JP5329820B2 - 液体吐出装置 - Google Patents
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Description
(1)自発分極軸のベクトル成分と電界印加方向とが一致したときに、電界印加強度の増減によって電界印加方向に伸縮する通常の電界誘起圧電歪、
(2)電界印加強度の増減によって分極軸が可逆的に非180°回転することで生じる圧電歪、
(3)電界印加強度の増減によって結晶を相転移させ、相転移による体積変化を利用する圧電歪、
(4)電界印加により相転移する特性を有する材料を用い、自発分極軸方向とは異なる方向に結晶配向性を有する強誘電体相を含む結晶配向構造とすることで、より大きな歪が得られるエンジニアードドメイン効果を利用する圧電歪(エンジニアードドメイン効果を利用する場合には、相転移が起こる条件で駆動してもよいし、相転移が起こらない範囲で駆動してもよい)などが挙げられる。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、圧電体の機械的耐久性と圧電性能とが良好な液体吐出装置を提供することを目的とするものである。
前記圧電体は、少なくとも前記液体貯留室の壁面位置より外側部分を含む周縁部とその他の部分である主要部とが異なる下地上に形成されたものであり、かつ、前記周縁部の破壊応力が前記主要部の破壊応力よりも大きい特性を有するものであることを特徴とするものである。
前記圧電体は、少なくとも前記液体貯留室の壁面位置より外側部分を含む周縁部とその他の部分である主要部とが異なる下地上に形成されたものであり、かつ、前記周縁部のヤング率が前記主要部のヤング率よりも小さい特性を有するものであることを特徴とするものである。
E=(1-V2)/(1/Er-(1-Vi2)/Ei)
(式中、V:試料のポアソン比、
Ei:圧子のヤング率、
Vi:圧子のポアソン比、
1/Er=2・A0.5/S/π0.5、
S:除荷開始時の傾き、
A:弾性接触投影面積)
前記圧電体は、少なくとも前記液体貯留室の壁面位置より外側部分を含む周縁部とその他の部分である主要部とが異なる下地上に形成されたものであり、かつ、前記周縁部の平均結晶粒径が前記主要部の平均結晶粒径よりも小さい特性を有するものであることを特徴とするものである。
本明細書において、「平均結晶粒径」はSEM断面を観察し、ランダムに100個以上の結晶粒を選択して、その平均から求めるものとする。
かかる態様では、前記圧電体の前記周縁部の下地がアモルファス構造又はランダム多結晶構造を有する構造、若しくは、前記圧電体の前記周縁部の下地がSi及び/又はSi含有化合物を含み、かつ、前記圧電体がPb含有化合物を含む構造が好ましい。
かかる態様では、前記結晶粒径制御層がアモルファス層又はランダム多結晶層である構造、前記結晶粒径制御層がSi及び/又はSi含有化合物を含む層であり、かつ、前記圧電体がPb含有化合物を含む構造、若しくは、前記結晶粒径制御層が前記下部電極よりも小さい熱伝導度を有する層である構造が好ましい。
前記圧電体は、少なくとも前記液体貯留室の壁面位置より外側部分を含む周縁部とその他の部分である主要部とが異なる下地上に形成されたものであり、かつ、前記周縁部が前記主要部よりもヤング率の小さい組成を有するものであることを特徴とするものである。
したがって、本発明によれば、圧電体の機械的耐久性と圧電性能とが良好な液体吐出装置を提供することができる。
図面を参照して、本発明に係る第1実施形態のインクジェット式記録ヘッドの構成について、説明する。図1はインクジェット式記録ヘッドの要部断面図である。視認しやすくするため、構成要素の縮尺は実際のものとは適宜異ならせてある。
一般式ABO3・・・(P)
(式中、A:Aサイトの元素であり、Pb,Ba,La,Sr,Bi,Li,Na,Ca,Cd,Mg,及びKからなる群より選ばれた少なくとも1種の元素、
B:Bサイトの元素であり、Ti,Zr,V,Nb,Ta,Cr,Mo,W,Mn,Sc,Co,Cu,In,Sn,Ga,Zn,Cd,Fe,Ni,及びランタニド元素からなる群より選ばれた少なくとも1種の元素、
O:酸素元素、
Aサイト元素の総モル数及びBサイト元素の総モル数の、酸素原子のモル数に対する比は、それぞれ1:3が標準であるが、ペロブスカイト構造を取り得る範囲内で1:3からずれてもよい。)
チタン酸鉛、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、ジルコニウム酸鉛、チタン酸鉛ランタン、ジルコン酸チタン酸鉛ランタン、マグネシウムニオブ酸ジルコニウムチタン酸鉛、ニッケルニオブ酸ジルコニウムチタン酸鉛、亜鉛ニオブ酸ジルコニウムチタン酸鉛等の鉛含有化合物、及びこれらの混晶系;
チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウムバリウム、チタン酸ビスマスナトリウム、チタン酸ビスマスカリウム、ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、ニオブ酸リチウム等の非鉛含有化合物、及びこれらの混晶系が挙げられる。
具体的には、本実施形態において、下部電極11は圧電体13の周縁部13Aの領域を除く部分にパターン形成されている。すなわち、圧電体13の周縁部13Aの下地は振動板30であり、主要部13Bの下地は下部電極11である。
本実施形態において、圧電体13は、インクノズル20によって拘束されて応力がかかりやすい周縁部(少なくともインク室21の壁面位置Wより外側部分を含む部分)13Aの平均結晶粒径が、圧電変形が良好に起らなければならない圧電体の主要部13Bの平均結晶粒径よりも小さく、周縁部13Aの破壊応力が主要部13Bの破壊応力よりも大きい構成となっている。
したがって、本実施形態によれば、圧電体13の機械的耐久性と圧電性能とが良好なインクジェット式記録ヘッド1を提供することができる。
図面を参照して、本発明に係る第2実施形態のインクジェット式記録ヘッドの構成について、説明する。図2は第1実施形態の図1に対応する断面図である。第1実施形態と同じ構成要素には同じ参照符号を付して、説明は省略する。
本実施形態においても、圧電体13は、インクノズル20によって拘束されて応力がかかりやすい周縁部13Aの平均結晶粒径が、圧電変形が良好に起らなければならない圧電体の主要部13Bの平均結晶粒径よりも小さく、周縁部13Aの破壊応力が主要部13Bの破壊応力よりも大きい構成となっている。
したがって、本実施形態においても、圧電体13の機械的耐久性と圧電性能とが良好なインクジェット式記録ヘッド2を提供することができる。
上記第1,第2実施形態において、周縁部13Aの平均結晶粒径は、内端側(主要部13B側)が大きく外端側が小さく、分布を有していることが好ましい。周縁部13Aと主要部13Bとの間で平均結晶粒径が急激に変化するよりも、平均結晶粒径の変化がなだらかである方が、周縁部13Aと主要部13Bとの境界部分にかかる応力が緩和され、好ましい。
図4及び図5を参照して、上記実施形態のインクジェット式記録ヘッド1を備えたインクジェット式記録装置の構成例について説明する。図4は装置全体図であり、図5は部分上面図である。
大きめの用紙に本画像とテスト印字とを同時に並列にプリントする場合には、カッター148を設けて、テスト印字の部分を切り離す構成とすればよい。
インクジェット記記録装置100は、以上のように構成されている。
Si単結晶基板の裏面側をリアクティブイオンエッチングしてインク室を形成し、基板自体の加工により振動板とインク室及びインク吐出口を有するオープンプール構造のインクノズルとを形成した。振動板の厚みは10μm程度、インク室の厚みは500μm程度、インク室の幅は300μmとした。
圧電体を成膜した後、X線回折(XRD)測定を実施した。下地が基板である圧電体の周縁部はアモルファス構造であるのに対して、下地が下部電極である圧電体の主要部は(100)結晶配向の多結晶構造(配向度90%)であった。
本発明者は別途試験を行い、下部電極をベタ電極とし、室温でスパッタ法にてアモルファス構造のPZT圧電体を成膜した後、600℃アニールにより多結晶化したところ、(100)結晶配向度は70%以下であった。このことは、本実施例では、圧電変形が良好に起らなければならない圧電体の主要部を、アモルファス構造を経てから結晶化させる特許文献2に記載の方法よりも高配向度の多結晶構造にできることを示している。
圧電体のSEMによる断面観察を実施した。下地が基板である圧電体の周縁部のSEM断面写真を図6Aに示し、下地が下部電極である圧電体の主要部のSEM断面写真を図6Bに示す。
図6Aに示すように、下地がSi基板である圧電体の周縁部の領域では、基板上にPbガラス層が形成され、その上にアモルファス構造のPZT膜が形成されていた。これに対して、図6Bに示すように、下地が下部電極である圧電体の主要部の領域では多結晶構造のPZT膜が形成されていた。
圧電体に30Vの電圧を印加した状態で、圧電体に印加する周波数を変化させて圧電体の変位量を変化させた。共振周波数に近づくほど圧電体の変位量が増し、膜にかかる応力が増加する。
下部電極をベタ電極として圧電体の周縁部をアモルファス構造とせず、圧電体全体を結晶配向膜とした場合には、応力300MPaで圧電体にクラックが生じたが、周縁部をアモルファス構造とした本実施例では応力500MPaで圧電体にクラックが生じ、耐久性が向上されていた。
実施例1と同様に、Si単結晶基板を用いて、基板自体の加工により振動板とインク室及びインク吐出口を有するオープンプール構造のインクノズルとを形成した。次に、この基板の表面に、スパッタ法にて、200nm厚のTi層と500nm厚のIr層との積層構造の下部電極をベタ状に成膜した。
実施例1と同様に、圧電体を成膜した後、XRD測定を実施した。下地がSiO2アモルファス膜である圧電体の周縁部はアモルファス構造であるのに対して、下地が下部電極である圧電体の主要部は(100)結晶配向の多結晶構造(配向度90%)であった。実施例1と同様に、本実施例では、圧電変形が良好に起らなければならない圧電体の主要部を、アモルファス構造を経てから結晶化させる特許文献2に記載の方法よりも高配向度の多結晶構造とすることができた。
圧電体のSEMによる断面観察を実施した。下地がSiO2アモルファス膜である圧電体の周縁部はアモルファス構造であるのに対して、下地が下部電極である圧電体の主要部は多結晶構造であった。
実施例1と同様に駆動耐久性試験を実施した。結晶粒径制御層を設けずに圧電体の周縁部をアモルファス構造とせず、圧電体全体を結晶配向膜とした場合には、応力300MPaで圧電体にクラックが生じたが、結晶粒径制御層を設けて周縁部をアモルファス構造とした本実施例では応力500MPaで圧電体にクラックが生じ、耐久性が向上されていた。
実施例1と同様に、Si単結晶基板を用いて、基板自体の加工により振動板とインク室及びインク吐出口を有するオープンプール構造のインクノズルとを形成した。次に、この基板の表面に、スパッタ法にて、200nm厚のTi層と500nm厚のIr層との積層構造の下部電極をベタ状に成膜した。
実施例1と同様に駆動耐久性試験を実施した。組成制御層を設けなかった場合には、応力300MPaで圧電体にクラックが生じたが、組成制御層を設けた本実施例では応力450MPaで圧電体にクラックが生じ、耐久性が向上されていた。
10 圧電素子
11 下部電極
12 結晶粒径制御層
13 圧電体
13A 周縁部
13B 主要部
14 上部電極
20 インクノズル(液体貯留吐出部材)
21 インク室(液体貯留室)
21W 壁面
22 インク吐出口(液体吐出口)
100 インクジェット式記録装置
W インク室の壁面位置
Claims (5)
- 液体が貯留される液体貯留室及び該液体貯留室から外部に前記液体が吐出される液体吐出口を有する液体貯留吐出部材上に、振動板を介して、下部電極と圧電体と上部電極とを順次備えた圧電素子が形成された液体吐出装置において、
前記圧電体は、少なくとも前記液体貯留室の壁面位置より外側部分を含む周縁部とその他の部分である主要部とが異なる下地上に形成されてなり、
前記周縁部の前記下地が、前記圧電体の成膜時に前記周縁部にドナーイオンとして拡散添加される成分を含む組成制御層であり、
前記ドナーイオンが拡散添加されてなる前記周縁部が前記主要部よりもヤング率が小さいことを特徴とする液体吐出装置。 - 前記組成制御層の厚みは、内側から外側に向かって厚くなる厚み分布を有することを特徴とする請求項1記載の液体吐出装置。
- 前記組成制御層の厚み変化が連続的であることを特徴とする請求項2記載の液体吐出装置。
- 前記ドナーイオンが、La,Nd,Nb,Sb,Bi,Ta,及びWのうち少なくとも1種の金属又はその酸化物を含むことを特徴とする請求項1〜3いずれか1項記載の液体吐出装置。
- 前記圧電体がPb含有圧電材料であり、前記周縁部が前記主要部よりもPbモル含量が小さい組成を有することを特徴とする請求項1〜4いずれか1項記載の液体吐出装置。
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