CN102161028A - 狭缝喷嘴清洗装置和涂覆装置 - Google Patents

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宫崎文宏
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Abstract

本发明提供一种狭缝喷嘴清洗装置，能够短时间有效清洗狭缝喷嘴的喷出口周边部。该狭缝喷嘴清洗部(52)具有沿着狭缝喷嘴(32)的喷出口周边部在与狭缝喷嘴的长边方向平行的水平的清洗扫描方向(Y方向)移动的滑动架(64)。狭缝喷嘴清洗部(52)，在清洗扫描方向，以第一清洗单元(70)为始，以下为第一擦拭单元(72)、第二清洗单元(74)、第二擦拭单元(76)和干燥单元(78)，以该顺序排成一列地搭载在该滑动架(64)上。

Description

狭缝喷嘴清洗装置和涂覆装置
技术领域
本发明涉及无旋转方式的涂覆装置，特别涉及用于清洗无旋转法的涂覆处理中使用的狭缝喷嘴的喷出口周边部的狭缝喷嘴清洗装置。
背景技术
LCD等的平面显示器(FPD)的制造工艺中的图像平版印刷工序中，较多使用无旋转的涂敷法，该使具有狭缝形状的喷出口的长尺型狭缝喷嘴涂敷法相对于玻璃基板等的被处理基板进行相对移动，在基板上涂覆处理液或药液等的涂覆液例如抗蚀剂液。
在典型的无旋转涂覆法中，对固定载置在工作台上的基板，通过狭缝喷嘴喷出带状的抗蚀剂液，并使狭缝喷嘴在与喷嘴长边方向正交的水平方向移动。这样，从狭缝喷嘴的喷出口向基板上溢出的抗蚀剂液在喷嘴后方平坦地延伸，在基板的一个表面上形成抗蚀剂涂覆膜(例如，专利文献1)。
作为其他的代表的无旋转涂覆法，多使用在工作台上在使基板悬浮在空中的状态下沿着水平方向进行输送的(工作台长边方向)的悬浮输送方式。在该种方式中，设置在悬浮工作台的上方的长尺型的狭缝喷嘴朝向通过其正下方的基板喷出带状的抗蚀剂液，由此在基板的输送方向从基板的前端部向着后端部在基板上的一个表面上形成抗蚀剂涂覆膜(例如，专利文献2)。
通常，在狭缝喷嘴中，停止喷出动作时，喷出口附近容易附着或残留抗蚀剂液，如果其原样放置而干燥凝固，则在下一次涂覆处理时妨碍或扰乱抗蚀剂喷出流，有可能引起抗蚀剂膜厚的变动。因此，与涂覆处理部邻接设置的喷嘴待机部上，为下一次涂覆处理做准备，设置有用于清洗的狭缝喷嘴的喷出口周边部的狭缝喷嘴清洗装置(例如，专利文献3)。
现有的狭缝喷嘴清洗装置具有，被定位在喷嘴待机部内的规定位置的、在狭缝喷嘴下方沿着喷嘴的长边方向扫描移动的喷嘴清洗头或滑动架，该滑动架上搭载有分别向着狭缝喷嘴的喷出口周边部分内喷射清洗液(例如稀释液)和干燥用气体(例如N2气体)的清洗喷嘴和干燥喷嘴。滑动架沿着狭缝喷嘴的喷出口周边部沿着喷嘴长边方向扫描移动，并向着狭缝喷嘴的喷出口周边部的各部，清洗喷嘴首先吹出清洗液，接着干燥喷嘴吹出干燥用气体。
专利文献
【专利文献1】日本特开平10-156255号公报
【专利文献2】日本特开2005-236092号公报
【专利文献3】日本特开2007-111612号公报
发明内容
上述现有的狭缝喷嘴清洗装置，通过一次清洗扫描难以全面清扫狭缝喷嘴的喷出口周边部，因此要反复数次清洗扫描(滑动架的扫描移动)，存在喷嘴清洗处理周期时间长，清洗液的消耗量多的问题。
本发明解决上述现有技术的问题点，提供提高清洗效率和清洗能力，实现清洗周期时间的缩短化和清洗液消耗量的节俭的狭缝喷嘴清洗装置和具备该狭缝喷嘴清洗装置的涂覆装置。
本发明的狭缝喷嘴清洗装置，用于对涂覆处理中使用的具有狭缝状的喷出口的长尺型狭缝喷嘴的喷出口周边部进行清洗，其包括：沿着上述狭缝喷嘴的喷出口周边部在与上述狭缝喷嘴的长边方向平行的水平的清洗扫描方向移动的滑动架；搭载在上述滑动架上、在上述清洗扫描方向移动并向上述狭缝喷嘴的喷出口周边部吹出清洗液的第一清洗单元；和在上述清洗扫描方向，位于上述清洗单元之后，搭载在上述滑动架上，在上述清洗扫描方向移动并擦去附着在上述狭缝喷嘴的喷出口周边部的液体的第一擦拭单元。
上述的结构中，在清洗扫描方向，相对于狭缝喷嘴的各位置的喷出口周边部，首先，第一清洗单元喷出清洗液，由此将附着在该喷出口周边部的污垢溶解在清洗液中，污垢液残留在喷出口周边部。随即，第一擦拭单元通过该喷出口周边部，擦去附着在此的污垢液。
本发明的涂覆装置包括：具有在涂覆处理中对被处理基板带状喷出涂覆液的狭缝状的喷出口的长尺型狭缝喷嘴；在涂覆处理中向上述狭缝喷嘴供给涂覆液的涂覆液供给部；支撑上述基板的基板支撑部；在涂覆处理中，以上述狭缝喷嘴在上述基板上进行涂覆扫描的方式，在上述狭缝喷嘴和上述基板之间在水平方向进行相对移动的涂覆扫描机构；和用于在涂覆处理的间歇对上述狭缝喷嘴的喷出口周边部进行清洗的上述狭缝喷嘴清洗装置。
根据本发明的狭缝喷嘴清洗装置，通过上述结构和作用能够提高狭缝喷嘴的清洗效率，实现清洗周期的时间的缩短和清洗液消耗量的降低。此外，根据本发明的涂覆装置，通过具备本发明的狭缝喷嘴清洗装置，能够提高对狭缝喷嘴的清洗功能的清洗能力，改善涂覆处理的品质、成品率、维修成本。
附图说明
图1为表示能够适用本发明的狭缝喷嘴清洗装置的抗蚀剂涂覆装置的一个结构例的立体图。
图2为表示上述抗蚀剂涂覆装置中的狭缝喷嘴的内部结构和基板上形成抗蚀剂涂覆膜的情形的截面图。
图3为表示上述抗蚀剂涂覆装置中狭缝喷嘴的外观结构和基板上形成抗蚀剂涂覆膜的样子的主视图。
图4为表示上述抗蚀剂涂覆装置具备的喷嘴恢复部的结构的局部截面主视图。
图5为表示组装在上述喷嘴恢复部的狭缝喷嘴清洗部的结构的立体图。
图6为表示从清洗扫描的斜前方观察的上述狭缝喷嘴清洗部的结构的立体图。
图7为表示组装在上述狭缝喷嘴清洗部的擦拭单元的主要部分的结构的图。
图8为表示上述狭缝喷嘴清洗部中进行与狭缝喷嘴的对位的机构的结构的截面图。
图9A为示意性地表示上述狭缝喷嘴清洗部的作用的侧视图。
图9B为示意性地表示上述狭缝喷嘴清洗部的作用的侧视图。
图10A为表示在上述狭缝喷嘴清洗部搭载在滑动架上的单元的组成的变形例的图。
图10B是表示上述狭缝喷嘴清洗部中的搭载在滑动架上的单元的组成的变形例的图。
图11A是表示上述狭缝喷嘴清洗部中以单触式安装在滑动架上安装擦拭单元的结构例的图。
图11B是表示上述狭缝喷嘴清洗部中以单触式在滑动架上安装擦拭单元的另一结构例的图。
图12为表示上述狭缝喷嘴清洗部的第二实施方式的结构的俯视图。
图13为上述狭缝喷嘴清洗部的第二实施方式的干燥单元的截面图。
图14为图12的B-B的截面图
符号说明
32狭缝喷嘴
52狭缝喷嘴清洗部
60Y方向移动部
70、74清洗单元
72、76擦拭单元
78干燥单元
具体实施方式
以下，参照附图，说明本发明的最佳实施方式。
图1为表示本发明的能够适用狭缝喷嘴清洗装置的抗蚀剂涂覆装置的一个结构例。
该抗蚀剂涂覆装置包括：通过气体的压力使被处理基板例如FPD用的玻璃基板G悬浮在空中的悬浮工作台10；在该悬浮工作台10上沿着悬浮工作台长边方向(X方向)输送悬浮在空中的基板G的基板输送机构20；向在悬浮工作台10上进行输送的基板G的上表面供给抗蚀剂液的狭缝喷嘴32；和在涂覆处理的间歇恢复狭缝喷嘴32的喷嘴恢复部42。
在悬浮工作台10的上表面设置有向上方喷射规定的气体(例如空气)的多个气体喷射孔12，通过从这些气体喷射孔12喷射的气体的压力，使基板G距离工作台上表面悬浮在一定高度上。
基板输送机构20具有：夹持悬浮工作台10在X方向延伸的一对导轨22A、22B，沿着这些导轨22A、22B能够往复移动的一对滑块24；和在悬浮工作台10上以能够装卸地保持基板G的两侧端部方式设置在滑块24上的吸附垫等的基板保持部件(未图示)，通过直进移动机构(未图示)在输送方向(X方向)移动滑块24，由此，在悬浮工作台10上进行基板G的悬浮输送。
抗蚀剂喷嘴32构成为：沿着与输送方向(X方向)正交的水平方向(Y方向)横跨在悬浮工作台10的上方，通过狭缝状的喷出口对通过其正下方的基板G的上表面(被处理面)喷出带状的抗蚀剂液R。此外，狭缝喷嘴32构成为，通过例如包括滚珠丝杠机构和导引部件等的喷嘴升降机构26，能够与支撑该喷嘴的喷嘴支撑部件28一体地沿着铅直方向(Z方向)可移动地升降。此外，狭缝喷嘴32通过抗蚀剂供给管30与由抗蚀剂液容器和送液泵等构成的抗蚀剂供给部(未图示)连接。
与狭缝喷嘴32邻接，在悬浮工作台10的上方设置有喷嘴恢复部42。该喷嘴恢复部42的详细参照图4和图5在后面详述。
在此，说明该抗蚀剂涂覆装置中的抗蚀剂涂覆动作。首先，从前段的单元例如热处理单元(未图示)，通过分发机构(未图示)将基板G搬入设定在悬浮工作台10的前端侧的搬入区域，在此，待机的滑块24接受并保持基板G。在悬浮工作台10上，基板G受到由气体喷射孔12喷射的气体(例如高压空气)的压力，在大约水平的姿势保持悬浮状态。
如此，基板G在水平姿势下以一定速度在输送方向(x方向)移动，同时，狭缝喷嘴32向着正下方的基板G以规定的压力或流量喷出带状的抗蚀剂液，由此，如图2和图3所示，从基板G的前端侧向后端侧，形成膜厚均匀的抗蚀剂液涂覆膜。
如果基板G的后端通过狭缝喷嘴32的下方，则在基板的一表面上形成抗蚀剂涂覆膜。接着，基板G通过滑块24，在悬浮工作台10上被悬浮输送，由设定在悬浮工作台10后端的搬出区域，通过分发机构(未图示)送到后段的单元(未图示)。
如图2所示，狭缝喷嘴32由在喷嘴长边方向(Y方向)平行延伸的前肋33F和后肋33R构成、将这些一对肋33F、33R对接并用螺栓结合成一体，具有狭缝状的喷出口32a。与狭缝喷嘴32的喷出口32a平行延伸的两侧的喷嘴侧面32f、32r，形成为朝向喷出口32a从上向下逐渐变细的锥形状。抗蚀剂涂覆时，不仅仅是喷出口32a，两侧的喷嘴侧面32f、32r的下端部也被抗蚀剂液R浸润，完成抗蚀剂液涂覆处理后的喷出口32a和喷嘴侧面32f、32r的下端部残留有抗蚀剂液R的污垢。
图4表示喷嘴恢复部42内的结构。喷嘴恢复部42在一个箱体44内，併设有：向狭缝喷嘴32喷出少量抗蚀剂液以为下次涂覆处理做准备、并卷在启动辊46上的启动处理部48；用于以防止干燥为目的而将狭缝喷嘴32的喷出口保持在溶剂蒸汽的气氛中的喷嘴浴室50；用于清洗狭缝喷嘴32的喷出口周边部(喷出口32a、喷嘴侧面32f、32r)的狭缝喷嘴清洗部52。
结束一次涂覆处理的狭缝喷嘴32，最初接受由狭缝喷嘴清洗部52进行的清洗处理，接着，在喷嘴浴室50内待机，在下一个涂覆处理即将开始之前接受由启动处理部48进行的启动处理。
使狭缝喷嘴32进入喷嘴恢复部42内的各部(48、50、52)，在未图示的控制器的控制下，例如通过由滚珠丝杠机构构成的X方向移动部54，使喷嘴恢复部42整体，即箱体44在基板输送方向(X方向)移动，并且通过喷嘴升降机构26(图1)，在铅直方向(Z方向)移动狭缝喷嘴32。
组装在喷嘴恢复部42上的狭缝喷嘴清洗部52，是本发明一实施方式中的狭缝喷嘴清洗装置。以下，详细说明狭缝喷嘴清洗部52的结构和作用。
如图5所示，狭缝喷嘴清洗部52具有：通过连接部件62与Y方向移动部60结合，并沿着狭缝喷嘴32的喷出口周边部在与狭缝喷嘴的长边方向平行的水平的清洗扫描方向(Y方向)移动的滑动架64。Y方向移动部60，由例如齿条和小齿轮机构构成，具有：在Y方向延伸的齿条66和内设有在该齿条66上转动的齿轮(未图示)的可动单元68。滑动架64相对与狭缝喷嘴32的喷出口周边部进行对位后，在清洗扫描方向(Y方向)移动。
狭缝喷嘴清洗部52在清洗扫描方向，按照第一清洗单元70为始，以下为第一擦拭单元72、第二清洗单元74、第二擦拭单元76和干燥单元78的顺序使这些单元并排成一列地搭载在滑动架64上。各个单元70～78，以盒式能够装卸的方式安装在滑动架64上。
图6是表示从清洗扫描的斜前方观察狭缝喷嘴清洗部52的主要部分的结构。
第一和第二清洗单元70、74分别具有：在上表面具有凹形的槽部的块状的喷嘴保持部70a、74a；从该喷嘴保持部70a、74a的两侧的内壁突出的多对(或者一对)清洗喷嘴70b、74b；和通过喷嘴保持部70a、74a内的流路与清洗喷嘴70b、74b连接的配管连接器70c、74c。配管连接器70c、74c分别与来自于清洗液供给部(未图示)的清洗液供给管(未图示)连接。
干燥单元78分别具有：在上表面具有凹形槽部的块状的喷嘴保持部78a；从该喷嘴保持部78a的两侧的内壁突出的多对(或一对)干燥喷嘴78b；和通过喷嘴保持部78a内的流路与干燥喷嘴78b连接的配管连接器78c。配管连接器78c与来自于干燥气体供给部(未图示)的气体供给管(未图示)连接。
第一和第二擦拭单元72，76分别具有：在上表面具有V型槽部的块状的擦拭保持部72a、76a；和横卧安装在该喷嘴保持部72a、76a的两侧倾斜面的一对(或多对)长边形擦拭部件(72f、72r)、(76f、76r)。
如图6所示，擦拭部件(72f、72r)、(76f、76r)俯视时以V字状延伸。模仿擦拭部件(72f、72r)、(76f、76r)的V形状，喷嘴保持部72a、76a的前部俯视时形成V形状的缺口，该形状缺口部72d、76d下方，通过滑动架64的贯通孔，接通箱体44的底的排水箱80(图4)。这样，V形状缺口部72d、76d，构成狭缝喷嘴清洗部52的排出口。
图7表示第一和第二擦拭单元72、76中，擦拭保持部72a、76a的单侧一半和单侧擦拭部件72r、76r的结构。图7(a)为立体图，图7(b)、(c)是图7(a)中从箭头A、B的方向观察的视图。
擦拭部件72r(76r)由例如扎拉库(注册商标名)等的含氟弹性体构成，具有：埋入擦拭保持部72a(76a)的倾斜面的基部P；从该基部P向擦拭保持部72a(76a)的倾斜面上方突出延伸的叶片部Q。对狭缝喷嘴32进行清洗时，叶片部Q的上边缘部以几乎均匀的压力沿着整个长度抵接狭缝喷嘴32的喷出口周边部(喷出口32a、喷嘴侧面32f、32r)。擦拭保持部72a(76a)的倾斜面上形成有能够装卸地收纳擦拭部件72r(76r)的基部P用的槽部M。
叶片部Q以相对于擦拭保持部72a(76a)的倾斜面倾斜立起的角度突出。该立起角度α优选30°～60°的范围，最优选在45°附近。
此外，擦拭部件72r(76r)在清洗扫描方向以相对于水平面倾斜立起的角度安装在擦拭保持部72a(76a)的倾斜面。该立起角度β优选15°～45°的范围，最优选在30°附近。
擦拭保持部72a、76a的另一侧的一半和另一个的擦拭部件72f、76f也为与上述同样的结构。
图8表示该实施方式的狭缝喷嘴清洗部52具备的对位机构。
狭缝喷嘴32到达狭缝喷嘴清洗部52，如上所述，通过X方向移动部54使喷嘴恢复部42整体在基板输送方向(X方向)移动(图4)，并且，通过喷嘴升降机构26(图1)在铅直方向(Z)方向移动狭缝喷嘴32。这样，如图8所示，在狭缝喷嘴32和狭缝喷嘴清洗部52之间自动进行对位，使得狭缝喷嘴32的两喷嘴侧面32f、32r和喷出口32a分别以适度并且均匀的压力与第一和第二擦拭单元72、76的擦拭部件72f(76f)、72r(76r)接触。
如图8所示，滑动架64具有与Y方向移动部60的连接部件62一体结合的基础板64a、和在与喷嘴长边方向(Y方向)正交的水平方向(X方向)和铅直方向(Z方向)能够变位地安装在该基础板64a上的可动板64b，在可动板64b上，按照下述顺序排列搭载有第一和第二清洗单元70、74、第一和第二擦拭单元72、76和干燥单元78。在基础板64a和可动板64b上，在与第一和第二擦拭单元72、76的V形状缺口部72d、76d对应位置分别形成有排出用的贯通孔64c、64d。
在此，可动板64b通过从上到下贯通基础板64a的多个柱塞82，在铅直方向(Z方向)能够弹性变位，并且通过从外侧到内侧贯通固定在基础板64a上表面的块板84的多个柱塞86，能够在X方向弹性变位。各柱塞82、86，在躯体(螺栓)中内设有弹簧(未图示)，以点接触的方式加压接触可动板64b的球状的头部通过弹力弹性引退。
如上所述，通过X方向移动部54(图4)和喷嘴升降机构26(图1)，狭缝喷嘴32到达狭缝喷嘴清洗部52时，以模仿狭缝喷嘴的喷出口周边部(喷出口32a、喷嘴侧面32f、32r)的方式，第一和第二擦拭单元72、76还有可动板64b通过柱塞82、86，在X方向和Z方向弹性变位。由此，第一和第二擦拭单元72、76的擦拭部件(72f、72r)、(76f、76r)沿着其整个长度，以适度均匀的压力紧贴在狭缝喷嘴的喷出口周边部(喷出口32a、喷嘴侧面32f、32r)。
在擦拭部件(72f、72r)、(76f、76r)中，不仅能够个别地更换擦拭前肋33F的喷出口32a与喷嘴侧面32f的擦拭部件72f、76f以及擦拭后肋33R的喷出口32a与喷嘴侧面32r的擦拭部件72r、76r，还能够分别选定各自的材质，也能够分别设定或调整各自的材质(特别是弹性体)的硬度。
例如，如图2所示，平流方式的抗蚀剂涂覆处理中使用的狭缝喷嘴32，比起前肋33F的喷嘴侧面32f，后肋33R的喷嘴侧面32r由于抗蚀剂液R迂回，污垢比较多。因此，污垢多的后肋33R侧的擦拭部件72r、76r，基于增大接触摩擦，提高擦拭力的原因而优选其材质硬度较大的材料。另一方面，污垢少的前肋33F侧的擦拭部件72f、76f，材质硬度比较小，能够使接触摩擦小，提高耐久性。
同样，在第一和第二擦拭部件72、76之间，在清洗扫描方向位于前方的第一擦拭单元72的擦拭部件72f、72r的材质硬度选定的高，位于后面的第二擦拭单元76的擦拭部件76f、76r的材质硬度选定的低。
下面，参照图9A和图9B，说明该实施方式的狭缝喷嘴清洗部52的清洗作用。
狭缝喷嘴清洗部52中，上述与狭缝喷嘴32的对位完成之后，维持该对位状态(图8的状态)，并在未图示的控制器的控制下，使Y方向移动部60动作，滑动架64在清洗扫描方向(Y方向)以一定速度移动。在此，狭缝喷嘴32刚完成一次(一个基板)的抗蚀剂涂覆处理，在该喷出口周边部(喷出口32a、喷嘴侧面32f、32r)附着抗蚀剂液R，被污染。
在滑动架64开始扫描移动的几乎同时，搭载在滑动架64上的全部的单元开始各自的动作。更详细而言，第一清洗单元70在滑动架64上的最前面位置，通过清洗喷嘴70b喷出清洗液例如稀释液S，一边向狭缝喷嘴32的喷出口周边部(喷出口32a、喷嘴侧面32f、32r)喷出稀释液S，一边在清洗扫描方向(Y方向)移动。
第一擦拭单元72，紧接着第一清洗单元70，一对擦拭部件72f、72r滑动接触狭缝喷嘴32的喷出口周边部(喷出口32a、喷嘴侧面32f、32r)，在清洗扫描方向(Y方向)移动。
第二清洗单元74，紧接在第一擦拭单元72之后，由清洗喷嘴74b喷出清洗液例如稀释液S，一边向狭缝喷嘴32的喷出口周边部(喷出口32a、喷嘴侧面32f、32f)喷出稀释液S，一边在清洗扫描方向(Y方向)移动。
第二擦拭单元76，紧接在第二清洗单元74之后，一对擦拭部件76f、76r滑动接触狭缝喷嘴32的喷出口周边部(喷出口32a、喷嘴侧面32f、32r)，在清洗扫描方向(Y方向)移动。
干燥单元78，紧接在第二擦拭单元76之后，通过干燥喷嘴78b喷出干燥用气体，例如N2气体，一边向狭缝喷嘴32的喷出口周边部(喷出口32a、喷嘴侧面32f、32r)吹出N2气体，一边在清洗扫描方向(Y方向)移动。
图9A和图9B以一定的时间间隔(t1，t2，t3，……)示意性的表示：如上述的狭缝喷嘴清洗部52中，通过清洗扫描，在清洗扫描方向(Y方向)上从一端向另一端连续清洗并清扫狭缝喷嘴32的喷出口周边部(喷出口32a、喷嘴侧面32f、32r)的情形。
该清洗扫描中，如果着眼于各位置(例如图的P6的位置)的狭缝喷嘴32的喷出口周边部(喷出口32a、喷嘴侧面32f、32r)，首先，通过第一清洗单元70向该喷出口周边部吹出稀释液S，附着在该喷出口周边部的抗蚀剂液R溶解在稀释液S中，混合有两液体R、S的污垢液残RS留在喷出口周边部。
随即，使第一擦拭单元72的一对擦拭部件72f、72r滑动接触地通过该喷出口周边部。擦拭部件72f、72r一边朝向行进方向以倾斜的角度β立起，并以适度的压力与该喷出口周边部滑动接触，一边向下扫落污垢液RS一边前进。扫落的污垢液RS，从排出口72d落入下方的排水箱80。第一擦拭单元72进行的擦拭效果充分，即使擦拭的污垢液RS附着在第一擦拭单元72通过的路径上，也是少量的。
紧接着，第二清洗单元74向该喷出口周边部吹出稀释液S，由此，在该喷出口周边部附着的擦拭残留的污垢液RS被稀释液S稀释，相对地稀释液S的比率大且污垢少的液体SR残留在喷出口周边部。
随即，使第二擦拭单元76的一对擦拭部件76f、76r滑动接触地通过该喷出口周边部。擦拭部件76f、76r朝向行进方向以倾斜的角度β立起，并以适度的压力与该喷出口周边部滑动接触，一边向下扫落污垢液SR一边前进。扫落的液体SR，从排出口76d落入下面的排水箱80。第二擦拭单元76进行的擦拭效果充分，即使擦拭的残留液SR附着在第二擦拭单元76通过的路径上，也是少量的。
紧接着，干燥单元78向该喷出口周边部吹出N2气体，由此，用风力除去附着在该喷出口周边部的擦拭残留液体SR，该喷出口周边部成为洁净并且干燥的状态。
从狭缝喷嘴32的一端到另一端沿着全长，在狭缝喷嘴32的清洗扫描方向(Y方向)的各位置的喷出口周边部进行上述那样一连串的处理(第一次的清洗→第一次的擦拭→第二次的清洗→第二次的擦拭→干燥)。
通过进行一次(一个去路)清洗扫描，沿着贯穿狭缝喷嘴32的全长，在各位置充分除去喷出口周边部(喷出口32a、喷嘴侧面32f、32r)的抗蚀剂污垢。因此，滑动架64达到设定在狭缝喷嘴32的另一端附近的终点时，在此完成喷嘴清洗处理。随即，在控制器的控制下，喷嘴升降机构38(图1)和X方向移动部54(图4)动作，使狭缝喷嘴32从狭缝喷嘴清洗部52移向邻接的喷嘴浴室50。
如上所述，该实施方式的狭缝喷嘴清洗部52，将第一和第二清洗单元70、74、第一和第二擦拭单元72、76以及干燥单元78按照上述规定顺序依次搭载在与狭缝喷嘴32的长边方向平行的水平的清洗扫描方向(Y方向)移动的滑动架64上，在清洗扫描方向(Y方向)的移动中，第一和第二清洗单元70、74向狭缝喷嘴32的喷出口周边部吹出清洗液，第一和第二擦拭单元72、76擦去附着在狭缝喷嘴32的喷出口周边部的液体(污垢)，干燥单元78向狭缝喷嘴32的喷出口周边部吹出干燥气体。由此，特别是通过擦拭单元72、76的作用，大大改善了清洗效率，通过一次(一个去路)的清洗扫描，能够充分清洗、清扫狭缝喷嘴32的喷出口周边部，容易达成清洗周期时间的缩短化和清洗液消耗量的节减。
此外，该实施方式的抗蚀剂涂覆装置，在喷嘴恢复部42具备上述狭缝喷嘴清扫部52，由此，能够提高对狭缝喷嘴32的清洗功能的清洗能力，能够改善抗蚀剂涂覆处理的品质、成品率、维修成本。
以上，说明了本发明的最佳实施方式，本发明不限于上述实施方式，在其技术思想的范围内能够进行各种变形或变更。
例如，能够对搭载在滑动架64上的单元的组成方式(清洗单元、擦拭单元和干燥单元的个数、排列顺序等)进行各种变形和变更。
例如，如图10A的变形例(a)所示，能够纵向接续配置三组清洗单元和擦拭单元[70、72]、[74、76]、[90、92]，最后配置干燥单元78。
如图10A的变形例(b)所示，纵向接续配置2组清洗单元和擦拭单元[70、72]、[74、76]的结构与上述实施方式相同，但例如第一擦拭单元72内能够设置2对擦拭部件72f、72r。
如图10A的变形例(c)所示，也能够为在滑动架64上搭载1组清洗单元和擦拭单元[70、72]和干燥单元78的结构。
此外，如图10A的变形例(d)所示，也能够为省略干燥单元78，在滑动架64上仅搭载1组清洗单元和擦拭单元[70、72]的结构。
此外，不限于上述变形例(a)～(d)，上述实施方式中，多次反复移动滑动架64，反复多次进行清洗扫描也可以。
此外，如图10B所示，能够在滑动架64上搭载去路用的擦拭单元72和回路用的擦拭单元94，进行去路清洗扫描和回路清洗扫描。这种情况下，在去路的清洗扫描方向，去路用擦拭单元72之前配置去路用的清洗单元70和干燥单元96，回路的清洗扫描方向中，在擦拭单元94之前配置回路用的清洗单元98和干燥单元78，在两个擦拭单元72、94之间配置去路/回路兼用的清洗单元74。
进行去路的清洗扫描时，通过例如压气缸使回路用的擦拭单元94下降，从狭缝喷嘴32分离或退避(即成为不使用的状态)，并且行进方向前部的回路用干燥单元96和行进方向后部的回路用清洗单元98为关闭状态(即成为不使用状态)。
进行回路的清洗扫描时，通过例如压气缸使去路用的擦拭单元72下降，从狭缝喷嘴32分离或退避(即成为不使用的状态)，并且行进方向前部的去路用干燥单元78和行进方向后部的回路用清洗单元70为关闭状态(即成为不使用状态)。
图11A和图11B表示几个以单触式能够装卸地安装在滑动架64上的擦拭单元(作为代表例有擦拭单元72)的结构例。
图11A的(a)、(b)所示的结构例，滑动架64构成为上表面开口的截面为コ字型的箱体或壳体形状，能够从上面对于滑动架64插拔擦拭单元72。优选在滑动架64设置定位用的锥形壁面64a(图11A(a))或定位销64b(图11A(b))。优选采用在滑动架64的两侧壁64c安装柱塞100，在擦拭单元72侧的槽口72n上卡合柱塞100的头部的结构。或者，代替柱塞100，可以采用如图11B的(a)、(b)所示，在滑动架64的两侧壁64c上安装板簧102，在擦拭单元72的肩部卡止板簧102的结构。
下面，说明狭缝喷嘴清洗部的第二实施方式。与上述实施方式相同的内容省略说明。图12为狭缝喷嘴清洗部152的俯视图。狭缝喷嘴清洗部152，在清洗扫描方向以第一清洗单元179为始，以下为第一擦拭单元72、第二清洗单元180、第二擦拭单元76、干燥单元78和第二干燥单元178，以该顺序并列排成一列，搭载在滑动架64上。各单元178～180、72、76以盒式能够装卸地安装在滑动架64上。
图13为图12的A-A截面图。干燥单元78的相面对的一个面上设置干燥喷嘴78b1、78b2，从干燥喷嘴78b1、78b2喷出干燥用气体，例如N2气体。干燥单元78的另一个面也同样。此外，干燥单元178的相面对的一个面设置干燥喷嘴178b1、178b2，从干燥喷嘴178b1、178b2喷出干燥用气体，例如N2气体。干燥单元178的另一个面也同样。
在此，如图13所示，对位于上侧的干燥喷嘴78b1和干燥喷嘴178b1的高度位置进行比较时，干燥喷嘴78b1比干燥喷嘴178b1设置的高。此外，干燥喷嘴78b2和干燥喷嘴178b2的高度位置设置在相同高度。
如此，干燥喷嘴78b1设置在比干燥喷嘴178b1高的位置，相对于喷嘴侧面32f、32r从上依次吹附气体，因此附着在喷嘴侧面32f、32r的擦拭残留液体能够更有效的流向下方，进行干燥。
此外，如图12所示，第一和第二清洗单元179、180具有：上表面具有凹形槽部的块状的喷嘴保持部179a、180a；和从该喷嘴保持部179a、180a的两侧的内壁突出的多对清洗喷嘴179b、180b。
从上方观察时，清洗喷嘴179b、180b相互错开配置，因此，例如，在狭缝喷嘴32不在凹形的槽部的状态下，即使从清洗喷嘴179b喷出清洗液，从清洗喷嘴179b喷出的清洗液之间也不会相对冲突而飞散。
接着，图14为图12的B-B截面图(第二清洗单元180的截面图)。从喷嘴保持部180a的内壁上下两列配置清洗喷嘴180b。此外，第一清洗单元179上也同样，上下两列配置清洗喷嘴179b。
此外，不限于本实施例，第一擦拭单元72、第二擦拭单元的擦拭保持部72a、76d能够容易从滑动架64取下，能够仅交换擦拭部件(72f、72r)、(76f、76r)，通过将每个擦拭保持部72a、76d交换为新的，能够更容易进行擦拭的交换。
此外，擦拭部件72r(76r)的立起角度β优选在15°～45°的范围内，最优选在30°附近，但以立起角度β为30°和44°进行实验时，30°的擦拭性能好。考察该结果可知，为了擦拭喷嘴侧面32f、32r的规定区域，立起角度β越小擦拭部件72r(76r)的全长需要越长。因此，立起角度β＝30°比立起角度β＝44°擦拭长，在擦拭喷嘴侧面32f、32r的相同区域的情况下，由于擦拭长因此立起角度β＝30°的擦拭性能高。但是，立起角度β比30更小时，则擦拭的全长过长，擦拭阻力增加，不能有效擦拭。因此，立起角度β最优选在30°附近。
作为本发明的涂覆液，除了抗蚀剂液以外，也可以是例如层间绝缘材料、电介质材料、配线材料等的涂覆液，也能够是各种药剂、显影液、漂洗液等。本发明的被处理基板不限于LCD基板，其他的平面显示器用基板、半导体晶片、CD基板、光蚀刻掩膜、印刷基板等也可以。

Claims (15)

1.一种狭缝喷嘴清洗装置，用于对涂覆处理中使用的具有狭缝状的喷出口的长尺型狭缝喷嘴的喷出口周边部进行清洗，该狭缝喷嘴清洗装置的特征在于，包括：
沿着所述狭缝喷嘴的喷出口周边部与所述狭缝喷嘴的长边方向平行地在水平的清洗扫描方向上移动的滑动架；
搭载在所述滑动架上的、在所述清洗扫描方向上移动得同时向所述狭缝喷嘴的喷出口周边部喷出清洗液的第一清洗单元；和，
在所述清洗扫描方向上位于所述清洗单元之后并搭载在所述滑动架上的、在所述清洗扫描方向上移动的同时擦去附着在所述狭缝喷嘴的喷出口周边部的液体的第一擦拭单元。
2.如权利要求1所述的狭缝喷嘴清洗装置，其特征在于：
具有干燥单元，其在所述清洗扫描方向上位于所述第一擦拭单元之后，并搭载在所述滑动架上，在所述清洗扫描方向上移动的同时对所述狭缝喷嘴的喷出口周边部吹出干燥用气体。
3.如权利要求1所述的狭缝喷嘴清洗装置，其特征在于，具有：
在所述清洗扫描方向上位于所述第一擦拭单元之后并搭载在所述滑动架上的、在所述清洗扫描方向上移动的同时对所述狭缝喷嘴的喷出口周边部喷出清洗液的第二清洗单元；和
在所述清洗扫描方向，位于所述第二清洗单元之后，并搭载在所述滑动架上，在所述清洗扫描方向移动并对所述狭缝喷嘴的喷出口周边部附着的液体进行擦拭的第二擦拭单元。
4.如权利要求3所述的狭缝喷嘴清洗装置，其特征在于：
具有干燥单元，其在所述清洗扫描方向上位于所述第二擦拭单元之后，并搭载在所述滑动架上，在所述清洗扫描方向上移动的同时对所述狭缝喷嘴的喷出口周边部吹出干燥用气体。
5.如权利要求1所述的狭缝喷嘴清洗装置，其特征在于：
在所述狭缝喷嘴的与喷出口平行地延伸的两侧的喷嘴侧面，形成为向着喷出口从上到下逐渐变细的锥形形状，
所述清洗单元具有从两侧向所述锥形形状的喷嘴侧面吹附清洗液的多个清洗喷嘴，
所述擦拭单元具有以相对于水平面倾斜立起的角度从两侧分别个别地与所述锥形形状的喷嘴侧面滑动接触的一对或多对长尺形擦拭部件。
6.如权利要求5所述的狭缝喷嘴清洗装置，其特征在于：
相对于水平面的所述擦拭部件的立起角度为15°～45°。
7.如权利要求5或6的狭缝喷嘴清洗装置，其特征在于：
所述擦拭单元具有块状的擦拭保持部，该擦拭保持部具有分别与所述狭缝喷嘴的喷出口和喷嘴侧面平行相对的底部和倾斜面，
在所述擦拭保持部的倾斜面安装有所述擦拭部件。
8.如权利要求7所述的狭缝喷嘴清洗装置，其特征在于：
所述擦拭部件具有埋入所述擦拭保持部的倾斜面的基部；和从所述基部向所述保持部的倾斜面上方突出的叶片部。
9.如权利要求8所述的狭缝喷嘴清洗装置，其特征在于：
所述擦拭部件的叶片部以相对于所述擦拭保持部的倾斜面倾斜立起的角度突出。
10.如权利要求9所述的狭缝喷嘴清洗装置，其特征在于：
相对于所述擦拭保持部的倾斜面的所述叶片部的立起角度为30°～60°。
11.如权利要求10所述的狭缝喷嘴清洗装置，其特征在于：
在所述擦拭保持部的倾斜面形成有槽部，该槽部用于能够装卸地收纳所述擦拭部件的基部。
12.如权利要求5或6所述的狭缝喷嘴清洗装置，其特征在于：
所述擦拭部件由含氟弹性体构成。
13.如权利要求1～6中任一项所述的狭缝喷嘴清洗装置，其特征在于：
所述擦拭单元能够装卸地安装在所述滑动架上。
14.如权利要求1～6中任一项所述的狭缝喷嘴清洗装置，其特征在于：
在所述滑动架上具有对位机构，使所述擦拭单元顺着所述狭缝喷嘴的喷出口周边部能够弹性变位。
15.一种涂覆装置，其特征在于，包括：
具有在涂覆处理中对被处理基板带状地喷出涂覆液的狭缝状的喷出口的长尺型狭缝喷嘴；
在涂覆处理中向所述狭缝喷嘴供给涂覆液的涂覆液供给部；
支撑所述基板的基板支撑部；
在涂覆处理中，以所述狭缝喷嘴在所述基板上进行涂覆扫描的方式，在所述狭缝喷嘴与所述基板之间在水平的一个方向上进行相对移动的涂覆扫描机构；和
用于在涂覆处理的间歇对所述狭缝喷嘴的喷出口周边部进行清洗的权利要求1～6中任一项所述的狭缝喷嘴清洗装置。
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