KR20080051551A - 습식식각장치 - Google Patents

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KR20080051551A
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정현용
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

본 발명은 액정표시장치용 기판의 제조 공정 중 식각용액을 사용하여 기판에 증착된 박막의 일부를 제거하는 습식식각(wet etching) 공정을 진행하는 습식식각장치에 관한 것이다.
본 발명의 특징은 CDA가 혼합된 약액과, 고압의 CDA 그리고, CDA가 혼합된 세정액이 각각 분사되는 3중 분사장치를 습식식각 공정의 에칭부와 린스부의 사이에 구성하여, 에칭영역과 세정영역을 넓힘과 동시에 기판의 반건조구간을 줄이는 것을 특징으로 한다.
이로 인하여, 기판이 에칭부에서부터 린스부로 이송되는 과정에서 기판 상의 약액이 건조되어 띠 형태의 얼룩이 발생되는 것을 미연에 방지하게 된다.
이는, 건조된 약액이 후속의 린스부의 DI 등과 같은 세정액과 국부적인 화학반응을 일으키는 것 또한 방지함으로써 기판 상에 물방울 형태의 얼룩이 발생되지 않게 되며, 기판 상의 부분식각으로 인한 패턴의 불량 또한 미연에 방지하게 된다.
Figure P1020060122905
습식식각장치, 에칭부, 린스부, 노즐

Description

습식식각장치{Wet etching apparatus}
도 1은 일반적인 스프레이 방식의 습식식각공정 중 에칭부와, 린스부에 관한 것으로, 에칭공정 시와 린싱공정 시의 식각장비를 개략적으로 도시한 도면.
도 2는 도 1의 반건조구간을 개략적으로 도시한 도면.
도 3a ~ 3b는 세정공정이 완료된 기판 상에 띠 형태의 얼룩이 나타난 사진.
도 4a ~ 4b는 기판 상에 물방울 형태의 얼룩이 나타난 사진.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 습식식각 장치에 관한 것으로, 에칭부와, 린스부 공정 시의 식각장비를 개략적으로 도시한 도면.
도 6a ~ 6b는 본 발명에 따른 3중 분사 장치의 구조를 개략적으로 도시한 도면.
도 7은 도 5의 반건조구간을 개략적으로 도시한 도면.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
110 : 에칭부 113 : 약액분사노즐
115a : 약액 120 : 린스부
121 : 세정액분사스프레이 125a : 세정액
117, 127 : 에어나이프
131 : 챔버 133 : 기판
135 : 기판이송유닛 150 : 3중 분사장치
A' : 에칭영역 D' : 세정영역
E' : 반건조구간
본 발명은 액정표시장치용 기판의 제조 공정 중 식각용액을 사용하여 기판에 증착된 박막의 일부를 제거하는 습식식각(wet etching) 공정을 진행하는 습식식각장치에 관한 것이다.
최근 본격적인 정보화 시대에 발맞추어 각종 전기적 신호에 의한 대용량의 데이터를 시각적 화상으로 표시하는 디스플레이(display) 분야 또한 급속도로 발전하였고, 이에 부응하여 경량화, 박형화, 저소비전력화 장점을 지닌 평판표시장치(flat panel display device : FPD)로서, 액정표시장치(liquid crystal display device: LCD), 플라즈마표시장치(plasma display panel device: PDP), 전계방출표시장치(field emission display device: FED), 전기발광표시장치(electro luminescence display device : ELD) 등이 소개되어 기존의 브라운관(cathode ray tube : CRT)을 빠르게 대체하고 있다.
이들 일반적인 평판표시장치는 나란한 두 기판 사이로 고유의 형광 또는 편 광물질층을 개재한 형태로, 제조공정의 대부분은 기판을 대상으로 진행되는데, 상기 기판 표면에 소정의 박막을 형성하는 박막증착(deposition)공정, 상기 박막의 선택된 일부를 노출시키는 포토리소그라피(photo lithography)공정, 상기 박막의 노출된 부분을 제거하기 위해 패터닝(patterning) 하는 식각(etching)공정이 수차례 반복되며, 그밖에 세정, 합착, 절단 등의 수많은 공정이 수반된다.
이중 식각공정은 크게 식각용액을 사용하는 습식식각 그리고 기체분자를 사용하는 건식식각으로 구별되는데, 이중 습식식각은 구체적인 방식에 따라 용기 내에 담겨진 식각용액에 기판을 담그는 딥핑(dipping)방식 또는 밀폐된 챔버 내부의 기판을 향해 다수의 분사노즐로 식각용액을 분사하는 스프레이(spray) 방식으로 구분될 수 있다.
상기 스프레이 방식의 습식식각공정은 기판을 반송하기 위한 로딩부(loading part)와, 식각공정의 안정성을 위한 버퍼부(buffer part), 식각용액을 분사시켜 기판을 식각하는 에칭부(etching part)와, 기판으로부터 식각용액을 제거하기 위해 기판을 제 1,2차 세척시키는 제 1 린스부(first rinse part)와 제 2 린스부(second rinse part)와, 세척된 기판을 건조하기 위한 건조부(dry part)와, 식각공정이 완료된 기판을 후속공정으로 이송하기 위한 언로딩부(unloading part)를 통해 이루어진다.
도 1은 일반적인 스프레이 방식의 습식식각공정 중 에칭부와, 린스부에 관한 것으로, 에칭공정 시와 린싱공정 시의 식각장비를 개략적으로 도시한 도면이다.
도시한 바와 같이, 에칭부(10)와 린스부(20)는 챔버(31) 내에서 인라 인(inline) 방식으로 기판(33)을 이송하는 기판이송유닛(35)을 통해 상기 에칭부(10)와 린스부(20)를 차례로 경유하여 이송된다.
이때, 상기 에칭부(10)에는 이동 중인 기판(33) 상부에서 약액(15)을 분사하는 복수의 약액분사노즐(13)이 마련되고, 상기 린스부(20)에는 이동 중인 기판(33) 상부에서 DI(de-ionized water) 등의 세정액(25)을 분사하는 복수의 세정액분사스프레이(21)가 마련된다.
따라서, 기판(33)은 기판이송유닛(35)을 따라 슬라이딩 이송되는 과정 중에 에칭부(10)를 통과하면서 약액분사노즐(13)을 통해 분사되는 약액(15)에 의해 습식식각이 진행되고, 린스부(20)를 통과하면서 세정액분사스프레이(21)를 통해 분사되는 세정액(25)에 의해 상기 약액(15)의 세정공정이 이루어진다.
한편, 상기 에칭부(10)에 있어서, 챔버(31) 내부의 공정영역은 실질적인 에칭영역(A)과, 식각 완료된 기판(33)이 후속의 린스부(20)로 이송되기 위해 거쳐 가는 제 1 대기영역(B)으로 구분되며, 상기 린스부(20) 역시, 챔버(31) 내부에서 상기 에칭부(10)를 거쳐 이송되는 기판(33)이 거쳐 가는 제 2 대기영역(C)과, 실질적인 세정영역(D)으로 구분된다.
이때, 상기 제 1 및 제 2 대기영역(B, C)에는 각각 기판이송유닛(35) 상에서 일 방향 이송되는 기판(33) 표면으로 불활성의 질소(N2) 또는 고압의 CDA(clean dry air) 등의 건조기체를 분사하도록 기판(33) 및 기판이송유닛(35)을 사이에 두고 서로 대향 배열된 바(bar) 형상의 제 1 에어나이프(17a, 17b)와, 제 2 에어나이 프(27a, 27b)를 포함한다.
상기 각각의 제 1 및 제 2 에어나이프(17a, 17b, 27a, 27b)는 기판이송유닛(35) 상에 안착되어 일 방향으로 슬라이딩 이송되는 기판(33) 상에 건조기체를 분사하여 기판(33) 상의 약액(15)을 기판(33) 밖으로 흘려보내는 역할을 하게 된다.
따라서, 상기 제 1 및 제 2 대기영역(B, C)은 에칭영역(A)에 의한 기판(33) 상의 약액(15)을 기판(33) 밖으로 흘려보내기 위해 구비되는 구간으로 이때, 기판 (33)상의 약액(15)이 일부 건조되어, 이를 기판(33)의 반건조구간(E)이라 한다.
도 2는 도 1의 반건조구간을 개략적으로 도시한 도면이다.
도시한 바와 같이, 반건조구간(E)은 에칭부(10)의 제 1 대기영역(도 1의 B)과, 린스부(20)의 제 2 대기영역(도 1의 C)에 걸쳐 해당하는 영역으로, 에칭부(10)에 구성된 한쌍의 제 1 에어나이프(17a, 17b)는 고압의 CDA를 분사하여 기판(33)의 약액(15)을 외부로 쓸어내리게 되며, 린스부(20)의 제 2 에어나이프(27a, 27b)는 상기 에칭부(10)의 제 1 에어나이프(17a, 17b)를 통해 약액(15)을 쓸어내렸음에도 불구하고, 기판(33) 상에 남아있는 잔류 약액(15)을 또다시 외부로 쓸어내리게 된다.
그러나, 이러한 습식식각 공정은 몇 가지 문제점을 나타내는데, 우선 도 3a ~ 3c의 사진과 같이 세정공정이 완료된 기판(도 2의 33)으로부터 약액(도 2의 15) 성분에 의한 띠 형태의 얼룩(40)이 나타나게 되는 것이다.
그 원인은 상기 에칭부(도 2의 10)에 구성된 제 1 에어나이프(도 2의 17a, 17b)에서 찾아볼 수 있는데, 특히, 상기 제 1 에어나이프(도 2의 17a)는 고압의 CDA를 분사해서 기판(도 2의 33) 상의 약액(도 2의 15)을 외부로 쓸어내는 역할을 하지만 그 세정효율이 충분치 못하여 기판(도 2의 33) 상의 부분식각이 일어나게 되며, 특히 약액(도 2의 15)이 제 1 에어나이프(도 2의 17a)를 통한 고압의 CDA에 의해 급속 건조되기 때문에 띠 형태의 얼룩(40)이 나타나게 된다.
이때, 상기 기판(도 2의 33) 상의 부분식각은 기판(도 2의 33) 상에 형성된 패턴(미도시)의 불량을 야기하게 된다.
또한, 도 4a ~ 4b의 사진과 같이 기판(도 2의 33) 상에 물방울 형태의 얼룩(50)이 나타나게 되는데 이는, 상기 제 1 대기영역(도 1의 B)을 거치는 동안 제거되지 못하고 건조된 잔류 약액(도 2의 15)이 후속의 제 2 대기영역(도 1의 C)의 제 2 에어나이프(도 2의 27a, 27b)로 인한 세정을 통해서도 충분히 제거되지 못하여, 린스부(도 2의 20)의 DI 등과 같은 세정액(도 2의 25)과 국부적인 화학반응을 일으키기 때문이며, 결국 물방울 형태의 얼룩(50)이 나타나게 되는 것이다.
이에 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 습식식각 후 세정장치로 공급되는 기판 상의 잔류 약액을 완전하게 제거할 수 있는 습식식각장치를 제공하고자 하는 것을 목적으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 약액을 분사하는 식각유닛과 세정액을 분사하는 세정유닛이 구성된 챔버와; 상기 챔버 내부를 가로질러 기판을 상기 식각유닛과 세정유닛으로 슬라이딩 이동시키는 인라인 방식의 기판이송유닛과; 상기 식각유닛과 세정유닛의 경계에 위치하여 이의 경계를 정의하며, 적어도 3개의 슬릿노즐로 구성된 바(bar) 형상의 3중 분사장치를 포함하는 습식식각장치를 제공한다.
상기 슬릿노즐의 길이는 상기 기판의 폭과 같거나 큰 것을 특징으로 하며, 상기 3개의 슬릿노즐 중 가운데 슬릿노즐은 기판의 이동방향에 수직으로 교차되어 연속적인 막의 형태로 고압의 CDA를 분사함으로써, 상기 식각유닛의 약액이 상기 세정유닛으로 넘어오는 것을 방지하게 되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 가운데 슬릿노즐의 일측에 구성된 슬릿노즐은 기판의 이동방향에 대해 일정정도의 각도를 이뤄 세정유닛 내부를 향해 세정액을 분사하며, 상기 가운데 슬릿노즐의 타측에 구성된 슬릿노즐은 기판의 이동방향의 반대방향에 대해 일정정도의 각도를 이뤄 식각유닛 내부를 향해 약액을 분사하는 것을 특징으로 하며, 상기 3중 분사장치는 내부에 각각 3개의 저장부가 구비되며, 상기 각각의 슬릿노즐과 연결되는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 슬릿노즐에는 다수의 분사홀이 구성되는 것을 특징으로 하며, 상기 약액과 세정액에는 각각 고압의 CDA가 혼합되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 식각유닛에는 이동 중인 기판 상부에서 약액을 분사하는 복수의 약액분사노즐이 구비되는 것을 특징으로 하며, 상기 세정유닛에는 이동 중인 기판 상부에서 세정액을 분사하는 복수의 세정액분사스프레이가 구비되는 것을 특징으로 한다. 상기 식각유닛과 세정유닛에는 각각 기판의 배면으로 고압의 CDA를 분사하는 에어나이프가 구비되는 것을 특징으로 한다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하도록 하겠다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 습식식각 장치에 관한 것으로, 에칭부와, 린스부 공정 시의 식각장비를 개략적으로 도시한 도면이다.
도시한 바와 같이, 에칭부(110)와 린스부(120)는 외부와 격리된 밀실구조의 챔버(131)이며, 기판(133)은 기판이송유닛(135)을 통해 인라인(inline) 방식으로 상기 에칭부(110)와 린스부(120)를 차례로 경유하여 이송된다.
이때, 상기 기판이송유닛(135)은 일반적으로 일렬로 배열된 다수의 나란한 롤러(roller) 또는 컨베이어벨트(conveyer belt)를 사용하며, 상기 챔버(131) 내부에 구비되어 기판(133)을 지지하는 동시에 일방향으로 슬라이딩 시키게 된다.
한편, 상기 에칭부(110)에는 이동 중인 기판(133) 상부에서 약액(115a)을 분사하는 복수의 약액분사노즐(113)이 마련되고, 상기 린스부(120)에는 이동 중인 기판(133) 상부에서 DI(de-ionized water) 등의 세정액(125a)을 분사하는 복수의 세정액분사스프레이(121)가 마련된다.
따라서, 기판(133)은 기판이송유닛(135)을 따라 슬라이딩 이송되는 과정 중에 에칭부(110)를 통과하면서 약액분사노즐(113)을 통해 분사되는 약액(115a)에 의해 습식식각이 진행되고, 린스부(120)를 통과하면서 세정액분사스프레이(121)에 의해 분사되는 세정액(125a)에 의해 상기 약액(115a)의 세정공정이 이루어진다.
이때, 상기 에칭부(110)와 린스부(120)에는 에칭부(110)에서 린스부(120)로 슬라이딩되는 기판(133)의 배면으로 고압의 CDA를 분사하는 바(bar) 형상의 제 1 및 제 2 에어나이프(117, 127)가 더욱 구비되어, 고압의 CDA에 의해 기판(133) 배면의 잔류 약액(115a)이나 잔류 수분이 건조 및 제거되도록 한다.
한편, 상기 에칭부(110)에 있어서, 챔버(131) 내부의 공정영역은 에칭영역(A')과, 식각 완료된 기판(133)이 후속의 린스부(120)로 이송되기 위해 거쳐 가는 반건조구간(E')으로 구분되며, 상기 린스부(120) 역시, 챔버(133) 내부에서 상기 에칭부(110)를 거쳐 이송되는 기판(133) 상의 약액(115a)을 제거하기 위한 반건조구간(E')과, 실질적인 세정영역(D')으로 구분된다.
즉, 기판(133)은 기판이송유닛(135) 상에 안착된 상태로 에칭영역(A')을 거쳐 반건조구간(E')을 거쳐 세정영역(D')으로 슬라이딩 이송되는 것이다.
여기서, 상기 반건조구간(E')에 대해 좀더 자세히 알아보면, 상기 반건조구간(E')은 에칭영역(A')에 의해 기판(133) 상의 약액(115a)을 제거하거나, 기판(133) 상의 약액(115a)이 린스부(120)로 넘어가는 것을 방지하기 위해 구비되는 구간으로, 상기 반건조구간(E')에는 기판이송유닛(135) 상에서 일 방향 이송되는 기판(133) 상부에 CDA가 혼합된 약액(도 6a의 115b)과, 고압의 CDA(155) 그리고, CDA가 혼합된 세정액(도 6a의 125b)을 분사하여 기판(133) 상의 약액(115a)을 외부로 쓸어내리는 동시에, 에칭부(110)와 린스부(120)의 경계를 정의하는 3중 분사 장치(150)를 구비하는 것을 특징으로 한다.
도 6a ~ 6b는 본 발명에 따른 3중 분사 장치의 구조를 개략적으로 도시한 도 면이다.
도시한 바와 같이, 3중 분사 장치(150)는 바(bar) 형상으로 CDA가 혼합된 약액(115b), 고압의 CDA(155) 그리고, CDA가 혼합된 세정액(125b)을 각각 저장하도록 소정공간을 정의하는 제 1 ~ 제 3 저장부(151a, 151b, 151c)와, 상기 제 1 ~ 제 3 저장부(151a, 151b, 151c)에 각각 저장된 약액(115b)과, 고압의 CDA(155) 그리고, 세정액(125b)을 외부로 분사하기 위한 다수의 분사홀(미도시)이 구성된 제 1 ~ 제 3 슬릿노즐(153a, 153b, 153c)을 포함한다.
이러한, 제 1 ~ 제 3 저장부(151a, 151b, 151c)와 상기 제 1 ~ 제 3 슬릿노즐(153a, 153b, 153c)은 각각 서로 연결되어 구성되는데 즉, 상기 제 1 저장부(151a)는 상기 제 1 슬릿노즐(153a)과 연결되어 상기 제 1 슬릿노즐(153a)을 통해서 CDA가 혼합된 약액(115b)이 분사되며, 상기 제 2 저장부(151b)는 제 2 슬릿노즐(153b)과 연결되어 상기 제 2 저장부(151b)에 저장되어 있는 CDA(155)가 상기 제 2 슬릿노즐(153b)을 통해 분사되고, 상기 제 3 저장부(151c)는 상기 제 3 슬릿노즐(153c)과 연결되어 상기 제 3 슬릿노즐(153c)을 통해서 CDA가 혼합된 세정액(125b)이 분사된다.
이때, 상기 제 2 슬릿노즐(153b)은 기판이송유닛(135)을 따라 슬라이딩되는 기판(133)의 이동방향에 거의 수직으로 교차되도록 구성하고, 상기 제 3 슬릿노즐(153c)은 상기 기판(133) 이동 방향의 직교방향에 대해 일정정도의 각도를 이루며, 상기 제 1 슬릿노즐(153a)은 상기 기판(133) 이동방향의 반대 방향의 직교방향에 대해 일정정도의 각도를 이루도록 구성한다.
따라서, 상기 제 2 슬릿노즐(153b)은 상기 제 1 및 제 3 슬릿노즐(153a, 153c)의 경계역할을 하게 되는데, 상기 제 1 및 제 3 슬릿노즐(153a, 153c)을 소정각도를 유지하도록 기울어지도록 구성함으로써, 상기 제 1 및 제 3 슬릿노즐(153a, 153c)을 통해 분사되는 약액(115b)과 세정액(125b)이 상기 제 2 슬릿노즐(153b)을 통해 분사되는 CDA(155)와 섞이는 것을 방지하도록 한다.
특히, 이의 3중 분사장치(150)는 그 하단을 지나는 기판(133)의 폭보다 큰 것을 특징으로 한다. 그리고 이러한 3중 분사장치(150)의 제 2 슬릿노즐(153b)을 통해서는 기판(133)의 폭보다 큰 연속적인 막의 형태로 CDA(155)가 토출되어, 이를 통해 에칭부(도 5의 110)의 에칭공정에 의한 기판(133) 상의 약액(도 5의 115a)이 린스부(도 5의 120)로 넘어가지 못하게 하는 동시에, 기판(133) 상의 약액(도 5의 115a)성분을 기판(133) 외부로 흘려보내는 역할을 하게 된다.
이러한 제 2 슬릿노즐(153b)을 통해 고압의 CDA(155)가 분사되는 영역은 에칭부(도 5의 110)와 린스부(도 5의 120)의 경계인 기판(133)의 반건조구간(도 5의 E')에 해당하는데, 이는 도 7을 참조하여 좀더 자세히 설명하도록 하겠다.
도 7은 도 5의 반건조구간을 개략적으로 도시한 도면이다.
도시한 바와 같이, 반건조구간(E')은 에칭부(110)와 린스부(120) 걸쳐 해당하는 영역으로, 상기 3중 분사장치(150)의 제 2 슬릿노즐(153b)을 통해 분사되는 고압의 CDA(55)에 의해 에칭부(110)와 린스부(120)의 경계를 이루게 된다.
즉, 상기 에칭부(110)와 린스부(120)의 경계를 정의하는 제 2 슬릿노즐(153b)의 일측에 위치하는 제 1 슬릿노즐(153a)은 상기 에칭부(110)에 구성되어 상기 기판(133) 상으로 약액(115b)을 분사하게 되며, 상기 제 2 슬릿노즐(153b)의 타측에 위치하는 제 3 슬릿노즐(153c)은 상기 린스부(120)에 구성되어 상기 기판(133) 상으로 세정액(125b)을 분사하게 된다.
따라서, 기존에 비해 상기 에칭부(110)의 실질적인 에칭영역(도 5의 A')과, 린스부(120)의 실질적인 세정영역(도 5의 D')이 넓어지게 되며, 기판의 반건조구간(E')은 줄어들게 된다.
이렇듯, 기판(133)의 반건조구간(E')을 줄이게 되면, 기판(133)이 에칭부(110)에서부터 린스부(120)로 이송되는 과정에서 기판(133) 상의 약액(115a)이 건조되어 띠 형태의 얼룩(도 3a의 40)이 발생되는 것을 미연에 방지하게 된다. 이는, 건조된 약액(115a)이 후속 린스부(120)의 DI 등과 같은 세정액(125a)과 국부적인 화학반응을 일으키는 것 또한 방지하게 됨으로써, 기판(133) 상에 물방울 형태의 얼룩(도 4a의 50)이 발생되지 않게 된다.
이는, 기판(133) 상의 부분식각으로 인한 패턴(미도시)의 불량 또한 미연에 방지하게 된다.
또한, 상기 약액(115a)에 고압의 CDA를 혼합하여 분사함으로써, 에칭영역(도 5의 A')에 비해 적은양의 약액(115b)이 기판(133) 상에 분사되도록 하는데 이는, 기판(133)이 에칭부(110)에서 린스부(120)로 이송되는 과정에서 기판(133) 상의 약액(115a)이 제 2 슬릿노즐(153b)을 통해 분사되는 고압의 CDA(155)에 의해 손쉽게 기판(133) 외부로 쓸려나가도록 하기 위함이다.
또한, 상기 세정액(125a)에 고압의 CDA를 혼합하여 분사하는 것은, 상기 제 2 슬릿노즐(153b)을 통해 기판(133) 상의 약액(115a)을 쓸려보냈음에도 불구하고 잔류 약액(115a)이 일부 남아 있는 상태로 상기 린스부(120)로 이송되더라도, 상기 고압의 CDA가 혼합된 세정액(125b)을 분사함으로써 상기 고압의 CDA에 의해 상기 기판(133) 상에 남아있는 잔류 약액(115a)이 상기 세정액(125b)을 통해 세정되는 동시에, 일부 약액(115a)을 기판(133)의 외부로 쓸려나가도록 하기 위함이다.
이때, 상기 고압의 CDA 외에 불활성의 질소(N2) 등의 건조기체를 사용할 수 도 있다.
전술한 바와 같이, CDA가 혼합된 약액(115b)과, 고압의 CDA(155) 그리고, CDA가 혼합된 세정액(125b)이 각각 분사되는 3중 분사장치(150)를 에칭부(110)와 린스부(120)의 사이에 구성하여, 에칭영역(도 5의 A')과 세정영역(도 5의 D')을 넓힘과 동시에 기판(133)의 반건조구간(E')을 줄임으로써, 기판(133)이 에칭부(110)에서부터 린스부(120)로 이송되는 과정에서 기판(133) 상의 약액(115a)이 건조되어 띠 형태의 얼룩(도 3a의 40)이 발생되는 것을 미연에 방지하게 된다. 이는, 건조된 약액(115a)이 후속의 린스부(120)의 DI 등과 같은 세정액(125a)과 국부적인 화학반응을 일으키는 것 또한 방지함으로써 기판(133) 상에 물방울 형태의 얼룩(도 4a의 50)이 발생되지 않게 된다.
이는, 기판(133) 상의 부분식각으로 인한 패턴(미도시)의 불량 또한 미연에 방지하게 된다.
본 발명은 상기 실시예로 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다.
위에 상술한 바와 같이, 본 발명에 따라 CDA가 혼합된 약액과, 고압의 CDA 그리고, CDA가 혼합된 세정액이 각각 분사되는 3중 분사장치를 습식식각 공정의 에칭부와 린스부의 사이에 구성하여, 에칭영역과 세정영역을 넓힘과 동시에 기판의 반건조구간을 줄임으로써, 기판이 에칭부에서부터 린스부로 이송되는 과정에서 기판 상의 약액이 건조되어 띠 형태의 얼룩이 발생되는 것을 미연에 방지하게 되는 효과가 있다.
이는, 건조된 약액이 후속의 린스부의 DI 등과 같은 세정액과 국부적인 화학반응을 일으키는 것 또한 방지함으로써, 기판 상에 물방울 형태의 얼룩이 발생되지 않게 되는 효과를 가져오며, 기판 상의 부분식각으로 인한 패턴의 불량 또한 미연에 방지하게 되는 효과가 있다.

Claims (10)

  1. 약액을 분사하는 식각유닛과 세정액을 분사하는 세정유닛이 구성된 챔버와;
    상기 챔버 내부를 가로질러 기판을 상기 식각유닛과 세정유닛으로 슬라이딩 이동시키는 인라인 방식의 기판이송유닛과;
    상기 식각유닛과 세정유닛의 경계에 위치하여 이의 경계를 정의하며, 적어도 3개의 슬릿노즐로 구성된 바(bar) 형상의 3중 분사장치
    를 포함하는 습식식각장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 슬릿노즐의 길이는 상기 기판의 폭과 같거나 큰 것을 특징으로 하는 습식식각장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 3개의 슬릿노즐 중 가운데 슬릿노즐은 기판의 이동방향에 수직으로 교차되어 연속적인 막의 형태로 고압의 CDA를 분사함으로써, 상기 식각유닛의 약액이 상기 세정유닛으로 넘어오는 것을 방지하게 되는 것을 특징으로 하는 습식식각장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 가운데 슬릿노즐의 일측에 구성된 슬릿노즐은 기판의 이동방향에 대해 일정정도의 각도를 이뤄 세정유닛 내부를 향해 세정액을 분사하며, 상기 가운데 슬릿노즐의 타측에 구성된 슬릿노즐은 기판의 이동방향의 반대방향에 대해 일정정도의 각도를 이뤄 식각유닛 내부를 향해 약액을 분사하는 것을 특징으로 하는 습식식각장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 3중 분사장치는 내부에 각각 3개의 저장부가 구비되며, 상기 각각의 슬릿노즐과 연결되는 것을 특징으로 하는 습식식각장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 슬릿노즐에는 다수의 분사홀이 구성되는 것을 특징으로 하는 습식식각장치.
  7. 제 4 항에 있어서,
    상기 약액과 세정액에는 각각 고압의 CDA가 혼합되는 것을 특징으로 하는 습식식각장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 식각유닛에는 이동 중인 기판 상부에서 약액을 분사하는 복수의 약액분사노즐이 구비되는 것을 특징으로 하는 습식식각장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 세정유닛에는 이동 중인 기판 상부에서 세정액을 분사하는 복수의 세정액분사스프레이가 구비되는 것을 특징으로 하는 습식식각장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 식각유닛과 세정유닛에는 각각 기판의 배면으로 고압의 CDA를 분사하는 에어나이프가 구비되는 것을 특징으로 하는 습식식각장치.
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