JP2010163637A - 成膜装置及び成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】6層連続成膜装置10は、成膜材料が収納された複数の蒸着源155と、複数の蒸着源155に連結され、蒸着源155にて気化された成膜材料を搬送する複数の連結管150と、複数の連結管150にそれぞれ連結され、高さ方向にそれぞれ離隔しながら配設された複数の蒸着ヘッド125と、複数の蒸着ヘッド125から吹き出された成膜材料により、内部にて被処理体を連続成膜する処理室100と、を備える。複数の蒸着ヘッド125は、複数の連結管150を搬送した成膜材料を基板Gに向けて吹き出すために収納位置と成膜位置との間を移動する。
【選択図】図1
Description
<第1の実施形態>
1.6層連続成膜装置の全体構成
2.蒸着ヘッドの内部構成
3.蒸着源の内部構成
4.成膜動作
5.従来の装置との比較
<第2の実施形態>
6.6層連続成膜装置の全体構成
7.ステージの移動動作
まず、本発明の第1の実施形態に係る6層連続成膜装置の全体構成について、図1を参照しながら説明する。図1は、第1の実施形態に係る6層連続成膜装置10の縦断面図を示す。
6層連続成膜装置10は、処理室100を有している。処理室100の底面中央には、基板Gを載置するステージ105が配設されている。ステージ105の下方には、モータ110、ボールベアリングのネジ115及びガイド120が設けられている。モータ110の動力は、スクリュー上にネジ切りされたボールベアリングのネジ115に伝えられる。ボールベアリングのネジ115は、モータ110の回転運動を直線運動に変換する。これにより、ステージ105が、4本のガイド120により支持された状態で上下に昇降する。
次に、蒸着ヘッドの内部構成について説明する。なお、蒸着ヘッド125a〜125fの内部構成はすべて同じであるため、図2に示した蒸着ヘッド125aの内部構成を説明することにより、他の蒸着ヘッド125b〜125fの内部構成の説明を省略する。
次に、蒸着源の内部構成について説明する。なお、蒸着源155a〜155fの内部構成はすべて同じであるため、図3に示した蒸着源155aの内部構成を説明することにより、他の蒸着源155b〜155fの内部構成の説明を省略する。
次に、6層連続成膜の動作について、図4及び図5を参照しながら説明する。図4(a)は、有機材料Aによる成膜時の6層連続成膜装置10の縦断面の模式図であり、図4(b)は、図4(a)の平面図である。図5(a)は、ステージ105を上昇させる際の6層連続成膜装置10の縦断面の模式図であり、図5(b)は、有機材料Bによる成膜時の6層連続成膜装置10の縦断面の模式図である。
従来の成膜装置と本実施形態に係る成膜装置10とを比較する。たとえば、図10に示した従来の成膜装置90では、蒸着ヘッド905a〜905fが処理室900の底面に等間隔に縦置きされている。基板Gはフェイスダウン方式でステージ910に静電吸着され、摺動機構915により天井面を摺動するようになっている。ステージ910には、防着板として機能するベローズ920が天井面と各蒸着ヘッド905a〜905fとを隔離するように装着されている。これによれば、ステージ910が各蒸着ヘッド905a〜905f上を移動しながら、6層連続成膜が実行される。
次に、第2の実施形態に係る6層連続成膜装置10について、図8及び図9を参照しながら説明する。図8は、第2の実施形態に係る6層連続成膜装置10の縦断面図を示し、図9は、図8の1−1断面を示す。
第1の実施形態に係る6層連続成膜装置10では、蒸着ヘッド125a〜125fが、ステージ105の両側に配設されていたのに対し、第2の実施形態に係る6層連続成膜装置10では、蒸着ヘッド125a〜125fが、ステージ105の片側にて高さ方向に離隔しながら6つ配設される。したがって、本実施形態では、蒸着ヘッド125a〜125fを収納する収納部130cは、処理室100の片側に1つだけ設けられている。
これに加えて、本実施形態では、ステージ105が、処理室100の接地面に対して水平方向にも摺動する。すなわち、図9に示したように、処理室100の底面には多数のコロ300が配置され、成膜時、ステージ105がステージ105を支持する支持体305とともに、コロ300の回転に応じて摺動する。摺動方向は、蒸着ヘッド125aの下面に形成された吹き出し口(開口)の長手方向に対して垂直な方向が好ましい。ここでは、ステージ105は、蒸着ヘッド125aの移動方向に垂直な方向に摺動する。これによれば、たとえば、蒸着ヘッド125aの吹き出し口が、図9に示したように、蒸着ヘッド125aの下面中央にスリット状や矩形状に形成されていたとしても、その開口下を基板Gがある速度で移動するため、基板G上に均一な膜を成膜することができる。
100 処理室
105 ステージ
110,160 モータ
115,125a2 ネジ
120 ガイド
125a,125b,125c,125d,125e,125f 蒸着ヘッド
125a1 吹き出し本体
125a3 ベローズ
130a,130b,130c 収納部
135,155a4 排気口
140 ターボモレキュラポンプ
145 ドライポンプ
150a,150b,150c,150d,150e,150f 連結管
155,155a,155b,155c,155d,155e,155f 蒸着源
155a1,155a2,155a3 るつぼ
200 ヒータ源
300 コロ
310 防着板
収納空間 CS
成膜空間 PS
ギャップ Ga
Claims (14)
- 成膜材料が収納された複数の蒸着源と、
前記複数の蒸着源にそれぞれ連結され、前記複数の蒸着源にて気化された成膜材料を搬送する複数の連結管と、
前記複数の連結管にそれぞれ連結され、高さ方向にそれぞれ離隔しながら配設された複数の蒸着ヘッドと、
各蒸着ヘッドから吹き出された成膜材料により内部にて被処理体を一層ずつ成膜する処理室と、を備え、
前記各蒸着ヘッドは、前記各蒸着ヘッドの収納位置と成膜位置との間を移動し、前記成膜位置に移動した順に蒸着ヘッドから順に各連結管に通された成膜材料を被処理体に向けて吹き出す成膜装置。 - 前記各蒸着ヘッドは、その下面に成膜材料を吹き出す吹き出し口を有し、前記成膜位置に移動した後、前記各連結管に通された成膜材料を前記吹き出し口から下向きに吹き出す請求項1に記載された成膜装置。
- 前記各蒸着ヘッドは、成膜後に前記成膜位置から前記収納位置まで移動して収納される請求項1又は請求項2のいずれかに記載された成膜装置。
- 前記処理室は、前記処理室の内部を成膜空間と収納空間とに区画する収納部を有し、
前記複数の蒸着ヘッドの収納位置は、前記収納部内の収納空間内であり、
前記複数の蒸着ヘッドの成膜位置は、前記収納部外の成膜空間内である請求項1〜3のいずれかに記載された成膜装置。 - 前記処理室内には、被処理体を載置するステージと、前記ステージの下方にて前記処理室内を排気する排気口と、が設けられている請求項1〜4のいずれかに記載された成膜装置。
- 前記複数の蒸着ヘッドは、前記ステージの両側にて高さ方向にそれぞれ離隔しながら、対向する蒸着ヘッド同士が段違いになるように配設され、前記各蒸着ヘッドが順に各蒸着ヘッドの収納位置から成膜位置へ移動することにより、被処理体を一層ずつ連続成膜する請求項1〜5のいずれかに記載された成膜装置。
- 前記複数の蒸着ヘッドは、前記ステージの片側にて高さ方向に離隔しながら配設され、前記各蒸着ヘッドが順に各蒸着ヘッドの収納位置から成膜位置へ移動することにより、被処理体を一層ずつ連続成膜する請求項1〜5のいずれかに記載された成膜装置。
- 前記ステージは、成膜位置まで移動した各蒸着ヘッドと前記ステージとの対向面が一定の間隔に離隔されるように昇降する請求項5〜7のいずれかに記載された成膜装置。
- 前記ステージは、成膜中、前記処理室の接地面に対して水平方向であって前記蒸着ヘッドの吹き出し口の長手方向に対して垂直な方向に移動する請求項5〜8のいずれかに記載された成膜装置。
- 前記ステージが前記水平方向に移動する際、往路又は復路のいずれか一方で成膜処理を実行するか、又は、往路及び復路の両方で成膜処理を実行する請求項9に記載された成膜処理。
- 前記複数の蒸着ヘッドには、前記蒸着ヘッドとともに移動する防着板がそれぞれ取り付けられている請求項1〜10のいずれかに記載された成膜装置。
- 前記複数の蒸着源にて気化された成膜材料を前記複数の蒸着源に連結された複数の連結管に通して搬送するステップと、
前記複数の連結管に連結された複数の蒸着ヘッドを処理室内の収納位置から成膜位置まで順に移動させるステップと、
前記成膜位置に移動した蒸着ヘッドから順に各連結管に通された成膜材料を被処理体に向けて吹き出させるステップと、
各蒸着ヘッドから吹き出された成膜材料により、前記処理室の内部にて被処理体を一層ずつ成膜するステップと、を含む成膜方法。 - 成膜後、各蒸着ヘッドを前記成膜位置から収納位置まで移動させるステップを更に含む請求項12に記載された成膜方法。
- 次の成膜のために成膜位置に移動した蒸着ヘッドと被処理体を載置するステージとの対向面が一定の間隔に離隔されるように前記ステージを昇降させるステップを更に含む請求項12又は請求項13のいずれかに記載された成膜方法。
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JP2008150649A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Tokki Corp | 真空蒸着装置 |
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- 2009-01-13 JP JP2009004878A patent/JP2010163637A/ja active Pending
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