JP4966865B2 - 窒化物半導体発光素子及びその製造方法 - Google Patents
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Description
まず、p−GaN層213の成長過程において、NH3ソースガスを注入してNソースを形成する従来の方法の代わりに、NがMOソースからなるUDMHy(dimenthylhydrazine) MOソースを適用すれば、効果的にV/III比を制御できる。
Claims (30)
- 第1の窒化物半導体層と、
前記第1の窒化物半導体層上に形成される活性層と、
前記活性層上に形成されるCドープ第2の窒化物半導体層とが含まれ、
前記Cドープ第2の窒化物半導体層は、アンドープGaN層と、前記アンドープGaN層上のCドープp−GaN層とを含み、
前記Cドープp−GaN層中のドープされたC(カーボン)の比は周期的に変化し、
前記アンドープGaN層と前記Cドープp−GaN層との一対が一周期を形成し、前記Cドープ第2の窒化物半導体層は、前記周期を1回以上繰り返して成長されることを特徴とする窒化物半導体発光素子。 - 前記第1の窒化物半導体層は、第1の電極接触層であることを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記Cドープ第2の窒化物半導体層は、第2の電極接触層であることを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記第1の窒化物半導体層の下部に、基板と、前記基板上に形成されるバッファ層と、前記バッファ層上に形成されるインジウムがドープされた窒化物半導体層とが、さらに順次形成されることを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記バッファ層は、AlInN/GaN積層構造、InGaN/GaN超格子構造、InxGa1−xN/GaN積層構造及びAlxInyGa1−(x+y)N/InxGa1−xN/GaN積層構造から選択されて形成されることを特徴とする請求項4に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記第1の窒化物半導体層は、AlGaN/n−GaN超格子構造又はSi及びInがドープされたn−GaN層が1回以上積層されて形成されることを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記AlGaN/n−GaN超格子構造の一周期の厚さは、250〜500Å内で形成されることを特徴とする請求項6に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記第1の窒化物半導体層をなすAlGaN層は、不純物がドープしない層であり、Al組成は0.05〜0.3(1は100%に相当)で形成され、その厚さは10〜200Å内で形成されることを特徴とする請求項6に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記Si及びInが同時ドープされたn−GaN層のドーピング濃度は1〜9×1018/μm内でドープされ、その厚さは1〜4μm内で形成されることを特徴とする請求項6に記載の窒化物半導体発光素子。
- Cドープp−GaN層中のドープされたC(カーボン)の最も高い比は、Cドープp−GaN層中のドープされたC(カーボン)の最も低い比よりも少なくとも2倍以上高いことを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記Cドープp−GaN層は、全体厚さが50〜3000Åであることを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記第1の窒化物半導体層と前記活性層との間に、インジウム含量が1〜5%であるローモル窒化物半導体層がさらに形成されることを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記活性層は、井戸層及び障壁層からなる単一量子井戸層又は多重量子井戸層から形成されており、前記井戸層と前記障壁層との間にSiNxクラスター層がさらに形成されることを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記Cドープ第2の窒化物半導体層上には、第2の電極接触層である第3の窒化物半導体層がさらに形成されることを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記第3の窒化物半導体層は、n−InGaN層で形成され、インジウム含量が順次変化するスーパーグレーディング構造で形成されることを特徴とする請求項14に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記第3の窒化物半導体層上には、透明電極がさらに形成されることを特徴とする請求項14に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記透明電極は、ITO、IZO(In−ZnO)、GZO(Ga−ZnO)、AZO(Al−ZnO)、AGZO(Al−Ga ZnO)、IGZO(In−Ga ZnO)、IrOx、RuOx、RuOx/ITO、Ni/IrOx/Au及びNi/IrOx/Au/ITOの何れか一つで形成されることを特徴とする請求項16に記載の窒化物半導体発光素子。
- 第1電極接触層として使用される第1の窒化物半導体層と、
前記第1の窒化物半導体層上に形成される活性層と、
前記活性層上に形成されるCドープ第2の窒化物半導体層と、
前記Cドープ第2の窒化物半導体層上に形成され、第2の電極接触層として使用される 第3の窒化物半導体層とが含まれ、
前記Cドープ第2の窒化物半導体層は、アンドープGaN層と、前記アンドープGaN層上のCドープp−GaN層とを含み、
前記Cドープp−GaN層中のドープされたC(カーボン)の比は周期的に変化し、
前記アンドープGaN層と前記Cドープp−GaN層との一対が一周期を形成し、前記Cドープ第2の窒化物半導体層は、前記周期を1回以上繰り返して成長される、
ことを特徴とする窒化物半導体発光素子。 - Cドープp−GaN層中のドープされたC(カーボン)の最も高い比は、Cドープp−GaN層中のドープされたC(カーボン)の最も低い比よりも少なくとも2倍以上高いことを特徴とする請求項18に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記第3の窒化物半導体層は、n−InGaN層で形成され、インジウム含量が順次変化するスーパーグレーディング構造で形成されることを特徴とする請求項18に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記Cドープp−GaN層は、全体厚さが50〜3000Åであることを特徴とする請求項18に記載の窒化物半導体発光素子。
- 基板上に第1の窒化物半導体層を形成するステップと、
前記第1の窒化物半導体層上に活性層を形成するステップと、
前記活性層上にCドープ第2の窒化物半導体層を形成するステップとを含み、
前記Cドープ第2の窒化物半導体層は、アンドープGaN層と、前記アンドープGaN層上のCドープp−GaN層とを含み、
前記Cドープp−GaN層は、TMGa MOソース注入量が周期的に変化するデルタドーピングにより形成され、
前記アンドープGaN層と前記Cドープp−GaN層との一対が一周期を形成し、前記Cドープ第2の窒化物半導体層は、前記周期を1回以上繰り返して成長される、
ことを特徴とする窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 前記基板上にバッファ層を形成するステップと、
前記バッファ層上にインジウムがドープされた窒化物半導体層を形成するステップとがさらに含まれることを特徴とする請求項22に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 前記Cドープ第2の窒化物半導体層上に、第3の窒化物半導体層を形成するステップがさらに含まれることを特徴とする請求項22に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記第3の窒化物半導体層は、n−InGaN層で形成され、インジウム含量が順次変化するスーパーグレーディング構造で形成されることを特徴とする請求項24に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記第1の窒化物半導体層は、AlGaN/n−GaN超格子構造又はSi及びInがドープされたn−GaN層の何れか一つで1回以上積層されて形成されることを特徴とする請求項22に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記Cドープ第2の窒化物半導体層を形成する際、NソースとしてNH3又はUDMHy MOが用いられることを特徴とする請求項22に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記Cドープp−GaN層の成長時、Cソースは2倍以上注入量が増加し、Nソースは2倍以上注入量が減少することを特徴とする請求項22に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記第1の窒化物半導体層と前記活性層との間に、インジウム含量が1〜5%であるローモル窒化物半導体層が形成されるステップをさらに含むことを特徴とする請求項22に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記Cドープ第2の窒化物半導体層にドープされるC元素は、TMGa MOソースから熱分解されて発生することを特徴とする請求項22に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
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