JP5258811B2 - スリットノズル洗浄装置及び塗布装置 - Google Patents

Description

本発明は、スピンレス方式の塗布装置に係わり、特にスピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口周辺部を洗浄するためのスリットノズル洗浄装置に関する。

ＬＣＤ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程には、ガラス基板等の被処理基板に対してスリット形状の吐出口を有する長尺型のスリットノズルを相対的に移動させて、基板上に処理液または薬液等の塗布液たとえばレジスト液を塗布するスピンレスの塗布法がよく用いられている。

典型的なスピンレス塗布法においては、ステージ上に固定して載置される基板に対してスリットノズルよりレジスト液を帯状に吐出させながら、スリットノズルをノズル長手方向と直交する水平な一方向に移動させる。そうすると、スリットノズルの吐出口から基板上に溢れたレジスト液がノズル後方に平坦に延びて、基板一面にレジスト塗布膜が形成される（たとえば特許文献１）。

別の代表的なスピンレス塗布法として、ステージ上で基板を空中に浮かせたまま水平な一方向（ステージ長手方向）に搬送する浮上搬送方式も多く用いられている。この方式では、浮上ステージの上方に設置された長尺型のスリットノズルがその直下を通過する基板に向けてレジスト液を帯状に吐出することにより、基板搬送方向において基板の前端部から後端部に向かって基板上一面にレジスト塗布膜が形成される（たとえば特許文献２）。

一般に、スリットノズルにおいては、吐出動作を止めた際に、吐出口付近にレジスト液が付着または残留しやすく、これがそのまま放置されて乾燥凝固すると、次回の塗布処理の際にレジスト吐出流を妨げたり、または乱して、レジスト膜厚の変動を招くおそれがある。そこで、塗布処理部に隣接して設置されるノズル待機部に、次回の塗布処理に備えてスリットノズルの吐出口周辺部を洗浄するためのスリットノズル洗浄装置が設けられる（たとえば特許文献３）。

従来のスリットノズル洗浄装置は、ノズル待機部内の所定位置に位置決めされるスリットノズルの下をノズル長手方向に走査移動するノズル洗浄ヘッドまたはキャリッジを備え、このキャリッジには、スリットノズルの吐出口周辺部に向けて洗浄液（たとえばシンナー液）および乾燥用ガス（たとえばＮ₂ガス）をそれぞれ噴き付ける洗浄ノズルおよび乾燥ノズルを搭載している。キャリッジがスリットノズルの吐出口周辺部に沿ってノズル長手方向に走査移動しながら、スリットノズルの吐出口周辺部の各部に向けて、最初に洗浄ノズルが洗浄液を吹き掛け、次いで乾燥ノズルが乾燥用ガスを吹き掛けるようになっている。

特開平１０−１５６２５５号公報 特開２００５−２３６０９２号公報 特開２００７−１１１６１２号公報

上記のような従来のスリットノズル洗浄装置は、１回の洗浄走査によってスリットノズルの吐出口周辺部を十全に清掃するのが難しく、このため洗浄走査（キャリッジの走査移動）を複数回繰り返しており、ノズル洗浄処理のタクト時間が長いことと、洗浄液消費量の多いことが問題となっている。

本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するものであり、洗浄効率および洗浄能力を向上させ、洗浄タクト時間の短縮化および洗浄液消費量の節減を実現するスリットノズル洗浄装置およびこれを備える塗布装置を提供する。

本発明のスリットノズル洗浄装置は、塗布処理に用いられるスリット状の吐出口を有する長尺型のスリットノズル洗浄装置であって、前記スリットノズルの吐出口周辺部に沿って前記スリットノズルの長手方向と平行に水平な洗浄走査方向で移動するキャリッジと、前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向で移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に洗浄液を吹き掛ける洗浄ユニットと、前記洗浄走査方向において前記洗浄ユニットの後に位置して前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向で移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に付着している液を拭い取るワイパーユニットと、前記洗浄走査方向において前記ワイパーユニットの後に位置して前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向に移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に乾燥用のガスを吹き掛ける乾燥ユニットと、前記スリットノズルの長手方向と直交する水平な一方向および鉛直方向において、前記キャリッジに取り付けた複数のプランジャにより、前記キャリッジ上で前記ワイパーユニットを前記スリットノズルの吐出口周辺部に倣わせて弾性的に変位可能とする位置合わせ機構とを具備し、前記スリットノズルの吐出口と平行に延びる両側のノズル側面が、吐出口に向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されており、前記洗浄ユニットは、前記テーパ形状のノズル側面に両側から洗浄液を吹き掛ける複数本の洗浄ノズルを有し、前記ワイパーユニットは、前記スリットノズルの吐出口およびノズル側面とそれぞれ平行に対向する底部および傾斜面を有するブロック状のワイパー保持部と、前記ワイパー保持部の傾斜面に取り付けられ、水平面に対して斜めに起立した角度で前記テーパ形状のノズル側面に両側からそれぞれ個別に摺接する一対または複数対の長尺型ワイパー部材とを有し、前記ワイパー部材は、前記ワイパー保持部の傾斜面に埋め込まれる基部と、前記基部から前記保持部の傾斜面の上に突出するブレード部とを有する。

上記の構成においては、塗布処理に用いられたスリットノズルの吐出口周辺部を洗浄するために、スリットノズルとワイパーユニットとの間で位置合わせが行われる。この位置合わせでは、位置合わせ機構が、キャリッジに取り付けた複数のプランジャにより、スリットノズルの長手方向と直交する水平な一方向および鉛直方向の２方向でワイパーユニットがキャリッジ上で弾性的に変位し、ワイパーユニットのワイパー部材がその全長に亘ってスリットノズルの吐出口周辺部に適度かつ均一な圧力で密着する。
そして、ノズル洗浄処理においては、スリットノズルの各位置の吐出口周辺部に対して、先ず、洗浄ユニットが洗浄液を吹き掛けることによって、当該吐出口周辺部に付着していた汚れが洗浄液に溶けて、汚れた液が吐出口周辺部に残る。この直後に、ワイパーユニットが、当該吐出口周辺部を通過して、そこに付いている汚れ液を拭き取る。この場合、ワイパーユニットのワイパー部材は、進行方向に向かって斜めの角度で起立しながらその全長に亘って当該吐出口周辺部に適度かつ均一圧力で摺接し、汚れ液を下に掻き落としながら前進する。このワイパーユニットによる拭き取りは十分に効果的である。この直後に、乾燥ユニットが当該吐出口周辺部に乾燥用のガスを吹き掛けることにより、当該吐出口周辺部に付着していた拭き残しの液は風力で除去され、当該吐出口周辺部は清浄かつ乾燥した状態になる。

本発明の塗布装置は、塗布処理中に被処理基板に対して塗布液を帯状に吐出するスリット状の吐出口を有する長尺型スリットノズルと、塗布処理中に前記スリットノズルに塗布液を供給する塗布液供給部と、前記基板を支持する基板支持部と、塗布処理中に前記スリットノズルが前記基板上で塗布走査を行うように、前記スリットノズルと前記基板との間で水平な一方向に相対的移動を行わせる塗布走査機構と、塗布処理の合間に前記スリットノズルの吐出口周辺部を洗浄するための上記スリットノズル洗浄装置とを有する。

本発明のスリットノズル洗浄装置によれば、上記のような構成および作用により、スリットノズルに関して洗浄効率を向上させ、洗浄タクト時間の短縮化および洗浄液消費量の節減を実現することができる。また、本発明の塗布装置によれば、本発明のスリットノズル清掃装置を備えることにより、スリットノズルに対する洗浄機能の洗浄能力を向上させ、塗布処理の品質、歩留まり、メンテナンスコストを改善することができる。

本発明のスリットノズル洗浄装置の適用可能なレジスト塗布装置の一構成例を示す斜視図である。 上記レジスト塗布装置におけるスリットノズルの内部構造および基板上にレジスト塗布膜が形成される様子を示す断面図である。 上記レジスト塗布装置におけるスリットノズルの外観構造および基板上にレジスト塗布膜が形成される様子を示す正面図である。 上記レジスト塗布装置に備えられるノズルリフレッシュ部の構成を示す一部断面正面図である。 上記ノズルリフレッシュ部に組み込まれるスリットノズル洗浄部の構成を示す斜視図である。 洗浄走査の斜め前方から見た上記スリットノズル洗浄部を構成を示す斜視図である。 上記スリットノズル洗浄部に組み込まれるワイパーユニットの要部の構成を示す図である。 上記スリットノズル洗浄部においてスリットノズルとの位置合わせを行う機構の構成を示す断面図である。 上記スリットノズル洗浄部の作用を模式的に示す側面図である。 上記スリットノズル洗浄部の作用を模式的に示す側面図である。 上記スリットノズル洗浄部においてキャリッジに搭載するユニットの編成の変形例を示す図である。 上記スリットノズル洗浄部においてキャリッジに搭載するユニットの編成の変形例を示す図である。 上記スリットノズル洗浄部においてキャリッジにワイパーユニットをワンタッチで装着する構成例を示す図である。 上記スリットノズル洗浄部においてキャリッジにワイパーユニットをワンタッチで装着する別の構成例を示す図である。

以下、添付図を参照して、本発明の好適な実施形態を説明する。

図１に、本発明のスリットノズル清掃装置の適用可能なレジスト塗布装置の一構成例を示す。

このレジスト塗布装置は、被処理基板たとえばＦＰＤ用のガラス基板Ｇを気体の圧力によって空中に浮かす浮上ステージ１０と、この浮上ステージ１０上で空中に浮いている基板Ｇを浮上ステージ長手方向（Ｘ方向）に搬送する基板搬送機構２０と、浮上ステージ１０上を搬送される基板Ｇの上面にレジスト液を供給するスリットノズル３２と、塗布処理の合間にスリットノズル３２をリフレッシュするノズルリフレッシュ部４２とを有している。

浮上ステージ１０の上面には所定のガス（たとえばエア）を上方に噴射する多数のガス噴射孔１２が設けられており、それらのガス噴射孔１２から噴射されるガスの圧力によって基板Ｇがステージ上面から一定の高さに浮上するように構成されている。

基板搬送機構２０は、浮上ステージ１０を挟んでＸ方向に延びる一対のガイドレール２２Ａ，２２Ｂと、これらのガイドレール２２Ａ，２２Ｂに沿って往復移動可能な一対のスライダ２４と、浮上ステージ１０上で基板Ｇの両側端部を着脱可能に保持するようにスライダ２４に設けられた吸着パッド等の基板保持部材（図示せず）とを備えており、直進移動機構（図示せず）によりスライダ２４を搬送方向（Ｘ方向）に移動させることによって、浮上ステージ１０上で基板Ｇの浮上搬送を行うように構成されている。

レジストノズル３２は、浮上ステージ１０の上方を搬送方向（Ｘ方向）と直交する水平方向（Ｙ方向）に横断し、その直下を通過する基板Ｇの上面（被処理面）に対してスリット状の吐出口よりレジスト液Ｒを帯状に吐出するようになっている。また、スリットノズル３２は、たとえばボールネジ機構やガイド部材等を含むノズル昇降機構２６により、このノズルを支持するノズル支持部材２８と一体に鉛直方向（Ｚ方向）に移動可能に昇降可能に構成されている。また、スリットノズル３２は、レジスト液容器や送液ポンプ等からなるレジスト供給部（図示せず）にレジスト供給管３０を介して接続されている。

スリットノズル３２に隣接して浮上ステージ１０の上方にノズルリフレッシュ部４２が設けられている。このノズルリフレッシュ部４２の詳細は、図４および図５を参照して後述する。

ここで、このレジスト塗布装置におけるレジスト塗布動作を説明する。先ず、前段のユニットたとえば熱的処理ユニット（図示せず）より基板Ｇがソータ機構（図示せず）を介して浮上ステージ１０の前端側に設定された搬入エリアに搬入され、そこで待機していたスライダ２４が基板Ｇを保持して受け取る。浮上ステージ１０上で基板Ｇはガス噴射孔１２より噴射されるガス（たとえば高圧エア）の圧力を受けて略水平な姿勢で浮上状態を保つ。

こうして基板Ｇが水平姿勢で搬送方向（Ｘ方向）に一定速度で移動するのと同時に、スリットノズル３２が直下の基板Ｇに向けてレジスト液を所定の圧力または流量で帯状に吐出することにより、図２および図３に示すように基板Ｇの前端側から後端側へ向かって膜厚の均一なレジスト液の塗布膜が形成されていく。

基板Ｇの後端がスリットノズル３２の下を通過すると、基板一面にレジスト塗布膜が形成される。次いで、基板Ｇは、その後もスライダ２４により浮上ステージ１０上で浮上搬送され、浮上ステージ１０の後端に設定された搬出エリアよりソータ機構（図示せず）を介して後段のユニット（図示せず）へ送られる。

図２に示すように、スリットノズル３２は、ノズル長手方向（Ｙ方向）に平行に延びるフロントリップ３３Ｆおよびリアリップ３３Ｒからなり、これら一対のリップ３３Ｆ，３３Ｒを突き合わせてボルト（図示せず）で一体結合し、スリット状の吐出口３２ａを有している。スリットノズル３２の吐出口３２ａと平行に延びる両側のノズル側面３２ｆ，３２ｒが、吐出口３２ａに向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されている。レジスト塗布時には吐出口３２ａだけでなく両側のノズル側面３２ｆ，３２ｒの下端部もレジスト液Ｒで濡れ、レジスト塗布処理が終了した後の吐出口３２ａおよびノズル側面３２ｆ，３２ｒの下端部にはレジスト液Ｒの汚れが残る。

図４に、ノズルリフレッシュ部４２内の構成を示す。ノズルリフレッシュ部４２は、１つのケーシング４４内に、塗布処理の下準備としてスリットノズル３２に少量のレジスト液を吐出させてプライミングローラ４６に巻き取るプライミング処理部４８と、スリットノズル３２の吐出口を乾燥防止の目的から溶剤蒸気の雰囲気中に保つためのノズルバス５０と、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）を洗浄するためのスリットノズル洗浄部５２とを併設している。

１回の塗布処理を終えたスリットノズル３２は、最初にスリットノズル洗浄部５２により洗浄処理を受け、次いでノズルバス５０内で待機し、次の塗布処理が開始される直前にプライミング処理部４８によりプライミング処理を受ける。

スリットノズル３２をノズルリフレッシュ部４２内の各部（４８，５０，５２）に着かせるには、図示しないコントローラの制御の下で、たとえばボールネジ機構からなるＸ方向移動部５４によりノズルリフレッシュ部４２の全体つまりケーシング４４を基板搬送方向（Ｘ方向）で移動させるとともに、ノズル昇降機構２６（図１）によりスリットノズル３２を鉛直方向（Ｚ方向）で移動させる。

ノズルリフレッシュ部４２に組み込まれるスリットノズル洗浄部５２は、本発明の一実施形態におけるスリットノズル洗浄装置である。以下、このスリットノズル洗浄部５２の構成および作用を詳細に説明する。

図５に示すように、スリットノズル洗浄部５２は、Ｙ方向移動部６０にジョイント部材６２を介して結合され、スリットノズル３２の吐出口周辺部に沿ってスリットノズルの長手方向と平行に水平な洗浄走査方向（Ｙ方向）で移動するキャリッジ６４を有している。Ｙ方向移動部６０は、たとえばラック＆ピニオン機構からなり、Ｙ方向に延びるラック６６と、このラック６６上で転動する歯車（図示せず）を内蔵する可動ユニット６８とを有している。キャリッジ６４は、スリットノズル３２の吐出口周辺部に対して位置合わせをしてから、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動するようになっている。

スリットノズル洗浄部５２は、このキャリッジ６４に、洗浄走査方向において第１洗浄ユニット７０を先頭に以下第１ワイパーユニット７２、第２洗浄ユニット７４、第２ワイパーユニット７６および乾燥ユニット７８をこの順序で一列に並べて搭載している。各々のユニット７０〜７８は、キャリッジ６４にカセット式で着脱可能に装着されるようになっている。

図６に、洗浄走査の斜め前方から見たスリットノズル洗浄部５２の要部の構成を示す。

第１および第２洗浄ユニット７０，７４は、上面に凹形の溝部を有するブロック状のノズル保持部７０ａ，７４ａと、このノズル保持部７０ａ，７４ａの両側の内壁から突き出ている複数対（または一対）の洗浄ノズル７０ｂ，７４ｂと、ノズル保持部７０ａ，７４ａ内の流路を介して洗浄ノズル７０ｂ，７４ｂに接続されている配管コネクタ７０ｃ，７４ｃとをそれぞれ有している。配管コネクタ７０ｃ，７４ｃは、洗浄液供給部（図示せず）からの洗浄液供給管（図示せず）にそれぞれ接続されている。

乾燥ユニット７８は、上面に凹形の溝部を有するブロック状のノズル保持部７８ａと、このノズル保持部７８ａの両側の内壁から突き出ている複数対（または一対）の乾燥ノズル７８ｂと、ノズル保持部７８ａ内の流路を介して乾燥ノズル７８ｂに接続されている配管コネクタ７８ｃとをそれぞれ有している。配管コネクタ７８ｃは、乾燥ガス供給部（図示せず）からのガス供給管（図示せず）に接続されている。

第１および第２ワイパーユニット７２，７６は、上面にＶ形の溝部を有するブロック状のワイパー保持部７２ａ，７６ａと、このノズル保持部７２ａ，７６ａの両側傾斜面に横臥して取り付けられた一対（または複数対）の長尺型ワイパー部材（７２ｆ，７２ｒ）、（７６ｆ，７６ｒ）とをそれぞれ有している。

図６に示すように、ワイパー部材（７２ｆ，７２ｒ）、（７６ｆ，７６ｒ）は平面視でＶ字状に延びている。ワイパー部材（７２ｆ，７２ｒ）、（７６ｆ，７６ｒ）のＶ形状に倣ってノズル保持部７２ａ，７６ａの前部が平面視でＶ形状に切り欠かれており、このＶ形状切り欠き部７２ｄ，７６ｄの下は、キャリッジ６４の貫通孔を介してケーシング４４の底のドレインボックス８０（図４）に通じている。このように、Ｖ形状切り欠き部７２ｄ，７６ｄは、スリットノズル洗浄部５２のドレイン口を構成している。

図７に、第１および第２ワイパーユニット７２，７６において、ワイパー保持部７２ａ，７６ａの片側半分および片側のワイパー部材７２ｒ，７６ｒの構成を示す。図７の（ａ）は斜視図であり、図７の（ｂ），（ｃ）は図７の（ａ）においてそれぞれ矢印Ａ，Ｂの向きで見た矢視図である。

ワイパー部材７２ｒ（７６ｒ）は、たとえばザラック（登録商標名）等のフッ素含有エラストマからなり、ワイパー保持部７２ａ（７６ａ）の傾斜面に埋め込まれる基部Ｐと、この基部Ｐからワイパー保持部７２ａ（７６ａ）の傾斜面の上に突出して延びるブレード部Ｑとを有する。スリットノズル３２を洗浄する際には、ブレード部Ｑの上縁部がその全長に亘ってスリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ、３２ｒ）にほぼ均一な圧力で摺接するようになっている。ワイパー保持部７２ａ（７６ａ）の傾斜面には、ワイパー部材７２ｒ（７６ｒ）の基部Ｐを着脱可能に収納するための溝部Ｍが形成されている。

ブレード部Ｑは、ワイパー保持部７２ａ（７６ａ）の傾斜面に対して斜めに起立した角度で突出している。この起立角度αは、３０°〜６０°の範囲が好ましく、４５°付近が最も好ましい。

また、ワイパー部材７２ｒ（７６ｒ）は、洗浄走査方向において水平面に対して斜めに起立した角度でワイパー保持部７２ａ（７６ａ）の傾斜面に取り付けられている。この起立角度βは、１５°〜４５°の範囲が好ましく、３０°付近が最も好ましい。

ワイパー保持部７２ａ，７６ａの他方の片側半分および他方のワイパー部材７２ｆ，７６ｆも上記と同様の構成になっている。

図８に、この実施形態のスリットノズル洗浄部５２に備わっている位置合わせ機構を示す。

スリットノズル３２をスリットノズル洗浄部５２に着かせるには、上記のように、Ｘ方向移動部５４によりノズルリフレッシュ部４２の全体を基板搬送方向（Ｘ方向）で移動させるとともに（図４）、ノズル昇降機構２６（図１）によりスリットノズル３２を鉛直方向（Ｚ方向）で移動させる。そうすると、図８に示すように、スリットノズル３２の両ノズル側面３２ｆ，３２ｒおよび吐出口３２ａが第１および第２ワイパーユニット７２，７６のワイパー部材７２ｆ（７６ｆ），７２ｒ（７６ｒ）にそれぞれ適度かつ均一な圧力で接触するように、スリットノズル３２とスリットノズル洗浄部５２との間で位置合わせが自動的に行われる。

図８に示すように、キャリッジ６４は、Ｙ方向移動部６０からのジョイント部材６２に一体に結合されるベース板６４ａと、このベース板６４ａの上にノズル長手方向（Ｙ方向）と直交する水平方向（Ｘ方向）および鉛直方向（Ｚ方向）で変位可能に取り付けられる可動板６４ｂとを有しており、可動板６４ｂの上に第１および第２洗浄ユニット７０，７４、第１および第２ワイパーユニット７２，７６および乾燥ユニット７８を上記のような配列順序で搭載している。ベース板６４ａおよび可動板６４ｂには、第１および第２ワイパーユニット７２，７６のＶ形状切り欠き部７２ｄ，７６ｄと対応する位置にドレイン用の貫通孔６４ｃ，６４ｄがそれぞれ形成されている。

ここで、可動板６４ｂは、ベース板６４ａを下から上に貫通する複数のプランジャ８２により鉛直方向（Ｚ方向）で弾性的に変位できるとともに、ベース板６４ａの上面に固着されたブロック板８４を外側から内側に貫通する複数のプランジャ８６によりＸ方向で弾性的に変位できるようになっている。各プランジャ８２，８６は、胴体（ネジ）の中にバネ（図示せず）を内蔵しており、可動板６４ｂに点接触で加圧接触するボール状の頭部がバネ力により弾性的に引っ込む構造になっている。

上記のように、Ｘ方向移動部５４（図４）およびノズル昇降機構２６（図１）によりスリットノズル３２がスリットノズル洗浄部５２に着けられると、スリットノズルの吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）に倣うように第１および第２ワイパーユニット７２，７６ひいては可動板６４ｂがプランジャ８２，８６によりＸ方向およびＺ方向で弾性的に変位する。これによって、第１および第２ワイパーユニット７２，７６のワイパー部材（７２ｆ，７２ｒ）、（７６ｆ，７６ｒ）がその全長に亘ってスリットノズルの吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）に適度かつ均一な圧力で密着するようになっている。

なお、ワイパー部材（７２ｆ，７２ｒ）、（７６ｆ，７６ｒ）においては、フロントリップ３３Ｆの吐出口３２ａおよびノズル側面３２ｆを拭き取るワイパー部材７２ｆ，７６ｆとリアリップ３３Ｒの吐出口３２ａおよびノズル側面３２ｒを拭き取るワイパー部材７２ｒ，７６ｒとを個別に部品交換できるだけでなく、それぞれの材質を個別に選定することも可能であり、それぞれの材質（特にエラストマ）の硬度を個別に設定または調整することも可能である。

たとえば、図２に示すように、平流し方式のレジスト塗布処理に使用されるスリットノズル３２は、フロントリップ３３Ｆのノズル側面３２ｆよりもリアリップ３３Ｒのノズル側面３２ｒの方がレジスト液Ｒの廻り込みによって汚れが多くなる。したがって、汚れの多いリアリップ３３Ｒ側のワイパー部材７２ｒ，７６ｒは、その材質硬度を比較的大きくするのが接触摩擦を大きくし、拭き取り力を高めるうえで好ましい。一方、汚れの少ないフロントリップ３３Ｆ側のワイパー部材７２ｆ，７６ｆは、材質硬度を比較的小さくした方が、接触摩擦を小さくし、耐久性を上げることができる。

同様に、第１および第２ワイパーユニット７２，７６の間で、洗浄走査方向で前方に位置する第１ワイパーユニット７２のワイパー部材７２ｆ，７２ｒの材質硬度を高めに選定し、後方に位置する第２ワイパーユニット７６のワイパー部材７６ｆ，７６ｒの材質硬度を低めに選定してもよい。

次に、図９Ａおよび図９Ｂにつき、この実施形態のスリットノズル洗浄部５２における洗浄作用を説明する。

スリットノズル洗浄部５２においては、上記のようなスリットノズル３２との位置合わせが完了すると、その位置合わせ状態（図８の状態）を維持しながら、図示しないコントローラの制御の下で、Ｙ方向移動部６０が作動して、キャリッジ６４が洗浄走査方向（Ｙ方向）に一定速度で移動する。ここで、スリットノズル３２は１回（基板一枚分）のレジスト塗布処理を終えてきたばかりであり、その吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）はレジスト液Ｒが付着して汚れている。

キャリッジ６４が走査移動を開始するのとほぼ同時に、キャリッジ６４に搭載されている全てのユニットがそれぞれの動作を開始する。より詳細には、第１洗浄ユニット７０は、キャリッジ６４上の先頭位置で、洗浄ノズル７０ｂより洗浄液たとえばシンナー液Ｓを吐出し、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）にシンナー液Ｓを吹き掛けながら、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。

第１ワイパーユニット７２は、第１洗浄ユニット７０のすぐ後に続いて、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）に一対のワイパー部材７２ｆ，７２ｒを摺接させて、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。

第２洗浄ユニット７４は、第１ワイパーユニット７２のすぐ後に続いて、洗浄ノズル７４ｂより洗浄液たとえばシンナー液Ｓを吐出し、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）にシンナー液Ｓを吹き掛けながら、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。

第２ワイパーユニット７６は、第２洗浄ユニット７４のすぐ後に続いて、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）に一対のワイパー部材７６ｆ，７６ｒを摺接させて、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。

乾燥ユニット７８は、第２ワイパーユニット７６のすぐ後に続いて、乾燥ノズル７８ｂより乾燥用ガスたとえばＮ₂ガスを吐出し、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）にＮ₂ガスを吹き掛けながら、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。

図９Ａおよび図９Ｂには、上記のようなスリットノズル洗浄部５２における洗浄走査によってスリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）が洗浄走査方向（Ｙ方向）において一端から他端に向かって連続的に洗浄ないし清掃されていく様子を一定の時間間隔（ｔ₁，ｔ₂，ｔ₃，・・・・）で模式的に示している。

この洗浄走査において、各位置（たとえば図のＰ₆の位置）のスリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）に着目すると、先ず、第１洗浄ユニット７０が当該吐出口周辺部にシンナー液Ｓを吹き掛けることによって、当該吐出口周辺部に付着していたレジスト液Ｒがシンナー液Ｓに溶けて、両液Ｒ，Ｓの混じった汚れ液ＲＳが吐出口周辺部に残る。

この直後に、第１ワイパーユニット７２が、一対のワイパー部材７２ｆ，７２ｒを摺接させて当該吐出口周辺部を通過する。ワイパー部材７２ｆ，７２ｒは、進行方向に向かって斜めの角度βで起立しながら当該吐出口周辺部に適度な圧力で摺接し、汚れ液ＲＳを下に掻き落としながら前進する。掻き落とされた汚れ液ＲＳは、ドレイン口７２ｄから下のドレインボックス８０へ落ちる。第１ワイパーユニット７２による拭き取りは十分に効果的であり、第１ワイパーユニット７２の通過した跡に拭き残しの汚れ液ＲＳ'が付いていても、少量である。

この直後に、第２洗浄ユニット７４が当該吐出口周辺部にシンナー液Ｓを吹き掛けることによって、当該吐出口周辺部に付着していた拭き残しの汚れ液ＲＳ'がシンナー液Ｓで薄まり、相対的にシンナー液Ｓの比率が大きくて汚れの少ない液Ｓ_Rが吐出口周辺部に残る。

この直後に、第２ワイパーユニット７６が、一対のワイパー部材７６ｆ，７６ｒを摺接させながら当該吐出口周辺部を通過する。ワイパー部材７６ｆ，７６ｒは、進行方向に向かって斜めの角度βで起立しながら当該吐出口周辺部に適度な圧力で摺接し、付着液Ｓ_Rを下に掻き落としながら前進する。掻き落とされた液Ｓ_Rは、ドレイン口７６ｄから下のドレインボックス８０へ落ちる。第２ワイパーユニット７６による拭き取りも十分に効果的であり、第２ワイパーユニット７６の通過した跡に拭き残しの液'Ｓ_R'が付いていても、少量である。

この直後に、乾燥ユニット７８が当該吐出口周辺部にＮ₂ガスを吹き掛けることによって、当該吐出口周辺部に付着していた拭き残しの液'Ｓ_R'は風力で除去され、当該吐出口周辺部は清浄かつ乾燥した状態になる。

スリットノズル３２の一端から他端まで全長に亘って、スリットノズル３２の洗浄走査方向（Ｙ方向）における各位置の吐出口周辺部で上記のような一連の処理（１回目の洗浄→１回目の拭き取り→２回目の洗浄→２回目の拭き取り→乾燥）が行われる。

こうして、１回（一往路）の洗浄走査により、スリットノズル３２の全長に亘り各位置で吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）のレジスト汚れが十全に除去される。したがって、キャリッジ６４がスリットノズル３２の他端付近に設定された終点に着くと、そこでノズル洗浄処理が終了する。その直後に、コントローラの制御の下で、ノズル昇降機構３８（図１）およびＸ方向移動部５４（図４）が作動して、スリットノズル３２をスリットノズル洗浄部５２から隣のノズルバス５０へ移す。

上記のように、この実施形態のスリットノズル洗浄部５２は、スリットノズル３２の長手方向と平行に水平な洗浄走査方向（Ｙ方向）で移動するキャリッジ６４に、第１および第２洗浄ユニット７０，７４、第１および第２ワイパーユニット７２，７６および乾燥ユニット７８を上記のような所定の配列順序で搭載し、洗浄走査方向（Ｙ方向）の移動中に、第１および第２洗浄ユニット７０，７４がスリットノズル３２の吐出口周辺部に洗浄液を吹き掛け、第１および第２ワイパーユニット７２，７６がスリットノズル３２の吐出口周辺部に付着している液（汚れ）を拭い取り、乾燥ユニット７８がスリットノズル３２の吐出口周辺部に乾燥ガスを吹き掛けるようにしている。これにより、特にワイパーユニット７２，７６の働きによって洗浄効率を大きく改善しており、１回（一往路）の洗浄走査によりスリットノズル３２の吐出口周辺部を十全に洗浄ないし清掃することが可能であり、洗浄タクト時間の短縮化と洗浄液消費量の節減を容易に達成することができる。

また、この実施形態のレジスト塗布装置は、ノズルリフレッシュ部４２に上記のようなスリットノズル清掃部５２を備えることにより、スリットノズル３２に対する洗浄機能の洗浄能力を向上させ、レジスト塗布処理の品質、歩留まり、メンテナンスコストを改善することができる。

以上、本発明の好適な実施形態を説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、その技術的思想の範囲内で種種の変形または変更が可能である。

たとえば、キャリッジ６４に搭載するユニットの編成形態（洗浄ユニット、ワイパーユニットおよび乾燥ユニットの個数、配列順序等）を種種変形・変更することができる。

たとえば、図１０Ａの変形例（ａ）のように、３組の洗浄ユニットおよびワイパーユニット［７０，７２］、［７４，７６］、［９０，９２］を縦続配置し、最後尾に乾燥ユニット７８を配置することも可能である。

図１０Ａの変形例（ｂ）のように、２組の洗浄ユニットおよびワイパーユニット［７０，７２］、［７４，７６］を縦続配置する構成は上記実施形態と同じであるが、たとえば第１のワイパーユニット７２内に２対のワイパー部材７２ｆ，７２ｒを設ける構成も可能である。

図１０Ａの変形例（ｃ）のように、１組の洗浄ユニットおよびワイパーユニット［７０，７２］と乾燥ユニット７８をキャリッジ６４に搭載する構成も可能である。

また、図１０Ａの変形例（ｄ）のように、乾燥ユニット７８を省いて、１組の洗浄ユニットおよびワイパーユニット［７０，７２］のみをキャリッジ６４に搭載する構成も可能である。

なお、上記変形例（ａ）〜（ｄ）に限らず、上記実施形態においても、キャリッジ６４を複数回往復移動させて、洗浄走査を複数回繰り返して行うことも可能である。

また、図１０Ｂに示すように、往路用のワイパーユニット７２と復路用のワイパーユニット９４とをキャリッジ６４に搭載して往路洗浄走査と復路洗浄走査とを行ことも可能である。この場合、往路の洗浄走査方向において往路用ワイパーユニット７２の前に往路用の洗浄ユニット７０および乾燥ユニット９６を配置し、復路の洗浄走査方向においてワイパーユニット９４の前に復路用の洗浄ユニット９８および乾燥ユニット７８を配置し、両ワイパーユニット７２，９４の間に往路／復路兼用の洗浄ユニット７４を配置する。

往路の洗浄走査を行う時は、復路用のワイパーユニット９４をたとえばエアシリンダにより下降させてスリットノズル３２から分離または退避させる（つまり不使用状態にする）とともに、進行方向前部の復路用乾燥ユニット９６と進行方向後部の復路用洗浄ユニット９８をオフ状態にする（つまり不使用状態にする）。

復路の洗浄走査を行う時は、往路用のワイパーユニット７２をたとえばエアシリンダにより下降させてスリットノズル３２から分離または退避させる（つまり不使用状態にする）とともに、進行方向前部の往路用乾燥ユニット７８と進行方向後部の往路用洗浄ユニット７０をオフ状態にする（つまり不使用状態にする）。

図１１Ａおよび図１１Ｂに、ワイパーユニット（代表例としてワイパーユニット７２）をキャリッジ６４にワンタッチで着脱自在に装着する構成例を幾つか示す。

図１１Ａの（ａ），（ｂ）に示す構成例は、キャリッジ６４を上面の開口した断面コ字状のボックスまたはハウジング形状に構成し、ワイパーユニット７２を上からキャリッジ６４の中に挿抜できるようにしている。好ましくは、キャリッジ６４内に位置決め用のテーパ壁面６４ａ（図１１Ａ（ａ））やノックピン６４ｂ（図１１Ａ（ｂ））を設けてよい。キャリッジ６４の両側壁６４ｃにプランジャ１００を取り付け、ワイパーユニット７２側のノッチ７２ｎにプランジャ１００の頭部を係合させる構成も好適に採ることができる。あるいは、プランジャ１００に代えて、図１１Ｂの（ａ），（ｂ）に示すように、キャリッジ６４の両側壁６４ｃに板バネ１０２を取り付けて、ワイパーユニット７２の肩部に板バネ１０２を係止させる構成を採ってもよい。

本発明における塗布液としては、レジスト液以外にも、たとえば層間絶縁材料、誘電体材料、配線材料等の塗布液も可能であり、各種薬液、現像液やリンス液等も可能である。本発明における被処理基板はＬＣＤ基板に限らず、他のフラットパネルディスプレイ用基板、半導体ウエハ、ＣＤ基板、フォトマスク、プリント基板等も可能である。

３２ スリットノズル
５２ スリットノズル洗浄部
６０ Ｙ方向移動部
７０，７４ 洗浄ユニット
７２，７６ ワイパーユニット
７８ 乾燥ユニット

Claims (8)

1. 塗布処理に用いられるスリット状の吐出口を有する長尺型スリットノズルの吐出口周辺部を洗浄するためのスリットノズル洗浄装置であって、
   前記スリットノズルの吐出口周辺部に沿って前記スリットノズルの長手方向と平行に水平な洗浄走査方向で移動するキャリッジと、
   前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向で移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に洗浄液を吹き掛ける洗浄ユニットと、
   前記洗浄走査方向において前記洗浄ユニットの後に位置して前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向で移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に付着している液を拭い取るワイパーユニットと、
   前記洗浄走査方向において前記ワイパーユニットの後に位置して前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向に移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に乾燥用のガスを吹き掛ける乾燥ユニットと、
   前記スリットノズルの長手方向と直交する水平な一方向および鉛直方向において、前記キャリッジに取り付けた複数のプランジャにより、前記キャリッジ上で前記ワイパーユニットを前記スリットノズルの吐出口周辺部に倣わせて弾性的に変位可能とする位置合わせ機構と
   を具備し、
   前記スリットノズルの吐出口と平行に延びる両側のノズル側面が、吐出口に向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されており、
   前記洗浄ユニットは、前記テーパ形状のノズル側面に両側から洗浄液を吹き掛ける複数本の洗浄ノズルを有し、
   前記ワイパーユニットは、前記スリットノズルの吐出口およびノズル側面とそれぞれ平行に対向する底部および傾斜面を有するブロック状のワイパー保持部と、前記ワイパー保持部の傾斜面に取り付けられ、水平面に対して斜めに起立した角度で前記テーパ形状のノズル側面に両側からそれぞれ個別に摺接する一対または複数対の長尺型ワイパー部材とを有し、
   前記ワイパー部材は、前記ワイパー保持部の傾斜面に埋め込まれる基部と、前記基部から前記保持部の傾斜面の上に突出するブレード部とを有する、
   スリットノズル洗浄装置。
2. 水平面に対する前記ワイパー部材の起立角度は１５°〜４５°である、請求項１に記載のスリットノズル洗浄装置。
3. 前記ワイパー部材のブレード部は前記ワイパー保持部の傾斜面に対して斜めに起立した角度で突出する、請求項１または請求項２に記載のスリットノズル洗浄装置。
4. 前記ワイパー保持部の傾斜面に対する前記ブレード部の起立角度は３０°〜６０°である、請求項３に記載のスリットノズル洗浄装置。
5. 前記ワイパー保持部の傾斜面には、前記ワイパー部材の基部を着脱可能に収納するための溝部が形成されている、請求項４に記載のスリットノズル洗浄装置。
6. 前記ワイパー部材はフッ素含有エラストマからなる、請求項１〜５のいずれか一項に記載のスリットノズル洗浄装置。
7. 前記ワイパーユニットは、前記キャリッジに着脱可能に装着される、請求項１〜６のいずれか一項に記載のスリットノズル洗浄装置。
8. 塗布処理中に被処理基板に対して塗布液を帯状に吐出するスリット状の吐出口を有する長尺型スリットノズルと、
   塗布処理中に前記スリットノズルに塗布液を供給する塗布液供給部と、
   前記基板を支持する基板支持部と、
   塗布処理中に前記スリットノズルが前記基板上で塗布走査を行うように、前記スリットノズルと前記基板との間で水平な一方向に相対的移動を行わせる塗布走査機構と、
   塗布処理の合間に前記スリットノズルの吐出口周辺部を洗浄するための請求項１〜７のいずれか一項に記載のスリットノズル洗浄装置と
   を有する塗布装置。

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