JP5412338B2 - マスク洗浄装置及び洗浄方法並びに有機el製造装置 - Google Patents
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Description
上記を実現するために、真空蒸着チャンバ1buは、搬送ロボット15bと基板6の受け渡し行なう受渡部9と、受渡部の櫛歯状ハンド91をハンド旋回駆動手段93で旋回させて直立した基板6とアライメントするマスク8と、マスクを介して基板に蒸着材料を蒸着させる蒸着部7とを有する。蒸着部7は蒸着源71をレール76上に沿って上下方向に移動させる上下駆動手段76と蒸発源71をレール75上に沿って左右のマスク間を移動させる左右駆動ベース74とを有する。蒸発源71は内部に蒸着材料である発光材料を有し、前記蒸着材料を加熱制御(図示せず)することによって安定した蒸発速度が得られ、図2の引出し図に示すように、蒸発源71に並んだ複数の穴73から噴射する構造となっている。
レーザ光走査手段はレーザ光33を出射するレーザユニット31、レーザ光33をマスク8表面に向けて水平(X)方向及び垂直(Y)方向に走査するガルバノミラー32、大気中のレーザ室3と真空中のマスク洗浄チャンバ室とを隔離し、レーザ光を透過する透過窓34を有する。
まず、洗浄されるマスク8が真空蒸着チャンバ1からゲート弁10Bを開閉し、マスク洗浄チャンバ室5に搬入されマスク洗浄台45にセットされる(Step(1))。次に、ガルバノミラー32を図4に示す水平(X)方向及び垂直(Y)方向に走査し、レーザユニット31のレーザ光33の照射位置をマスク部8Mの右端上端若しくは左端上端(どちらでも良い)の原点位置に移動する(Step(2))。同時またはそれ以前に裏面ミラー41を前記原点位置の高さまで移動させ、裏面ミラーの反射角度を制御部50からの指定条件により指定された角度に設定し待機する(Step(3))。その後、図4に示したガルバノミラー32によりレーザ光33を水平方向に1走査し、洗浄を開始する。このとき、裏面ミラー41の水平(X)方向の長さはマスク8の幅に対して十分な長さを有しているので停止した状態でレーザ光を反射し裏面を洗浄する(Step(4))。次に、ガルバノミラーによるレーザ光のY方向への所定量の下方シフトに伴い、裏面ミラー垂直方向移動手段43により裏面ミラーをY方向に下方シフトさせる(Step(5))。Step(4)、(5)をマスク8のY方向の高さ分だけ繰り返し洗浄を行なう(Step(6))。
それ故、レーザ光の照射エネルギー密度を調節しマスクの表面温度が所定以上にならないようにかつ洗浄(剥離)できるようにレーザ光の照射エネルギー密度を調整する必要がある。
表面側においては、レーザユニット31の光学系は最終段に凸レンズ31aを用いていることから、凸レンズ31aによりレーザ光33の焦点位置fを調節する。このとき、焦点位置前後に発生するデフォーカス領域dfでマスク表面へ照射する照射面積Sfを調節し、マスク表面おける照射エネルギー密度を調節する。使用したレーザユニットによるが、実験に用いたレーザユニットでは、照射面積Sfの直径が110μmで、直径270μm〜350μmの付着蒸着材料が洗浄(剥離)された。
また、第1の実施例によれば、マスクにダメージを与えることなく裏面ミラーの位置を決定することができる。
従って、本実施例では、裏面おける付着蒸着材料の厚さや密着強度などにより裏面側に必要な照射エネルギー密度が表面側に比べ低い場合に適用できる。
勿論、レーザ光の照射エネルギーを低くして表裏面を同時に照射することで表裏面同時に洗浄(剥離)するのに必要なエネルギーが得られること且つ、表裏面同時箇所照射にてダメージレスなエネルギーにコントロールすることが可能ならば同一箇所に照射してもよい。
また、第1の実施形態で説明した種々の施策を第2の実施形態に適用することによって第1の実施形態で得られた効果を奏することができる。
また、第2の実施形態では、天井に設けた裏面走査用のガルバノミラー37を単なる反射ミラーとし、裏面ミラーの位置に裏面走査用のガルバノミラーを設けてもよい。この場合は、第1、第2の実施形態で説明した裏面ミラー垂直方向移動手段43や裏面ミラー前後移動手段44が不要となる。
2:搬送チャンバ 3:レーザ室
4:マスク洗浄室 5:マスク洗浄チャンバ
6:基板 7:蒸着部
8:マスク 8M:マスク部
8F:マスクフレーム 8h:マスク開口部
9:処理受渡部 10、10B:ゲート弁
13:ロードクラスタ 14:受渡室
15:搬送ロボット 20:制御装置
30:レーザ光走査手段 31:レーザユニット
31a:レーザユニットの最終段の凸レンズ
32:ガルバノミラー 33:レーザ光
33b:マスク裏面への照射光 33f:マスク表面への照射光
34:透過窓 35:ビームスプリッタ
36:反射ミラー 37:裏面走査用のガルバノミラー
40:マスク裏面走査手段 41:裏面ミラー41
42:裏面ミラー角度調節手段 43:裏面ミラー垂直方向移動手段
44:裏面ミラー前後移動手段 45:マスク洗浄台
50:制御部 60:マスク洗浄装置
71:蒸発源 100:有機ELデバイスの製造装置
A〜D:クラスタ df:デフォーカス領域
f:凸レンズによる焦点位置 F:付着蒸着材料
Fb:マスク裏面に付着した付着蒸発材料
Ff:マスク表面に付着した付着蒸発材料
L:裏面ミラーとマスク裏面との距離 LB:焦点位置と裏面ミラーとの距離
LF:焦点位置とマスクとの距離 Sf:マスク表面への照射面積
Sb:マスク裏面への照射面積。
Claims (10)
- マスクに付着した蒸着材料にレーザ光を照射し該マスクを洗浄するマスク洗浄装置において、
前記マスクの蒸着面である表面に該レーザ光を照射し該表面を洗浄するマスク表面洗浄手段と、前記レーザ光を前記マスクの裏面へ照射し該裏面を洗浄するマスク裏面洗浄手段とを有し、
前記マスク裏面洗浄手段は前記裏面側に設けられ前記レーザ光を反射し前記裏面に照射する裏面ミラーを有し、
前記マスクの裏面への照射は被処理対象にパターンを形成する前記マスクの開口部を透
過し前記裏面ミラーを経由して行なう、
ことを特徴とするマスク洗浄装置。 - 前記裏面ミラーはマスクの一辺方向に細長く、前記裏面ミラーを前記一辺方向と垂直方向に前記マスクに沿って相対的に移動させる裏面ミラー垂直方向移動手段を有することを
特徴とする請求項1に記載のマスク洗浄装置。 - 前記マスク裏面洗浄手段は前記裏面ミラーと前記マスクとの距離を相対的に移動させる裏面ミラー前後移動手段を有することを特徴とする請求項1に記載のマスク洗浄装置。
- 前記マスク裏面洗浄手段は前記裏面ミラーの裏面への照射位置を調節する裏面ミラー角度調節手段を有することを特徴とする請求項1に記載のマスク洗浄装置。
- 前記レーザ光のデフォーカス領域で前記表面及び前記裏面を洗浄することを特徴とする請求項1に記載のマスク洗浄装置。
- 前記マスクの裏面への照射は前記マスクの側部外側に設けられた側部反射ミラーを経由して行ない、前記マスク裏面洗浄手段は前記レーザ光を該側部反射ミラーに向けて分配するビームスプリッタを有することを特徴とする請求項1に記載のマスク洗浄装置。
- 前記裏面ミラー、前記側部反射ミラーのうち一方はガルバノミラーであることを特徴とする請求項6に記載のマスク洗浄装置。
- マスクに付着した蒸着材料にレーザ光を照射し該マスクを洗浄するマスク洗浄方法において、
前記マスクの蒸着面である表面に該レーザ光を照射し該表面を洗浄するマスク表面洗浄ステップと、前記レーザ光を前記マスクの裏面へ照射し該裏面を洗浄するマスク裏面洗浄ステップを有し、
前記マスク裏面洗浄ステップは前記裏面側に設けられ前記レーザ光を前記裏面に反射し照射する裏面ミラーを経由して行ない、
前記マスクの裏面への照射は被処理対象にパターンを形成する前記マスクの開口部を透過し前記裏面ミラーを経由して行なう、
ことを特徴とするマスク洗浄方法。 - 前記マスク裏面洗浄ステップは前記裏面の洗浄位置を前記表面の洗浄位置と異なるように前記レーザ光を制御することを特徴とする請求項8に記載のマスク洗浄方法。
- 蒸着材料をマスクを介して被処理対象に蒸着し成膜する真空蒸着チャンバと、請求項1乃至7のいずれかに記載のマスク洗浄装置と、前記真空蒸着チャンバと前記マスク洗浄装置との接続部に設けられた真空隔離手段と、前記真空蒸着チャンバと前記マスク洗浄装置間を前記真空隔離手段を介して前記マスクを搬送する搬送手段とを有することを特徴とする有機EL製造装置。
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