JP4609818B2 - 半導体レーザモジュール - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光通信用の信号用光源や光ファイバ増幅器の励起用光源として用いられる半導体レーザモジュールに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体レーザは、光通信において信号用光源や光ファイバ増幅器の励起用光源として大量に用いられている。半導体レーザが光通信において信号用光源や励起用光源として用いられる場合には、半導体レーザからのレーザ光を光ファイバに光学的に結合させたデバイスである半導体レーザモジュールとして使用される場合が多い。
【0003】
図8には、従来の半導体レーザモジュールの一例が示されている。同図において、半導体レーザ素子11は、ヒートシンク12と銅製のブロック13を介して円柱状のステム14に取り付け固定されている。ステム14の周縁部には、円筒状のステンレス製のキャップ15が固定され、該キャップ15には、半導体レーザ素子11から発信される光を透過させる透光窓16が設けられている。
【0004】
前記ステム14とキャップ15は抵抗溶接(プロジェクション溶接)により固定されており、この溶接性の観点からステム14は鉄又は鉄−ニッケル合金等により形成されている。そして、キャップ15をステム14に被せた気密空間内に半導体レーザ素子11が収容されて、半導体レーザ素子ユニット10が形成されている。
【0005】
この半導体レーザ素子ユニット10には、レンズ21を備えたレンズホルダ20を介して、スライドリング23が固定され、スライドリング23には、光ファイバ24を挿通固定したステンレス製の保護円筒22が設けられている。光ファイバ24は、前記半導体レーザ素子11から出射されるレーザ光を受光するものであり、半導体レーザ素子11と光ファイバ24の間に介設された前記レンズ21は、半導体レーザ素子11から出射されるレーザ光を光ファイバ24に光学的に結合する光結合手段と成している。
【0006】
すなわち、半導体レーザ素子11から出射したレーザ光はレンズ21により集光されて光ファイバ24に入射する。そこで、この種の半導体レーザモジュールにおいて、光ファイバ24は、その入射光強度が最大となるような位置に調心された状態で固定されている。
【0007】
前記半導体レーザ素子ユニット10と、レンズ21、レンズホルダ20、スライドリング、保護円筒22、光ファイバ24を有して、内部モジュール30が形成されており、この内部モジュール30は、前記キャップ15の下部側(内部モジュール30の胴部)をベース31に接触させた状態で、平板状のベース31に支持固定されている。なお、キャップ15は、前記の如く円筒状であるために、キャップ15とベース31との接触部は線状と成している。
【0008】
ベース31の下部側には、内部モジュール30を冷却する機能を備えたペルチェモジュール32が設けられており、ペルチェモジュール32は、図示されていない外部制御回路に接続されている。なお、前記ベース31には、その中央部に半導体レーザ素子11の温度を検出するサーミスタ(温度センサ)34が設けられており、サーミスタ34は、前記ペルチェモジュール32の外部制御回路に接続され、この外部制御回路に、サーミスタ34で検出した検出結果が加えられるようになっている。
【0009】
内部モジュール30とベース31とペルチェモジュール32はパッケージ33に収容されており、このパッケージ33の側壁部33cに形成された光ファイバ導出穴50から、前記光ファイバ24のレーザ光受光側と反対側の端部側がパッケージ外部に導出されている。光ファイバ24のパッケージ33からの導出部には光ファイバ24を保護するブーツ49が設けられており、光ファイバ24の外周側を覆っている。また、前記光ファイバ導出穴50には樹脂25が設けられており、光ファイバ24が固定されると共に光ファイバ導出穴50が封止されている。
【0010】
なお、前記パッケージ33は、底板部33aと側壁部33cと蓋部33bを有しており、底板部33aと側壁部33cが予め固定された状態で、前記の如く、内部モジュール30、ベース31、ペルチェモジュール32が収容した後、蓋部33bを被せて蓋部33bの周縁部を封止することにより、パッケージ33内が気密状態と成している。
【0011】
上記構成の半導体レーザモジュールにおいては、半導体レーザ素子11に外部から電流を流して半導体レーザ素子11を駆動すると、半導体レーザ素子11からレーザ光が出射され、このレーザ光が、前記の如くレンズ21で集光されて光ファイバ24の端面24aに入射する。そして、レーザ光が光ファイバ24を導波して所望の用途に供される。
【0012】
なお、上記のように半導体レーザ素子11を駆動させると、半導体レーザ素子11から熱が発生し、この熱は、ヒートシンク12、素子固定ブロック13、ステム14、キャップ15、ベース31、ペルチェモジュール32、パッケージ33の底板部33aを順に通って、半導体レーザモジュールの外部に排出される。また、半導体レーザ素子11は、一般に、温度変化によって光出力および波長が変化するため、その温度を一定に保つ必要があり、サーミスタ34により検出される温度が一定となるように、前記外部制御回路によってペルチェモジュール32に流す電流の調整が行なわれる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の半導体レーザモジュールにおいては、前記の如く、半導体レーザ素子11の駆動により発生した熱が、ヒートシンク12→素子固定ブロック13→ステム14→キャップ15→ベース31→ペルチェモジュール32→パッケージ33の底板部33aの経路を通って外部に排出される構成と成しており、半導体レーザ素子11からの熱がベース31に伝わるまでに多くの部材を通っていた。
【0014】
特に、キャップ15は肉薄に形成されており、しかも、キャップ15とベース31との接触部は線状であるために、上記半導体レーザ素子11から発生した熱が、ステム14からキャップ15を通ってベース31に伝熱する効率が非常に悪かった。
【0015】
そのため、従来の半導体レーザモジュールにおいては、半導体レーザ素子11から発生する熱が上記経路を通って半導体レーザモジュールの外部に排出される際の放熱効率が悪く、また、前記サーミスタ34によって検出する温度が半導体レーザ素子11の実際の温度よりも低くなり、この検出温度に基づいて行われるペルチェモジュール32の制御が的確に行なわれなかった。
【0016】
そして、ペルチェモジュール32の制御が的確に行なわれないと、半導体レーザ素子11の効率が低くなって高い光出力が得られず、半導体レーザ素子11の所望の光出力を得るための大きな電流を流す必要が生じるために、半導体レーザ素子11の消費電力が大きくなってしまうといった問題が生じた。また、半導体レーザ素子11に大きな電流を流すと、ますます半導体レーザ素子11の発熱量が大きくなってしまい、この発熱を冷却するためのペルチェモジュール32の消費電力も大きくなってしまうといった問題も生じた。
【0017】
特に、最近では、光通信の大容量化に伴い、発振波長1480nm帯のエルビウムドープ光ファイバ励起用の半導体レーザ素子11が高出力の半導体レーザ素子11として期待されているが、このような素子は発熱量も大きいために、この種の半導体レーザ素子11を用いて半導体レーザモジュールを構成した場合には、上記半導体レーザ素子11から発生した発熱の伝熱性が悪いことによる半導体レーザ素子11およびペルチェモジュール32の消費電力の増大の問題は、非常に深刻な問題である。
【0018】
本発明は、上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、半導体レーザ素子からの発熱を効率良く放熱でき、半導体レーザ素子の温度をペルチェモジュールによって的確に制御できる、消費電力が小さい半導体レーザモジュールを提供することにある。
【0019】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は次のような構成をもって課題を解決するための手段としている。すなわち、第1の発明は、ステムに取り付けられた半導体レーザ素子と、該半導体レーザ素子から出射されるレーザ光を受光する光ファイバと、前記半導体レーザ素子と前記光ファイバの間に介設され前記半導体レーザ素子から出射されるレーザ光を前記光ファイバに光学的に結合する光結合手段とを有する内部モジュールと;該内部モジュールを冷却する機能を備えたペルチェモジュールと;該ペルチェモジュール上に固定されて前記内部モジュールを支持するベースと;前記内部モジュールと前記ベースと前記ペルチェモジュールを収容するパッケージとを有し、該パッケージに形成された光ファイバ導出穴から前記光ファイバのレーザ光受光側と反対側の端部側がパッケージ外部に導出されている半導体レーザモジュールであって、前記内部モジュールは少なくとも前記ステムを前記ベースに接触させて固定されており、前記ベースはペルチェモジュールに固定される面を有する基部と、該基部上に立設したステム支持部とを有し、該ステム支持部にステムが接触した状態で該ステムがステム支持部に支持されており、前記ステムを貫通する素子固定ブロックが設けられて該素子固定ブロックの一端側に半導体レーザ素子が設けられ、前記素子固定ブロックの他端側はステムの貫通部に固定されてベースのステム支持部に接触しており、当該素子固定ブロックの他端側はステムから突出した突出部と成し、該突出部を嵌合するブロック嵌合凹部がステム支持部に設けられ、該ステム支持部のブロック嵌合凹部に前記素子固定ブロックの突出部が嵌合している構成をもって課題を解決する手段としている。
【0020】
さらに、第の発明は、上記第の発明の構成に加え、前記ステム支持部はベースの基部の略中央部に設けられている構成をもって課題を解決する手段としている。
【0021】
さらに、第の発明は、上記第又は第の発明の構成に加え、前記ステム支持部にはステム嵌合凹部が設けられ、該ステム嵌合凹部にステムが嵌合固定されている構成をもって課題を解決する手段としている。
【0022】
さらに、第の発明は、上記第1乃至第3のいずれか一つの発明の構成に加え、前記素子固定ブロックの熱伝導率をステムの熱伝導率よりも大きくした構成をもって課題を解決する手段としている。
【0023】
さらに、第の発明は、上記第1乃至第のいずれか一つの発明の構成に加え、前記ベースには、半導体レーザ素子から発生する熱がベースを通ってペルチェモジュール側に流れる熱の経路上に温度センサが設けられている構成をもって課題を解決する手段としている。
【0024】
さらに、第の発明は、上記第1乃至第のいずれか一つの発明の構成に加え、前記半導体レーザ素子の発振波長を1460nm以上1490nm以下とした構成をもって課題を解決する手段としている。
【0025】
上記本発明の構成において、ステムに取り付けられた半導体レーザ素子と、レーザ光受光用の光ファイバと、レーザ光を光ファイバに結合させる光結合手段とを有する内部モジュールが、少なくとも前記ステムをベースに接触させて固定されているので、半導体レーザ素子から発生した熱は、(例えば従来の半導体レーザモジュールのようにステムに取り付けられたキャップを介することなく)ステムから直接ベースに伝熱され、半導体レーザ素子から発生した熱のベースへの伝熱性およびこの熱の外部への放熱性が向上する。
【0026】
また、ステムを貫通する素子固定ブロックが設けられて該素子固定ブロックの一端側に半導体レーザ素子が設けられ、前記素子固定ブロックの他端側はステムの貫通部に固定されてベースのステム支持部に接触している構成を有する本発明においては、半導体レーザ素子から発生した熱は、素子固定ブロックから直接ベースに伝熱されるので、半導体レーザ素子からの熱のベースへの伝熱性およびこの熱の外部への放熱性がさらに向上する。
【0027】
このように、本発明においては、半導体レーザ素子から発生した熱の放熱性を向上させることが可能であるため、半導体レーザ素子の効率の低下を招くことなく、半導体レーザ素子の高出力を得ることが可能となる。
【0028】
また、本発明においては、上記の如く、半導体レーザ素子から発生した熱のベースへの伝熱性が向上するので、ベースに固定されたペルチェモジュールによって半導体レーザ素子の温度制御を的確に行なうことが可能となるために、半導体レーザ素子の消費電力およびペルチェモジュールの消費電力の増大を招くことなく、消費電力の小さい半導体レーザモジュールとすることが可能となる。
【0029】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。先ず、本発明の実施の形態の説明の前に、本発明を説明するための参考例を説明する。なお、参考例および本実施形態例の説明において、従来例と同一名称部分には同一符号を付し、その重複説明は省略する。図1には、半導体レーザモジュールの第1参考例の要部構成が断面図により示されている。
【0030】
同図に示すように、本参考例は図8に示した従来例とほぼ同様に構成されており、本参考例が従来例と異なる特徴的なことは、ベース31を、ペルチェモジュール32に固定される面3を有する基部1と、該基部1上の一端側に立設したステム支持部2とを有する断面L字形状の構成とし、内部モジュール30の少なくともステム14をベース31に接触させて固定したことである。
【0031】
前記ベース31は、放熱性を確保するために、銅、銅タングステン合金等の熱伝導性が良好な材料により作製されており、ベース31の基部1の面3は、半田等によってペルチェモジュール32に接合されている。ベース31のステム支持部2のステム支持面4には、ステム14のキャップ15と反対側の面(半導体レーザ素子11の取り付け側と反対側の面)が接着剤により固定されている。また本参考例では、ステム支持面4は基部1に対して垂直と成している。
【0032】
図2には、図1のA−A’面から図1の右側部分を見た図が示されており、図1、2に示すように、前記ベース31には、半導体レーザ素子11から発生する熱がベース31を通ってペルチェモジュール側に流れる熱の経路上にサーミスタ挿入孔28が形成されている。このサーミスタ挿入孔28は、本参考例では、ベース31の基部1の中心軸C1とステム支持部2の中心軸C2との交点近傍に設けられている。サーミスタ挿入孔28にはサーミスタ(温度センサ)34が設けられており、サーミスタ34のリード線34aはサーミスタ挿入孔28よりベース外部に引き出されている。
【0033】
また、図2に示すように、ステム支持部2には、複数のリード挿通孔27が形成されている。リード挿通孔27には、ステム14から引き出されたリード17(図1参照)が挿通されている。リード17は、半導体レーザ素子11および半導体レーザユニット10の内部に固定されたモニターフォトダイオード(図示せず)を外部と電気的に接続するものであり、リード17の一端側は、半導体レーザユニット10の内部に導かれ、金ワイヤ(図示せず)を介して半導体レーザ素子11および前記モニターフォトダイオードに接続されている。
【0034】
また、パッケージ33の側壁部33cには複数のリード35(図1には図示せず)が設けられており、前記リード17および前記サーミスタ34のリード線34aは、それぞれ、設定位置において対応するリード35に接続されている。なお、本明細書の説明に用いられる図面においては、図の簡略化のために、リード35の配設状態および、それぞれのリード35とリード17やリード線34aとの接続状態は省略して示している。
【0035】
参考例は以上のように構成されており、本参考例も従来例の半導体レーザモジュールと同様に、半導体レーザ素子11が駆動され、半導体レーザ素子11からのレーザ光がレンズ21を介して光ファイバ24に受光されるが、本参考例においては、半導体レーザ素子11の駆動に伴って発生する熱は、ヒートシンク12と素子固定ブロック13とステム14を順に通ってベース31のステム支持部2に伝熱され、ペルチェモジュール32に伝熱される。
【0036】
このように、本参考例では、半導体レーザ素子11から発生した熱が、ステム14に取り付けられた肉薄のキャップ15を介することなく、上記の如くステム14から直接ベース31に伝熱されるため、半導体レーザ素子11からの熱のベース31への伝熱性を向上させることができる。特に、本参考例において、ステム14のキャップ15と反対側の面は、その全面がステム支持部2のステム支持面4に接触しているために、半導体レーザ素子11からの熱を非常に効率的にベース31に伝熱させることができる。
【0037】
また、本参考例では、ベース31は、銅や銅タングステン合金等の熱伝導率の良好な材料により形成されているために、ベース31からペルチェモジュール32への伝熱性も向上させることができ、半導体レーザ素子11からの熱の外部への放熱性も、従来例に比べて格段に向上させることができる。
【0038】
したがって、本参考例によれば、半導体レーザ素子11の効率の低下を招くことなく、半導体レーザ素子11の高出力を得ることができるし、ベース31に固定されたペルチェモジュール32によって半導体レーザ素子の温度制御を的確に行なうことができ、従来例のように、ペルチェモジュール32による温度制御が的確に行なわれないことに起因して、半導体レーザ素子11の消費電力およびペルチェモジュール32の消費電力の増大を招くこともなく、消費電力の小さい半導体レーザモジュールとすることができる。
【0039】
さらに、本参考例によれば、半導体レーザ素子11から発生する熱がベース31を通ってペルチェモジュール32側に流れる熱の経路上にサーミスタ挿入孔28を形成し、このサーミスタ挿入孔28にサーミスタ34を挿入しているので、サーミスタ34によって半導体レーザ素子11の温度を正確に検出することができる。
【0040】
特に、従来例においては平板状に形成されたベース31の中央部の半導体レーザ素子11から遠い位置にサーミスタ34が設けられていたために、半導体レーザ素子11の温度変化をサーミスタ34によって迅速にとらえることが困難であったのに対し、本参考例においては、サーミスタ34を、ベース31の基部1の中心軸C1とステム支持部2の中心軸C2との交点近傍に設け、前記熱の経路上の半導体レーザ素子11に近い位置に設けることにより、半導体レーザ素子11の温度変化をサーミスタ34によって非常に迅速、かつ、的確にとらえることができる。
【0041】
したがって、本参考例によれば、サーミスタ34の検出温度に基づくペルチェモジュール32の温度制御を半導体レーザ素子11の温度変化に対応させて非常に迅速に行なうことができ、半導体レーザ素子11の温度検出と温度制御の応答性を非常に良好にできるため、半導体レーザ素子11の光出力と波長の安定性が向上し、半導体レーザ素子11の消費電力およびペルチェモジュール32の消費電力をより一層確実に低減することができる。
【0042】
図3には、半導体レーザモジュールの第2参考例の要部構成が断面図により示されている。本第2参考例は上記第1参考例とほぼ同様に構成されており、本第2参考例が上記第1参考例と異なる特徴的なことは、ベース31のステム支持部2を基部1の略中央部に設けたことである。
【0043】
本第2参考例は以上のように構成されており、ステム支持部2をベース31の基部1の略中央部に設けることにより、ステム支持部2を通って基部1に伝えられる熱が、同図の矢印に示すように、図の左右両側に広がって伝達されることから、上記熱が基部1のペルチェモジュール32に固定される面3の方向(すなわち、ペルチェモジュール32の面に平行な面方向)に広がりやすくすることができ、基部1の略中央部から端部側に伝熱しやすくなる。
【0044】
したがって、本第2参考例によれば、半導体レーザ素子11から発生した熱をベース31からペルチェモジュール32により一層効率的に伝熱することができ、この熱の放熱性もより一層向上させることができるし、ペルチェモジュール32による半導体レーザ素子11の温度制御効果もより一層効果的に発揮することができる。そのため、本第2参考例によれば、半導体レーザ素子11の消費電力およびペルチェモジュール32の消費電力の増大を招くことなく、半導体レーザ素子11の高出力を得ることができ、より高温環境下で動作可能な半導体レーザモジュールとすることができる。
【0045】
図4には、半導体レーザモジュールの第3参考例の要部構成が断面図により示されている。本第3参考例は上記第1参考例とほぼ同様に構成されており、本第3参考例が上記第1参考例と異なる特徴的なことは、ステム14を貫通する態様で素子固定ブロック13を設け、該素子固定ブロック13の端面18をベース31のステム支持部2のステム支持面4に接触させたことである。
【0046】
すなわち、本第3参考例では、ステム14に貫通配設した素子固定ブロック13の一端側に半導体レーザ素子11を設け、素子固定ブロック13の他端側をステム14の貫通部5に固定して端面18をベース31のステム支持部2に接触させており、端面18は接着剤等によってステム支持部2のステム支持面4に固定している。
【0047】
なお、本参考例において、半導体レーザ素子11の発振波長は1460nm以上1490nm以下(1480nm帯)と成しており、半導体レーザ素子11は、例えばエルビウムドープ光ファイバ励起用として適用される高出力、高発熱の発光素子である。この半導体レーザ素子11から発生する熱の放熱性を確保するために、素子固定ブロック13は、例えば銅、銅タングステン合金等の、200W/m・K以上の熱伝導率を有する熱伝導率の良好な材料により作製されており、素子固定ブロック13は、鉄−ニッケル合金製のステム14よりも熱伝導率が大きく形成されている。
【0048
本第3参考例は以上のように構成されており、本第3参考例においては、ステム14を貫通する態様で、ステム14よりも熱伝導率が大きい素子固定ブロック13を設け、該素子固定ブロック13の端面18をベース31のステム支持部2に接触させたために、半導体レーザ素子11から発生した熱は、ヒートシンク12と素子固定ブロック13を順に通ってベース31のステム支持部2に伝えられる。
【0049】
このように、本第3参考例においては、半導体レーザ素子11から発生した熱を、ステム14を介さずに素子固定ブロック13から直接ベース31に伝熱することができ、半導体レーザ素子11から発生した熱のベース31への伝熱性を向上させることができる。また、本第3参考例において、素子固定ブロック13およびベース31は共に、熱伝導率が大きい銅や銅タングステン合金等により形成されているために、半導体レーザ素子11から発生した熱のペルチェモジュール32への伝熱性を非常に高くすることができるし、この熱の放熱性もより一層向上させることができる。
【0050】
したがって、本第3参考例によれば、半導体レーザ素子11の発振波長を1460nm以上1490nm以下として非常に高出力としても、この高出力で発熱量の大きな半導体レーザ素子11からの熱を非常に効率よく放熱することができ、半導体レーザ素子11の性能を高く維持することができる。
【0051】
そして、本第3参考例によれば、半導体レーザ素子11から上記波長帯の高出力のレーザ光を安定的に出力することができるために、このレーザ光によってエルビウムドープ光ファイバを励起して大容量の光通信等を行なえるようにすることができる。
【0052】
なお、本発明は上記参考と共通の構成部分を有し、本発明の実施形態において、その共通の構成部分には共通の符号を用いて説明するが、本発明は上記参考例に限定されることはなく、様々な実施の態様を採り得る。例えば上記第1、第3参考例では、ステム支持部2をベース31の基部1上の一端側に設け、第2参考例では、ステム支持部2をベース31の基部1上の略中央側に設けたが、ステム支持部2の配設位置は特に限定されるものではなく、適宜設定されるものである。ただし、上記第2参考例のように、ステム支持部2をベース31の基部1の略中央側に設けると、ステム支持部2から基部1に伝えられた熱を基部1の端部側に効率的に伝熱し、この熱の放熱性を向上することができる。
【0053】
また、上記第3参考例では、ステム14を貫通する態様で素子固定ブロック13を設け、該素子固定ブロック13の一端側に半導体レーザ素子11を設けて他端側の端面18をベース31のステム支持部2に接触させたが、本発明に係る半導体レーザモジュールの実施形態例においては、例えば図5に示すように、素子固定ブロック13の他端側をステム14から突出した突出部6と成。この場合、該突出部6を嵌合するブロック嵌合凹部7をステム支持部2に設けて、該ブロック嵌合凹部7に素子固定ブロック13の突出部6を嵌合し、例えば接着剤等によって突出部6をブロック嵌合凹部7に固定するとよい。
【0054】
このように半導体レーザモジュールを構成すると、素子固定ブロック13とステム支持部2との接触面積を上記第3参考例よりもさらに大きくすることができるために、より一層半導体レーザ素子11からの熱の伝熱性および放熱性を向上させることができる。
【0055】
さらに、上記実施形態例および参考例では、ステム14の半導体レーザ素子11配設側と反対側の面をベース31のステム支持部2のステム支持面4に当接させてステム14をステム支持部2に固定したが、本発明の別の実施形態例として、図6に示すように、ステム支持部2にステム嵌合凹部8を設け、該ステム嵌合凹部8にステム14を嵌合固定してもよい。このようにすると、内部モジュール30のベース31への固定をより一層確実に行なうことができるし、半導体レーザ素子11から発生した熱の伝熱性および放熱性もより一層向上させることができる。
【0056】
さらに、上記各参考および実施形態例では、ベース31のステム支持部2を、基部1上に垂直に立設したが、ステム支持部2は必ずしも基部1に垂直に立設するとは限らず、多少斜めに傾いていてもよい。
【0057】
また、参考例として、例えば図7の(a)に示すように、ステム支持部2を省略してベース31を形成してもよい。この場合は、例えば同図の(b)に示すように、ステム14の円柱形状の下部側に切り欠きを形成し、ステム14の下面36を平坦面とすると、ステム14をベース31に安定的に支持固定することができるし、半導体レーザ素子11から発生した熱のベース31への伝熱性を向上できる。
【0058】
なお、上記各実施形態例のようにステム支持部2を設けてベース31を形成する場合も、図7の(b)に示したようにステム14の下面36を平坦面とすると、ステム14をベース31により一層安定的に支持固定することができるし、半導体レーザ素子11から発生した熱のステム14からベース31の基部1への伝熱性をより一層向上させることができる。また、レーザダイオードモジュールの厚さを薄くできることにより、小型化して有利という効果もある。
【0059】
さらに、上記各実施形態例では、ステム14にキャップ15を溶接固定して形成される気密空間内に半導体レーザ素子11を設ける構成としたが、キャップ15を省略し、ステム14にレンズホルダ20を溶接固定してもよい。なお、この場合も、レンズ21の配設位置を適切にすることにより、半導体レーザ素子11からのレーザ光を光ファイバ24に受光させることができる。
【0060】
さらに、上記各実施形態例では、半導体レーザ素子11と光ファイバ24との光学結合手段としてレンズ21を設けたが、例えば光ファイバ24を先球ファイバ等により形成し、このファイバ先端側を前記光学結合手段としてもよいし、光学結合手段として公知の様々な手段を適用することができる。
【0061】
【発明の効果】
本発明によれば、ステムに取り付けられた半導体レーザ素子と、レーザ光受光用の光ファイバと、レーザ光を光ファイバに結合させる光結合手段とを有する内部モジュールを、少なくとも前記ステムをベースに接触させて固定したために、半導体レーザ素子から発生した熱を、(例えば従来の半導体レーザモジュールのようにステムに取り付けられたキャップを介することなく)ステムから直接ベースに伝熱することができ、半導体レーザ素子から発生した熱のベースへの伝熱性およびこの熱の外部への放熱性を向上させることができる。
【0062】
したがって、本発明によれば、半導体レーザ素子の効率の低下を招くことなく、半導体レーザ素子の高出力を得ることができるし、ベースに固定されたペルチェモジュールによって半導体レーザ素子の温度制御を的確に行なうことができるために、半導体レーザ素子の消費電力およびペルチェモジュールの消費電力の増大を招くことなく、消費電力の小さい半導体レーザモジュールとすることができる。
【0063】
また、前記ベースはペルチェモジュールに固定される面を有する基部と、該基部上に立設したステム支持部とを有し、該ステム支持部にステムが接触した状態で該ステムがステム支持部に支持されている発明の構成を備えたものによれば、ステム支持部にステムを接触させることにより、前記熱の伝熱性および放熱性をより一層向上させることができる。そのため、半導体レーザ素子の消費電力およびペルチェモジュールの消費電力をより一層低減して高出力を得ることができる。
【0064】
さらに、前記ステム支持部をベースの基部の略中央部に設けた構成の発明によれば、ベースのステム支持部から基部へ伝わった熱を、基部のペルチェモジュールに固定される面方向(通常ペルチェモジュールの面に平行な面方向)に広がりやすくすることができ、半導体レーザ素子から発生した熱のベースにおける伝熱性を向上させ、この熱の放熱性をより一層向上させることができる。したがって、この発明によれば、半導体レーザ素子およびペルチェモジュールの消費電力をさらに低減でき、より高温環境下で動作可能な半導体レーザモジュールとすることができる。
【0065】
さらに、前記ステム支持部にはステム嵌合凹部が設けられ、該ステム嵌合凹部にステムが嵌合固定されている構成の発明によれば、半導体レーザ素子からの熱をステムからベースへより一層効率的に伝熱することができ、この熱の放熱性を向上させることができるので、半導体レーザ素子およびペルチェモジュールの消費電力をさらに低減でき、しかも、ステムのベースへの固定をより一層安定的に行なうことができる。
【0066】
さらに、ステムを貫通する素子固定ブロックを設けて該素子固定ブロックの一端側に半導体レーザ素子を設け、前記素子固定ブロックの他端側はステム貫通させてステムから突出した突出部と成し、該突出部を嵌合するブロック嵌合凹部がステム支持部に設けられ、該ステム支持部のブロック嵌合凹部に前記素子固定ブロックの突出部が嵌合している本発明によれば、半導体レーザ素子から発生した熱のベースへの伝熱性をさらにより一層向上させることができ、この熱の放熱性も向上させることができるので、半導体レーザ素子およびペルチェモジュールの消費電力をさらに低減できる。
【0067】
さらに、前記素子固定ブロックの熱伝導率をステムの熱伝導率よりも大きくすることにより、発明の効果を非常に確実に発揮することができる。
【0068】
さらに、ベースには、半導体レーザ素子から発生する熱がベースを通ってペルチェモジュール側に流れる熱の経路上に温度センサが設けられている構成の発明によれば、温度センサによって半導体レーザ素子の温度を迅速に検出することができ、この検出温度に基づいて行われるペルチェモジュールによる温度制御を迅速に行なえるため、半導体レーザ素子の温度検出と温度制御の応答性を良好にして、光出力と波長が安定化すると同時に、半導体レーザ素子およびペルチェモジュールの消費電力をより一層低減できる。
【0069】
さらに、前記半導体レーザ素子の発振波長を1460nm以上1490nm以下とした構成の発明によれば、上記各発明による半導体レーザ素子からの熱の放熱性向上効果によって、半導体レーザ素子からの熱を効率的に放熱できるために、上記波長帯の高出力のレーザ光を安定的に出力することができ、このレーザ光によってエルビウムドープ光ファイバを励起して大容量の光通信等を行なえるようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 導体レーザモジュールの第1参考例を示す要部構成図である。
【図2】 図1のA−A’断面図である。
【図3】 導体レーザモジュールの第2参考例を断面図により示す要部構成図である。
【図4】 導体レーザモジュールの第3参考例を断面図により示す要部構成図である。
【図5】 本発明に係る半導体レーザモジュールの実施形態例を断面図により示す要部構成図である。
【図6】 本発明に係る半導体レーザモジュールの他の実施形態例を断面図により示す要部構成図である。
【図7】 導体レーザモジュールの他参考例を断面図により示す要部構成図(a)と、この半導体レーザモジュールに適用されるステム断面構成を示す説明図(b)である。
【図8】 従来の半導体レーザモジュールの一例を断面図により示す説明図である。
【符号の説明】
1 基部
2 ステム支持部
3 面
4 ステム支持面
5 貫通部
6 突出部
7 ブロック嵌合凹部
8 ステム嵌合凹部
10 半導体レーザ素子ユニット
11 半導体レーザ素子
13 素子固定ブロック
14 ステム
21 レンズ
24 光ファイバ
30 内部モジュール
31 ベース
33 パッケージ

Claims (6)

  1. ステムに取り付けられた半導体レーザ素子と、該半導体レーザ素子から出射されるレーザ光を受光する光ファイバと、前記半導体レーザ素子と前記光ファイバの間に介設され前記半導体レーザ素子から出射されるレーザ光を前記光ファイバに光学的に結合する光結合手段とを有する内部モジュールと;該内部モジュールを冷却する機能を備えたペルチェモジュールと;該ペルチェモジュール上に固定されて前記内部モジュールを支持するベースと;前記内部モジュールと前記ベースと前記ペルチェモジュールを収容するパッケージとを有し、該パッケージに形成された光ファイバ導出穴から前記光ファイバのレーザ光受光側と反対側の端部側がパッケージ外部に導出されている半導体レーザモジュールであって、前記内部モジュールは少なくとも前記ステムを前記ベースに接触させて固定されており、前記ベースはペルチェモジュールに固定される面を有する基部と、該基部上に立設したステム支持部とを有し、該ステム支持部にステムが接触した状態で該ステムがステム支持部に支持されており、前記ステムを貫通する素子固定ブロックが設けられて該素子固定ブロックの一端側に半導体レーザ素子が設けられ、前記素子固定ブロックの他端側はステムの貫通部に固定されてベースのステム支持部に接触しており、当該素子固定ブロックの他端側はステムから突出した突出部と成し、該突出部を嵌合するブロック嵌合凹部がステム支持部に設けられ、該ステム支持部のブロック嵌合凹部に前記素子固定ブロックの突出部が嵌合していることを特徴とする半導体レーザモジュール。
  2. ステム支持部はベースの基部の略中央部に設けられていることを特徴とする請求項記載の半導体レーザモジュール。
  3. ステム支持部にはステム嵌合凹部が設けられ、該ステム嵌合凹部にステムが嵌合固定されていることを特徴とする請求項又は請求項記載の半導体レーザモジュール。
  4. 素子固定ブロックの熱伝導率をステムの熱伝導率よりも大きくしたことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1つに記載の半導体レーザモジュール。
  5. ベースには、半導体レーザ素子から発生する熱がベースを通ってペルチェモジュール側に流れる熱の経路上に温度センサが設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項のいずれか一つに記載の半導体レーザモジュール。
  6. 半導体レーザ素子の発振波長を1460nm以上1490nm以下としたことを特徴とする請求項1乃至請求項のいずれか一つに記載の半導体レーザモジュール。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8907323B2 (en) * 2002-04-23 2014-12-09 Philip D. Freedman Microprocessor assembly
JP2005302793A (ja) * 2004-04-07 2005-10-27 Noritsu Koki Co Ltd 光源装置
JP4636606B2 (ja) * 2004-07-28 2011-02-23 八木アンテナ株式会社 レーザダイオードモジュール収容体
CN102386557A (zh) * 2010-08-25 2012-03-21 Agx技术股份有限公司 内部冷却的热封闭模块式激光器封装***
JP7057357B2 (ja) * 2017-07-11 2022-04-19 株式会社ヨコオ 光モジュール
CN109962404A (zh) * 2017-12-26 2019-07-02 西安炬光科技股份有限公司 半导体激光模块

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5413732A (en) * 1977-07-01 1979-02-01 Canon Inc Light source device
JPH0424978A (ja) * 1990-05-15 1992-01-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光半導体素子
JPH0587979U (ja) * 1992-04-30 1993-11-26 ホーヤ株式会社 半導体レーザモジュール
JPH06169133A (ja) * 1992-11-30 1994-06-14 Ando Electric Co Ltd 電子冷却素子付半導体レーザモジュール
JPH06302912A (ja) * 1992-01-20 1994-10-28 Sony Corp 半導体レーザ装置
JPH07131106A (ja) * 1993-10-29 1995-05-19 Nec Corp 半導体レーザモジュール
JPH07202322A (ja) * 1993-12-29 1995-08-04 Nec Corp サーミスタ
JPH11261164A (ja) * 1998-03-13 1999-09-24 Hitachi Ltd レーザダイオード・モジュールおよびその製造方法ならびにレーザダイオード
JP2000031575A (ja) * 1998-07-09 2000-01-28 Oki Electric Ind Co Ltd Ldモジュール

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5413732A (en) * 1977-07-01 1979-02-01 Canon Inc Light source device
JPH0424978A (ja) * 1990-05-15 1992-01-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光半導体素子
JPH06302912A (ja) * 1992-01-20 1994-10-28 Sony Corp 半導体レーザ装置
JPH0587979U (ja) * 1992-04-30 1993-11-26 ホーヤ株式会社 半導体レーザモジュール
JPH06169133A (ja) * 1992-11-30 1994-06-14 Ando Electric Co Ltd 電子冷却素子付半導体レーザモジュール
JPH07131106A (ja) * 1993-10-29 1995-05-19 Nec Corp 半導体レーザモジュール
JPH07202322A (ja) * 1993-12-29 1995-08-04 Nec Corp サーミスタ
JPH11261164A (ja) * 1998-03-13 1999-09-24 Hitachi Ltd レーザダイオード・モジュールおよびその製造方法ならびにレーザダイオード
JP2000031575A (ja) * 1998-07-09 2000-01-28 Oki Electric Ind Co Ltd Ldモジュール

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