JP5618163B2 - 露光装置 - Google Patents
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Description
以下、本発明の第1の実施形態を、図1及び図2に基づいて説明する。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。この第2の実施形態に係る露光装置は、全体的な構成などは上記第1の実施形態と同様であり、前述の発電機38に代えて、図3に示される、光通信によって信号(情報)の授受を行う光通信機構70が、鏡筒定盤50とコラム30の凸部33aとの間に、分離配置されている点が異なる。従って、以下では、光通信機構70について説明する。
次に、本発明の第3の実施形態について説明する。この第3の実施形態に係る露光装置は、全体的な構成などは上記第1の実施形態と同様であり、前述の発電機38に代えて、図5に示される、配管中継機構80が、鏡筒定盤50とコラム30の凸部33aとの間に、分離配置されている点が異なる。従って、以下では、配管中継機構80について説明する。
Claims (7)
- エネルギビームにより物体を露光して該物体上にパターンを形成する露光装置であって、
電気信号の授受の対象となる部材が設けられた第1部材と、
前記第1部材とは振動的に分離された第2部材と、
前記第1部材上に載置され、電磁波を送信及び/又は受信する第1部分と、前記第1部分に対応して前記第2部材に搭載され、前記第1部分との間で、前記電磁波を受信及び/又は送信する第2部分とを含み、前記第1部分及び第2部分は、相互に対向して配置された光ファイバをそれぞれ含む、信号伝達装置と、を備える露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置において、
前記第1部分の光ファイバと、前記第2部分の光ファイバとの対向面内の相対位置が維持されるように、前記第2部分を少なくとも鉛直方向に駆動する駆動系をさらに備える露光装置。 - 請求項2に記載の露光装置において、
前記駆動系は、前記相対位置を計測する計測系を含む露光装置。 - 請求項2又は3に記載の露光装置において、
前記第1部分と第2部分とは、鉛直方向の剛性が他の方向に比べて低い、フレクシャ機構を介して接続されている露光装置。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記パターンの形成時に前記エネルギビームが経由する光学系をさらに備え、
該光学系は、前記第1部材に保持されている露光装置。 - 請求項5に記載の露光装置において、
前記電気信号の授受の対象となる部材は、前記光学系に付属する部材を含む露光装置。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記電気信号の授受の対象となる部材は、センサ及びアクチュエータの少なくとも一方を含む露光装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US96037407P | 2007-09-27 | 2007-09-27 | |
US60/960,374 | 2007-09-27 | ||
US12/234,979 US8421994B2 (en) | 2007-09-27 | 2008-09-22 | Exposure apparatus |
US12/234,979 | 2008-09-22 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008244197A Division JP2009088512A (ja) | 2007-09-27 | 2008-09-24 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013030802A JP2013030802A (ja) | 2013-02-07 |
JP5618163B2 true JP5618163B2 (ja) | 2014-11-05 |
Family
ID=40507863
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008244197A Pending JP2009088512A (ja) | 2007-09-27 | 2008-09-24 | 露光装置 |
JP2012232512A Active JP5618163B2 (ja) | 2007-09-27 | 2012-10-22 | 露光装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008244197A Pending JP2009088512A (ja) | 2007-09-27 | 2008-09-24 | 露光装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8421994B2 (ja) |
JP (2) | JP2009088512A (ja) |
TW (1) | TW200935495A (ja) |
WO (1) | WO2009041702A2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1794650A4 (en) * | 2004-09-30 | 2008-09-10 | Nikon Corp | OPTICAL PROJECTION DEVICE AND EXPOSURE DEVICE |
JP2006261605A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Canon Inc | 露光装置及び露光方法 |
EP2045664B1 (en) * | 2007-10-04 | 2013-03-06 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, projection assembly and active damping |
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DE102008049616B4 (de) | 2008-09-30 | 2012-03-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie zur Herstellung von Halbleiterbauelementen |
JP5905581B2 (ja) * | 2011-09-09 | 2016-04-20 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | フレキシブルカップリングを備えた投影システム |
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JP6189303B2 (ja) | 2011-09-12 | 2017-08-30 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | 基板処理装置 |
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WO2016167339A1 (ja) * | 2015-04-17 | 2016-10-20 | 株式会社ニコン | 露光システム |
CN110325919B (zh) | 2016-12-30 | 2022-02-11 | Asml荷兰有限公司 | 调整组件和包括该调整组件的衬底曝光*** |
US10048599B2 (en) | 2016-12-30 | 2018-08-14 | Mapper Lithography Ip B.V. | Adjustment assembly and substrate exposure system comprising such an adjustment assembly |
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JP2007123319A (ja) | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2007123316A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置並びにデバイス製造方法 |
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US8115906B2 (en) * | 2007-12-14 | 2012-02-14 | Nikon Corporation | Movable body system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and measurement device, and device manufacturing method |
-
2008
- 2008-09-22 US US12/234,979 patent/US8421994B2/en active Active
- 2008-09-24 WO PCT/JP2008/067778 patent/WO2009041702A2/en active Application Filing
- 2008-09-24 JP JP2008244197A patent/JP2009088512A/ja active Pending
- 2008-09-26 TW TW097137005A patent/TW200935495A/zh unknown
-
2012
- 2012-10-22 JP JP2012232512A patent/JP5618163B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090086178A1 (en) | 2009-04-02 |
WO2009041702A2 (en) | 2009-04-02 |
JP2009088512A (ja) | 2009-04-23 |
JP2013030802A (ja) | 2013-02-07 |
US8421994B2 (en) | 2013-04-16 |
WO2009041702A3 (en) | 2009-12-03 |
TW200935495A (en) | 2009-08-16 |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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