JP5020650B2 - 蒸着装置、蒸着方法および蒸着装置の製造方法 - Google Patents
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Description
E>X・・・(1)
上式(1)に各隔壁から被処理体までのギャップG、各吹き出し口から各隔壁上面までの高さT、前記各隔壁の厚みDの位置関係を当てはめると、E<(G+T)×D/2Gの関係が導き出される。
蒸着装置10は、第1の処理容器100および第2の処理容器200から構成されている。第1の処理容器100は、直方体の形状を有しており、第1〜第6の吹き出し機構110a〜110fを内蔵している。第1の処理容器100の内部では、この6つの吹き出し機構110から吹き出された気体分子により、基板Wに連続的に成膜処理が施される。
f=1/2t(√C/ρ) t:水晶片の厚み C:弾性定数 ρ:密度
図2は、蒸着装置10を用いて6層連続成膜処理を実行した結果、基板Wに積層される各層の状態を示している。まず、基板Wが、第1の吹き出し機構110aの上方をある速度で進行する際、第1の吹き出し機構110aから吹き出された成膜材料が基板Wに付着することにより、基板WのITO(Indium Tin Oxide:酸化インジウムスズ)からなる透明電極上に第1層のホール輸送層が形成される。
以上のようにして、1つの処理容器内に複数の蒸着源210を配設し、各蒸着源210により気化された成膜分子を基板Wに付着させることにより、基板W上に連続的に複数の異なる薄膜を形成する場合、隣り合う蒸着源210から気化された成膜分子が混ざり合い、各層の膜質が悪くなることが考えられる。
そこで、発明者は、隔壁120の形状および配置位置の最適化を図るために次のような実験を重ねた。まず、実験の処理条件について説明する。本実施形態にかかる蒸着装置10を簡略化した実験装置を図3に示す。このように、発明者は、蒸着装置10の第1の処理容器100の内部に吹き出し機構110および隔壁120を1つずつ内蔵し、第2の処理容器200の内部に蒸着源210を内蔵した実験装置を製作した。また、発明者は、吹き出し機構110と蒸着源210とを連結管220により連結した。蒸着源210には、成膜材料としてAlq3(aluminum−tris−8−hydroxyquinoline)の有機材料を0.1g収納した。
実験の結果、図3の下方に基板Wの下面表面を示したように、吹き出し口Opから放射状に吹き出された成膜分子が最も遠くまで飛来したときに基板Wに付着するx軸方向の位置Maxより蒸着源側の面では、良質な膜が均一に形成された。また、図4に示したように、位置Maxから基板Wのほぼ中心までの面では、吹き出し機構110から離れれば離れるほど膜が薄くなることがわかった。一方、基板Wの中心付近より排気側の面では、膜厚はほぼ一様で、かつ、ほんのわずかに膜が形成された程度であった。
MFP=3.11×10−24×T/P(δ)2×1000(mm)
ここで、Tは温度(K)、Pは圧力(Pa)、δは分子直径(m)である。
発明者は、成膜分子の直進性をさらに証明するために、図7に示したように、ギャップGを6mmから2mmにし、吹き出し機構110の中心から基板Wの中心までのx軸方向の距離が116mmになるようにステージ130の位置を変更させた状態にて再度実験を行った。
実験後、発明者が、基板Wの全面にUV光を照射したところ、いずれからも光(hν)は発せられなかった。もし、Alq3の成膜分子が基板Wに付着していたら、照射したUV光のエネルギーにより、成膜分子Mが励起状態となり、その後、成膜分子Mが基底状態に戻るときに光(hν)が発せられることから、発明者は、ギャップGを6mmから2mmにし、吹き出し機構110の中心から基板Wの中心までのx軸方向の距離が116mmになるようにステージ130の位置を変更した場合、図7の下部に示したように、基板Wに材料は付着していなかったと結論付けた。
E>X・・・(1)
(G+T)/T=X/(E−D/2)・・・(2)
となる。
X=(G+T)(E−D/2)/T<E・・・(3)
となる。
E<(G+T)×D/2G・・・(4)
となる。
100 第1の処理容器
110、110a〜110f 吹き出し機構
120 隔壁
130 ステージ
140 QCM
200 第2の処理容器
210、210a〜210f 蒸着源
220、220a〜220f 連結管
Op 吹き出し口
Claims (8)
- 蒸着により処理容器内にて被処理体を成膜処理する蒸着装置であって、
成膜材料を収納し、収納された成膜材料をそれぞれ気化させる複数の蒸着源と、
前記複数の蒸着源にそれぞれ連結され、吹き出し口を有し、前記複数の蒸着源にて気化された成膜材料を前記吹き出し口からそれぞれ吹き出す複数の吹き出し機構と、
前記複数の吹き出し機構のうち、隣り合う吹き出し機構の間に配置され、前記隣り合う吹き出し機構をそれぞれ仕切る1または2以上の隔壁とを備え、
前記1または2以上の隔壁は、
前記隣り合う吹き出し機構に設けられた吹き出し口から放射状に拡散される成膜材料のうち、各隔壁に遮られずに直進しながら被処理体まで到達した最長飛距離の成膜材料の到達位置が、前記隣り合う吹き出し機構から等距離にある被処理体上の位置よりも前記最長飛距離の成膜材料が吹き出された吹き出し口側に位置し、かつ、前記成膜材料の最長飛距離は、前記成膜材料の平均自由工程よりも短いという2つの条件を満たすように配置される蒸着装置。 - 前記複数の吹き出し機構は、
同一形状を有し、等間隔に平行して配置され、
前記1または2以上の隔壁は、
同一形状を有し、前記隣り合う吹き出し機構の間にて前記隣り合う吹き出し機構から等距離の位置に等間隔に平行して配置される請求項1に記載された蒸着装置。 - 各隔壁と該各隔壁に隣接する吹き出し機構との互いに対向する面は、
前記各隔壁の面が前記隣接する吹き出し機構の面より大きい請求項2に記載された蒸着装置。 - 前記処理容器内の圧力は、0.01Pa以下である請求項1に記載された蒸着装置。
- 前記各隔壁は、
前記各隔壁から被処理体までのギャップG、各吹き出し口から各隔壁上面までの高さT、前記各隔壁の厚みDおよび各蒸着源の中心位置から前記各隔壁の中心位置までの距離Eの関係が、E<(G+T)×D/2Gとなるように配置される請求項1に記載された蒸着装置。 - 前記蒸着装置は、
有機EL成膜材料または有機金属成膜材料を有機材料として被処理体に有機EL膜または有機金属膜のいずれかを形成する請求項1に記載された蒸着装置。 - 蒸着により処理容器内にて被処理体を成膜処理する蒸着方法であって、
複数の蒸着源に収納された成膜材料をそれぞれ気化させ、
前記複数の蒸着源にそれぞれ連結された複数の吹き出し機構の吹き出し口から、前記複数の蒸着源にて気化された成膜材料をそれぞれ吹き出させ、
前記複数の吹き出し機構のうち、隣り合う吹き出し機構の間に設けられ、前記隣り合う吹き出し機構をそれぞれ仕切る1または2以上の隔壁であって、前記隣り合う吹き出し機構に設けられた吹き出し口から放射状に拡散される成膜材料のうち、各隔壁に遮られずに直進しながら被処理体まで到達した最長飛距離の成膜材料の到達位置が、前記隣り合う吹き出し機構から等距離にある被処理体上の位置よりも前記最長飛距離の成膜材料が吹き出された吹き出し口側に位置し、かつ、前記成膜材料の最長飛距離は、前記成膜材料の平均自由工程よりも短いという2つの条件を満たすように配置された前記1または2以上の隔壁により、各吹き出し口から吹き出された成膜材料が各隔壁を超えて隣の吹き出し口側へ飛来することを抑止しながら、気化された成膜材料により被処理体に膜を連続的に形成する蒸着方法。 - 前記各隔壁から被処理体までのギャップG、各吹き出し口から各隔壁上面までの高さT、前記各隔壁の厚みDおよび各蒸着源の中心位置から前記各隔壁の中心位置までの距離Eの関係が、E<(G+T)×D/2Gとなるように前記1または2以上の隔壁を配置する請求項7に記載された蒸着方法。
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