡散される。
仮に、集光レンズ面が、拡散レンズ面に対して入射する光の出射側に形成されているとすると、拡散された光が、集光レンズに収まりきらず、光の利用効率が低下してしまうおそれがある。
しかるに本態様では、マイクロレンズ基板に入射された光は、先ず集光レンズにおいて集光されるため、入射光を効率的に拡散レンズに入射させることができる。従って、確実に光を明視方向に屈折させることが可能となる。
本発明のマイクロレンズ基板の他の態様では、前記集光レンズ面は、互いに屈折率の異なる第1の層及び第2の層により形成されており、前記拡散レンズ面は、互いに屈折率の異なる前記第2の層及び第3の層により形成されている。
この態様によれば、集光レンズ面は、互いに屈折率の異なる第1の層及び第2の層により形成されている。即ち、入射光は、集光レンズ面において、第1の層から第2の層へ又は第2の層から第1の層へ入射する際に屈折され集光される。また、拡散レンズ面は、互いに屈折率の異なる第2の層及び第3の層により形成されている。
このように構成すれば、入射光は、拡散レンズ面において、第2の層から第3の層へ又は第3の層から第2の層へ入射する際に屈折され拡散される。尚、第1の層、第2の層及び第3の層は、例えばガラスや樹脂等を含む透明部材である。
本態様では、集光レンズ面及び拡散レンズ面を第1の層、第2の層及び第3の層の3つの層によって形成することができるため、比較的容易に製造が可能であり、確実に入射する光を集光及び拡散することができる。
上述した第1の層及び第2の層で集光レンズ面が形成され、第2の層及び第3の層で拡散レンズ面が形成される態様では、前記第1の層及び前記第3の層のうち、前記入射する光の出射側に形成されている一方の層は、前記第2の層より屈折率が高いように構成してもよい。
この場合、第1の層及び第3の層のうち、入射する光の出射側に位置する層(即ち、第1の層、第2の層及び第3の層のうち、最も光の出射側に位置する層)の屈折率が、第2の層より高いものとされる。
マイクロレンズ基板の出射側は、例えば電気光学装置等における比較的屈折率の高い部材(例えば、ITO(Indium Tin Oxide)を含む透明電極等)に対向配置される。このため、マイクロレンズ基板の出射側の層の屈折率を高くすることで、マイクロレンズ基板から光が出射する際の界面反射を低減することができる。よって、光の利用効率が低下してしまうことを防止できる。従って、より高品質な画像を表示させることが可能となる。
本発明のマイクロレンズ基板の他の態様では、前記集光レンズ及び前記拡散レンズは、互いに曲率が異なるように形成されている。
この態様によれば、集光レンズ及び拡散レンズは、互いに曲率が異なるように形成されているため、集光レンズによる集光の度合いと、拡散レンズによる拡散の度合いとを互いに異なるものとすることができる。これにより、マイクロレンズ基板に入射する光を、結果的に集光又は拡散させて出射させることができる。
例えば集光レンズの曲率を拡散レンズの曲率より大きくすれば、集光される度合いが拡散される度合いより大きくなるため、マイクロレンズ基板に入射した光は、集光されて出射される。よって、光を効率的に画素に入射させることができ、より高品質な画像を表示させることが可能となる。
本発明のマイクロレンズ基板の他の態様では、前記集光レンズ及び前記拡散レンズは、互いに同一の形状である。
この態様によれば、集光レンズ及び拡散レンズが、互いに同一の形状に形成されているため、製造工程を比較的容易なものとすることができる。即ち、集光レンズ及び拡散レンズを、概ね同様の製造工程によって形成することができるため、より好適にマイクロレンズ基板を製造することができる。尚、ここでの「同一の形状」とは、厳密に同一であることを要せず、上述した効果が得られる程度に近い形状であればよいものとする。言い換えれば、集光レンズ及び拡散レンズの形状を互いに近付けることによっても、上述した効果は相応に得られる。
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、上述した本発明のマイクロレンズ基板(但し、その各種態様も含む)を備える。
本発明の電気光学装置によれば、上述した本発明に係るマイクロレンズ基板を具備してなるので、光が明視方向に屈折されて入射される。よって、より高品質な画像を表示することが可能である。また、上述したように、集光レンズ及び拡散レンズの曲率を互いに異なるものとし、光を集光するようにすれば、光の利用効率が向上する。従って、更に高品質な画像を表示することも可能である。
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置(但し、その各種態様も含む)を備える。
本発明の電子機器によれば、上述した本発明に係る電気光学装置を具備してなるので、高品質な画像を表示することが可能な投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置等も実現することも可能である。
本発明の作用及び他の利得は次に説明する発明を実施するための最良の形態から明らかにされる。
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。
<電気光学装置>
先ず、本実施形態に係るマイクロレンズ基板が適用される電気光学装置について、図1から図3を参照して説明する。尚、以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。
先ず、本実施形態に係るマイクロレンズ基板が適用される電気光学装置について、図1から図3を参照して説明する。尚、以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。
本実施形態に係る電気光学装置の全体構成について、図1及び図2を参照して説明する。ここに図1は、本実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図であり、図2は、図1のH−H´線断面図である。尚、図1及び図2では、説明の便宜上、後に詳述するマイクロレンズ基板については図示を省略してある。
図1及び図2において、本実施形態に係る電気光学装置では、TFTアレイ基板10と対向基板20とが対向配置されている。TFTアレイ基板10は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板や、シリコン基板等である。対向基板20は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板である。TFTアレイ基板10と対向基板20との間には、液晶層50が封入されている。尚、本実施形態に係るマイクロレンズ基板は、この対向基板の一部として設けられる。或いは、対向基板及び液晶層50間に設けられる。液晶層50は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で所定の配向状態をとる。TFTアレイ基板10と対向基板20とは、複数の画素電極が設けられた画像表示領域10aの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材52により相互に接着されている。
シール材52は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてTFTアレイ基板10上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール材52中には、TFTアレイ基板10と対向基板20との間隔(即ち、基板間ギャップ)を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャップ材を、シール材52に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域10a又は画像表示領域10aの周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。
シール材52が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域10aの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜53が、対向基板20側に設けられている。尚、このような額縁遮光膜53の一部又は全部は、TFTアレイ基板10側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
周辺領域のうち、シール材52が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路101及び外部回路接続端子102がTFTアレイ基板10の一辺に沿って設けられている。走査線駆動回路104は、この一辺に隣接する2辺に沿い、且つ、額縁遮光膜53に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域10aの両側に設けられた二つの走査線駆動回路104間をつなぐため、TFTアレイ基板10の残る一辺に沿い、且つ、額縁遮光膜53に覆われるようにして複数の配線105が設けられている。
TFTアレイ基板10上には、対向基板20の4つのコーナー部に対向する領域には、両基板間を上下導通材で接続するための上下導通端子106が配置されている。これらにより、TFTアレイ基板10と対向基板20との間で電気的な導通をとることができる。
図2において、TFTアレイ基板10上には、駆動素子である画素スイッチング用のTFTや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の詳細な構成については図2では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ITO等の透明材料からなる画素電極9aが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されている。
画素電極9aは、対向電極21に対向するように、TFTアレイ基板10上の画像表示領域10aに形成されている。TFTアレイ基板10における液晶層50の面する側の表面、即ち画素電極9a上には、配向膜16が画素電極9aを覆うように形成されている。
対向基板20におけるTFTアレイ基板10との対向面上に、遮光膜23が形成されている。遮光膜23は、例えば対向基板20における対向面上に平面的に見て、格子状に形成されている。対向基板20において、遮光膜23によって非開口領域が規定され、遮光膜23によって区切られた領域が、例えばプロジェクタ用のランプや直視用のバックライトから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜23をストライプ状に形成し、該遮光膜23と、TFTアレイ基板10側に設けられたデータ線等の各種構成要素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。
遮光膜23上には、ITO等の透明材料からなる対向電極21が複数の画素電極9aと対向するように形成されている。また遮光膜23上には、画像表示領域10aにおいてカラー表示を行うために、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図2には図示しないカラーフィルタが形成されるようにしてもよい。対向基板20の対向面上における、対向電極21上には、配向膜22が形成されている。
尚、図1及び図2に示したTFTアレイ基板10上には、これらのデータ線駆動回路101、走査線駆動回路104等の駆動回路に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
次に、本実施形態に係る電気光学装置におけるマイクロレンズ基板の配置について、図3を参照して説明する。ここに図3は、本実施形態に係る電気光学装置の構成を入射光と共に示す側面図である。
図3において、本実施形態に係る電気光学装置においては、その動作時に、光源400からの光が対向基板20側から入射されることにより画像が表示される。ここで、本実施形態に係るマイクロレンズ基板200は、上述したように、対向基板20の一部として設けられており、対向基板20に入射した光を、液晶層50に入射する前に集光及び拡散する。具体的には、光を集光する集光レンズ及び光を拡散する拡散レンズの2つのマイクロレンズによって、入射した光を集光及び拡散する。マイクロレンズ基板のより具体的な構成及び電気光学装置における作用については以下に詳述する。
<マイクロレンズ基板>
本実施形態に係るマイクロレンズ基板について、図4から図19を参照して説明する。
本実施形態に係るマイクロレンズ基板について、図4から図19を参照して説明する。
<第1実施形態>
先ず、第1実施形態に係るマイクロレンズ基板の構成及び作用について、図4及び図5を参照して説明する。ここに図4は、第1実施形態に係るマイクロレンズ基板の構成を示す断面図であり、図5は、マイクロレンズ基板に入射した光の光路を示す断面図である。尚、図4及び図5では、説明の便宜上、マイクロレンズ基板における一の画素に対応する部分を拡大して図示しており、実際には、後述する構成が画素毎に連続している。また、各部材の縮尺等については適宜変更して図示しており、以降の図についても同様とする。
先ず、第1実施形態に係るマイクロレンズ基板の構成及び作用について、図4及び図5を参照して説明する。ここに図4は、第1実施形態に係るマイクロレンズ基板の構成を示す断面図であり、図5は、マイクロレンズ基板に入射した光の光路を示す断面図である。尚、図4及び図5では、説明の便宜上、マイクロレンズ基板における一の画素に対応する部分を拡大して図示しており、実際には、後述する構成が画素毎に連続している。また、各部材の縮尺等については適宜変更して図示しており、以降の図についても同様とする。
図4において、第1実施形態に係るマイクロレンズ基板200は、第1の層210と、第2の層220と、第3の層230とを備えて構成されている。
第1の層210は、例えばガラス基板であり、他の層と比べて比較的厚く形成されている(約1000μm)。第2の層220は、例えば樹脂層であり、第1の層210とは異なる屈折率を有している。第2の層220の厚さは、10〜100μmとされている。第1の層210及び第2の層220の間には、集光レンズ面310が形成されている。
第3の層230は、例えばガラス基板であり、第2の層220とは異なる屈折率を有している(尚、第3の層230と第1の層210とは同じ屈折率であってもよい)。第3の層230の厚さは、10〜100μmとされている。第2の層220及び第3の層230の間には、拡散レンズ面320が形成されている。
ここで特に、集光レンズ面310及び拡散レンズ320は、液晶層50(図2又は図3参照)の明視方向及び逆明視方向に対応する方向(即ち、図中の左右方向)で、レンズの中心が互いに幅wだけずれるように形成されている。
図5において、例えば第1の層210の屈折率n1が1.5、第2の層220の屈折率n2が1.7、第3の層230の屈折率n3が1.5とされているとする。この場合、マイクロレンズ基板200に入射した光は、先ず屈折率が1.5である第1の層210から屈折率が1.7である第2の層220に、集光レンズ面310を介して入射する際に屈折され、結果として集光される。続いて、入射した光は、屈折率が1.7である第2の層220から屈折率が1.5である第3の層230に、拡散レンズ面320を介して入射する際に屈折され、結果として拡散される。
本実施形態では、上述したように、集光レンズ面310及び拡散レンズ320のレンズの中心が互いにずれるように形成されているため、拡散レンズ面310面で拡散される際において、光は、入射した際の方向(即ち、マイクロレンズ基板200の基板面に対して概ね垂直な方向)には屈折されず、明視方向より(即ち、図中の右方向より)に屈折される。これにより、マイクロレンズ基板200から出射した光は、液晶層50に対して、明視方向に入射される。よって、電気光学装置において、より高品質な画像を表示させることが可能となる。
マイクロレンズ基板200から出射する光の方向は、集光レンズ面310及び拡散レンズ面320のレンズの中心をずらす方向及びずらす量によって調整することが可能である。本願発明者の研究によれば、画素ピッチが12.5μm、集光レンズ及び拡散レンズの半径が8μmという条件下において、レンズの中心をずらさない場合に表示されるコントラストは360であるという結果が得られている。これに対し、同じ条件下でレンズの中心を20μmずらした場合、表示される画像のコントラストが500にまで向上するという結果が得られている。即ち、本実施形態に係るマイクロレンズ基板200によれば、極めて効果的にコントラストを向上させることが可能である。
次に、第1実施形態に係るマイクロレンズの変形例について、図6から図12を参照して説明する。ここに図6から図12は夫々、第1実施形態に係るマイクロレンズの変形例を示す断面図である。
図6に示すように、マイクロレンズ基板200における集光レンズ面310及び拡散レンズ面320は、その形状を逆向きに(即ち、図5に示すものを凸レンズとするならば、凹レンズのように)形成されてもよい。但し、この場合の第1の層210、第2の層220及び第3の層230の屈折率の関係は、図5に示した場合から変化する。具体的には、第1の層210の屈折率n1は、第2の層の屈折率n2より高くされる。また、第3の層230の屈折率n3も、第2の層の屈折率n2より高くされる。よって、例えば図に示すように、n1=1.5、n2=1.2、n3=1.5となるような材料で各層を形成するようにすればよい。
マイクロレンズ基板200に入射した光は、凸レンズを介して屈折率が低い方から高い方へ入射する場合には集光され、凸レンズを介して屈折率が高い方から低い方へ入射する場合には拡散される。また、凹レンズを介して屈折率が低い方から高い方へ入射する場合には拡散され、凹レンズを介して屈折率が高い方から低い方へ入射する場合には集光される。
図7及び図8において、上述した関係を利用すれば、凸レンズ及び凹レンズを組み合わせて使用することもできる。図7では、第1の層210の屈折率n1が1.7、第2の層220の屈折率n2が1.5、第3の層230の屈折率n3が1.2とされている。よって、凹レンズである集光レンズ面310で光は集光され、凸レンズである拡散レンズ面で光は拡散される。図8では、第1の層210の屈折率n1が1.2、第2の層220の屈折率n2が1.5、第3の層230の屈折率n3が1.7とされている。よって、凸レンズである集光レンズ面310で光は集光され、凹レンズである拡散レンズ面で光は拡散される。
図9から図12に示すように、拡散レンズ面320が集光レンズ面310より光の入射側に形成されるようにすることも可能である。即ち、光の入射側(即ち、図中の下方向)から、第3の層230、第2の層220及び第1の層210の順で形成されてもよい。この場合、マイクロレンズ基板200に入射した光は、先ず拡散レンズ面320において拡散された後に、集光レンズ面310において集光されることになるが、結果としては、図5から図8に示す構成と同様に、マイクロレンズ基板200から明視方向に屈折された光が出射される。よって、電気光学装置において、より高品質な画像を表示させることが可能となる。
以上のように、集光レンズ面310及び拡散レンズ320の形状及び配置を変えても、第1の層210、第2の層220及び第3の層230の屈折率を変化させることで対応できる。よって、装置構成や用途に応じて、適宜構成を選択することができる。尚、マイクロレンズ基板から出射した光が入射する対向電極21(図2参照は)、典型的にはITOで構成されており、屈折率が1.9程度である。よって、マイクロレンズ基板200における最も出射側に近い層の屈折率を1.9に近付けることにより、対向電極21に光が入射する際の界面反射を抑制することが可能である。
次に、第1実施形態に係るマイクロレンズ基板の製造方法について、図13から図17を参照して説明する。ここに図13は、第1実施形態に係るマイクロレンズ基板の第1の製造方法を概念的に示す断面図である。また図14から図17は夫々、第1実施形態に係るマイクロレンズ基板の第2の製造方法を、順を追って示す工程断面図である。
図13において、第1実施形態に係るマイクロレンズ基板の第1の製造方法では、先ず第1の層210に対して、例えばエッチングによるパターニングが施され、集光レンズ面310が形成される。また、第3の層230に対しても同様に、エッチング等によるパターニングが施され、拡散レンズ面が形成される。
続いて、第1の層210及び第3の層230が、屈折率の異なる樹脂を介して接着される。この際、集光レンズ面310と拡散レンズ面320とは、レンズの中心がずれるように接着される。そして結果的に、第1の層210及び第3の層230を接着する接着層としての樹脂が、第2の層220となり、図4及び5に示すようなマイクロレンズ基板200が形成される。
図14において、第1実施形態に係るマイクロレンズ基板の第2の製造方法では、先ず第1の層210に対して、例えばエッチングによるパターニングが施され、集光レンズ面310が形成される。そして、第1の層210上には、屈折率の異なる樹脂がスピンコート等によって塗布され、第2の層220が形成される。
図15において、第2の層220における第1の層210と対向しない側の面は、塗布された段階では平坦に近い。このため、第2の層220に対して、拡散レンズ面320の形状を有するプレス型500aが押し当てられ、これにより第2の層220に拡散レンズ面が形成される。
図16において、第2の層220における拡散レンズ面320が形成された面上には、第2の層と屈折率のことなる樹脂がスピンコート等によって塗布され、第3の層230が形成される。
図17において、最後に、第3の層230に対して、平坦な形状を有するプレス型500bが押し当てられ、第3の層230の表面が平坦化される。これにより、図4及び図5に示すようなマイクロレンズ基板200が形成される。
上述した第1の製造方法及び第2の製造方法は、比較的単純且つ容易な作業しか含まれておらず。例えば、集光レンズ面310及び拡散レンズ面320を複雑な形状として形成する場合と比べて極めて容易である。よって、設計及び製造工程が複雑高度化してしまうことを防止できる。
以上説明したように、第1実施形態に係るマイクロレンズ基板によれば、比較的容易に設計及び製造を行うことが可能であると共に、入射光を明視方向に屈折させることにより、効果的に画質を向上させることが可能である。
<第2実施形態>
次に、第2実施形態に係るマイクロレンズ基板について、図18及び図19を参照して説明する。ここに図18は、第2実施形態に係るマイクロレンズ基板の構成を示す断面図であり、図19は、第2実施形態に係るマイクロレンズ基板の変形例を示す断面図である。尚、第2実施形態は、上述の第1実施形態と比べて、レンズの曲率が異なり、その他の構成や作用については概ね同様である。このため第2実施形態では、第1実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。また、図18及び図19では、図4等に示した第1実施形態に係る構成要素と同様の構成要素に同一の参照符合を付している。
次に、第2実施形態に係るマイクロレンズ基板について、図18及び図19を参照して説明する。ここに図18は、第2実施形態に係るマイクロレンズ基板の構成を示す断面図であり、図19は、第2実施形態に係るマイクロレンズ基板の変形例を示す断面図である。尚、第2実施形態は、上述の第1実施形態と比べて、レンズの曲率が異なり、その他の構成や作用については概ね同様である。このため第2実施形態では、第1実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。また、図18及び図19では、図4等に示した第1実施形態に係る構成要素と同様の構成要素に同一の参照符合を付している。
図18において、第2実施形態に係るマイクロレンズ基板200は、集光レンズ面310の曲率が、拡散レンズ面320の曲率より大きくされている。これにより、集光レンズ面310における集光の度合いは、拡散レンズ面320における拡散の度合いより大きくなる。よって、マイクロレンズ基板200から出射される光は、入射された際よりも集光されて出射される。
光を集光して出射させることで、マイクロレンズ基板200から出射される光が、画素を囲うように配置されている遮光膜23(所謂、ブラックマトリックス)に遮断されてしまうことを低減できる。即ち、光の利用効率が低下してしまうことを防止できる。従って、より明るい画像を表示させることが可能となる。
図19において、例えば図9に示したように、集光レンズ面310及び拡散レンズ面320の配置が入れ替わった場合であっても、集光レンズ面310の曲率を拡散レンズ面320の曲率より大きくすれば、光を集光して出射させることができる。また、第1実施形態の変形例として示した図6から図8及び図10から図12のような構成についても、同様の構成とすることで、光を集光して出射させることができる。
尚、入射した光をどの程度集光して出射させるかは、集光レンズ面310及び拡散レンズ面320の曲率の差を変化させることで、適宜調整することができる。また、集光レンズ面310の曲率を拡散レンズ面320の曲率より小さくすれば、入射した光を拡散して出射させることも可能である。
以上説明したように、第2実施形態に係るマイクロレンズ基板によれば、入射光を明視方向に屈折させると共に、集光することで利用効率を向上させることができる。従って、より高品質な画像を表示させることが可能である。
<電子機器>
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図20は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図20は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。
図20に示されるように、プロジェクタ1100内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット1102が設けられている。このランプユニット1102から射出された投射光は、ライトガイド1104内に配置された4枚のミラー1106及び2枚のダイクロイックミラー1108によってRGBの3原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル1110R、1110B及び1110Gに入射される。
液晶パネル1110R、1110B及び1110Gの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるR、G、Bの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム1112に3方向から入射される。このダイクロイックプリズム1112においては、R及びBの光が90度に屈折する一方、Gの光が直進する。従って、各色の画像が合成される結果、投射レンズ1114を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
ここで、各液晶パネル1110R、1110B及び1110Gによる表示像について着目すると、液晶パネル1110Gによる表示像は、液晶パネル1110R、1110Bによる表示像に対して左右反転することが必要となる。
尚、液晶パネル1110R、1110B及び1110Gには、ダイクロイックミラー1108によって、R、G、Bの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。
尚、図20を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
また、本発明は上述の各実施形態で説明した液晶装置以外にも反射型液晶装置(LCOS)、プラズマディスプレイ(PDP)、電界放出型ディスプレイ(FED、SED)、有機ELディスプレイ、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)、電気泳動装置等にも適用可能である。
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴うマイクロレンズ基板、並びに該マイクロレンズ基板を備えた電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
9a…画素電極、10…TFTアレイ基板、10a…画像表示領域、20…対向基板、23…遮光膜、30…TFT、50…液晶層、200…マイクロレンズ基板、210…第1の層、220…第2の層、230…第3の層、310…集光マイクロレンズ面、320…拡散マイクロレンズ面、400…光源、500…プレス型
Claims (8)
- 複数の画素に入射する光を屈折させる複数のレンズが配列されるマイクロレンズ基板であって、
基板上に、
前記複数の画素毎に設けられており、前記入射する光を集光する複数の集光レンズが配列される集光レンズ面と、
前記複数の画素毎に設けられており、前記入射する光を拡散する複数の拡散レンズが配列される拡散レンズ面と
を備え、
前記集光レンズ及び前記拡散レンズは、前記入射する光が明視方向に屈折するように、互いにレンズの中心がずれるように形成されている
ことを特徴とするマイクロレンズ基板。 - 前記集光レンズ面は、前記拡散レンズ面に対して、前記入射する光の入射側に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズ基板。
- 前記集光レンズ面は、互いに屈折率の異なる第1の層及び第2の層により形成されており、
前記拡散レンズ面は、互いに屈折率の異なる前記第2の層及び第3の層により形成されている
ことを特徴とする請求項1又は2のいずれか一項に記載のマイクロレンズ基板。 - 前記第1の層及び前記第3の層のうち、前記入射する光の出射側に形成されている一方の層は、前記第2の層より屈折率が高いことを特徴とする請求項3に記載のマイクロレンズ基板。
- 前記集光レンズ及び前記拡散レンズは、互いに曲率が異なるように形成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のマイクロレンズ基板。
- 前記集光レンズ及び前記拡散レンズは、互いに同一の形状であることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のマイクロレンズ基板。
- 請求項1から6のいずれか一項に記載のマイクロレンズ基板を備えることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1から7のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
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JP2008158845A JP2010002450A (ja) | 2008-06-18 | 2008-06-18 | マイクロレンズ基板、並びに電気光学装置及び電子機器 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2016024293A (ja) * | 2014-07-18 | 2016-02-08 | セイコーエプソン株式会社 | マイクロレンズアレイ基板、電気光学装置、電子機器、マイクロレンズアレイ基板の製造方法、及び電子機器の製造方法 |
US9664934B2 (en) | 2014-05-14 | 2017-05-30 | Seiko Epson Corporation | Fabricating method of electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus |
US10054719B2 (en) | 2014-07-31 | 2018-08-21 | Visera Technologies Company Limited | Methods for farbricating double-lens structures |
-
2008
- 2008-06-18 JP JP2008158845A patent/JP2010002450A/ja not_active Withdrawn
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