JP5631464B1

JP5631464B1 - 露光装置

Info

Publication number: JP5631464B1
Application number: JP2013180743A
Authority: JP
Inventors: 和彦河東; 慎一羽生
Original assignee: Beac Co Ltd
Current assignee: Beac Co Ltd
Priority date: 2013-08-30
Filing date: 2013-08-30
Publication date: 2014-11-26
Anticipated expiration: 2033-08-30
Also published as: CN104423180A; KR101587731B1; KR20150026963A; JP2015049356A; CN104423180B

Abstract

【課題】ロール・トゥ・ロール方式の露光装置において、マスク板のパターン面の除塵を自動的に、かつ、露光動作に影響を与えることなく、マスク板のパターン面の除塵を行うことができるようにする。【解決手段】基板Ｗを保持する露光テーブル２４１を有し、ｚ軸に沿って基板Ｗとともに昇降可能な露光ステージ２４０と、マスク板２１０の後方側の端部からｘ軸に沿って所定間隔離間した第１位置（後方側）とマスク板２１０の前方側の端部からｘ軸に沿って所定間隔離間した第２位置（前方側）との間を、往復動する際の可動範囲として、当該可動範囲内を進行しながらマスク板２１０のパターン面Ｍを除塵する動作を行うマスク除塵部２３０と、マスク除塵部２３０の往復動を制御するマスク除塵部制御装置４００と、露光ステージ２４０の昇降を制御する露光ステージ制御装置５００とを備える。【選択図】図１

Description

本発明は、基板の感光面とマスク板のパターン面とを対面させて、基板の感光面を露光することによって基板にパターンを転写する露光装置に関する。

基板の感光面とマスク板のパターン面とを対面させて、基板の感光面を露光することによって基板にパターンを転写する露光装置は従来から種々知られている。この種の露光装置においては、基板の感光面を除塵するだけでなく、マスク板における基板との対向面（マスク板のパターン面という。）を除塵することが重要である。これは、マスク板のパターン面に塵埃が存在していると、露光した際にマスクに形成されているパターンとともに塵埃までが転写されてしまい、当該基板が不良品となってしまうといった不具合が発生するからである。

ところで、このような露光装置には、１枚１枚が短尺シート状となっている基板の露光対象とする露光装置だけではなく、長尺シート状の基板を露光対象とする露光装置もある。

長尺シート状の基板を露光対象とする露光装置は、送り出し部と巻き取り部との間に架け渡されている長尺シート状の基板を間欠的に所定量ずつ搬送させて行く過程で、基板の感光面とマスク板のパターン面とを対面させて、基板の感光面を露光するものであり、いわゆるロール・トゥ・ロール（Roll to Roll）方式の露光装置として従来から知られている（例えば、特許文献１参照。）。

図８は、特許文献１に記載されている露光装置９００を説明するために示す図である。特許文献１に開示されている露光装置９００は、図８示すように、長尺シート状の基板９１０を送り出す送り出し部９２０と露光済みの基板を巻き取る巻き取り部９３０との間に露光部９４０を配置し、基板９１０を搬送させて行く過程で、基板９１０の感光面とマスク板９５０のパターン面とを対面させて基板９１０の感光面を露光する「ロール・トゥ・ロール方式の露光装置」である。

なお、特許文献１に記載されている露光装置９００は、基板９１０の両面が感光面となっており、基板９１０の両面を同時に露光可能とするものであるため、マスク板９５０は基板９１０を挟むように上下にそれぞれ設けられている。なお、以下の説明では、上側のマスク板９５０を上側マスク板９５１とし、下側のマスク板９５０を下側マスク板９５２として説明する。

このようなロール・トゥ・ロール方式の露光装置においても、マスク板９５０（上側マスク板９５１及び下側マスク板９５２）の各パターン面を除塵することが重要である。特許文献１に記載されている露光装置９００においては、上側マスク板９５１及び下側マスク板９５２における各パターン面の除塵は次のようにして行う。

特許文献１に記載されている露光装置９００においては、上側マスク板９５１の除塵を行う際には、基板９１０をｚ軸に沿って昇降可能な高さ調節ローラー９６０によって、基板９１０をｚ軸に沿って上昇させることにより、基板９１０を下側マスク板９５２から離間させるとともに、上側マスク板９５１をｚ軸に沿って上昇させることによって、上側マスク板９５１を基板９１０から離間させた状態として、上側マスク板９５１のパターン面を除塵する。

一方、下側マスク９５２の除塵を行う際には、上側のマスク板９５１をｚ軸に沿って上昇させて下側マスク板９５２との間に広い間隔が形成されるようにするとともに、高さ調節ローラー９６０によって基板９１０を下側のマスク板９５２から離間させた状態として、下側マスク板９５２を除塵する。

特開２００１−１２５２７４号公報

上記したように、特許文献１に記載されている露光装置９００においてマスク板９５０（上側マスク板９５１及び下側マスク板９５２）の各パターン面を除塵する際は、上側マスク板のパターン面及び下側マスク板のパターン面の除塵がし易いように、各パターン面と基板との間隔をあけるように、基板及び上側のマスク板を移動させる操作を行った上で、上側マスク板のパターン面及び下側マスク板のパターン面の除塵を行う。また、特許文献１に記載の露光装置９００においては、マスク板のパターン面を除塵するための除塵装置は特に設けられていないため、マスク板のパターン面の除塵は、作業者が手作業で行うものと考えられる。このため、マスク板におけるパターン面の除塵を行う際に多くの手間がかかる。

また、特許文献１に記載されている露光装置９００においては、マスク板におけるパターン面の除塵を行う際には、露光動作を停止させる必要がある。このため、本来、高速で効率的な露光が可能となるはずのロール・トゥ・ロール方式の露光装置において、マスクの除塵のために、高速化及び効率化が大きく損なわれることとなる。特に、より高品質な露光を行おうとする場合には、マスクの除塵は、頻繁に行うことが求められるため、マスクの除塵を行うたびに、上記したような工程をその都度行う必要があり、高速化及び効率化がより大きく損なわれることとなる。

なお、この明細書において、「露光動作」というのは、「長尺シート状の基板を間欠的に所定量ずつ搬送させて行く過程で、基板の感光面とマスク板のパターン面とを対面させて、基板の感光面を露光する動作」をいう。

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、ロール・トゥ・ロール方式の露光装置において、マスク板のパターン面の除塵を自動的に行うことができ、しかも、当該ロール・トゥ・ロール方式の露光装置が行う露光動作に影響を与えることなく、マスク板のパターン面の除塵を行うことができる露光装置を提供することを目的とする。

［１］本発明の露光装置は、送り出し部と巻き取り部との間に架け渡されている長尺シート状の基板を間欠的に所定量ずつ搬送させて行く過程で、前記基板の感光面とマスク板のパターン面とを対面させて、前記基板の感光面を露光する露光装置であって、前記基板がｘ軸及びｙ軸によって形成されるｘｙ平面におけるｘ軸に沿って前記巻き取り部に向かう側を前方側とし、当該前方側とは反対側を後方側としたとき、前記基板を挟んで前記マスク板と対向する位置に配置され、ｘｙ平面に直交するｚ軸に沿って前記基板とともに昇降可能な露光ステージと、ｘ軸に沿った往復動が可能で前記露光ステージとともにｚ軸に沿って昇降可能であり、かつ、前記基板の感光面からｚ軸に沿って離間した状態で前記マスク板の側に位置するように前記露光ステージに設けられ、少なくとも、前記マスク板の前記後方側の端部からｘ軸に沿ってさらに後方側に所定間隔離間した第１位置と前記マスク板の前記前方側の端部からｘ軸に沿ってさらに前方側に所定間隔離間した第２位置との間の範囲を、前記往復動する際の可動範囲として、当該可動範囲内を進行しながら前記マスク板のパターン面を除塵する動作を行うマスク除塵部と、前記マスク除塵部を前記往復動させるためのマスク除塵部駆動機構部と、前記マスク除塵部駆動機構部を制御することによって前記マスク除塵部の前記往復動を制御するマスク除塵部制御装置と、前記露光ステージをｚ軸に沿って昇降可能とするための露光ステージ駆動機構部と、前記露光ステージ駆動機構部を制御することによって前記露光ステージの昇降を制御する露光ステージ制御装置と、を有し、前記基板の感光面を露光する際には、前記マスク除塵部制御装置は、前記マスク除塵部が、前記第１位置又は前記第２位置に達した状態となるように前記マスク除塵部駆動機構部を制御し、前記露光ステージ制御部は、前記マスク除塵部が、前記第１位置又は前記第２位置に達した状態において、前記露光ステージをｚ軸に沿って移動させて前記基板の感光面と前記マスク板のパターン面とが接触又は近接した状態となるように前記露光ステージ駆動機構部を制御することを特徴とする。

本発明の露光装置は、マスク除塵部は、ｘ軸に沿った方向においてマスク板よりも広い範囲（第１位置と第２位置との間の範囲）を可動範囲として、当該可動範囲を進行することによってマスク板のパターン面を除塵するような構成としている。そして、基板の感光面を露光する際には、マスク除塵部が、第１位置又は前記第２位置に達した状態において、露光ステージをｚ軸に沿って移動させて基板の感光面とマスク板のパターン面とが接触又は近接した状態となるようにして露光を行うようにしている。これにより、本発明の露光装置によれば、ロール・トゥ・ロール方式の露光装置でおいても、マスク板のパターン面の除塵を自動的に行うことができ、しかも、当該ロール・トゥ・ロール方式の露光装置が行う露光動作に影響を与えることなく、マスク板のパターン面の除塵を行うことができる。

［２］本発明の露光装置においては、前記マスク除塵部は、前記基板を間欠的に所定量ずつ搬送させている間に前記マスク板のパターン面を除塵する動作を行うことが好ましい。

このように、基板を搬送させている間にマスク板のパターン面を除塵する動作を行うため、ロール・トゥ・ロール方式の露光装置が行うもともとの露光動作に影響を及ぼすことなく、マスク板のパターン面を除塵することができる。これにより、ロール・トゥ・ロール方式の露光装置がもともと有している露光動作速度を維持することができる。

［３］本発明の露光装置においては、前記マスク除塵部が前記可動範囲内を前記前方側に進行する動作を前方進行動作とし、前記マスク除塵部が前記可動範囲内を前記前方側に進行する動作を後方進行動作としたとき、前記マスク除塵部は、前記前方進行動作及び前記後方進行動作それぞれにおいて前記マスク板のパターン面を除塵する動作を行い、前記前方進行動作及び前記後方進行動作それぞれにおいて前記マスク板のパターン面を除塵する動作は、前記基板を間欠的に所定量ずつ搬送させて行く間に交互に行うことが好ましい。

このように、マスク除塵部は、当該マスク除塵部の可動範囲を前方進行動作及び後方進行動作する際に、前方進行動作及び後方進行動作それぞれにおいてマスク板のパターン面を除塵する動作を行う。また、前方進行動作及び後方進行動それぞれにおいてマスク板のパターン面を除塵する動作は、基板が間欠的に所定量ずつ搬送されて行く動作の間に交互に行っている。このため、基板の搬送動作と、マスク除塵部の除塵動作とを無駄なく効率的に行うことができる。また、露光動作を間欠的に行う際に、露光動作と露光動作との間には必ずマスク板のパターン面が除塵されることとなるため、常に、マスク板のパターン面が除塵された状態で露光することができる。

［４］本発明の露光装置においては、前記マスク除塵部は、少なくとも表面に粘着力を有するロール状をなしており、前記マスク除塵部が前記マスク板のパターン面を除塵する動作は、前記マスク板のパターン面に接触した状態で回転して行く動作であることが好ましい。
これにより、マスク板のパターン面を効率よく、かつ、確実に除塵することができる。

［５］本発明の露光装置においては、前記マスク除塵部は、前記マスク板のパターン面に接触した状態となると、バネの伸張力によって前記パターン面を押圧する力が働くように前記露光ステージに設けられていることが好ましい。

このため、マスク除塵部をパターン面に適切な押圧力で接触させることができ、接触させる際の押圧力の制御などを高精度に行う必要がない。また、マスク除塵部とパターン面との間隔（ｚ軸に沿った間隔）も高精度に調整する必要がなく、マスク除塵部とパターン面との間隔（ｚ軸に沿った間隔）の調整作業を軽減することができる。

［６］本発明の露光装置においては、前記マスク除塵部が前記マスク板に対してｘ軸及びｚ軸に沿ってそれぞれ離間している位置から前記マスク除塵部を前記マスク板のパターン面に接触させる際においては、マスク除塵部制御装置は、前記マスク除塵部が前記マスク板のパターン面におけるｘ軸に沿った端部付近に対向する位置に達するように前記マスク除塵部駆動機構部を制御し、前記露光ステージ制御部は、前記マスク除塵部が前記マスク板のパターン面におけるｘ軸に沿った端部付近に対向する位置に達すると、前記マスク除塵部を前記マスク板のパターン面におけるｘ軸に沿った端部付近に接触させるように前記露光ステージ駆動機構部を制御することが好ましい。

このように、マスク除塵制御装置及び露光ステージ制御装置は、マスク除塵部がマスク板のパターン面におけるｘ軸に沿った端部付近に対向する位置に達したときに、マスク除塵部をマスク板のパターン面におけるｘ軸に沿った端部付近に接触させるようにマスク除塵部駆動機構部及び露光ステージ駆動機構部をそれぞれ制御するようにしている。このため、マスク除塵部がｘ軸に沿って進行する際に、マスク除塵部がマスク板の端部をｘ軸に沿ったマスク除塵部の進行方向に押してしまうという動作が生じない。これにより、マスク板の位置ずれを防止することができ、また、マスク板の端部における角部などが破損してしまうことも防止できる。

［７］本発明の露光装置においては、前記マスク除塵部は、前記マスク板のパターン面におけるｙ軸方向に沿った吸引口を有し、吸引によって前記マスク板のパターン面を除塵する吸引式のマスク除塵部であって、前記吸引式のマスク除塵部が前記マスク板のパターン面を除塵する動作は、前記マスク板のパターン面との間に所定の空隙を有した状態で吸引力を発揮しながら前記マスク板のパターン面に沿ってｘ軸方向に沿って進行して行く動作であることが好ましい。
マスク除塵部として、このような吸引式マスクの除塵部を用いることによっても、上記［１］〜［３］の発明によって得られる効果と同様の効果を得ることができる。

［８］本発明の露光装置においては、前記基板の少なくとも前記感光面を除塵する基板除塵部を有することが好ましい。
これにより、マスク板のパターン面の除塵だけではなく、基板の少なくとも感光面の除塵も行うことができる。

［９］本発明の露光装置においては、前記基板除塵部は、少なくとも表面に粘着力を有するロール状をなし、前記基板の少なくとも感光面に接触した状態で設けられており、前記基板を間欠的に所定量ずつ搬送させる際の前記基板の搬送に伴って回転することが好ましい。

これにより、マスク板のパターン面を効率よく、かつ、確実に除塵することができる。また、基板を搬送させている間に基板の少なくとも感光面を除塵する動作を行うため、ロール・トゥ・ロール方式の露光装置が行うもともとの露光動作に影響を及ぼすことなく、基板の少なくとも感光面を除塵することができる。これにより、ロール・トゥ・ロール方式の露光装置がもともと有している露光動作速度を維持することができる。なお、除塵機能を有する２つのロールで基板を挟み込むような構成としてもよく、このような構成とすることにより、基板の両面を同時に除塵することができる。

実施形態に係る露光装置１０を説明するために示す全体的な構成図である。実施形態に係る露光装置１０における露光部２００の構成を説明するために示す図である。実施形態に係る露光装置１０におけるマスク除塵部制御装置４００及び露光ステージ制御装置５００の構成を示す図である。実施形態に係る露光装置１０の動作を説明するために示す図である。実施形態に係る露光装置１０の動作を説明するために示す図である。実施形態に係る露光装置１０の動作を説明するために示す図である。実施形態に係る露光装置１０の動作を説明するために示す図である。特許文献１に記載されている露光装置９００を説明するために示す図である。

以下、本発明の実施形態について説明する。

［実施形態１］
図１は、実施形態に係る露光装置１０を説明するために示す全体的な構成図である。なお、図１は、実施形態１係る露光装置１０を模式的に示すものであり、実施形態に係る露光装置１０を説明する上で特に必要としない構成要素については図示が省略されている。また、図１は模式図であるため、実際の構成要素の寸法を同一比率で縮小したものとはなっておらず、構成要素が誇張されて描かれていたり、より縮小されて描かれていたりしている。

実施形態に係る露光装置１０は、図１に示すように、長尺シート状の基板Ｗをｘ軸及びｙ軸によって形成されるｘｙ平面におけるｘ軸に沿って間欠的に所定量ずつ搬送する搬送機構部１００と、搬送機構部１００によって間欠的に所定量ずつ搬送される基板Ｗの感光面Ａを露光する露光部２００と、これら搬送機構部１００及び露光部２００を収納している露光装置筐体３００と、露光部２００におけるマスク除塵部２３０（後述する。）を制御するマスク除塵部制御装置４００と、露光部２００における露光ステージ２４０（後述する。）を制御する露光ステージ制御装置５００とを有している。実施形態に係る露光装置１０は、これらの構成要素の他に、図示は省略するが、マスク板２１０及び基板Ｗなどに帯電している静電気を除電する除電部なども設けられている。

搬送機構部１００は、長尺シート状の基板Ｗを送り出す送り出し部１１０と、露光部２００によって露光された露光済みの基板Ｗを巻き取る巻き取り部１２０と、基板Ｗをｘ軸に沿って間欠的に所定量ずつ搬送させる間欠送り機構部１３０と、露光部２００よりも送り出し部１１０の側に配置され、基板Ｗの感光面Ａを除塵する基板除塵部１４０と、搬送路上に設けられる送りローラー１５１，１５２とを有している。なお、送り出し部１１０及び巻き取り部１２０は、それぞれがロール状をなしているため、以下、送り出しローラー１１０、巻き取りローラー１２０という。

このように、実施形態に係る露光装置１０は、送り出しローラー１１０に巻き取られている基板Ｗを間欠的に所定量ずつ搬送させて行く過程で、露光部２００によって基板Ｗの感光面Ａを露光させたのち、露光済みの基板Ｗを巻き取りローラーで巻き取る「ロール・トゥ・ロール（Roll to Roll）」方式の露光装置である。なお、この明細書においては、基板Ｗがｘ軸に沿って巻き取り部１２０に搬送されて行く側を前方側とし、当該前方側とは反対側を後方側として説明する。

搬送機構部１００における間欠送り機構部１３０は、例えば、固定クランパ―１３１を開放して、送りクランパ―１３２によって基板Ｗをクランプして所定量だけ送り、所定量だけ送ったのちは固定クランパ―で基板Ｗをクランプし、その後、再び、固定クランパ―１３１を開放して、送りクランパ―１３２によって基板Ｗをクランプして所定量だけ搬送し、所定量だけ搬送したのちは固定クランパ―で基板Ｗをクランプするという動作を順次繰り返す。これによって、基板Ｗを間欠的に所定量ずつ送ることができる。なお、間欠送り機構部１３０の構成は、このような構成のものに限られるものではなく、種々の構成の間欠送り機構部を採用することができる。

また、基板除塵部１４０は、送り出しローラー１１０から送り出された基板Ｗを除塵するものであり、表面に粘着力を有するロール状をなしており、実施形態に係る露光装置１０においては粘着力を有する部材（例えば、粘着力を有するゴムなど）をロール状に形成したものを用いている。

このように、基板除塵部１４０がロール状をなしていることから、基板除塵部１４０を「基板除塵ローラー１４０」ともいう。なお、基板除塵ローラー１４０は粘着力を有するものであるが、その粘着力は、基板Ｗの感光面Ａに存在する塵埃をくっつけて取り去ることができる程度であり、基板Ｗの感光面Ａに悪影響を及ぼすことのない程度の粘着力であるとする。なお、基板Ｗの感光面Ａというのは、基板Ｗにフォトレジストなどが塗布されている面であり、フォトレジストはすでに乾いた状態にあるものとする。

基板除塵ローラー１４０は、基板Ｗを挟むように２個のローラー１４１，１４２によって構成されている。なお、基板Ｗの感光面Ａの除塵を行うことを主として考えれば、感光面側のローラー１４１のみが基板除塵機能を有するものであってもよいが、２個のローラー１４１，１４２に基板除塵機能を持たせることにより、基板Ｗの感光面Ａだけではなく、感光面Ａとは反対側の面の除塵も可能となる。このため、基板Ｗの感光面Ａと反対側の面に位置するローラー１４２にも基板除塵機能を有することが好ましい。

図２は、実施形態に係る露光装置１０における露光部２００の構成を説明するために示す図である。図２（ａ）は図１における露光部２００を送り出しローラー１１０の側からｘ軸に沿って見た場合の側面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）におけるａ−ａ矢視平面図である。図２を参照して露光部２００について説明する。

露光部２００は、図示しない光源と、透明ガラスなどの透光性部材でなり所定の厚みを有するマスク板２１０と、パターン面Ｍを下向きにした状態でマスク板２１０を保持するマスク板保持部２２０と、パターン面Ｍを除塵する動作を行うマスク除塵部２３０と、基板Ｗを挟んでマスク板２１０と対向する位置に配置され、ｘｙ平面に直交するｚ軸に沿って昇降可能な露光ステージ２４０と、マスク除塵部２３０をｘ軸に沿って往復動させるためのマスク除塵部駆動機構部２５０と、露光ステージ２４０をｚ軸に沿って昇降させるための露光ステージ駆動機構部２６０とを有している。
なお、実施形態１に係る露光装置１０においては、マスク板２１０のｘ軸沿った長さとマスク板保持部２２０のｘ軸の沿った長さは、同じ長さＬ１（図１参照。）であるとする。また、マスク板保持部２２０は、ｚ軸に沿って所定の厚みを有しているものとする。

マスク除塵部２３０は、表面に粘着力を有するロール状をなしている。実施形態に係る露光装置１０においては粘着力を有する部材（例えば、粘着力を有するゴムなど）をロール状に形成したものを用いている。

このように、マスク除塵部２３０がロール状をなしていることから、マスク除塵部２３０を「マスク除塵ローラー２３０」ともいう。なお、マスク除塵ローラー２３０は粘着力を有するものであるが、その粘着力は、マスク板２１０のパターン面Ｍに存在する塵埃をくっつけて取り去ることができる程度であり、マスク板２１０のパターン面Ｍに悪影響を及ぼすことのない程度の粘着力であるとする。

露光ステージ２４０は、露光テーブル２４１を有している。露光テーブル２４１は、マスク板２１０のパターン面Ｍに基板Ｗを介して対向するように配置されており、基板Ｗを下側から保持する役目をなしている。

また、露光ステージ２４０には、ｙ軸に沿った方向に突出している棚部２４２Ｌ，２４２Ｒがｘ軸に沿って左右両側に形成されている。棚部２４２Ｌ，２４２Ｒには、マスク除塵ローラー２３０をｘ軸に沿って往復動させるためのマスク除塵部駆動機構部２５０が設けられている。

マスク除塵部駆動機構部２５０は、棚部２４２Ｌ．２４２Ｒにそれぞれ敷設されているガイドレール２５１Ｌ，２５１Ｒと、これらガイドレール２５１Ｌ，２５１Ｒ上をスライド可能なスライダー２５２Ｌ，２５２Ｒと、スライダー２５２Ｌ，２５２Ｒをｘ軸に沿って往復動させるためのボールネジ２５３Ｌ，２５３Ｒと、スライダー２５２Ｌ，２５２Ｒに固定され、マスク除塵ローラー２３０の回転軸２３１を左右両側において回転自在に支持するマスク除塵ローラー支持部２５４Ｌ，２５４Ｒと、ボールネジ２５３Ｌ，２５３Ｒを回転駆動するためのモーター（図示せず。）とを有している。なお、モーターはサーボモーターを用いることができる。

マスク除塵部駆動機構部２５０がこのような構造となっているため、ボールネジ２５３Ｌ，２５３Ｒが、それぞれ同期した状態で時計方向又は反時計方向に回転することにより、スライダー２５２Ｌ，２５２Ｒは、ｘ軸に沿って往復動し、それによって、マスク除塵ローラー２３０も、ｘ軸に沿って往復動する。なお、マスク除塵ローラー２３０は、マスク除塵部駆動機構部２５０によって、露光ステージ２４０のｘ軸に沿った一端部２４０ａと他端部２４０ｂとの間のうちの所定範囲を可動範囲（後述する。）として、当該可動範囲内を往復動する。

例えば、ボールネジが２５３Ｌ，２５３Ｒが反時計方向（前方側を見たときの反時計方向）に回転することにより、スライダー２５２Ｌ，２５２Ｒは、ｘ軸に沿って前方側に進行し、それによって、マスク除塵ローラー２３０も、ｘ軸に沿って前方側に進行する。

また、ボールネジが２５３Ｌ，２５３Ｒが時計方向（前方側を見たときの時計方向）に回転することにより、スライダー２５２Ｌ，２５２Ｒは、ｘ軸に沿って後方側に進行し、それによって、マスク除塵ローラー２３０も、ｘ軸に沿って後方側に進行する。
このように構成されているマスク除塵部駆動機構部２５０は、マスク除塵部制御装置４００によって制御され、それによって、マスク除塵ローラー２３０が制御される。

ところで、マスク除塵ローラー支持部２５４Ｌ，２５４Ｒには、マスク除塵ローラー２３０を回転自在に支持するためのＵ字状の軸受け溝が２５５（図１参照。）がそれぞれ形成されている。当該軸受け溝２５５は、上端側が開口となっており、マスク除塵ローラー２３０は、回転軸２３１を軸受け溝２５５の開口から落とし入れることによって、軸受け溝２５５で回転自在に支持された状態となる。

このような構造であるため、マスク除塵ローラー２３０は、マスク除塵ローラー支持部２５４Ｌ，２５４Ｒに容易に着脱自在となり、マスク除塵ローラー２３０の掃除や交換などのメンテナンスを容易に行うことができる。なお、マスク除塵ローラー２３０は、動力によって回転するものではなく、空回りするようにマスク除塵ローラー支持部２５４Ｌ，２５４Ｒに支持されている。

また、マスク除塵ローラー支持部２５４Ｌ，２５４Ｒは、スライダー２５２Ｌ，２５２Ｒにガイドピン２５６とバネ２５７とによって支持されており、マスク除塵ローラー支持部２５４Ｌ，２５４Ｒにｚ軸に沿って下方向に押圧力を与えると、当該押圧力に対してはバネ２５７の伸張力による抗力が働くようになっている。このため、マスク除塵ローラー支持部２５４Ｌ，２５４Ｒに支持されているマスク除塵ローラー２３０をマスク板２１０のパターン面Ｍに当接させると、マスク除塵ローラー２３０はバネ２５７の伸張力によって所定の押圧力でマスク板２１０のパターン面Ｍに接触することとなる。

一方、露光ステージ２４０は、露光ステージ駆動機構部２６０によって、ｚ軸に沿って昇降可能となっている。露光ステージ駆動機構部２６０は、露光ステージ２４０に固定されている昇降台２６１と、昇降台２６１をｚ軸に沿って昇降させるための露光ステージ用のボールネジ２６３と、ボールネジ２６３を回転駆動するためのモーター（図示せず。）とを有している。なお、モーターはサーボモーターを用いることができる。

このように構成されている露光ステージ駆動機構部２６０は、ボールネジ２６３を時計方向又は反時計方向に回転させることにより、露光ステージ２４０をｚ軸に沿って昇降させることができる。なお、露光ステージ駆動機構部２６０によって露光ステージ２４０を昇降させると、露光ステージ２４０だけではなく、搬送機構部１００全体も昇降するようになっている。

これにより、例えば、ボールネジ２６３を反時計方向（ｚ軸に沿って上方を見たときの反時計方向）に回転させると、露光ステージ２４０がｚ軸に沿って上昇するとともに、搬送機構部１００も露光ステージ２４０とともに上昇する。なお、「搬送機構部１００も露光ステージ２４０とともに上昇する」ということは、送り出しローラー１１０、巻き取りローラー１２０、間欠送り機構部１３０、基板除塵ローラー１４０及び基板Ｗが露光ステージ２４０とともに上昇するということである。

一方、ボールネジ２６３を時計方向（ｚ軸に沿って上方を見たときの時計方向）回転させると、露光ステージ２４０がｚ軸に沿って下降するとともに搬送機構部１００も露光ステージ２４０とともに下降する。なお、「搬送機構部１００も露光ステージ２４０とともに下降する」ということは、送り出しローラー１１０、巻き取りローラー１２０、間欠送り機構部１３０、基板除塵ローラー１４０及び基板Ｗが露光ステージ２４０とともに下降するということである。
このように構成されている露光ステージ駆動機構部２６０は、露光ステージ制御装置５００によって駆動制御される。

なお、マスク除塵部駆動機構部２５０に設けられているボールネジ２５３Ｌ，２５３Ｒは、マスク除塵部２３０（マスク除塵ローラー２３０）を駆動するためのボールネジであるため、マスク除塵部用ボールネジ２５３Ｌ，２５３Ｒという場合もある。また、露光ステージ駆動機構部２６０に設けられているボールネジ２６３は、露光ステージ２４０を駆動するためのボールネジであるため、露光ステージ用ボールネジ２６３という場合もある。

図３は、実施形態に係る露光装置１０におけるマスク除塵部制御装置４００及び露光ステージ制御装置５００の構成を示す図である。図３（ａ）はマスク除塵部制御装置４００の構成を示し、図３（ｂ）は露光ステージ制御装置５００の構成を示している。

マスク除塵部制御装置４００は、図３（ａ）に示すように、マスク除塵部用ボールネジ２５３Ｌ，２５３Ｒをそれぞれ駆動するマスク除塵部用ボールネジ駆動部（サーボモーターなど）４１０と、マスク除塵ローラー２３０の進行を制御するための制御プログラム及びユーザーの設定情報などを記憶している記憶部４２０と、記憶部４２０の記憶内容に基づいてマスク除塵部用ボールネジ駆動部４１０を制御することにより、マスク除塵ローラー２３０の前方側又は後方側への進行を制御する進行制御部４３０とを有している。

露光ステージ制御装置５００は、図３（ｂ）に示すように、露光ステージ用ボールネジ２６３を駆動する露光ステージ用ボールネジ駆動部（サーボモーターなど）５１０と、露光ステージ２４０の昇降を制御するための制御プログラム及びユーザーの設定情報などを記憶している記憶部５２０と、記憶部５２０の記憶内容に基づいて露光ステージ用ボールネジ駆動部５１０を制御することにより、露光ステージ２４０の上昇又は下降を制御する昇降制御部５３０とを有している。

なお、図３においては、マスク除塵部制御装置４００及び露光ステージ制御装置５００それぞれに記憶部（記憶部４２０及び記憶部５２０）を設けるようにしたが、１つの記憶部を共用するようにしてもよい。

図４〜図７は、実施形態に係る露光装置１０の動作を説明するために示す図である。図４（ａ）〜図４（ｄ）、図５（ａ）〜（ｃ）、図６（ａ）〜図６（ｄ）及び図７（ａ）〜図７（ｃ）はそれぞれの工程を示す図である。なお、図４〜図７は露光部２００におけるマスク除塵ローラー２３０の動作を主に説明するために示す図である。このため、図１に示す構成要素のうち、搬送機構部１００は図示が省略されており、また、露光部２００においても、露光ステージ駆動機構部２６０などは図示が省略されている。また、露光部２００において図１及び図２において付されている符号のうち省略されている符号もある。

なお、図４〜図７において、マスク除塵ローラー２３０を進行させるための制御は、図３（ａ）に示したマスク除塵部制御装置４００によって行われ、露光ステージ２４０を昇降させるための制御は、図３（ｂ）に示した露光ステージ制御装置５００によって行われる。

実施形態に係る露光装置１０においては、基板Ｗは搬送機構部１００によって間欠的に所定量ずつ搬送されており、１回分の搬送がなされると、基板Ｗの感光面Ａにおいて露光対象となる複数の感光領域（これをＡ１，Ａ２，・・・で表す。）のうちのある１つの感光領域（例えば、感光領域Ａ１とする。）が、露光テーブル２４１上においてマスク板２１０のパターン面Ｍと対面する位置となる。そして、感光領域Ａ１がマスク板２１０のパターン面Ｍと対面する位置で基板Ｗの搬送が一旦停止した状態となり、この状態で露光を行うことによって、感光領域Ａ１にパターンが転写される。

そして、感光領域Ａ１の露光が終了すると、基板Ｗが再び所定量だけ搬送され、基板Ｗの感光面Ａにおいて次の感光領域（例えば、感光領域Ａ２とする。）が、露光テーブル２４１上においてマスク板２１０のパターン面Ｍと対面する位置となる。そして、感光領域Ａ２がマスク板２１０のパターン面Ｍと対面する位置で基板Ｗの搬送が一旦停止した状態となり、この状態で露光を行うことによって、感光領域Ａ２にパターンが転写される。このような動作を繰り返し行う。

このような動作を行う過程で、基板Ｗは基板除塵ローラー１４０によって除塵され、マスク板２１０のパターン面Ｍはマスク除塵ローラー２３０によって除塵される。基板除塵ローラー１４０による基板Ｗの除塵及びマスク除塵ローラー２３０によるマスク板２１０のパターン面Ｍの除塵は、基板Ｗが搬送されている間に行われる。なお、基板除塵ローラー１４０による基板Ｗの除塵は、基板Ｗが搬送されるごとに基板除塵ローラー１４０が回転することにより行うことができるため、ここでは、マスク除塵ローラー２３０による除塵動作について説明する。

図４（ａ）はマスク除塵ローラー２３０が除塵動作を開始する前の状態であり、このような状態となっているときのマスク除塵ローラー２３０の位置を初期位置という。このとき、基板Ｗは既に搬送動作を開始しているものとする。

マスク除塵ローラー２３０が図４（ａ）に示す初期位置にあるときにおいては、当該マスク除塵ローラー２３０のｘ軸に沿った位置（回転軸２３１のｘ軸に沿った位置）ｘ１は、マスク板２１０の後方側の端部（後方側端部という。）２１０ａからｘ軸に沿ってさらに後方側に所定間隔だけ離間した位置（第１位置ｘ１ともいう。）となっている。

また、マスク除塵ローラー２３０のｚ軸に沿った位置（マスク除塵ローラー２３０における円周上の上方側頂点Ｐ１のｚ軸に沿った位置）ｚ２は、マスク板２１０のパターン面Ｍの位置ｚ１よりも下方側に所定間隔だけ離間した位置となっているものとする。
マスク除塵ローラー２３０がこのような初期位置にあるときには、当該マスク除塵ローラー２３０はマスク板２１０のパターン面Ｍに非接触となっている。

マスク除塵ローラー２３０が図４（ａ）に示す初期位置にある状態から、ｘ軸に沿って前方側に所定量だけ進行し、マスク板２１０の後方側端部２１０ａ付近の平面部、すなわち、パターン面Ｍにおける後方側端部ｅ１付近に対向する位置ｘ２に達すると（図４（ｂ）参照。）、露光ステージ２４０がｚ軸に沿って所定量上昇し、マスク除塵ローラー２３０がマスク板２１０のパターン面Ｍにおける後方側端部ｅ１付近に接触する（図４（ｃ）参照。）。その後、マスク除塵ローラー２３０は、マスク板２１０のパターン面Ｍに接触した状態でｘ軸に沿って前方（矢印ｘ方向）に進行して行く。

このとき、マスク除塵ローラー２３０は、バネ２５７の伸張力が働いた状態で、図４（ｃ）に示すように、マスク板２１０のパターン面Ｍに接触した状態で回転しながら進行して行く。これにより、マスク板２１０のパターン面Ｍに存在する塵埃を、マスク除塵ローラー２３０の側に付着させることができ、それによって、マスク板２１０のパターン面Ｍを除塵できる。

このように、マスク除塵ローラー２３０がマスク板２１０のパターン面Ｍに接触した状態においては、当該マスク除塵ローラー２３０は、バネ２５７の伸張力でマスク板２１０のパターン面Ｍを押圧した状態となっている。このため、マスク除塵ローラー２３０がマスク板２１０のパターン面Ｍに接触する際のマスク板２１０に対する押圧力などの制御は特に行う必要はない。

なお、マスク除塵ローラー２３０は粘着力を有するものであるが、その粘着力は、マスク板２１０のパターン面Ｍに存在する塵埃をくっつけて取り去る程度のものであるため、マスク板２１０のパターン面Ｍに形成されているパターンなどに悪影響を及ぼすことはない。

このようにして、マスク除塵ローラー２３０が、マスク板２１０のパターン面Ｍに接触した状態で回転しながら前方側に進行して、マスク板２１０の前方側の端部（前方側端部という。）２１０ｂ、すなわち、マスク板２１０のパターン面Ｍにおける前方側端部ｅ２付近に達すると（図４（ｄ）参照。）、露光ステージ２４０は、図４（ｄ）の状態からｚ軸に沿って下降する（図５（ａ）参照。）。このときのマスク除塵ローラー２３０のｚ軸に沿った位置（円周上の上方側頂点Ｐ１のｚ軸に沿った位置）は、図４（ａ）と同じ位置ｚ２である。なお、露光ステージ２４０が所定だけ下降すると、当該露光ステージ２４０の下降とともに搬送機構部１００全体も所定量だけ下降する。

そして、マスク除塵ローラー２３０は、さらに前方に進み、マスク板２１０の前方側端部２１０ｂ（パターン面Ｍの前方側端部ｅ２）からｘ軸に沿って前方側に所定間隔離間した位置ｘ４（第２位置ｘ４ともいう。）に達する（図５（ｂ）参照。）。

マスク除塵ローラー２３０がｘ軸に沿って図４（ａ）に示す第１位置ｘ１から図５（ｂ）に示す第２位置ｘ４に進行するまでの動作は、基板Ｗが搬送されている間に行われる。このため、長尺シート状の基板Ｗを所定量ずつ間欠的に所定量ずつ搬送して露光を行うといった露光装置１０が行うもともとの露光動作に影響を及ぼすことなく、マスク板２１０のパターン面Ｍを除塵することができる。なお、基板除塵ローラー１４０による基板Ｗの除塵も基板Ｗの搬送中に行うことができるため、基板Ｗ及びマスク板２１０のパターン面Ｍの除塵を行うことによる時間のロスは発生しない。

このように、マスク除塵ローラー２３０が、図５（ｂ）に示す位置ｘ４（第２位置ｘ４）に達すると、露光ステージ２４０が所定量だけ上昇する（図５（ｃ）参照。）。露光ステージ２４０が所定量だけ上昇すると、当該露光ステージ２４０の上昇とともに搬送機構部１００全体も所定量だけ上昇する。

なお、露光ステージ２４０が所定量だけ上昇する際、マスク除塵ローラー２３０は、マスク板２１０の前方側端部２１０ｂ（パターン面Ｍの前方側端部ｅ２）からｘ軸に沿って前方側に所定間隔離間した位置ｘ４（第２位置ｘ４）に達しているため、マスク除塵ローラー２３０はマスク板２１０及びマスク板保持部２２０に当接してしまうことがない。また、マスク除塵ローラー２３０は、図示していない他の構成要素にも当接しないようになっているものとする。これにより、露光ステージ２４０は、図５(ｃ)に示すように上昇することができる。

露光ステージ２４０の上昇量は、基板の感光面Ａ（この時点においては感光領域Ａ１とする。）がマスク板２１０のパターン面Ｍに近接または接触するようになる程度の上昇量である。図５（ｃ）に示すように、基板Ｗの感光領域Ａ１がマスク板２１０のパターン面Ｍに近接または接触する状態となると、この状態で露光を行う。これにより、基板Ｗの感光領域Ａ１にパターンが転写される。

なお、露光を行う際における基板Ｗの感光面とマスク板２１０のパターン面Ｍとの間は密着させるようにしてもよいが、わずかな空隙（例えば、１／１００ｍｍ〜４／１００ｍｍ程度）が存在する程度の間隔を設けるようにしてもよい。

このように、基板Ｗの感光面とマスク板の２１０パターン面Ｍとの間に、わずかな空隙（例えば、１／１００ｍｍ〜４／１００ｍｍ程度）を設けることにより、基板Ｗ側にわずかな塵埃が残存していたとしても、残存している塵埃がマスク板２１０のパターン面Ｍに付着してしまうといったことを防止ができる。

そして、露光が終了した後、基板Ｗの間欠的な搬送動作が再開され、基板Ｗは所定量だけ搬送される。このように、基板Ｗの間欠的な搬送動作が再開されると、露光ステージ２４０は、図５（ｃ）の状態から図６（ａ）に示すようにｚ軸に沿って下降する。なお、露光ステージ２４０が所定だけ下降すると、当該露光ステージ２４０の下降とともに搬送機構部１００全体も所定量だけ下降する。なお、このときのマスク除塵ローラー２３０のｘ軸に沿った位置は、図５（ｂ）と同じ位置（第２位置ｘ２）である。

その後、図６（ａ）に示す位置から、マスク除塵ローラー２３０は、ｘ軸に沿って後方側に所定量だけ進行し、マスク板２１０の前方側端部２１０ｂ付近の平面部、すなわちマスク板２１０のパターン面Ｍにおける前方側端部ｅ２付近に対向する位置ｘ２に達すると（図６（ｂ）参照。）、露光ステージ２４０がｚ軸に沿って所定量上昇し、マスク除塵ローラー２３０がマスク板２１０のパターン面Ｍにおける前方側端部ｅ２付近に接触する（図６（ｃ）参照。）。その後、マスク除塵ローラー２３０は、マスク板２１０のパターン面Ｍに接触した状態でｘ軸に沿って後方側（矢印ｘ’方向）に進行して行く。

このとき、マスク除塵ローラー２３０は、バネ２５７の伸張力が働いた状態でマスク板２１０のパターン面Ｍに接触した状態で回転しながら進行して行く。これにより、マスク板２１０のパターン面Ｍに存在する塵埃を、マスク除塵ローラー２３０の側に付着させることができ、それによって、マスク板２１０のパターン面Ｍを除塵できる。

このようにして、マスク除塵ローラー２３０は、マスク板２１０のパターン面Ｍに接触した状態で回転しながら後方側に進行し、やがて、マスク板２１０のパターン面Ｍにおける後方側端部ｅ１付近に達する（図６（ｄ）参照。）。すると、露光ステージ２４０は、図６（ｄ）の状態から下降する（図７（ａ）参照。）。このときのマスク除塵ローラー２３０のｚ軸に沿った位置（円周上の上方側頂点Ｐ１のｚ軸に沿った位置）は、図４（ａ）と同じ位置ｚ２である。なお、露光ステージ２４０が所定だけ下降すると、当該露光ステージ２４０の下降とともに搬送機構部１００全体も所定量だけ下降する。

そして、マスク除塵ローラー２３０は、さらに後方側に進み、マスク板２１０における後方側端部２１０ａ（パターン面Ｍの後方側端部ｅ１）からｘ軸に沿って後方側に所定間隔離間した位置ｘ１（第１位置ｘ１）に達する（図７（ｂ）参照。）。

マスク除塵ローラー２３０が図５（ｂ）に示す第２位置ｘ４から図７（ｂ）に示す第１位置ｘ１に進行するまでの動作は、基板Ｗが搬送されている間に行われる。このため、長尺シート状の基板Ｗを所定量ずつ間欠的に所定量ずつ搬送して露光を行うといった露光装置１０が行うもともとの露光動作に影響を及ぼすことなく、マスク板２１０のパターン面Ｍを除塵することができる。

このように、マスク除塵ローラー２３０が、図７（ｂ）に示すように、位置ｘ１（第１位置ｘ１）に達すると、露光ステージ２４０が所定量だけ上昇する（図７(ｃ)参照。）。これは、図５（ｃ）と同様の動作である。このとき、露光ステージ２４０の上昇に伴って搬送機構部１００全体も所定量だけ上昇する。図７（ｃ）に示すように、基板Ｗの感光面（感光領域Ａ２とする。）がマスク板２１０のパターン面Ｍに近接または接触する状態となると、この状態で、露光を行う。これにより、基板Ｗの感光領域Ａ２にパターンが転写される。

この場合も、露光ステージ２４０が所定量だけ上昇する際には、マスク除塵ローラー２３０は、マスク板２１０の後方側端部２１０ａ（パターン面Ｍの後方側端部ｅ１）からｘ軸に沿って後方側に所定間隔離間した位置ｘ１（第１位置ｘ１）に達しているため、マスク除塵ローラー２３０はマスク板２１０及びマスク板保持部２２０に当接してしまうことがない。また、マスク除塵ローラー２３０は、図示していない他の構成要素にも当接しないようになっているものとする。これにより、露光ステージ２４０は、図７(ｃ)に示すように上昇することができる。

そして、露光が終了した後、露光ステージ２４０は、図７（ｃ）の状態から下降する。このとき、基板Ｗの間欠的な搬送動作も再開されており、基板Ｗは所定量だけ搬送される。なお、露光が終了した後、露光ステージ２４０が、図７（ｃ）の状態から下降したときの状態は、図４（ａ）と同じ状態となる。この状態から、再び、図４（ｂ）〜図４（ｄ）、図５（ａ）〜図５（ｃ）、図６（ａ）〜図６（ｄ）及び図７（ａ）〜図７（ｃ）を順次行って図４（ａ）に戻るといった動作を繰り返し行う。

このように、実施形態に係る露光装置１０においては、マスク除塵ローラー２３０は、第１位置ｘ１と第２位置ｘ４との間を、往復動する際の可動範囲として、当該可動範囲内を進行しながらマスク板２１０のパターン面Ｍを除塵する動作を行う。そして、マスク除塵ローラー２３０が可動範囲内を前方側に進行する動作を前方進行動作とし、マスク除塵ローラー２３０が可動範囲内を後方側に進行する動作を後方進行動作としたとき、マスク除塵ローラー２３０は、前方進行動作及び後方進行動作それぞれにおいてマスク板２１０のパターン面Ｍを除塵する動作を行う。また、前方進行動作及び後方進行動作それぞれにおいてマスク板２１０のパターン面Ｍを除塵する動作は、基板Ｗが間欠的に所定量ずつ搬送されて行く動作の間に交互に行われる。このため、マスク除塵動作を効率的に行うことができる。

ところで、マスク除塵ローラー２３０が、マスク板２１０に対してｘ軸及びｚ軸に沿ってそれぞれ離間している位置となっている状態（図４（ａ）参照。）から、マスク除塵ローラー２３０が、マスク板２１０のパターン面Ｍに接触した状態（図４（ｃ）参照。）になる際には、図４（ａ）から図４（ｃ）に示すように、マスク除塵ローラー２３０は直接的にマスク板２１０のパターン面Ｍに接触する。

このため、マスク除塵ローラー２３０がマスク板２１０の後方側端部２１０ａを前方側に押してしまうことがなくなり、マスク板２１０の位置ずれを防止することができるとともに、マスク板２１０の後方側端部２１０ａにおける角部などの破損を防止することができる。

なお、図４（ｃ）においては、マスク除塵ローラー２３０がパターン面Ｍに接触したときのｘ軸に沿った位置ｘ２は、マスク板２１０の後方側端部２１０ａ（パターン面Ｍの後方側端部ｅ１）に一致した位置となっているが、必ずしも、マスク板２１０の後方側端部２１０ａ（パターン面Ｍの後方側端部ｅ１）に一致した位置とする必要はなく、マスク板２１０の後方側端部２１０ａ付近の平面部、すなわち、パターン面Ｍの後方側端部ｅ１付近（例えば、パターン面Ｍにおいて実際にパターンが形成されているパターン形成領域の後方側端部）としてもよい。要は、マスク板２１０の後方側端部２１０ａを前方側に押してしまったり、マスク板２１０の後方側端部２１０ａにおける角部などを破損させたりすることがない位置で、かつ、マスク板２１０のパターン面Ｍにおけるパターン形成領域を確実に除塵できる位置であればよい。

また、マスク除塵ローラー２３０が、第２位置ｘ４から後方側に進行する場合においても、マスク除塵ローラー２３０が、マスク板２１０に対してｘ軸及びｚ軸に沿ってそれぞれ離間した位置となっている状態（図６（ａ）参照。）から、マスク除塵ローラー２３０がマスク板２１０に接触した状態（図６（ｃ）参照。）になる際には、図６（ａ）から図６（ｃ）に示すように、マスク除塵ローラー２３０が直接的にマスク板２１０のパターン面Ｍに接触する。

このため、マスク除塵ローラー２３０がマスク板２１０の前方側端部２１０ｂを後方側に押してしまうことがなくなり、マスク板２１０の位置ずれを防止することができるとともに、マスク板２１０の前方側端部２１０ｂにおける角部などの破損を防止することができる。

なお、図６（ｃ）においては、マスク除塵ローラー２３０がパターン面Ｍに接触したときのｘ軸に沿った位置ｘ３は、マスク板２１０の前方側端部２１０ｂ（パターン面Ｍの前方側端部ｅ２）に一致した位置となっているが、この場合も、マスク板２１０の前方側端部２１０ｂ（パターン面Ｍの前方側端部ｅ２）に一致した位置とする必要はなく、マスク板２１０の前方側端部２１０ｂ付近の平面部、すなわち、パターン面Ｍの前方側端部ｅ２付近（例えば、パターン面Ｍにおいて実際にパターンが形成されているパターン形成領域の前方側端部）としてもよい。要は、マスク板２１０の前方側端部２１０ｂを後方側に押してしまったり、マスク板２１０の前方側端部２１０ｂにおける角部などを破損させたりすることがない位置で、かつ、マスク板２１０のパターン面Ｍにおけるパターン形成領域を確実に除塵できる位置であればよい。

以上説明したように実施形態に係る露光装置１０によれば、マスク除塵ローラー２３０によって、マスク板２１０のパターン面Ｍを除塵する動作は、基板Ｗが搬送されている間に自動的に行われる。また、マスク除塵ローラー２３０によるマスク板２１０のパターン面Ｍの除塵だけでなく、基板除塵ローラー１４０により基板Ｗの除塵を行うことができる。なお、基板除塵ローラー１４０が基板Ｗを除塵する動作も、基板Ｗが搬送されている間に自動的に行われる。このため、ロール・トゥ・ロール方式の露光装置においてもともと行われている露光動作に影響を及ぼすことはなく、マスク板２１０のパターン面Ｍ及び基板Ｗの除塵を行うことができる。これにより、もともとの露光動作速度を維持することができる。

また、実施形態に係る露光装置１０においては、マスク除塵ローラー２３０はバネ２５７の伸張力によってマスク板２１０のパターン面Ｍに所定の押圧力与えた状態で接触するような構造となっている。このため、マスク除塵ローラー２３０をパターン面Ｍに適切な押圧力で接触させることができ、接触させる際の押圧力の制御などを高精度に行う必要がない。また、マスク除塵ローラー２３０とパターン面Ｍとの間隔（ｚ軸に沿った間隔）も高精度に調整する必要がなく、マスク除塵ローラー２３０とパターン面Ｍとの間隔（ｚ軸に沿った間隔）の調整作業を軽減することができる。それにより、実施形態に係る露光装置１０によれば、マスク板２１０のパターン面Ｍを除塵するための機構全体を簡単化することができる。

なお、本発明は上記した実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能となるものである。たとえば、下記に示すような変形実施も可能である。

（１）上記実施形態においては、ボールネジ２５３Ｌ．２５３Ｒを左右両側のスライダー２５２Ｌ，２５２Ｒに設け、両者を同期させた状態で回転させることで、マスク除塵ローラー２３０をｘ軸に沿って往復動させるようにしたが、ボールネジは左右のいずれかのみとしてもよい。例えば、図２（ａ）における右側のスライダー２５２Ｒのみにボールネジ２５３Ｒを設ける場合には、左側のスライダー２５２Ｌは右側のスライダー２５２Ｒの進行に連動してガイドレール２５１Ｌ上を進行することとなる。このような構造としても、マスク除塵ローラー２３０をｘ軸に沿って往復動させることが可能となる。

また、１つのボールネジで左右両側のスライダー２５２Ｌ，２５２Ｒを駆動する場合、１つのボールネジは、左側のスライダー２５２Ｌと右側のスライダー２５２Ｒとの中間位置にｘ軸に沿って配置するようにしてもよい。このようにすることで、１つのボールネジで左右両側のスライダー２５２Ｌ，２５２Ｒバランスよく駆動させることができる。

（２）上記実施形態においては、マスク除塵部駆動機構部２５０は、ボールネジを使用してマスク除塵ローラー２３０をｘ軸に沿って往復動させるような機構としたが、マスク除塵ローラーをｘ軸に沿って往復動させるような機構は種々の機構を採用することができる。また、露光ステージ駆動機構部２６０も、同様に、ボールネジを使用して露光ステージ２４０を昇降させるような機構としたが、露光ステージ２４０をｚ軸に沿って昇降動させるような機構は種々の機構を採用することができる。

（３）上記実施形態においては、マスク除塵ローラー２３０は、マスク除塵ローラー２３０全体が粘着力を有する部材でなるものとして説明したが、これに限られるものではなく、マスク除塵ローラー２３０の表面のみが粘着力を有するようなものであってもよい。例えば、合成樹脂などから円筒体の表面に粘着力を有する部材を巻き付けたものであってもよく、また、円筒体の表面に粘着層が形成されているものであってもよい。基板除塵ローラー１４０も同様である。

（４）上記実施形態においては、基板Ｗの感光面Ａが上向きに配置され、マスク板２１０のパターン面Ｍが下向きに配置されている露光装置を例示したが、これに限られるものではなく、その逆の配置であってもよい。すなわち、基板Ｗの感光面Ａが下向きに配置され、マスク板２１０のパターン面Ｍが上向きに配置されている露光装置であってもよい、

（５）上記実施形態においては、露光部２００において基板Ｗの感光面Ａを露光させる際に、基板Ｗの感光面Ａとマスク板２１０のパターン面Ｍとの間にわずかな空隙を設けた状態で露光させるようにした場合を例示したが、必ずしも、基板Ｗの感光面Ａとマスク板２１０のパターン面Ｍとの間にわずかな空隙を設ける必要はなく、基板Ｗの感光面Ａとマスク板２１０のパターン面Ｍとを密着させた状態で露光させるようにしてもよい。

（６）上記実施形態においては、マスク除塵部は、前方進行動作及び後方進行動作それぞれにおいてマスク板２１０のパターン面Ｍを除塵する動作を行うようにしたが、前方進行動作及び後方進行動作のいずれか一方のみにおいて除塵を行うようにしてもよい。

（７）上記実施形態においては、マスク除塵部としては、粘着力を有する部材でなるローラー（マスク除塵ローラー２３０）を用いて、マスク板２１０のパターン面Ｍに存在する塵埃を、マスク除塵ローラー２３０の粘着力により除塵する場合を例示したが、これに限られるものではない。例えば、マスク除塵部は、真空吸引によって除塵するものであってもよい。このように、マスク除塵部は、真空吸引によって除塵するものとした場合の露光装置を本発明の露光装置の変形例として説明する。

本発明の露光装置の変形例は、マスク除塵部２３０は、マスク板２１０のパターン面Ｍにおけるｙ軸方向に沿った吸引口を有し、吸引によってマスク板２１０のパターン面Ｍを除塵する吸引式のマスク除塵部であって、吸引式のマスク除塵部がマスク板２１０のパターン面Ｍを除塵する動作は、マスク板２１０のパターン面Ｍとの間に所定の空隙を有した状態で吸引力を発揮しながらマスク板２１０のパターン面Ｍに沿ってｘ軸方向に沿って進行して行く動作を行うものである。

なお、マスク除塵部が真空吸引によって除塵するものであっても、露光装置の全体的な構成は、上記した実施形態において説明した露光装置と同様の構成とすることができる。なお、真空吸引によって除塵するマスク除塵部を、下記の説明においては、吸引式マスク除塵部とする。

このような吸引式マスク除塵部を、例えば、図１に示す露光装置に適用した場合において簡単に説明する。吸引式マスク除塵部は、マスク板２１０の幅方向（図１においてｙ軸に沿った方向）に細長い吸引口を有している。このような吸引式マスク除塵部は、マスク除塵ローラー２３０と同様にマスク除塵ローラー支持部２５４Ｌ，２５４Ｒに取り付けることができる。このとき、吸引式マスク除塵部の吸引孔はマスク板２１０のパターン面Ｍに対向可能となるように上向きとする。

そして、除塵を行う際においては、図４〜図７とほぼ同様の動作を行えばよい。但し、吸引式マスク除塵部及び吸引式基板除塵部は、マスク板２１０のパターン面Ｍに対してそれぞれ非接触の状態で除塵するため、吸引式マスク除塵部をマスク板２１０のパターン面Ｍに接触させる必要はない。従って、図４（ａ）に示す初期位置において、吸引式マスク除塵部の吸引口とマスク板２１０のパターン面Ｍとのｚ軸に沿った間隔を適切に設定しておけば、ｚ軸に沿った位置はそのままの状態で、吸引式マスク除塵ローラーをｘ軸に沿って往復動させればよい。

また、吸引式マスク除塵部は、マスク板２１０のパターン面Ｍに対して非接触の状態で除塵するものであるため、マスク除塵ローラー２３０のように、バネ２５７による伸張力でマスク板２１０のパターン面Ｍに接触させる構造は不要である。

このような吸引式マスク除塵部を用いることによっても、上記実施形態と同様に、基板Ｗを間欠的に所定量ずつ搬送させる間に、マスク板２１０のパターン面Ｍを除塵することができる。なお、基板除塵部１４０においても、同様に吸引式の基板除塵部を用いることができる。

（８）上記実施形態においては、図１に示すように、マスク除塵部制御装置４００及び露光ステージ制御装置５００は、露光装置筐体３００の内部に収納されている例が示されているが、露光装置筐体３００の外部に設けられていてもよい。

（９）上記実施形態においては、図１に示すように、マスク板２１０のｘ軸沿った長さとマスク板保持部２２０のｘ軸に沿った長さは、同じ長さＬ１としているが、必ずしも、同じ長さである必要はなく、露光ステージ２４０の上昇に伴ってマスク除塵ローラー２３０が上昇する際、マスク除塵ローラー２３０の上昇を妨げとならなければ、マスク板保持部２２０のｘ軸に沿った長さは、マスク板２１０よりも長くてもよい。

１０・・・露光装置、１００・・・搬送機構、１３０・・・間欠送り機構部、１４０・・・基板除塵ローラー（基板除塵部）、２００・・・露光部、２１０・・・マスク板、２２０・・・マスク板保持部、２３０・・・マスク除塵ローラー（マスク除塵部）、２４０・・・露光ステージ、２４１・・・露光テーブル、２５０・・・マスク除塵部駆動機構部、２５１Ｌ，２５１Ｒ・・・ガイドレール、２５２Ｌ，２５２Ｒ・・・スライダー、２５３Ｌ，２５３Ｒ・・・マスク除塵部用ボールネジ、２５７・・・バネ、２６０・・・露光ステージ駆動機構部、２６１・・・昇降台、２６３・・・露光ステージ用ボールネジ、３００・・・露光装置筐体、４００・・・マスク除塵部制御装置、５００・・・露光ステージ制御装置、Ａ・・・感光面、Ａ１，Ａ２・・・感光領域、

Claims

送り出し部と巻き取り部との間に架け渡されている長尺シート状の基板を間欠的に所定量ずつ搬送させて行く過程で、前記基板の感光面とマスク板のパターン面とを対面させて、前記基板の感光面を露光する露光装置であって、
前記基板がｘ軸及びｙ軸によって形成されるｘｙ平面におけるｘ軸に沿って前記巻き取り部に向かう側を前方側とし、当該前方側とは反対側を後方側としたとき、
前記基板を挟んで前記マスク板と対向する位置に配置され、ｘｙ平面に直交するｚ軸に沿って前記基板とともに昇降可能な露光ステージと、
ｘ軸に沿った往復動が可能で前記露光ステージとともにｚ軸に沿って昇降可能であり、かつ、前記基板の感光面からｚ軸に沿って離間した状態で前記マスク板の側に位置するように前記露光ステージに設けられ、少なくとも、前記マスク板の前記後方側の端部からｘ軸に沿ってさらに後方側に所定間隔離間した第１位置と前記マスク板の前記前方側の端部からｘ軸に沿ってさらに前方側に所定間隔離間した第２位置との間の範囲を、前記往復動する際の可動範囲として、当該可動範囲内を進行しながら前記マスク板のパターン面を除塵する動作を行うマスク除塵部と、
前記マスク除塵部を前記往復動させるためのマスク除塵部駆動機構部と、
前記マスク除塵部駆動機構部を制御することによって前記マスク除塵部の前記往復動を制御するマスク除塵部制御装置と、
前記露光ステージをｚ軸に沿って昇降可能とするための露光ステージ駆動機構部と、
前記露光ステージ駆動機構部を制御することによって前記露光ステージの昇降を制御する露光ステージ制御装置と、
を有し、
前記マスク除塵部は、少なくとも表面に粘着力を有するロール状をなしており、
前記マスク除塵部が前記マスク板のパターン面を除塵する動作は、前記マスク板のパターン面に接触した状態で回転して行く動作であり、
前記マスク除塵部が前記マスク板に対してｘ軸及びｚ軸に沿ってそれぞれ離間している位置から前記マスク除塵部を前記マスク板のパターン面に接触させる際においては、
マスク除塵部制御装置は、
前記マスク除塵部が前記マスク板のパターン面におけるｘ軸に沿った端部付近に対向する位置に達するように前記マスク除塵部駆動機構部を制御し、
前記露光ステージ制御装置は、
前記マスク除塵部が前記マスク板のパターン面におけるｘ軸に沿った端部付近に対向する位置に達すると、前記マスク除塵部を前記マスク板のパターン面におけるｘ軸に沿った端部付近に接触させるように前記露光ステージ駆動機構部を制御し、
前記基板の感光面を露光する際には、
前記マスク除塵部制御装置は、前記マスク除塵部が、前記第１位置又は前記第２位置に達した状態となるように前記マスク除塵部駆動機構部を制御し、
前記露光ステージ制御装置は、前記マスク除塵部が、前記第１位置又は前記第２位置に達した状態において、前記露光ステージをｚ軸に沿って移動させて前記基板の感光面と前記マスク板のパターン面とが接触又は近接した状態となるように前記露光ステージ駆動機構部を制御することを特徴とする露光装置。
請求項１に記載の露光装置において、
前記マスク除塵部は、前記基板を間欠的に所定量ずつ搬送させている間に前記マスク板のパターン面を除塵する動作を行うことを特徴とする露光装置。
請求項１又は２に記載の露光装置において、
前記マスク除塵部が前記可動範囲内を前記前方側に進行する動作を前方進行動作とし、前記マスク除塵部が前記可動範囲内を前記後方側に進行する動作を後方進行動作としたとき、
前記マスク除塵部は、前記前方進行動作及び前記後方進行動作それぞれにおいて前記マスク板のパターン面を除塵する動作を行い、
前記前方進行動作及び前記後方進行動作それぞれにおいて前記マスク板のパターン面を除塵する動作は、前記基板を間欠的に所定量ずつ搬送させて行く間に交互に行うことを特徴とする露光装置。
請求項１〜３のいずれかに記載の露光装置において、
前記マスク除塵部は、前記マスク板のパターン面に接触した状態となると、バネの伸張力によって前記パターン面を押圧する力が働くように前記露光ステージに設けられていることを特徴とする露光装置。
請求項１〜３のいずれかに記載の露光装置において、
前記マスク除塵部は、前記マスク板のパターン面におけるｙ軸方向に沿った吸引口を有し、吸引によって前記マスク板のパターン面を除塵する吸引式のマスク除塵部であって、
前記吸引式のマスク除塵部が前記マスク板のパターン面を除塵する動作は、前記マスク板のパターン面との間に所定の空隙を有した状態で吸引力を発揮しながら前記マスク板のパターン面に沿ってｘ軸方向に沿って進行して行く動作であることを特徴とする露光装置。
請求項１〜５のいずれかに記載の露光装置において、
前記基板の少なくとも前記感光面を除塵する基板除塵部を有することを特徴とする露光装置。
請求項６に記載の露光装置において、
前記基板除塵部は、少なくとも表面に粘着力を有するロール状をなし、前記基板の少なくとも感光面に接触した状態で設けられており、前記基板を間欠的に所定量ずつ搬送させる際の前記基板の搬送に伴って回転することを特徴とする露光装置。