JP5803661B2 - 光学フィルム又は光学シート形成用電子線硬化型組成物 - Google Patents
光学フィルム又は光学シート形成用電子線硬化型組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5803661B2 JP5803661B2 JP2011283095A JP2011283095A JP5803661B2 JP 5803661 B2 JP5803661 B2 JP 5803661B2 JP 2011283095 A JP2011283095 A JP 2011283095A JP 2011283095 A JP2011283095 A JP 2011283095A JP 5803661 B2 JP5803661 B2 JP 5803661B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- acrylate
- optical film
- composition
- sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
本発明は、光学フィルムの形成に使用される活性エネルギー線硬化型組成物、当該組成物を硬化して得られる光学フィルム又は光学シートに関し、これら技術分野に属する。
尚、下記においては、便宜上、特に断りがない場合は、「光学フィルム又は光学シート」を「光学フィルム」と記載する。又、アクリレート又はメタクリレートを、（メタ）アクリレートと表す。
尚、下記においては、便宜上、特に断りがない場合は、「光学フィルム又は光学シート」を「光学フィルム」と記載する。又、アクリレート又はメタクリレートを、（メタ）アクリレートと表す。
液晶ディスプレイ等に用いられる偏光子保護フィルムや液晶を光学補償する位相差フィルム等の光学フィルムにおいて、耐熱性や耐薬品性が優れていることから、３次元架橋フィルムがしばしば用いられる。その中でも、短時間で硬化が進行し、生産性が高いことから、活性エネルギー線によってラジカル硬化させたフィルムを使用するケースがある。
活性エネルギー線硬化型組成物の中では、優れた機械物性を示すことから、ウレタン（メタ）アクリレートを含む組成物がよく用いられる。
活性エネルギー線硬化型組成物の中では、優れた機械物性を示すことから、ウレタン（メタ）アクリレートを含む組成物がよく用いられる。
特許文献１及び２においては、比較的分子量が低い短鎖ジオール、有機ジイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートから得られるウレタン（メタ）アクリレートが使用されている。しかしながら、ポリオール成分として、短鎖ジオールのみから構成されているウレタン（メタ）アクリレートを使用しているため、破断強度は高いものの、フィルムとしての柔軟性が足りず、取り扱いに難点があった。
特許文献３〜５においては、比較的分子量の高いポリオール、有機ジイソシアネート及び水酸基含有（メタ）アクリレートから得られるウレタン（メタ）アクリレートが使用されている。この場合は、破断強度、引張弾性率等が低くなる問題があった。引張弾性率が低いフィルムを液晶ディスプレイの偏光子保護フィルムとして用いた場合、応力複屈折が大きくなり、光漏れ・白抜けの原因となる場合があった。
特許文献６においては、比較的分子量が高いポリオールと短鎖ジオールを併用しているが、破断強度及び引張弾性率が低くなる問題があった。
特許文献６においては、比較的分子量が高いポリオールと短鎖ジオールを併用しているが、破断強度及び引張弾性率が低くなる問題があった。
本発明の目的は、柔軟性があり取り扱い易く、破断強度及び引張弾性率が優れた光学フィルム用活性エネルギー線硬化型組成物、該組成物から得られた光学フィルムを提供することである。
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、原料ポリオールとして数平均分子量の高いポリオールと低いポリオールを併用し、さらにそれらの割合を特定のモル比としたウレタン（メタ）アクリレートを含む電子線硬化型組成物が有効であることを見出した。
即ち、本発明は、数平均分子量が６００以上２，５００以下のポリオール（Ａ−１）、数平均分子量が６０以上４００以下のポリオール（Ａ−２）、無黄変型有機ポリイソシアネート（Ｂ）及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート（Ｃ）の反応物であって、
全ポリオールのモル数を１００としたときの（Ａ−１）と（Ａ−２）モル比：（Ａ−１）／（Ａ−２）が１／９９〜３０／７０で、
（Ａ−１）が、ポリカーボネートポリオール及び／又はポリエステルポリオールである
ウレタン（メタ）アクリレートを含み、
光重合開始剤を含まない
光学フィルム又は光学シート形成用電子線硬化型組成物である。
即ち、本発明は、数平均分子量が６００以上２，５００以下のポリオール（Ａ−１）、数平均分子量が６０以上４００以下のポリオール（Ａ−２）、無黄変型有機ポリイソシアネート（Ｂ）及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート（Ｃ）の反応物であって、
全ポリオールのモル数を１００としたときの（Ａ−１）と（Ａ−２）モル比：（Ａ−１）／（Ａ−２）が１／９９〜３０／７０で、
（Ａ−１）が、ポリカーボネートポリオール及び／又はポリエステルポリオールである
ウレタン（メタ）アクリレートを含み、
光重合開始剤を含まない
光学フィルム又は光学シート形成用電子線硬化型組成物である。
本発明の組成物によれば、柔軟性、破断強度及び引張弾性率が優れた光学フィルム、偏光子保護フィルムを提供することができる。
本発明は、特定のウレタン（メタ）アクリレートを含む光学フィルム形成用電子線硬化型組成物、及び光学フィルムに関するものである。
以下、本発明の詳細について説明する。尚、本明細書では、組成物に電子線照射して得られる架橋物及び硬化物を、まとめて「硬化物」と表す。
以下、本発明の詳細について説明する。尚、本明細書では、組成物に電子線照射して得られる架橋物及び硬化物を、まとめて「硬化物」と表す。
１．ウレタン（メタ）アクリレート
本発明で使用するウレタン（メタ）アクリレートは、（Ａ−１）、（Ａ−２）、無黄変型有機ポリイソシアネート（Ｂ）及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート（Ｃ）の反応物であって、全ポリオールのモル数を１００としたときの（Ａ−１）と（Ａ−２）モル比：（Ａ−１）／（Ａ−２）が１／９９〜３０／７０で、
（Ａ−１）が、ポリカーボネートポリオール及び／又はポリエステルポリオールである
ウレタン（メタ）アクリレートである。
以下、原料成分及び製造方法について説明する。
本発明で使用するウレタン（メタ）アクリレートは、（Ａ−１）、（Ａ−２）、無黄変型有機ポリイソシアネート（Ｂ）及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート（Ｃ）の反応物であって、全ポリオールのモル数を１００としたときの（Ａ−１）と（Ａ−２）モル比：（Ａ−１）／（Ａ−２）が１／９９〜３０／７０で、
（Ａ−１）が、ポリカーボネートポリオール及び／又はポリエステルポリオールである
ウレタン（メタ）アクリレートである。
以下、原料成分及び製造方法について説明する。
1−1．（Ａ−１）
（Ａ−１）は、数平均分子量（以下、「Ｐ−Ｍｎ」という）が５００以上のポリオールである。
尚、本発明においてポリオールの数平均分子量（Ｐ−Ｍｎ）とは、下記（１）に従って求めた値をいう。
（Ａ−１）は、数平均分子量（以下、「Ｐ−Ｍｎ」という）が５００以上のポリオールである。
尚、本発明においてポリオールの数平均分子量（Ｐ−Ｍｎ）とは、下記（１）に従って求めた値をいう。
（Ａ−１）としては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリブタジエンポリオール及び水添ポリブタジエンポリオール等が挙げられる。
これらの中でも、組成物の硬化物が機械物性及び耐熱性に優れたものとなる点から、ポリカーボネートジオール及びポリエステルポリオールであり、好ましくは、ポリカーボネートポリオールである。
いずれもポリオールにおいても、１分子中の平均水酸基数は、２でもよいし、あるいは２より大きくてもよい。又、これらのポリオールを混合して用いてもよい。
これらの中でも、組成物の硬化物が機械物性及び耐熱性に優れたものとなる点から、ポリカーボネートジオール及びポリエステルポリオールであり、好ましくは、ポリカーボネートポリオールである。
いずれもポリオールにおいても、１分子中の平均水酸基数は、２でもよいし、あるいは２より大きくてもよい。又、これらのポリオールを混合して用いてもよい。
ポリエステルポリオールは、ジカルボン酸化合物とポリオール化合物をエステル化することにより得られる。
ジカルボン酸化合物の具体例としては、アジピン酸、コハク酸、グルタル酸、セバシン酸、アゼライン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ドデカン二酸、ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸等が挙げられる。
ポリオール化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ポリテトラメチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、３，３−ジメチロールヘプタン、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール等の脂肪族ジオール、シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノール−Ａ、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール（通称；トリシクロデカンジメタノール）、１，４−デカヒドロナフタレンジオール、１，５−デカヒドロナフタレンジオール、１，６−デカヒドロナフタレンジオール、２，６−デカヒドロナフタレンジオール、２，７−デカヒドロナフタレンジオール、デカヒドロナフタレンジメタノール、ノルボルナンジオール、ノルボルナンジメタノール、デカリンジメタノール、アダマンタンジオール、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（通称；スピログリコール）、イソソルビド、イソマンニド、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン（通称；水添ビスフェノールＡ）、４，４′−ジヒドロキシジシクロヘキシルメタン（通称；水添ビスフェノールＦ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）−１，１−ジシクロヘキシルメタン（通称；水添ビスフェノールＺ）、４，４−ビシクロヘキサノール等の脂環族ジオール、１，２，６−ヘキサントリオール、１，２，３−ヘプタントリオール、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、カシリトール、ピロガロール、グリセリン、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等のトリオール化合物が挙げられる。
ポリカーボネートポリオールは、低分子量ジオール、ポリエーテルジオール又は／及びビスフェノールＡ等のビスフェノールと、エチレンカーボネート、炭酸ジブチルエステル等の炭酸ジアルキルエステル、あるいはホスゲン等の化合物との反応物が挙げられる。
ここで、低分子量ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、シクロヘキサンジメタノール及び３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等が挙げられる。
これらは、２種類以上の低分子量ジオールを併用してもよい。
より好ましくは、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、あるいはこれらの混合物が、機械物性の点から好ましい。特に、混合物の場合は、結晶性が崩れ、硬化物の透明性が高くなりやすいことから特に好ましい。
ここで、低分子量ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、シクロヘキサンジメタノール及び３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等が挙げられる。
これらは、２種類以上の低分子量ジオールを併用してもよい。
より好ましくは、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、あるいはこれらの混合物が、機械物性の点から好ましい。特に、混合物の場合は、結晶性が崩れ、硬化物の透明性が高くなりやすいことから特に好ましい。
ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコールが挙げられる。
（Ａ−１）のＰ−Ｍｎは、５００以上であることが必須である。
Ｐ−Ｍｎが５００以上のポリオールを含むことにより、硬化物であるフィルムに柔軟性を付与することができる。（Ａ−１）のＰ−Ｍｎは、６００以上２，５００以下である。２，５００以下にすることにより、フィルムに強靭さを付与することができる。（Ａ−１）のＰ−Ｍｎとしては、好ましくは、７００以上２，０００以下であり、より好ましくは１，０００以上２，０００以下であり、特に好ましくは１，０００〜１，８００である。
Ｐ−Ｍｎが５００以上のポリオールを含むことにより、硬化物であるフィルムに柔軟性を付与することができる。（Ａ−１）のＰ−Ｍｎは、６００以上２，５００以下である。２，５００以下にすることにより、フィルムに強靭さを付与することができる。（Ａ−１）のＰ−Ｍｎとしては、好ましくは、７００以上２，０００以下であり、より好ましくは１，０００以上２，０００以下であり、特に好ましくは１，０００〜１，８００である。
1−2．（Ａ−２）
（Ａ−２）は、Ｐ−Ｍｎが５００未満のポリオールである。
（Ａ−２）としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、３，３−ジメチロールヘプタン、１，９−ノナンジオール及び２−メチル−１，８−オクタンジオール等の脂肪族ジオール；
シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノール−Ａ、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール（通称；トリシクロデカンジメタノール）、１，４−デカヒドロナフタレンジオール、１，５−デカヒドロナフタレンジオール、１，６−デカヒドロナフタレンジオール、２，６−デカヒドロナフタレンジオール、２，７−デカヒドロナフタレンジオール、デカヒドロナフタレンジメタノール、ノルボルナンジオール、ノルボルナンジメタノール、デカリンジメタノール、アダマンタンジオール、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（通称；スピログリコール）、イソソルビド、イソマンニド、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン（通称；水添ビスフェノールＡ）、４，４′−ジヒドロキシジシクロヘキシルメタン（通称；水添ビスフェノールＦ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）−１，１−ジシクロヘキシルメタン（通称；水添ビスフェノールＺ）及び４，４−ビシクロヘキサノール等の脂環族ジオール；
１，２，６−ヘキサントリオール、１，２，３−ヘプタントリオール、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、カシリトール、ピロガロール、グリセリン及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等のトリオール化合物；並びに
これらトリオール化合物のε−カプロラクトン変性物等が挙げられる。
（Ａ−２）は、Ｐ−Ｍｎが５００未満のポリオールである。
（Ａ−２）としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、３，３−ジメチロールヘプタン、１，９−ノナンジオール及び２−メチル−１，８−オクタンジオール等の脂肪族ジオール；
シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノール−Ａ、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール（通称；トリシクロデカンジメタノール）、１，４−デカヒドロナフタレンジオール、１，５−デカヒドロナフタレンジオール、１，６−デカヒドロナフタレンジオール、２，６−デカヒドロナフタレンジオール、２，７−デカヒドロナフタレンジオール、デカヒドロナフタレンジメタノール、ノルボルナンジオール、ノルボルナンジメタノール、デカリンジメタノール、アダマンタンジオール、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（通称；スピログリコール）、イソソルビド、イソマンニド、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン（通称；水添ビスフェノールＡ）、４，４′−ジヒドロキシジシクロヘキシルメタン（通称；水添ビスフェノールＦ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）−１，１−ジシクロヘキシルメタン（通称；水添ビスフェノールＺ）及び４，４−ビシクロヘキサノール等の脂環族ジオール；
１，２，６−ヘキサントリオール、１，２，３−ヘプタントリオール、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、カシリトール、ピロガロール、グリセリン及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等のトリオール化合物；並びに
これらトリオール化合物のε−カプロラクトン変性物等が挙げられる。
これら化合物の中でも、（Ａ−２）は、Ｐ−Ｍｎが６０以上４００以下のポリオールとする。
当該化合物の具体例としては、１，４−ブタンジオール等の炭素数２〜６の脂肪族ジオール、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール及び３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン等の複数の環を有する脂環族ジオールが好ましく、硬化物の強度に優れる点で、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（通称；スピログリコール）が特に好ましい。
当該化合物の具体例としては、１，４−ブタンジオール等の炭素数２〜６の脂肪族ジオール、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール及び３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン等の複数の環を有する脂環族ジオールが好ましく、硬化物の強度に優れる点で、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（通称；スピログリコール）が特に好ましい。
1−3．無黄変型有機ポリイソシアネート（Ｂ）
無黄変型有機ポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（以下、「ＩＰＤＩ」という）、４，４′−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、ノルボルナンジイソシアネート及びω，ω′−ジイソシアネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ＩＰＤＩのイソシアヌレート体等のポリイソシアネート等が挙げられる。
無黄変型有機ポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（以下、「ＩＰＤＩ」という）、４，４′−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、ノルボルナンジイソシアネート及びω，ω′−ジイソシアネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ＩＰＤＩのイソシアヌレート体等のポリイソシアネート等が挙げられる。
これらの有機ポリイソシアネート化合物は、１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。
前記した化合物の中でも、硬化物の機械強度と光学特性に優れるという点で、ＩＰＤＩが好ましい。
1−4．ヒドロキシル基含有（メタ）メタアクリレート（Ｃ）
ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、トリヒドロキシエチルイソシアヌレートジ又はモノアクリレート、ペンタエリスリトールトリ、ジ又はモノ（メタ）アクリレート、及びトリメチロールプロパンジ又はモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、トリヒドロキシエチルイソシアヌレートジ又はモノアクリレート、ペンタエリスリトールトリ、ジ又はモノ（メタ）アクリレート、及びトリメチロールプロパンジ又はモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
これらのヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートは、１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。
前記した化合物の中でも、組成物の硬化性と硬化物の柔軟性に優れるという点で、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート及びポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレートが好ましい。さらに好ましくは、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレートである。
1−5．製造方法
本発明のウレタン（メタ）アクリレートは、特に製造方法は限定されない。
例えば、（Ａ−１）及び（Ａ−２）を、無黄変型有機ポリイソシアネート（Ｂ）と反応させ、イソシアネート基含有化合物を製造したのちに、これとヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート（Ｃ）を反応させる方法、（Ａ−１）、（Ａ−２）、無黄変型有機ポリイソシアネート（Ｂ）及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート（Ｃ）を同時に反応させる方法等が挙げられる。
本発明のウレタン（メタ）アクリレートは、特に製造方法は限定されない。
例えば、（Ａ−１）及び（Ａ−２）を、無黄変型有機ポリイソシアネート（Ｂ）と反応させ、イソシアネート基含有化合物を製造したのちに、これとヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート（Ｃ）を反応させる方法、（Ａ−１）、（Ａ−２）、無黄変型有機ポリイソシアネート（Ｂ）及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート（Ｃ）を同時に反応させる方法等が挙げられる。
これらの反応には、ウレタン化のための触媒を添加することができる。具体的には、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクテート、ジブチルスズジアセチルアセトナート等のスズ化合物、ビスマスジオクテート等のビスマス化合物、カルシウムジオクテート等のカルシウム化合物が挙げられる。
これらの反応は、無溶剤で行うことも、溶剤存在下で行うこともできる。
溶剤の具体例としては、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン及びシクロヘキサン等の炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ビス(２−メトキシエチル)エーテル、ビス(２−エトキシエチル)エーテル及びビス(２−ブトキシエチル)エーテル等のエーテル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のアルキレングリコールモノエーテルアセテート；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル；並びにＮ−メチルピロリドン等が挙げられる。
これらのうちで、ウレタン（メタ）アクリレートの溶解性、蒸発のしやすさの観点から、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが特に好ましい。
溶剤の具体例としては、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン及びシクロヘキサン等の炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ビス(２−メトキシエチル)エーテル、ビス(２−エトキシエチル)エーテル及びビス(２−ブトキシエチル)エーテル等のエーテル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のアルキレングリコールモノエーテルアセテート；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル；並びにＮ−メチルピロリドン等が挙げられる。
これらのうちで、ウレタン（メタ）アクリレートの溶解性、蒸発のしやすさの観点から、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが特に好ましい。
又、溶剤の代わりに、ウレタン（メタ）アクリレートの粘度を低減するために、反応性希釈剤を用いることができる。具体的には、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アリル(メタ）アクリレート、２−エトキシエチル(メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、о−フェニルフェノールＥＯ変性（ｎ＝１〜４）（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノールＥＯ変性（ｎ＝１〜４）（メタ）アクリレート、フェニル(メタ）アクリレート、о−フェニルフェニル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェニル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド等が挙げられる。
本発明では、全ポリオールのモル数を１００としたときの（Ａ−１）と（Ａ−２）のモル比：（Ａ−１）／（Ａ−２）を１／９９〜３０／７０とする。（Ａ−１）のモル比が１に満たない場合は、硬化物に柔軟性が不十分となってしまい、３０を超える場合は、強靭さが不十分となってしまう。（Ａ−１）／（Ａ−２）のモル比は、好ましくは、２／９８〜２５／７５であり、より好ましくは、５／９５〜１５／８５である。
（Ａ−１）と（Ａ−２）の水酸基の合計のモル数（a）と、有機ポリイソシアネート（Ｂ）のイソシアネート基のモル数（b）の比は、後述するウレタン（メタ）アクリレートの数平均分子量を加減するために調節される。（a）を減量し、（b）を増量するとウレタン（メタ）アクリレートの分子量は低下する傾向がある。又、（a）は、（b）より必ず小さい値となり、（a）の値が（b）に近づくほど、生成するウレタン（メタ）アクリレートの数平均分子量は大きくなる。
（Ａ−１）、（Ａ−２）及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート（Ｃ）の水酸基の合計のモル数と（b）の比は、好ましくは０．８〜１．２、より好ましくは、０．９５〜１．０５とする。この範囲にすることにより、強靭性を発現することができる。
ウレタン（メタ）アクリレートとしては、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するウレタン（メタ）アクリレートであることが好ましく、２個の（メタ）アクリロイル基をウレタン（メタ）アクリレートであることがより好ましい。
ウレタン（メタ）アクリレートの数平均分子量は、好ましくは、６００〜３，０００である。６００以上にすることにより、柔軟性を付与することができ、３，０００以下にすることにより、強度を付与することができる。より好ましくは、７００〜２，０００であり、さらに好ましくは、８００〜１，５００である。
尚、ウレタン（メタ）アクリレートの数平均分子量（以下、「Ｍｎ」という）とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」という）により測定した分子量をポリスチレン換算した値を意味する。
ウレタン（メタ）アクリレートの数平均分子量は、好ましくは、６００〜３，０００である。６００以上にすることにより、柔軟性を付与することができ、３，０００以下にすることにより、強度を付与することができる。より好ましくは、７００〜２，０００であり、さらに好ましくは、８００〜１，５００である。
尚、ウレタン（メタ）アクリレートの数平均分子量（以下、「Ｍｎ」という）とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」という）により測定した分子量をポリスチレン換算した値を意味する。
２．光学フィルム形成用電子線硬化型組成物
本発明の組成物は、前記ウレタン（メタ）アクリレートを必須成分として含む組成物である。
本発明の組成物には、上記のウレタン（メタ）アクリレートの他に、目的に応じて種々の成分を配合することができる。
以下、その他成分について説明する。
本発明の組成物は、前記ウレタン（メタ）アクリレートを必須成分として含む組成物である。
本発明の組成物には、上記のウレタン（メタ）アクリレートの他に、目的に応じて種々の成分を配合することができる。
以下、その他成分について説明する。
2−1．ビニル重合体
光弾性係数等の光学特性を調節する目的で、ビニル重合体を添加することができる。ビニル重合体としては、（メタ）アクリルモノマーの単独重合体又は共重合体、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン共重合体、α−メチルスチレンの単独重合体又は共重合体、エチレン−テトラシクロドデセン共重合体等が挙げられる。
（メタ）アクリルモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート；
Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド類等が挙げられる。
ビニル重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ウレタン（メタ）アクリレートとの相溶性の点から、１,０００〜１００,０００であることが好ましい。
光弾性係数等の光学特性を調節する目的で、ビニル重合体を添加することができる。ビニル重合体としては、（メタ）アクリルモノマーの単独重合体又は共重合体、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン共重合体、α−メチルスチレンの単独重合体又は共重合体、エチレン−テトラシクロドデセン共重合体等が挙げられる。
（メタ）アクリルモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート；
Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド類等が挙げられる。
ビニル重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ウレタン（メタ）アクリレートとの相溶性の点から、１,０００〜１００,０００であることが好ましい。
2−2．可塑剤
硬化物に柔軟性を付与し、脆さを改善する目的で、可塑剤を添加することができる。可塑剤の具体例としては、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジイソノニル等のフタル酸ジアルキルエステル、アジピン酸ジオクチル等のアジピン酸ジアルキルエステル、セバシン酸エステル、アゼライン酸エステル、リン酸トリクレシル等のリン酸エステル、ポリプロピレングリコール等の液状ポリエーテルポリオール、ポリカプロラクトンジオール、３−メチルペンタンジオールアジペート等の液状ポリエステルポリオール等が挙げられる。
可塑剤の添加量としては、添加する場合は、ウレタン（メタ）アクリレート１００重量部に対して、後記エチレン性不飽和化合物を配合する場合は、ウレタン（メタ）アクリレートとエチレン性不飽和化合物の合計１００重量部に対して５〜３０重量部が好ましい。５重量部以上にすることにより、柔軟性が発現し、３０重量部以下にすることにより、強靭性が保たれる。
硬化物に柔軟性を付与し、脆さを改善する目的で、可塑剤を添加することができる。可塑剤の具体例としては、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジイソノニル等のフタル酸ジアルキルエステル、アジピン酸ジオクチル等のアジピン酸ジアルキルエステル、セバシン酸エステル、アゼライン酸エステル、リン酸トリクレシル等のリン酸エステル、ポリプロピレングリコール等の液状ポリエーテルポリオール、ポリカプロラクトンジオール、３−メチルペンタンジオールアジペート等の液状ポリエステルポリオール等が挙げられる。
可塑剤の添加量としては、添加する場合は、ウレタン（メタ）アクリレート１００重量部に対して、後記エチレン性不飽和化合物を配合する場合は、ウレタン（メタ）アクリレートとエチレン性不飽和化合物の合計１００重量部に対して５〜３０重量部が好ましい。５重量部以上にすることにより、柔軟性が発現し、３０重量部以下にすることにより、強靭性が保たれる。
2−3．エチレン性不飽和化合物
成物全体の粘度を低下させる目的や、その他の物性を調整する目的で必要に応じて、エチレン性不飽和化合物を配合することができる。
エチレン性不飽和化合物の具体例としては、上記ウレタン(メタ)アクリレート以外の（メタ）アクリレート〔以下、「その他（メタ）アクリレート」という〕やＮ−ビニル−２−ピロリドン等が挙げられる。
成物全体の粘度を低下させる目的や、その他の物性を調整する目的で必要に応じて、エチレン性不飽和化合物を配合することができる。
エチレン性不飽和化合物の具体例としては、上記ウレタン(メタ)アクリレート以外の（メタ）アクリレート〔以下、「その他（メタ）アクリレート」という〕やＮ−ビニル−２−ピロリドン等が挙げられる。
その他（メタ）アクリレートとしては、１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物〔以下、「単官能（メタ）アクリレート」という〕や２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物〔以下、「多官能（メタ）アクリレート」という〕等が挙げられる。
単官能（メタ）アクリレートの具体例としては、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アリル(メタ）アクリレート、２−エトキシエチル(メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、о−フェニルフェノールＥＯ変性（ｎ＝１〜４）（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノールＥＯ変性（ｎ＝１〜４）（メタ）アクリレート、フェニル(メタ）アクリレート、о−フェニルフェニル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェニル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド等が挙げられる。
単官能（メタ）アクリレートの具体例としては、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アリル(メタ）アクリレート、２−エトキシエチル(メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、о−フェニルフェノールＥＯ変性（ｎ＝１〜４）（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノールＥＯ変性（ｎ＝１〜４）（メタ）アクリレート、フェニル(メタ）アクリレート、о−フェニルフェニル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェニル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド等が挙げられる。
多官能（メタ）アクリレートの具体例としては、ビスフェノールＡ ＥＯ変性（ｎ＝１〜２）ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（ｎ＝５〜１４）ジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（ｎ＝５〜１４）ジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコール（ｎ＝３〜１６）ジ（メタ）アクリレート、ポリ（１−メチルブチレングリコール）（ｎ＝５〜２０）ジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレートの二官能（メタ）アクリレート等が挙げられる。
尚、上記においてＥＯ変性とは、エチレンオキサイド変性を意味し、ｎはアルキレンオキサイド単位の繰返し数を意味する。
エチレン性不飽和化合物としては、前記した化合物の１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。
尚、上記においてＥＯ変性とは、エチレンオキサイド変性を意味し、ｎはアルキレンオキサイド単位の繰返し数を意味する。
エチレン性不飽和化合物としては、前記した化合物の１種のみを使用しても、２種以上を併用しても良い。
エチレン性不飽和化合物の割合としては、目的に応じて適宜設定すれば良く、得られる硬化物の柔軟性を低下させない量であれば良いが、ウレタン（メタ）アクリレート及びエチレン性不飽和化合物の合計量１００重量部に対して１〜１００重量％が好ましく、より好ましくは１〜８０重量％である。
2−4．光重合開始剤
活性エネルギー線として紫外線及び可視光線を用いた場合には、光重合開始剤を添加することができる。
光重合開始剤としては、ベンジルジメチルケタール、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［4-（２−ヒドロキシエトキシ）-フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチルー１−プロパン−１−オン、オリゴ［２−ヒドロキシー２−メチルー１−［４−１−（メチルビニル）フェニル］プロパノン、２−ヒドロキシー１−[４−［４−（２−ヒドロキシー２−メチループロピオニル）−ベンジル］−フェニル]−２−メチルプロパンー１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）］フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）ブタンー１−オン、２−ジメチルアミノー２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルーフェニル）−ブタンー１−オン、アデカオプトマーＮ−１４１４（(株)ＡＤＥＫＡ製）、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等の芳香族ケトン化合物；
ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、４−（メチルフェニルチオ）フェニルフェニルメタン、メチル−２−ベンゾフェノン、１−［４−（４−ベンゾイルフェニルスルファニル）フェニル］−２−メチル−２−（４−メチルフェニルスルフォニル）プロパン−１−オン、４，４‘−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４‘−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン及び４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；
ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、エチル−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィネート及びビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド化合物；
チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、３−［３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈ−チオキサントン−２−イル］オキシ］−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ―トリメチルアンモニウムクロライド及びフロロチオキサントン等のチオキサントン系化合物；
アクリドン、１０−ブチル−２−クロロアクリドン等のアクリドン系化合物；
１，２−オクタンジオン１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ―ベンゾイルオキシム）］及びエタノン１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ―アセチルオキシム）等のオキシムエステル類；
２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体及び２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；並びに
９−フェニルアクリジン及び１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体等が挙げられる。
これらの化合物は、１種又は２種以上を併用することもできる。
光重合開始剤の配合割合としては、ウレタン（メタ）アクリレートの１００重量部に対して、前記エチレン性不飽和化合物を配合する場合は、ウレタン（メタ）アクリレートとエチレン性不飽和化合物の合計１００重量部に対して０．０１〜１０重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％である。
光重合開始剤の配合割合を０．０１重量％以上とすることにより、適量な紫外線又は可視光線量で組成物を硬化させることができ生産性を向上させることができ、一方１０重量％以下とすることで、硬化物を耐侯性や透明性に優れたものとすることができる。
活性エネルギー線として紫外線及び可視光線を用いた場合には、光重合開始剤を添加することができる。
光重合開始剤としては、ベンジルジメチルケタール、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［4-（２−ヒドロキシエトキシ）-フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチルー１−プロパン−１−オン、オリゴ［２−ヒドロキシー２−メチルー１−［４−１−（メチルビニル）フェニル］プロパノン、２−ヒドロキシー１−[４−［４−（２−ヒドロキシー２−メチループロピオニル）−ベンジル］−フェニル]−２−メチルプロパンー１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）］フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）ブタンー１−オン、２−ジメチルアミノー２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルーフェニル）−ブタンー１−オン、アデカオプトマーＮ−１４１４（(株)ＡＤＥＫＡ製）、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等の芳香族ケトン化合物；
ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、４−（メチルフェニルチオ）フェニルフェニルメタン、メチル−２−ベンゾフェノン、１−［４−（４−ベンゾイルフェニルスルファニル）フェニル］−２−メチル−２−（４−メチルフェニルスルフォニル）プロパン−１−オン、４，４‘−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４‘−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン及び４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；
ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、エチル−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィネート及びビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド化合物；
チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロピルチオキサントン、３−［３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈ−チオキサントン−２−イル］オキシ］−２−ヒドロキシプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ―トリメチルアンモニウムクロライド及びフロロチオキサントン等のチオキサントン系化合物；
アクリドン、１０−ブチル−２−クロロアクリドン等のアクリドン系化合物；
１，２−オクタンジオン１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ―ベンゾイルオキシム）］及びエタノン１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ―アセチルオキシム）等のオキシムエステル類；
２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体及び２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；並びに
９−フェニルアクリジン及び１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体等が挙げられる。
これらの化合物は、１種又は２種以上を併用することもできる。
光重合開始剤の配合割合としては、ウレタン（メタ）アクリレートの１００重量部に対して、前記エチレン性不飽和化合物を配合する場合は、ウレタン（メタ）アクリレートとエチレン性不飽和化合物の合計１００重量部に対して０．０１〜１０重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％である。
光重合開始剤の配合割合を０．０１重量％以上とすることにより、適量な紫外線又は可視光線量で組成物を硬化させることができ生産性を向上させることができ、一方１０重量％以下とすることで、硬化物を耐侯性や透明性に優れたものとすることができる。
2−5．有機溶剤
本発明の組成物は、基材への塗工性を改善する等の目的で、有機溶剤を含むものが好ましい。
本発明の組成物は、基材への塗工性を改善する等の目的で、有機溶剤を含むものが好ましい。
有機溶剤の具体例としては、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン及びシクロヘキサン等の炭化水素系溶剤；
メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−イソプロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−イソペンチルオキシエタノール、２−ヘキシルオキシエタノール、２−フェノキシエタノール、２−ベンジルオキシエタノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤；
テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ビス(２−メトキシエチル)エーテル、ビス(２−エトキシエチル)エーテル及びビス(２−ブトキシエチル)エーテル等のエーテル系溶剤；
アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤；
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、メチルグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸セロソルブ等のエステル系溶剤；
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン等の非プロトン性極性溶剤が挙げられる。
メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−（メトキシメトキシ）エタノール、２−イソプロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−イソペンチルオキシエタノール、２−ヘキシルオキシエタノール、２−フェノキシエタノール、２−ベンジルオキシエタノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤；
テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ビス(２−メトキシエチル)エーテル、ビス(２−エトキシエチル)エーテル及びビス(２−ブトキシエチル)エーテル等のエーテル系溶剤；
アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤；
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、メチルグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸セロソルブ等のエステル系溶剤；
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン等の非プロトン性極性溶剤が挙げられる。
有機溶剤としては、前記した化合物の１種又は２種以上用いることができる。
有機溶剤としては、別途添加しても良く、又、ウレタン（メタ）アクリレート製造で使用する有機溶剤を分離することなくそのまま使用しても良い。
有機溶剤としては、別途添加しても良く、又、ウレタン（メタ）アクリレート製造で使用する有機溶剤を分離することなくそのまま使用しても良い。
有機溶剤の割合としては、組成物の粘度や使用目的等を考慮し、適宜設定すれば良いが、好ましくは組成物中に１０〜９０重量％が好ましく、より好ましくは２０〜８０重量％である。
2−6．重合禁止剤又は／及び酸化防止剤
本発明の組成物には、重合禁止剤又は／及び酸化防止剤を添加することが、本発明の組成物の保存安定性を向上させることができ、好ましい。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、並びに種々のフェノール系酸化防止剤が好ましいが、イオウ系二次酸化防止剤、リン系二次酸化防止剤等を添加することもできる。
これら重合禁止剤又は／及び酸化防止剤の総配合割合は、組成物１００重量部に対して、０．００１〜３重量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．５重量％である。
本発明の組成物には、重合禁止剤又は／及び酸化防止剤を添加することが、本発明の組成物の保存安定性を向上させることができ、好ましい。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、並びに種々のフェノール系酸化防止剤が好ましいが、イオウ系二次酸化防止剤、リン系二次酸化防止剤等を添加することもできる。
これら重合禁止剤又は／及び酸化防止剤の総配合割合は、組成物１００重量部に対して、０．００１〜３重量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．５重量％である。
2−7．耐候性向上剤
本発明の組成物には、紫外線吸収剤や光安定剤等の耐光性向上剤を添加しても良い。
紫外線吸収剤としては、２−（２'−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物；
２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−イソ−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン等のトリアジン化合物；
２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４'−メチルベンゾフェノン、２,２'−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２、４、４'−トリヒドロキシベンゾフェノン、２,２',４,４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３'，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、又は２、２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物等を挙げることができる。
光安定性剤としては、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ′−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス（１，２，６，６−）ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート、等の低分子量ヒンダードアミン化合物；Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ′−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート等の高分子量ヒンダードアミン化合物等のヒンダードアミン系光安定剤を挙げることができる。
耐光性向上剤の配合割合は、組成物の合計量１００重量部に対して、０〜５重量％であることが好ましく、より好ましくは０〜１重量％である。
本発明の組成物には、紫外線吸収剤や光安定剤等の耐光性向上剤を添加しても良い。
紫外線吸収剤としては、２−（２'−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物；
２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−イソ−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン等のトリアジン化合物；
２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４'−メチルベンゾフェノン、２,２'−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２、４、４'−トリヒドロキシベンゾフェノン、２,２',４,４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３'，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、又は２、２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物等を挙げることができる。
光安定性剤としては、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ′−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス（１，２，６，６−）ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート、等の低分子量ヒンダードアミン化合物；Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−Ｎ，Ｎ′−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート等の高分子量ヒンダードアミン化合物等のヒンダードアミン系光安定剤を挙げることができる。
耐光性向上剤の配合割合は、組成物の合計量１００重量部に対して、０〜５重量％であることが好ましく、より好ましくは０〜１重量％である。
３．使用方法
本発明の組成物は、光学フィルム形成の目的に応じて種々の使用方法を採用することができる。
具体的には、基材に組成物を塗工し活性エネルギー線を照射して硬化させる方法、基材に組成物を塗工し別の基材と貼り合せた後さらに活性エネルギー線を照射して硬化させる方法、凹部を有する型枠に組成物を流し込み、活性エネルギー線を照射して硬化させる方法等が挙げられる。
本発明の組成物は、光学フィルム形成の目的に応じて種々の使用方法を採用することができる。
具体的には、基材に組成物を塗工し活性エネルギー線を照射して硬化させる方法、基材に組成物を塗工し別の基材と貼り合せた後さらに活性エネルギー線を照射して硬化させる方法、凹部を有する型枠に組成物を流し込み、活性エネルギー線を照射して硬化させる方法等が挙げられる。
基材としては、剥離可能な基材及び離型性を有しない基材（以下、「非離型性基材」という）のいずれも使用することができる。
剥離可能な基材としては、離型処理されたフィルム及び剥離性を有する表面未処理フィルム（以下、まとめて「離型材」という）等が挙げられる。
離型材としては、シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理シクロオレフィンポリマーフィルム及び表面未処理ＯＰＰフィルム（ポリプロピレン）等が挙げられる。
本発明の組成物の硬化物のヘイズを１．０％以下に抑えるためには、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理ＯＰＰフィルム（ポリプロピレン）を使用することが好ましい。
剥離可能な基材としては、離型処理されたフィルム及び剥離性を有する表面未処理フィルム（以下、まとめて「離型材」という）等が挙げられる。
離型材としては、シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理シクロオレフィンポリマーフィルム及び表面未処理ＯＰＰフィルム（ポリプロピレン）等が挙げられる。
本発明の組成物の硬化物のヘイズを１．０％以下に抑えるためには、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理ＯＰＰフィルム（ポリプロピレン）を使用することが好ましい。
本願発明の組成物から得られる光学フィルムに対して、低いヘイズにしたり表面平滑性を付与するためには、剥離可能な基材として表面粗さＲａが１５０ｎｍ以下の基材を使用することが好ましい。
当該基材の具体例としては、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理ＯＰＰフィルム（ポリプロピレン）等が挙げられる。
尚、本発明において表面粗さＲａとは、フィルムの表面の凹凸を測定し、平均の粗さを計算したものを意味する。
当該基材の具体例としては、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理ＯＰＰフィルム（ポリプロピレン）等が挙げられる。
尚、本発明において表面粗さＲａとは、フィルムの表面の凹凸を測定し、平均の粗さを計算したものを意味する。
非離型性基材としては、前記以外の各種プラスチックが挙げられ、ポリビニルアルコール、トリアセチルセルロース及びジアセチルセルロース等のセルロースアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ノルボルネン等の環状オレフィンをモノマーとする環状ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。
塗工方法としては、目的に応じて適宜設定すれば良く、従来公知のバーコート、アプリケーター、ドクターブレード、ナイフコーター、コンマコーター、リバースロールコーター、ダイコーター、リップコーター、グラビアコーター及びマイクログラビアコーター等で塗工する方法が挙げられる。
活性エネルギー線としては、電子線、紫外線及び可視光線等が挙げられる。これらの中でも、光重合開始剤を必ずしも配合する必要がなく硬化物の耐熱性や耐光性に優れるという点で、電子線を採用する。
活性エネルギー線照射における、線量や照射強度等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すれば良い。
活性エネルギー線照射における、線量や照射強度等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すれば良い。
４．光学フィルム
本発明の組成物は、光学フィルムの製造に好ましく使用できる。
以下、光学フィルムについて説明する。
尚、以下においては、図１〜図２に基づき一部説明する。
本発明の組成物は、光学フィルムの製造に好ましく使用できる。
以下、光学フィルムについて説明する。
尚、以下においては、図１〜図２に基づき一部説明する。
4−1．光学フィルムの製造方法
光学フィルムの製造方法としては常法に従えば良く、例えば、組成物を基材に塗布した後、活性エネルギー線を照射して製造することができる。
光学フィルムの製造方法としては常法に従えば良く、例えば、組成物を基材に塗布した後、活性エネルギー線を照射して製造することができる。
図１は、離型材／硬化物から構成される光学フィルムの好ましい製造方法の一例を示す。
図１において、(1)は離型材を意味する。
組成物が無溶剤型の場合（図１：Ｆ１）は、組成物を離型材〔図１：(1)〕に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合（図１：Ｆ２）は、組成物を離型材〔図１：(1)〕に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる（図１：１−１）。
離型材に組成物層(2)が形成されてなるシートに対して活性エネルギー線を照射することで、離型材／硬化物から構成される光学フィルムが得られる。活性エネルギー線の照射は、通常、組成物層側から照射するが、離型材側からも照射できる。
上記において、基材(1)として離型材を使用すれば、離型材／硬化物から構成される光学フィルムを製造することができる。
図１において、(1)は離型材を意味する。
組成物が無溶剤型の場合（図１：Ｆ１）は、組成物を離型材〔図１：(1)〕に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合（図１：Ｆ２）は、組成物を離型材〔図１：(1)〕に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる（図１：１−１）。
離型材に組成物層(2)が形成されてなるシートに対して活性エネルギー線を照射することで、離型材／硬化物から構成される光学フィルムが得られる。活性エネルギー線の照射は、通常、組成物層側から照射するが、離型材側からも照射できる。
上記において、基材(1)として離型材を使用すれば、離型材／硬化物から構成される光学フィルムを製造することができる。
本発明の組成物の塗工量としては、使用する用途に応じて適宜選択すればよいが、有機溶剤等を乾燥した後の膜厚が５〜２００μｍとなるよう塗工するのが好ましく、より好ましくは１０〜１００μｍである。
組成物が有機溶剤等を含む場合は、塗布後に乾燥させ、有機溶剤等を蒸発させる。
乾燥条件は、使用する有機溶剤等に応じて適宜設定すれば良く、４０〜１５０℃の温度に加熱する方法等が挙げられる。
乾燥条件は、使用する有機溶剤等に応じて適宜設定すれば良く、４０〜１５０℃の温度に加熱する方法等が挙げられる。
活性エネルギー線照射における、線量や照射強度等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すれば良い。
図２は、離型材／硬化物／離型材から構成される光学フィルムの好ましい製造方法の一例を示す。
図２において、(1)、(3)、(4)は離型材を意味する。
組成物が無溶剤型の場合（図２：Ｆ１）は、組成物を離型材〔図２：(1)〕に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合（図２：Ｆ２）は、組成物を離型材〔図２：(1)〕に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる（図２：２−１）。組成物層(2)には離型材(3)をラミネートした後活性エネルギー線照射したり、活性エネルギー線照射した後に離型材(4)をラミネートすることで、離型材、硬化物及び離型材が、この順に形成されてなる光学フィルムが得られる。
組成物が無溶剤型の場合（図２：Ｆ１）は、組成物を離型材〔図２：(1)〕に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合（図２：Ｆ２）は、組成物を離型材〔図２：(1)〕に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる（図２：２−１）。組成物層(2)には離型材(3)をラミネートした後活性エネルギー線照射したり、活性エネルギー線照射した後に離型材(4)をラミネートすることで、離型材、硬化物及び離型材が、この順に形成されてなる光学フィルムが得られる。
上記図１及び２では基材として離型材を使用した例を記載したが、非離型性基材を使用して、光学フィルムを製造することもできる。
例えば、図１において、(1)の離型材に代え非離型性基材を使用し、前記と同様に活性エネルギー線照射して硬化させ、非離型性基材／硬化物から構成される光学フィルムを製造することもできる。
又、図２において、(1)、(3)及び(4)のいずれかの離型材として、非離型性基材を使用し、前記と同様の方法で活性エネルギー線照射して硬化させ、離型材／硬化物／非離型性基材から構成される光学フィルムや、非離型性基材／硬化物／非離型性基材から構成される光学フィルムを製造することもできる。
当該実施態様の具体例としては、非離型性基材として偏光子を使用し、組成物を塗工して活性エネルギー線を照射し、偏光子に保護膜を直接形成させる方法等が挙げられる。
例えば、図１において、(1)の離型材に代え非離型性基材を使用し、前記と同様に活性エネルギー線照射して硬化させ、非離型性基材／硬化物から構成される光学フィルムを製造することもできる。
又、図２において、(1)、(3)及び(4)のいずれかの離型材として、非離型性基材を使用し、前記と同様の方法で活性エネルギー線照射して硬化させ、離型材／硬化物／非離型性基材から構成される光学フィルムや、非離型性基材／硬化物／非離型性基材から構成される光学フィルムを製造することもできる。
当該実施態様の具体例としては、非離型性基材として偏光子を使用し、組成物を塗工して活性エネルギー線を照射し、偏光子に保護膜を直接形成させる方法等が挙げられる。
又、前記の例では、組成物を基材に塗工して光学フィルムを製造する例を挙げたが、膜厚が大きい光学フィルムを製造する場合は、特定の凹部を有する型枠等に組成物を流し込み、前記と同様にして活性エネルギー線を照射して組成物を硬化させ光学フィルムを製造することもできる。
4−2．光学フィルムの用途
本発明の組成物から形成される光学フィルムは、種々の光学用途に使用できるものである。より具体的には、液晶表示装置等に使用される偏光板の偏光子保護フィルム、プリズムシート用支持フィルム及び導光フィルム等が挙げられ、偏光子保護フィルムに好ましく使用できる。
本発明の組成物から形成される光学フィルムは、種々の光学用途に使用できるものである。より具体的には、液晶表示装置等に使用される偏光板の偏光子保護フィルム、プリズムシート用支持フィルム及び導光フィルム等が挙げられ、偏光子保護フィルムに好ましく使用できる。
以下に、実施例及び比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。尚、下記において「部」とは、重量部を意味し、特に断りのない限り「％」とは、重量％を意味する。
○製造例Ａ１［（Ａ−１）の製造］
攪拌機、温度計及びリービッヒ冷却器を備えた１Ｌ反応容器に、室温で、アジピン酸：４００g、１，４−ブタンジオール（以下、「ＢＤ」という）：４９４．４gを仕込み、窒素雰囲気下で、１８０℃まで昇温を行い、アジピン酸の溶融が始まった時点で撹拌を開始し、生成する水をリービッヒ冷却器を通じて留出させた。テトラブチルチタネートを１重量％含むトルエン溶液：０．８９ｇを反応容器に加え、さらに２２０℃まで昇温した。水が９８ｇ留出し、ほとんど留出がなくなった時点で、反応容器を１ｋＰａまで減圧し、ＢＤを留出させた。
ＢＤの留出量が、１６４ｇになった時点で、窒素により、常圧に戻し、反応終了とし、ポリエステルポリオール（以下、「Ａｄ／ＢＤ−６８０」という）を得た。
Ａｄ／ＢＤ−６８０の水酸基価を測定した結果、１６５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、Ｐ−Ｍｎは６８０であった。
攪拌機、温度計及びリービッヒ冷却器を備えた１Ｌ反応容器に、室温で、アジピン酸：４００g、１，４−ブタンジオール（以下、「ＢＤ」という）：４９４．４gを仕込み、窒素雰囲気下で、１８０℃まで昇温を行い、アジピン酸の溶融が始まった時点で撹拌を開始し、生成する水をリービッヒ冷却器を通じて留出させた。テトラブチルチタネートを１重量％含むトルエン溶液：０．８９ｇを反応容器に加え、さらに２２０℃まで昇温した。水が９８ｇ留出し、ほとんど留出がなくなった時点で、反応容器を１ｋＰａまで減圧し、ＢＤを留出させた。
ＢＤの留出量が、１６４ｇになった時点で、窒素により、常圧に戻し、反応終了とし、ポリエステルポリオール（以下、「Ａｄ／ＢＤ−６８０」という）を得た。
Ａｄ／ＢＤ−６８０の水酸基価を測定した結果、１６５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、Ｐ−Ｍｎは６８０であった。
○製造例Ａ２［（Ａ−１）の製造］
（Ａ−１）製造例１において、ＢＤの留出量が１９３ｇになった時点で反応を終了とした以外は、前記の（Ａ−１）製造例１と同じ方法でポリエステルポリオール（以下、「Ａｄ／ＢＤ−１０００」という）を製造した。
Ａｄ／ＢＤ−１０００の水酸基価を測定した結果、１１３ｍｇＫＯＨ／ｇであり、Ｐ−Ｍｎは１，０００であった。
（Ａ−１）製造例１において、ＢＤの留出量が１９３ｇになった時点で反応を終了とした以外は、前記の（Ａ−１）製造例１と同じ方法でポリエステルポリオール（以下、「Ａｄ／ＢＤ−１０００」という）を製造した。
Ａｄ／ＢＤ−１０００の水酸基価を測定した結果、１１３ｍｇＫＯＨ／ｇであり、Ｐ−Ｍｎは１，０００であった。
○製造例Ａ３［（Ａ−１）の製造］
（Ａ−１）製造例１において、ＢＤの留出量が２１５ｇになった時点で反応を終了とした以外は、前記の（Ａ−１）製造例１と同じ方法でポリエステルポリオール（以下、「Ａｄ／ＢＤ−１６００」という）を製造した。
Ａｄ／ＢＤ−１６００の水酸基価を測定した結果、７０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、Ｐ−Ｍｎは１，６００であった。
（Ａ−１）製造例１において、ＢＤの留出量が２１５ｇになった時点で反応を終了とした以外は、前記の（Ａ−１）製造例１と同じ方法でポリエステルポリオール（以下、「Ａｄ／ＢＤ−１６００」という）を製造した。
Ａｄ／ＢＤ−１６００の水酸基価を測定した結果、７０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、Ｐ−Ｍｎは１，６００であった。
○製造例Ａ４［（Ａ−１）の製造］
（Ａ−１）製造例１において、ＢＤの留出量が２３２ｇになった時点で反応を終了とした以外は、前記の（Ａ−１）製造例１と同じ方法でポリエステルポリオール（以下、「Ａｄ／ＢＤ−３２００」という）を製造した。
Ａｄ／ＢＤ−１６００の水酸基価を測定した結果、３５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、Ｐ−Ｍｎは３，２００であった。
（Ａ−１）製造例１において、ＢＤの留出量が２３２ｇになった時点で反応を終了とした以外は、前記の（Ａ−１）製造例１と同じ方法でポリエステルポリオール（以下、「Ａｄ／ＢＤ−３２００」という）を製造した。
Ａｄ／ＢＤ−１６００の水酸基価を測定した結果、３５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、Ｐ−Ｍｎは３，２００であった。
○製造例１［ウレタン（メタ）アクリレートの製造］
攪拌機、温度計、冷却器を備えた５００ｍＬ反応容器に、室温でイソシアネートとしてＩＰＤＩ：１４５．９ｇ、触媒としてジブチルスズジラウレート：０．０７ｇを仕込み、５容量％の酸素を含む窒素の雰囲気下、これらを攪拌しながら液温が７０℃になるまで加温した。
アルコール溶液としてポリカーボネートジオール〔旭化成ケミカルズ（株）製デュラノールＴ−５６５１、Ｐ−Ｍｎ：１，０００。以下、「Ｔ５６５１」という〕：４３．０ｇ、ＢＤ：３３．５ｇ及びメチルエチルケトン（以下、「ＭＥＫ」という）：６５．０ｇの混合溶液を内温が７５℃以下となるように滴下した後、内温８０℃で２時間反応させた。
その後、２−ヒドロキシエチルアクリレート（以下、「ＨＥＡ」という）：５７．６ｇ、重合禁止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール：０．２８ｇ、ＭＥＫ：５．０ｇ及びジブチルスズジラウレート：０．０７ｇの混合溶液を内温が７５℃以下となるように滴下した後３時間反応させ、赤外線吸収スペクトル装置（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ製ＦＴ−ＩＲ Ｓｐｅｃｔｒｕｍ１００）によりスペクトルを測定し、イソシアネート基が完全に消費されたことを確認し、ウレタンアクリレート（以下、「ＵＡ−１」という）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を得た。
ＵＡ−１のＭｎ（ポリスチレン換算数平均分子量）を、ＧＰＣ（溶媒：テトラヒドロフラン、カラム：Ｗａｔｅｒｓ製ＨＳＰｇｅｌ ＨＲ ＭＢ−Ｌ）により測定した結果、１，１００であった。
攪拌機、温度計、冷却器を備えた５００ｍＬ反応容器に、室温でイソシアネートとしてＩＰＤＩ：１４５．９ｇ、触媒としてジブチルスズジラウレート：０．０７ｇを仕込み、５容量％の酸素を含む窒素の雰囲気下、これらを攪拌しながら液温が７０℃になるまで加温した。
アルコール溶液としてポリカーボネートジオール〔旭化成ケミカルズ（株）製デュラノールＴ−５６５１、Ｐ−Ｍｎ：１，０００。以下、「Ｔ５６５１」という〕：４３．０ｇ、ＢＤ：３３．５ｇ及びメチルエチルケトン（以下、「ＭＥＫ」という）：６５．０ｇの混合溶液を内温が７５℃以下となるように滴下した後、内温８０℃で２時間反応させた。
その後、２−ヒドロキシエチルアクリレート（以下、「ＨＥＡ」という）：５７．６ｇ、重合禁止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール：０．２８ｇ、ＭＥＫ：５．０ｇ及びジブチルスズジラウレート：０．０７ｇの混合溶液を内温が７５℃以下となるように滴下した後３時間反応させ、赤外線吸収スペクトル装置（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ製ＦＴ−ＩＲ Ｓｐｅｃｔｒｕｍ１００）によりスペクトルを測定し、イソシアネート基が完全に消費されたことを確認し、ウレタンアクリレート（以下、「ＵＡ−１」という）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を得た。
ＵＡ−１のＭｎ（ポリスチレン換算数平均分子量）を、ＧＰＣ（溶媒：テトラヒドロフラン、カラム：Ｗａｔｅｒｓ製ＨＳＰｇｅｌ ＨＲ ＭＢ−Ｌ）により測定した結果、１，１００であった。
○製造例２〜１７
使用した原料を表１〜同３に変更した以外は、製造例１と同様の方法により、ウレタンアクリレート（ＵＡ−２〜１７）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を製造した。
使用した原料を表１〜同３に変更した以外は、製造例１と同様の方法により、ウレタンアクリレート（ＵＡ−２〜１７）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を製造した。
表１〜同３において、表中の数字は、重量（ｇ）を示し、括弧内の数字は、全ポリオールのモル数を１００とした場合の（Ａ−１）と（Ａ−２）のモル比率を表す。
表１〜同３における略号は、前記で定義したもの以外は下記を意味する。
表１〜同３における略号は、前記で定義したもの以外は下記を意味する。
◆（Ａ−１）
・Ｔ５６５１：ポリカーボネートジオール（水酸基価：１０８ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｐ−Ｍｎ：１０４０）〔旭化成ケミカルズ（株）製、商品名：デュラノールＴ５６５１〕
・Ｔ５６５２：ポリカーボネートジオール（水酸基価：５６ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｐ−Ｍｎ：２０００）〔旭化成ケミカルズ（株）製、商品名：デュラノールＴ５６５２〕
・ＰＴＧ−Ｌ１０００：ポリテトラメチレングリコール（水酸基価：１１４ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｐ−Ｍｎ：１０００）〔保土谷化学工業（株）製、商品名：ＰＴＧ−Ｌ１０００〕
・Ｔ５６５１：ポリカーボネートジオール（水酸基価：１０８ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｐ−Ｍｎ：１０４０）〔旭化成ケミカルズ（株）製、商品名：デュラノールＴ５６５１〕
・Ｔ５６５２：ポリカーボネートジオール（水酸基価：５６ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｐ−Ｍｎ：２０００）〔旭化成ケミカルズ（株）製、商品名：デュラノールＴ５６５２〕
・ＰＴＧ−Ｌ１０００：ポリテトラメチレングリコール（水酸基価：１１４ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｐ−Ｍｎ：１０００）〔保土谷化学工業（株）製、商品名：ＰＴＧ−Ｌ１０００〕
◆（Ａ−２）
・ＰＣＬ３０３：ポリカプロラクトントリオール（水酸基価：５４４ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｐ−Ｍｎ：３０９）〔（株）ダイセル製〕
・ＴＣＤＤＭ：トリシクロデカンジメタノール（水酸基価：５７２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｐ−Ｍｎ：１９６）〔オクセア社製）
・ＳＰＧ：スピログリコール（水酸基価：３６９ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｐ−Ｍｎ：３０４）〔三菱ガス化学（株）製〕
・ＰＣＬ３０３：ポリカプロラクトントリオール（水酸基価：５４４ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｐ−Ｍｎ：３０９）〔（株）ダイセル製〕
・ＴＣＤＤＭ：トリシクロデカンジメタノール（水酸基価：５７２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｐ−Ｍｎ：１９６）〔オクセア社製）
・ＳＰＧ：スピログリコール（水酸基価：３６９ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｐ−Ｍｎ：３０４）〔三菱ガス化学（株）製〕
◆化合物（Ｂ）
・ＤＭ−Ｗ：ジシクロヘキシルメタン−４，４‘−ジイソシアネート〔住友バイエルウレタン（株）製、商品名：デスモジュールＷ〕
・ＨＤＩ：ヘキサメチレンジイソシアネート
・ＤＭ−Ｗ：ジシクロヘキシルメタン−４，４‘−ジイソシアネート〔住友バイエルウレタン（株）製、商品名：デスモジュールＷ〕
・ＨＤＩ：ヘキサメチレンジイソシアネート
◆化合物（Ｃ）
・ＦＡ１ＤＤＭ：２−ヒドロキシエチルアクリレートのε−カプロラクトン１モル付加物〔（株）ダイセル製〕
・ＦＡ１ＤＤＭ：２−ヒドロキシエチルアクリレートのε−カプロラクトン１モル付加物〔（株）ダイセル製〕
・Ｍ−２１５：トリヒドロキシエチルイソシアヌレートジアクリレート〔東亞合成（株）製、商品名：アロニックスＭ−２１５〕
○比較製造例１〜４
使用した原料を表４のように変更した以外は、製造例１と同様の方法により、ウレタンアクリレート（ＵＡ−１８〜２１）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を製造した。
使用した原料を表４のように変更した以外は、製造例１と同様の方法により、ウレタンアクリレート（ＵＡ−１８〜２１）を含むＭＥＫ溶液（固形分８０％）を製造した。
表４において、表中の数字は、重量（ｇ）を示し、括弧内の数字は、全ポリオールのモル数を１００とした場合の各ポリオール成分のモル比率を表す。
○実施例１〜同１６、参考例１及び比較例１〜同４（組成物の製造）
製造例１〜同１７及び比較製造例１〜同４で得られたウレタンアクリレート溶液１００部とＭＥＫ１０部をステンレス製容器に投入し、加温しながらマグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、組成物を得た。
得られた組成物の割合を表５に示す。尚、表５におけるＭＥＫの部数は、原料ウレタンアクリレート溶液に含まれるＭＥＫと別途配合するＭＥＫの合計量を示す。
製造例１〜同１７及び比較製造例１〜同４で得られたウレタンアクリレート溶液１００部とＭＥＫ１０部をステンレス製容器に投入し、加温しながらマグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、組成物を得た。
得られた組成物の割合を表５に示す。尚、表５におけるＭＥＫの部数は、原料ウレタンアクリレート溶液に含まれるＭＥＫと別途配合するＭＥＫの合計量を示す。
○実施例１〜同１６、参考例１及び比較例１〜同４（電子線硬化による光学フィルムの製造）
幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍの東レ（株）製フィルム「ルミラー５０−Ｔ６０」（表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ５０μｍ、以下「ルミラー」という）に、実施例１〜１０及び比較例１〜６で得られた組成物を、８０℃で１０分乾燥した後の膜厚が４０μｍになるようアプリケーターで塗工した。
その後、組成物層に、幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍのルミラーをラミネートした後、（株）ＮＨＶコーポレーション製の電子線照射装置により、加速電圧２００ｋＶ、線量５０ｋＧｙ（ビーム電流及び搬送速度により調整）、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の条件下で電子線照射を行い、光学フィルムを得た。
硬化後、ルミラーから剥離し、下記の引張試験の評価を行った。その結果を表５に示す。
幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍの東レ（株）製フィルム「ルミラー５０−Ｔ６０」（表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ５０μｍ、以下「ルミラー」という）に、実施例１〜１０及び比較例１〜６で得られた組成物を、８０℃で１０分乾燥した後の膜厚が４０μｍになるようアプリケーターで塗工した。
その後、組成物層に、幅３００ｍｍ×長さ３００ｍｍのルミラーをラミネートした後、（株）ＮＨＶコーポレーション製の電子線照射装置により、加速電圧２００ｋＶ、線量５０ｋＧｙ（ビーム電流及び搬送速度により調整）、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の条件下で電子線照射を行い、光学フィルムを得た。
硬化後、ルミラーから剥離し、下記の引張試験の評価を行った。その結果を表５に示す。
（引張試験）
作成したフィルムから、１５×１５０mmのサンプルを切り出し、引張試験機（インストロンジャパンカンパニーリミテッド製インストロン５５６４）を用いて、以下の条件で引張試験を実施した。
チャック間距離：１００ｍｍ
引張速度：５０ｍｍ／分
作成したフィルムから、１５×１５０mmのサンプルを切り出し、引張試験機（インストロンジャパンカンパニーリミテッド製インストロン５５６４）を用いて、以下の条件で引張試験を実施した。
チャック間距離：１００ｍｍ
引張速度：５０ｍｍ／分
実施例１〜同１６の組成物の硬化物は、破断強度及び破断伸びのいずれも大きいものであった。
一方、比較例１は、（Ａ−１）／（Ａ−２）のモル比が本発明の上限３０／７０を超える割合で製造されたウレタンアクリレート（ＵＡ’−１）を含む組成物であり、その硬化物は、破断伸びに優れるものの、破断強度が不十分なものであった。比較例２及び同４は、（Ａ−１）を使用せず（Ａ−２）のみから製造されたウレタンアクリレート（ＵＡ’−２、ＵＡ’−４）を含む組成物であり、その硬化物は、比較例２では、破断強度は若干低いものの、破断伸びが非常に低いものあり、比較例４では、硬化物が脆すぎたため、破断強度及び破断伸びが測定できなかった。比較例３は、（Ａ−２）を使用せず（Ａ−１）のみから製造されたウレタンアクリレート（ＵＡ’−３）を含む組成物であり、その硬化物は、比較例２では、破断強度が低いうえ、破断伸びが高すぎ、光学用途には適さないものであった。
一方、比較例１は、（Ａ−１）／（Ａ−２）のモル比が本発明の上限３０／７０を超える割合で製造されたウレタンアクリレート（ＵＡ’−１）を含む組成物であり、その硬化物は、破断伸びに優れるものの、破断強度が不十分なものであった。比較例２及び同４は、（Ａ−１）を使用せず（Ａ−２）のみから製造されたウレタンアクリレート（ＵＡ’−２、ＵＡ’−４）を含む組成物であり、その硬化物は、比較例２では、破断強度は若干低いものの、破断伸びが非常に低いものあり、比較例４では、硬化物が脆すぎたため、破断強度及び破断伸びが測定できなかった。比較例３は、（Ａ−２）を使用せず（Ａ−１）のみから製造されたウレタンアクリレート（ＵＡ’−３）を含む組成物であり、その硬化物は、比較例２では、破断強度が低いうえ、破断伸びが高すぎ、光学用途には適さないものであった。
本発明の光学フィルム形成用電子線硬化型組成物は、光学フィルムの製造に好適に使用することができる。
Claims (9)
- 数平均分子量が６００以上２，５００以下のポリオール（Ａ−１）、数平均分子量が６０以上４００以下のポリオール（Ａ−２）、無黄変型有機ポリイソシアネート（Ｂ）及びヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート（Ｃ）の反応物であって、
全ポリオールのモル数を１００としたときの（Ａ−１）と（Ａ−２）モル比：（Ａ−１）／（Ａ−２）が１／９９〜３０／７０で、
（Ａ−１）が、ポリカーボネートポリオール及び／又はポリエステルポリオールである
ウレタン（メタ）アクリレートを含み、
光重合開始剤を含まない
光学フィルム又は光学シート形成用電子線硬化型組成物。 - 前記（Ａ−１）が、数平均分子量１，０００以上２，０００以下のポリオールである請求項１に記載の光学フィルム又は光学シート形成用電子線硬化型組成物。
- ウレタン（メタ）アクリレートの数平均分子量が、６００〜３，０００である請求項１又は請求項２に記載の光学フィルム又は光学シート形成用電子線硬化型組成物。
- 有機溶剤をさらに含む請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光学フィルム又は光学シート形成用電子線硬化型組成物。
- 請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の組成物の硬化物が、フィルム状又はシート状に形成されてなる光学フィルム又は光学シート。
- シート状基材に、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の組成物を塗布した後、塗工面側又はシート状基材側から電子線を照射する光学フィルム又は光学シートの製造方法。
- シート状基材が剥離可能な基材である請求項６記載の光学フィルム又は光学シートの製造方法。
- シート状基材に、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の組成物を塗布し、組成物の塗工面に他のシート状基材を貼合した後、前記シート状基材のいずれかの側から電子線を照射する光学フィルム又は光学シートの製造方法。
- シート状基材のいずれか一方又は両方が剥離可能な基材である請求項８記載の光学フィルム又は光学シートの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011283095A JP5803661B2 (ja) | 2011-12-26 | 2011-12-26 | 光学フィルム又は光学シート形成用電子線硬化型組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011283095A JP5803661B2 (ja) | 2011-12-26 | 2011-12-26 | 光学フィルム又は光学シート形成用電子線硬化型組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013133367A JP2013133367A (ja) | 2013-07-08 |
| JP5803661B2 true JP5803661B2 (ja) | 2015-11-04 |
Family
ID=48910293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011283095A Expired - Fee Related JP5803661B2 (ja) | 2011-12-26 | 2011-12-26 | 光学フィルム又は光学シート形成用電子線硬化型組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5803661B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101508706B1 (ko) * | 2012-09-20 | 2015-04-07 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 자외선 경화성 우레탄아크릴레이트 조성물, 박막 성형체, 광학 필름, 및 박막 성형체의 제조 방법 |
| EP3720895A1 (en) | 2017-12-07 | 2020-10-14 | Lubrizol Advanced Materials, Inc. | Chemical and stain resistant thermoplastic polyurethane composition |
| JP7484090B2 (ja) * | 2018-06-21 | 2024-05-16 | 三菱ケミカル株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、およびそれを用いたコーティング剤、ならびにシート |
| JP7110754B2 (ja) * | 2018-06-21 | 2022-08-02 | 三菱ケミカル株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、およびそれを用いたコーティング剤、ならびにシート |
| JP2020176161A (ja) * | 2019-04-15 | 2020-10-29 | 旭化成株式会社 | 硬化型組成物 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05105746A (ja) * | 1991-10-15 | 1993-04-27 | Kuraray Co Ltd | ポリオール、硬化性樹脂およびそれを含む組成物 |
| JPH11322868A (ja) * | 1998-05-12 | 1999-11-26 | Nippon Kayaku Co Ltd | 樹脂組成物、レンズ用樹脂組成物及びその硬化物 |
| JP2007023147A (ja) * | 2005-07-15 | 2007-02-01 | Toagosei Co Ltd | 光学材料用活性エネルギー線硬化型組成物 |
| JP2010116528A (ja) * | 2007-12-21 | 2010-05-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 光学フィルム及び該光学フィルムの製造方法 |
-
2011
- 2011-12-26 JP JP2011283095A patent/JP5803661B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2013133367A (ja) | 2013-07-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5880304B2 (ja) | 光学フィルム又はシートの製造方法 | |
| JP5983098B2 (ja) | 偏光板 | |
| JP6127490B2 (ja) | 偏光板 | |
| JP6094193B2 (ja) | 光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物及び光学フィルム又はシート及び偏光板 | |
| JP5811834B2 (ja) | 光学フィルム又は光学シート、偏光子保護フィルム及び偏光板 | |
| JP5803661B2 (ja) | 光学フィルム又は光学シート形成用電子線硬化型組成物 | |
| KR102190726B1 (ko) | 열성형성 하드코트 용도의 uv-경화성 아크릴계 수지 | |
| WO2013081101A1 (ja) | 光学フィルム形成用活性エネルギー線硬化型組成物、光学フィルム、偏光子保護フィルム及び偏光板 | |
| JP2014048453A (ja) | 加熱処理による低位相差光学フィルム又はシートの製造方法 | |
| JP6625534B2 (ja) | タッチパネル用紫外線硬化型接着剤組成物及び物品 | |
| JP6493699B2 (ja) | 樹脂シート及びその製造方法 | |
| WO2016121706A1 (ja) | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JP6519729B2 (ja) | 樹脂シート及びその製造方法 | |
| JP2013141820A (ja) | 光学フィルム又はシートの製造方法 | |
| TWI510530B (zh) | 製備塑膠膜的方法 | |
| JP6780698B2 (ja) | 樹脂シートの製造方法 | |
| JP5891972B2 (ja) | 光学フィルム又はシート、偏光子保護フィルム及び偏光板 | |
| JP2014122987A (ja) | 光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物及び光学フィルム又はシート | |
| JP2014048454A (ja) | 低位相差光学フィルム又はシートの製造方法 | |
| JP6256021B2 (ja) | 光学フィルム又はシート形成用活性エネルギー線硬化型組成物及び光学フィルム又はシート | |
| JP6418053B2 (ja) | 樹脂シートの製造方法 | |
| JP6705276B2 (ja) | ウレタン（メタ）アクリレート樹脂及び積層フィルム | |
| JP6107056B2 (ja) | 光学フィルム又は光学シートを形成するための活性エネルギー線硬化型組成物 | |
| JP2015011180A (ja) | 低位相差光学フィルム状又はシートの製造方法 | |
| JP2021105170A (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140122 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140611 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140617 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140729 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141202 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150109 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150804 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150817 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5803661 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |