JP4542953B2 - 磁気ディスク媒体および磁気記録再生装置 - Google Patents

Description

本発明は、磁気ディスク媒体およびこの磁気ディスク媒体を製造する際に用いられる縮小露光用のレティクルならびに磁気記録再生装置に関する。

磁気記録装置、磁気ディスク装置、ハードディスクドライブ装置においては、大容量化に伴って磁気ディスク媒体の記録密度が増加することにより、磁気ディスク媒体上を相対的に移動する記録再生ヘッドにより記録された磁気情報が、熱揺らぎのため隣接するトラックの記録に悪影響を与え易くなる問題がある。このため、磁気ディスク媒体内の隣接するトラック中の磁性体を物理的に分離することにより、上記の悪影響を解決するという手段を用いることができる。このように、記録トラックまたは記録ビットの形状の磁性体を有する磁気ディスク媒体もしくは磁性体が非磁性体によって区分けされたパターンを具備した磁気ディスク媒体をパターンドメディアと呼ぶ。また、トラックを分断するためディスクリートトラックと呼ぶこともある。（例えば特許文献１、特許文献２参照。）
このようなパターンドメディアの磁性体を加工する技術は、例えば原盤描画装置を用い、希望する磁性体パターンを原盤上に描画し、この原盤上のパターンを表面の凹凸パターンとして記録したインプリントスタンパを作成し、このインプリントスタンパを用いたナノインプリント法を含む作成方法により磁気ディスク媒体を作成することができる（例えば、特許文献３参照）。原盤の作製においてはそのパターンを水銀ランプ、紫外線、電子線、エックス線等の化学線によって感光性樹脂を露光して形成することが出来る。特に電子線で直接描画する手法が、高記録密度を達成するために微細パターン描画の必要性がある磁気ディスクパターンの形成にとって好ましい。

例えば、ポジ型レジストにＥＢ(Electron Beam)描画を行うことで原盤作製した場合、露光部は現像後凹部となり、この原盤を電鋳してスタンパ化すると凸部となる。よって露光したディスクリートトラック溝部はスタンパ化した際に凸型の弧となる。さらに、スタンパ表面の凸部は、ナノインプリントプロセスによりレジスト上の凹部となり、続くエッチング処理することにより凹部の下層に具備された媒体上の磁性膜もしくは基板をエッチングし、結果として磁気ディスク媒体表面上で磁性体と非磁性体のパターン、もしくは磁性体の凹凸パターンを形成する。

この磁気ディスク媒体を磁気記録再生ヘッドを用いて記録再生する場合、磁気ディスク媒体の表面上を記録再生ヘッドが相対的に移動することにより、媒体表面上の所望の位置に記録再生を行う。

記録再生ヘッドが磁気ディスク媒体上で所望の位置に移動するために、磁気ディスク媒体上には位置決めサーボ領域が存在する。記録再生時に、このサーボ領域を記録再生ヘッドが横切るときに再生ヘッドから得られる位置信号から、記録再生ヘッドの磁気ディスク媒体上における位置を把握する。そして得られた位置情報から、記録再生装置で位置を制御して、所望の記録位置まで記録ヘッドを移動させる。

上記パターンドメディアにおいては、上記サーボ領域の信号も、磁性体パターンとしてデータ領域と一括して作製することが、媒体作製時のコストを抑える点と、サーボ位置決め信号と記録パターンを一括して作ることにより高い位置精度が得られる点で好ましい。

一般的なＨＤＤ(Hard Disk Drive)に用いられているサーボ領域の磁気パターン形状について説明する。サーボ領域は少なくともプリアンブル領域、アドレス領域、位置決めバースト領域（もしくはバースト領域）を含む。

プリアンブル領域はサーボデータを読み出す前に、信号アンプの増幅率を調整して振幅を一定にする。プリアンブル領域は、サーボ領域中において、ヘッドの掃引方向に対し、アドレス領域や位置決めバースト領域よりも前に位置する。プリアンブル領域は、ヘッドがどのトラック位置にあっても同様の信号が得られるように、トラック方向を横切る複数の線状パターンで構成される。

アドレス領域は、トラック番号やセクタ番号情報を持ち、ヘッドの位置するトラック位置を示す。アドレス情報は、シーク中にヘッドが隣接トラックにずれた場合でもデータを読みとれるようにグレイコードで書き込まれている。

バースト領域は、磁気パターンがトラックを横切る方向に等間隔に並んでいるパターン領域が２個以上トラック方向に並んだ構造を持っており、この領域からの信号はヘッド位置のトラック内のズレ情報を持つ。

パターンドメディアを浮上ヘッドを用いて記録再生する場合、ヘッドと媒体との間の気流がヘッドの浮上安定性に大きく影響を与える。パターンドメディアによりプリアンブル信号を作製する場合、記録領域はトラックに平行な凹凸溝パターンであるのに対し、プリアンブルパターンはトラックを横切る凹凸溝パターンである。記録再生時、ヘッドが記録領域からサーボ領域に移る際、ヘッドの下の媒体形状がトラック方向に平行な凹凸溝パターンからトラックを横切る凹凸溝パターンに移り、ヘッド直下の気流が変動し、ヘッドの浮上安定性が失われる。また、トラック間の溝が円周方向の層流を生み、ヘッドの左右にことなる外力を与えて、ヘッドの浮上安定性が損なわれる。これらの為、ヘッドが正しくサーボ信号乃至データ信号を読みとれない問題がある。

一方、原盤を電子線露光する際、電子線描画装置は描画位置の精度誤差が存在するため、高記録密度に必要な微細パターンの描画時には描画精度誤差に起因するパターンの崩れが生ずる。この問題を解決する手法の一つとして、レティクルを使用する縮小投影露光を用いることができる。

この電子線縮小露光を用いれば、レティクル上のパターンにある程度の位置ブレがある場合においても、縮小投影されることにより、そのブレの大きさも低減する利点を持つ。

電子線縮小投影露光技術としては、非特許文献１に示されるＳＣＡＬＰＥＬ(Scattering with Angular Limitation in Projection Electron Lithography)方式や特許文献４のＰＲＥＶＡＩＬ(Projection Exposure with Variable Axis Immersion Lens)方式が主なものとして挙げられ、これらの方式で用いるに用いるマスクとして、ステンシルタイプとメンブレンタイプがある。ステンシルマスクでは電子ビームが開口部において通過し、非開口部では散乱する。メンブレンマスクでは電子ビームが透過し易い軽元素からなるメンブレンと、メンブレン上に形成された電子ビームを散乱させる重金属パターン層から成る。メンブレン部はシリコンやシリコン窒化膜などが、パターン部はクロム（Ｃｒ）やタングステン（Ｗ）などが用いられる。

ステンシルマスクのビームが通過する開口部は貫通しているため、メンブレンマスクにあるような低散乱や色収差が起こらないが、その構造上、ドーナツパターンなどは抜けが生じてしまうためマスク化することが出来ない。そのため相補的なマスクを用い、複数回露光をして対応する手法などが取られている。このような対応は位置合わせやスループット上の問題が存在する。また、片持ちパターンや細く長いパターンは機械的強度が低くなりがちで、破損が生じ易い。一方、メンブレンマスクではメンブレン部が存在するため、ドーナツパターンなどでも形成可能であるが、ドーナツパターンや片持ちパターンは機械的強度が弱くなる傾向は同様である。また、メンブレンマスクでは電子線がメンブレンを透過する際にわずかながらも低散乱を起こしてしまい、色収差が出てしまう欠点がある。

よってパターンドメディアにおけるプリアンブルパターンを一括投影露光しようとする際には、平行に並ぶ複数の連続した帯状のパターン部分が開口したマスクを作る必要があるが、そのような細長い開口部はマスクのたわみが生じて投影上光学的支障を生じたり、マスクの強度が脆弱となる問題がある。

米国特許第６，５６３，６７３号明細書 特開２００４−１１０８９６号公報 特開２００３−１５７５２０号公報 S. D. Berger et al., Applied Physics Letters, 57, 153 (1990) 特許第２８２９９４２号公報

上述したように、パターンドメディアにおいては、記録再生磁気ヘッドの浮上安定性が問題であった。

さらに、パターンド媒体を作製する際の縮小投影露光工程において、露光用のレティクルのプリアンブル部等細く長いパターン部の強度に問題があった。

本発明は上記事情を考慮してなされたものであって、強度の高いレティクルおよびこのレティクルを用いて製造される磁気ディスク媒体ならびに磁気記録再生装置を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様による磁気ディスク媒体は、周方向に分割されたセクタのサーボ領域内にプリアンブル部を有し、前記プリアンブル部は磁性体からなる半径方向に配置された複数の帯状の記録パターンを有し、各帯状の記録パターンは非磁性体によって半径方向に周期的間隔で分断され、周方向において隣接する帯状の記録パターンは、前記非磁性体によって半径方向に周期的間隔で分断される位置が異なる構造を備えることを特徴とする。

本発明の第２の態様による磁気記録再生装置は、第１の態様の磁気ディスク媒体と、記録再生時に前記磁気ディスク媒体上を相対的に移動するヘッドと、備えていることを特徴とする。

本発明によれば、強度の高いレティクルおよびこのレティクルを用いて製造される磁気ディスク媒体を得ることができ、ヘッドの浮上も安定化させることができる。

本発明の実施形態を以下に図面を参照して説明する。

（第１実施形態）
本発明の第１実施形態による磁気ディスク媒体を図１乃至図６を参照して説明する。本実施形態の磁気ディスク媒体は、パターンドメディアであって、その概略の構成を図３乃至図５に示す。図３はパターンドメディア１の平面図、図４（ａ）、（ｂ）はパターンドメディア１のデータ領域を半径方向の沿って切断した場合の断面図、図５はパターンドメディア１のサーボ領域を説明する図である。

パターンドメディア１は図３に示すように、データ領域１１と、サーボ領域１２とを備えている。データ領域１１は、ユーザデータを記録する領域であって、円環状に形成された磁性体からなるトラックが非磁性部を介して一定長（トラックピッチＴｐ）周期で並んだパターンからなっている。円環状の磁性体からなるトラックは、サーボ領域１２により周方向にセクタ分割されている。なお、図３においてはサーボ領域１２は１５セクタに分割しているが、実際には５０以上のセクタに分割されていても良い。

サーボ領域１２は、磁気ヘッドの位置決めのための情報を磁性体／非磁性体で形成した領域で、サーボ領域１２の形状は、磁気記録装置のヘッドアクセス軌跡となる円弧状で、かつサーボ領域の周方向長が、半径位置に比例して長くなるように形成される（図３参照）。

パターンドメディアは、一般に磁性体加工型媒体と基板加工型媒体の２種類がある。

データ領域は、図４（ａ）、４（ｂ）に示すように、磁気ヘッドによりユーザデータを記録再生する領域で、記録可能な記録層６として、磁性トラックが強磁性体（例えば、ＣｏＣｒＰｔ）からなる磁性層で形成されている。図４（ａ）は磁性体加工型媒体の半径方向に沿って切断した断面図であり、図４（ｂ）は基板加工型媒体の半径方向に沿って切断した断面図である。

強磁性体からなる記録層６は、基板２上に形成された軟磁性材料からなる下地層４を介して設けられている。基板２は、ガラス基板やアルミ基板であってもよい。磁性体加工型媒体では、図４（ａ）に示すように、記録層６がエッチングにより、隣接するトラック間が削り取られた溝状の非磁性ガード帯７が存在する。また、基板加工型媒体では、図４（ｂ）に示すように、基板２の表面の凹凸上に磁性層と軟磁性材料からなる下地層４が成膜されており、基板２の凸部上に成膜された磁性層である記録層６と下地層４がデータを記録する。しかし、基板２の凹部に成膜された磁性層６ａはヘッド位置から離れており、ヘッドによる記録再生が不可能なため、隣接トラック間の非記録領域となる。すなわち、隣接トラック間には溝状の非磁性ガード帯７が存在する。磁性体加工型または基板加工型のいずれであっても、隣接する磁性体からなる記録トラック間には溝が存在し、図４（ａ）、４（ｂ）に示すようにこの溝になにも埋め込まれていない場合は空気が非磁性体となる。また、上記溝に非磁性体を埋め込むように構成してもよい。したがって、隣接する磁性体からなる記録トラック６は非磁性体によって区分けされた構成となっている。例えば、図６に示すように、磁性体からなる記録トラック６は非磁性体１３によって区分けされた構成となっている。

なお、図４（ａ）、４（ｂ）には図示していないが、媒体の表面には薄膜状にＤＬＣ(Diamond Like Carbon)からなる保護膜が形成され、潤滑剤が塗布されている。磁性トラックの径方向幅Ｔｗは、非磁性ガード帯７の幅よりも大きくなるように形成されていて、本実施形態による磁気ディスク媒体においては、この磁性体／非磁性体の径方向の比は２：１、すなわち磁性体の占有率が６７％のパターンとなっている。なお、図４（ａ）、４（ｂ）において、Ｔｐはデータトラックピッチを表している。

次に、サーボ領域１２のパターンの詳細を図５を参照して説明する。

図５に示すように、サーボ領域１２の両脇には、先に説明したデータ領域１１が設けられている。サーボ領域１２は、プリアンブル部１２ａと、アドレス部１２ｂ、１２ｃと、位置偏差検出用バースト部１２ｄ（以下、バースト部１２ｄともいう）と、ギャップ部１２ｅとを備えており、データ領域１１と同様に磁性体／非磁性体のパターンとして形成されている。記録容量向上の観点からデータ領域１１の占める割合が高い方が望ましく、データ領域１１が９割以上、サーボ領域１２が１割以下であることが望ましい。

プリアンブル部１２ａは、パターンドメディア１の回転偏芯等により生ずる時間ズレに対し、サーボ信号再生用クロックを同期させるＰＬＬ(Phase-Locked Loop)処理や、信号再生振幅を適正に保つＡＧＣ(Automatic Gain Control)処理を行うために設けられている。プリアンブル部１２は、半径方向に延びる略円弧で放射状に連続した磁性体／非磁性体からなる、周方向に繰返すパターンで、トラック方向に磁性体と非磁性体との比がほぼ１：１、すなわち、磁性占有率約５０％で形成されている。さらに一本一本の線状の磁性体のパターンは再生ヘッドの幅とスキュー角に応じた周期で分断されている。

アドレス部１２ｂ、１２ｃは、サーボマーク１２と呼ばれるサーボ信号認識コードや、セクタ情報、シリンダ情報等が、プリアンブル部１２ａの周方向ピッチと同一ピッチで、マンチェスタコードにより形成されている。特に、シリンダ情報１２ｃは、サーボトラック毎にその情報が変化するパターンとなるため、シーク動作時のアドレス判読ミスの影響が小さくなるように、グレイコードと呼ぶ隣接トラックとの変化が最小となるコード変換をしてから、マンチェスタコード化して記録されている。この領域の磁性占有率も約５０％となる。

バースト部１２ｄは、シリンダアドレスのオントラック状態からのオフトラック量を検出するためのオフトラック検出用領域で、更にＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄバーストと呼ぶ４つの径方向にパターン位相をずらしたマークが形成されている。これらの各バーストには、周方向に複数個のマークがプリアンブル部１２ａと同一のピッチ周期で配置され、径方向周期は、アドレスパターンの変化周期に比例、換言すれば、サーボトラック周期に比例した周期に取られる。本実施形態による磁気ディスク媒体では、各バーストが周方向に１０周期分形成され、径方向は、サーボトラック周期の２倍長周期で繰返すパターンを取っている。また、マーク形状は基本的には方形、厳密にはヘッドアクセス時のスキュー角を考慮した平行四辺形を目指して形成される。また、マーク部は非磁性部として形成する。このバースト部１２ｄのＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ各バースト部の再生信号の平均振幅値を演算処理することによってオフトラック量が算出される。

次に、本実施形態による磁気ディスク媒体の特徴を図１（ａ）を参照して説明する。本実施形態の磁気ディスク媒体においては、プリアンブル部１２ａは磁性体１４からなる記録パターンの帯（図１（ａ）においては上下方向に延在する磁性体からなるパターン）が非磁性体１５を間に介して複数個設けられており、各記録パターンの帯が、再生ヘッド１１０の幅と等しい間隔で非磁性体１５によって分断されている。

このように、本実施形態においては、プリアンブル部１２ａの記録パターンは、従来の場合と異なり、トラックを横切る平行な連続した帯状の記録パターンが複数個並ぶ構造ではなく、隣接する磁性体１４からなる帯状の記録パターンそれぞれが非磁性体１５によって周期的間隔で分断された構造を有している。これにより、従来問題となっていたヘッドの浮上安定性の問題を解決することができる。すなわち、プリアンブル部１２の帯状パターンが一定の周期的間隔で分断していると、磁気ヘッドと磁気ディスク媒体との間の気流が、従来のようなトラックを横切る平行な連続した帯状パターンの状態とは異なり、トラックを横切る方向に流れにくくなる。この気流の状態はデータ領域においてトラックに沿った帯状パターンが配列している状態に近い。したがって、記録再生時に浮上ヘッドが磁気ディスク媒体のデータ領域からサーボ領域に移っても、気流の乱れが無く、磁気ヘッドの安定した浮上性が得られる。

また、隣接する磁性体からなる帯状の記録パターンそれぞれが非磁性体１５によって周期的間隔で分断された構造を有しているため、本実施形態の磁気ディスク媒体を製造するのに用いられるレティクルは、従来の磁気ディスク媒体用のレティクルと異なり、細長い開口部を有することがないので、強度が高いものとなる。

本実施形態による磁気ディスク媒体のプリアンブル部１２ａは、記録パターンの帯が分断される周期は、図１（ａ）に示すように再生ヘッド１１０の幅に等しいことが好ましい。プリアンブル部１２ａの記録パターンの帯の分断される周期的間隔が再生ヘッド１１０の幅に等しい場合、再生ヘッド１１０が記録パターンの各帯を通過するとき、再生ヘッド１１０と、記録パターンの各帯の磁性体１４との重なる面積が、図２（ａ）に示すようなヘッドの位置、ヘッドの掃引方向によらず略一定となるため、図２（ｂ）に示すような、常に一定の再生信号が得られる。これによりプリアンブル部１２ａに必要な条件である、ヘッドの位置によらない一定強度の信号を常に得ることができる。

（変形例）
なお、プリアンブル部１２ａの磁性体と非磁性体とからなる記録パターンは、図１（ａ）に示す記録パターンの磁性体１４と非磁性体１５を反転（逆に）した図１（ｂ）に示す記録パターンであっても、本実施形態と同様の効果を得ることができる。すなわち、図１（ｂ）に示すプリアンブル部１２ａの記録パターンは、磁性体１４からなる帯内に、同一形状の複数の非磁性体１５が記録トラックと略直交する方向に周期的に配置された複数の列が設けられた構成となっている。そして、隣接する列の非磁性体１５はお互いに互い違いとなるように配列された構成となっており、各列の非磁性体１５の一周期の間隔は、再生ヘッド１１０の幅と等しい間隔となるように構成されている。なお、図１（ｂ）に示すプリアンブル部１２ａは、図１（ａ）に示すプリアンブルと同じ表現を用いて表現することができる。すなわち、図１（ａ）の場合のように磁性体１４からなる記録パターンの各帯が非磁性体１５によって周期的に分断されており、その分断の周期的間隔は、再生ヘッド１１０の幅に略等しいが、図１（ａ）の場合と異なり、隣接する帯は、磁性体１４によって接続された構成となっている。

（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態による磁気ディスク媒体を図７（ａ）、７（ｂ）、７（ｃ）を参照して説明する。

一般に、磁気記録再生装置においては、アームに取り付けられた記録再生ヘッドが磁気ディスク媒体上を移動することによって磁気ディスク媒体上の磁気記録情報を記録再生するが、記録再生ヘッドの位置によって磁気ディスク媒体上のトラック方向とアームとの相対角度すなわちスキュー角が変わる。第１実施形態においては、プリアンブル部１２ａの磁性体１４からなる記録パターンの各帯が非磁性体１５によって周期的に分断されており、その分断の周期的間隔は、スキュー角に関わらず、再生ヘッド１１０の幅に略等しかったが、本実施形態においては、スキュー角の変化に伴って生じる再生ヘッドの実効幅（読み取り幅）の変化に、プリアンブル部１２ａの記録パターンの周期的間隔が等しくなるように構成したものである。

図７（ａ）に示すように、磁気記録再生装置において、記録再生ヘッド１１０はアーム１３０の先端に取り付けられ、アーム１３０は図示しないボイスコイルモーターによって回転させられることにより、磁気ディスク媒体１上の任意の半径位置に記録再生ヘッド１１０を移動させることができる。この場合、アーム１３０の回転位置によりトラック方向に対する記録再生ヘッド１１０の仰角、すなわちスキュー角が変化する。

再生ヘッド１１０のトラック方向に対するスキュー角が変化すると、それに応じて図３（ａ）に示すように、再生ヘッド１１０のトラックに対する実効幅も変化する。したがって、本実施形態におけるプリアンブル部１２ａの記録パターンの周期的間隔は、図７（ｂ）、７（ｃ）に示すように、再生ヘッド１１０のスキュー角による再生ヘッド１１０の実効幅に応じて、磁気ディスク媒体１の内周から外周にかけて変化し、どのトラック位置においても再生ヘッド１１０の実効幅に等しくなるように構成したものである。図７（ｂ）はスキュー角がない（＝０）の場合、すなわち磁気ディスク媒体１の半径方向と直角となる位置にアーム１３０がある場合を示したもので、この場合は、プリアンブル部１２ａの記録パターンの周期的間隔は再生ヘッド１１０の幅Ｗ、すなわち実効幅に略等しい。図７（ｃ）は、スキュー角がある（≠０）の場合、すなわち磁気ディスク媒体１の半径方向とアーム１３０のなす角が直角とならない場合を示したもので、この場合は、プリアンブル部１２ａの記録パターンの周期的間隔は再生ヘッド１１０の実際の幅Ｗでなく実効幅Ｗ１に略等しい。

本実施形態ように、プリアンブル部１２ａの記録パターンの周期的間隔を、図７（ｂ）、７（ｃ）に示すように、再生ヘッド１１０のスキュー角による再生ヘッド１１０の実効幅と略等しくすることにより、良好な再生信号を得ることができる。

なお、本実施形態の磁気ディスク媒体も第１実施形態と同様に、再生ヘッドの浮上安定性が良い。また、本実施形態の磁気ディスク媒体を製造するのに用いられるレティクルは、第１実施形態と同様に、細長い開口部を有することがないので、強度が高いものとなる。

なお、第１（変形例を含む。以下同じ。）および第２実施形態の磁気ディスク媒体１においては、プリアンブル部１２ａの記録パターンの帯と隣接する記録パターンの帯との分断間隔ｄ１（図１（ａ）参照）、および隣接する記録パターン間を接続する間隔ｄ２（図１（ｂ）参照）は、少なくとも再生ヘッド１１０の読み取り幅（実効幅）と等しければよく、間隔ｄ１または間隔ｄ２が再生ヘッド１１０の実効幅の１／Ｎ（Ｎは自然数）であっても構わない。この場合においても、再生ヘッド１１０の位置によらない一定強度の再生信号が得られる。

（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態による磁気ディスク媒体を図８を参照して説明する。本実施形態による磁気ディスク媒体は、パターンドメディアであって、図８に示すように、データ領域の磁性体からなる記録トラック６が非磁性体１３によって区分けされ、隣接する磁性体からなる記録トラック６間の一部に、トラック幅方向に磁性体からなる支持部６ｂを設けた構成となっている。すなわち、隣接する記録トラック６は同じ磁性体からなる支持部６ｂによって接合された構成となっている。支持部６ｂはトラック部６と同じ高さのものを図示しているが、実際には支持部６ｂはトラック部６より低くても構わない。また、非磁性体１３は非磁性材料が埋め込まれ磁性部６乃至支持部６ｂと同じ高さになっているものが図示されているが、実際には支持部６ｂの上を覆っていても構わないし、非磁性体は空気等気体であって、凹凸があっても構わない。

本実施形態の磁気ディスク媒体を製造するために用いられるレティクルは、データ領域において、支持部６ｂに対応する部分を設けるため、レティクルの強度を高くすることが可能となる。

なお、本実施形態の磁気ディスク媒体においては、サーボ領域のプリアンブル部は、従来の磁気ディスク媒体と同様に平行に並ぶ連続した帯状の磁性体からなる記録パターンを備えていてもよい。また、第１または第２実施形態の磁気ディスク媒体と同様に、サーボ領域のプリアンブル部は、磁性体からなる記録パターンの各帯が非磁性体によって周期的に分断された構成であってもよい。この場合は、第１乃至第２実施形態の場合と同様に、磁気記録再生装置に搭載した場合に磁気ヘッドと磁気ディスク媒体との間に気流の乱れがなく、磁気ヘッドの安定した浮上性が得られる。

次に、第１乃至第３実施形態の磁気ディスク媒体の製造に用いられるレティクルを使用した縮小投影露光を、参考までに図９を参照して説明する。

縮小投影露光とは、図９に示すように、所定のパターンを有し電子線を透過するレティクル６４を用い、このレティクル６４を電子銃６０と縮小レンズ６６の間に挿入する。電子銃６０から放射された電子線６２は、ある断面積を持ってレティクル６４に照射され、レティクル６４上のパターンに応じて電子線６２が透過し、縮小レンズ６６に向かう。縮小レンズ６６は電子線６２の放射断面積を数倍縮小する働きを持ち、縮小レンズ６６を通過した電子線６２は原盤６８上に照射される。原盤６８上にはレティクル６４のパターンを透過した電子線が縮小レンズ６６により数分の１に縮小されて投影される。結果として原盤６８上に露光されたＥＢ描画パターンは、縮小レンズ６６の倍率に応じてレティクル６４上のパターンの数分の１のサイズの微細パターンとなる。なお、縮小投影露光に用いる光は電子線以外の化学線、例えば、ＫｒＦ、ＡｒＦ、Ｆ_２等のエキシマレーザー光やｉ線、ｇ線等の水銀ランプ光などであっても構わない。

従来の磁気ディスク媒体のプリアンブル部のパターンは、トラックを横切る平行な連続した複数の帯状パターンで構成されていたため、この帯状パターンを持つ縮小投影露光用レティクルは並列する連続した細長い開口部を有することになり、マスクのたわみが生じて投影上光学的支障を生じたり、マスクの強度が脆弱となる問題があった。

しかし、第１乃至第２実施形態のいずれかの磁気ディスク媒体においては、プリアンブル部の磁性体からなる帯状の記録パターンは、非磁性体によって周期的間隔で分断された構造を有している。このため、この磁気ディスク媒体を製造するために用いられる縮小投影露光用レティクルは、開口部が断続的に分断されているため、マスクの強度が十分保持できる利点を持つ。したがって、第１乃至第２実施形態の磁気ディスク媒体の製造に用いられる縮小投影露光用レティクルは、マスクのたわみが無く、正しいパターンを原盤上に描画することができる。

原盤上のレジストがポジ型である場合には、レティクルを透過した電子線等の化学線が照射された部位は現像後凹部となり、その原盤を元にＮｉ電鋳によりスタンパを作製し、そのスタンパもしくはそのスタンパの孫スタンパを用いてインプリントを行い、磁性体加工型の磁気ディスク媒体を作製した場合乃至前記スタンパを用いて同様に基板加工してその基板に磁性膜等を形成した場合、レティクルの開口部が最終的に磁気ディスク媒体の凹部（非磁性部）となるため、レティクルに断続的な開口部を設けることによって図１（ｂ）のようなプリアンブル部を磁気ディスク媒体に形成することができる。

一方、原盤上のレジストがネガ型である場合には、レティクルを透過した電子線等の化学線が照射された部位は現像後凸部となり、その原盤を元にＮｉ電鋳によりスタンパを作製し、そのスタンパもしくはそのスタンパの孫スタンパを用いてインプリントを行い、磁性体加工型の磁気ディスク媒体を作製した場合乃至前記スタンパを用いて同様に基板加工してその基板に磁性膜等を形成した場合、レティクルの開口部が最終的に磁気ディスク媒体の凸部（磁性部）となるため、レティクルに断続的な開口部を設けることによって図１（ａ）のようなプリアンブル部を磁気ディスク媒体に形成することができる。

また、上述のものと凹凸が逆のスタンパを用いることにより磁性部／非磁性部が異なったものを形成することもできる。

なお、第３実施形態の磁気ディスク媒体を製造するための縮小投影露光用レティクルも、上述したものと同様に、マスクの強度が十分保持できる利点を持ち、マスクのたわみが無く、正しいパターンを原盤上に描画し、所望のパターンを磁気ディスク媒体に形成することができる。

以下、本発明の実施例を説明する。

（第１実施例）
本発明の第１実施例によるレティクルの製造方法を図１０（ａ）乃至図１１（ｃ）を参照して説明する。本実施例の製造方法によって製造されるレティクル（マスク）はステンシル型であって、第１乃至第２実施形態のいずれかの磁気ディスク媒体の製造に用いられるものである。

まず、図１０（ａ）に示すように、シリコン基板５０上にエッチング時のストッパーとなるシリコン酸化膜５１が形成され、その上にＳＯＩ(Silicon on Insulator)層５２が形成されたＳＯＩ基板を準備する。日本ゼオン社製のレジスト（ＺＥＰ−５２０）をアニソールで１．５倍に希釈し、０．２μｍのメンブランフィルタでろ過後、スピンコートし、２００℃で３分間プリベークして、０．２μｍ厚のレジスト層５３をＳＯＩ層５２上に形成した（図１０（ａ）参照）。

次に、この基板を電子線描画装置（図示せず）内の所定位置に電子線描画装置の搬送系によって搬送し、真空の下、ハードディスクパターンを４倍に拡大したパターンを電子線でレジスト層５３に露光転写した。当該パターンはトラックピッチ１５０ｎｍであり、再生ヘッドの感度幅は１００ｎｍである。したがって、レティクル上でのトラックピッチ幅は６００ｎｍである。また、レティクル上のプリアンブル部の隣接する帯状パターンの開口部が、半径方向にヘッド幅１００ｎｍ、レティクル上では４００ｎｍのヘッド幅が、スキュー角に応じて変調された周期で、連結した構造となるよう電子線描画装置で露光した。露光後、上記シリコン基板をＺＥＤ−Ｎ５０（日本ゼオン社製）に９０秒間浸漬して現像し、その後、リンス液（ＺＭＤ−Ｂ（日本ゼオン社製））に９０秒間浸漬してリンスを行い、エアーブローにより乾燥させ、レジストパターン５３ａを形成した（図１０（ｂ）参照）。

次に、レジストパターン５３ａをマスクとしてＳＯＩ層５２をシリコン酸化膜５１が露出するまで異方性エッチングを行い（図１０（ｃ）参照）、パターニングされたＳＯＩ層５２ａを得た。その後、レジストパターン５３ａを除去した。

次に、シリコン基板５０の裏面にレジストを塗布し、リソグラフィー技術でレジストパターン５４を形成した（図１０（ｄ）参照）。その後、レジストパターン５４をマスクとしてシリコン基板５０をシリコン酸化膜５１が露出するまでＫＯＨ（水酸化カリウム）でエッチングした（図１１（ａ）参照）。続いて、レジストパターン５４を除去した（図１１（ｂ）参照）。さらに、フッ酸を用いて、シリコン基板５０とパターニングされたＳＯＩ層５２ａとの間の露出しているシリコン酸化膜５１を除去して、レティクル（ステンシルマスク）を得た（図１１（ｃ）参照）。

このレティクルを用いた縮小投影露光では、従来のレティクルと比べ、開口部の歪みのない、安定したパターン描画ができた。

比較のために、プリアンブル部の磁性体からなる記録パターンが非磁性体によって周期的に分断されていないレティクルを用いて４倍のＥＢ縮小投影露光により原盤を作製したところ、レティクルのプリアンブル部が複数の並行した帯状の開口部でパターン歪みが生じ、レティクルが作製直後に破損した。

これに対して、第１実施例の製造方法によって製造されたレティクルでは、上記のレティクルプリアンブル部の破損がおこらず、また縮小投影露光により角の丸みの小さいアドレス信号、バースト信号を具備した原盤が得られた。これにより作製されたパターンドメディアを搭載した磁気記録再生装置では、ヘッドが安定に浮上した。

（第２実施例）
次に、本発明の第２実施例による磁気ディスク媒体の製造方法を図１２（ａ）乃至図１３（ｆ）を参照して説明する。本実施例の製造方法は第１実施例によって製造されたステンシルマスク（レティクル）を用いて行うものである。

図１２（ａ）に示すように、シリコン基板２２上に、レジスト（ＺＥＰ−５２０）をアニソールで２倍に希釈し、０．２μｍのメンブランフィルタでろ過後、スピンコートした。その直後、２００℃で３分間プリベークして、０．１μｍ厚のレジスト２４を得た。

上記第１実施例の製造方法によって得られたマスク（レティクル）を介して縮小投影電子線露光装置を用いて、マスクサイズの１／４に縮小したパターンを、露光することによりレジスト２４に転写した（図１２（ｂ）参照）。露光後、上記シリコン基板を現像液（ＺＥＤ−Ｎ５０）に９０秒間浸漬して現像し、その後、リンス液（ＺＭＤ−Ｂ（日本ゼオン社製））に９０秒間浸漬してリンスを行い、エアーブローにより乾燥させることにより、レジストパターン２４ａを有するレジスト原盤を得た（図１２（ｃ）参照）。

次に、図１２（ｄ）に示すように、レジスト原盤上にスパッタリング法によって薄い導電膜２６を形成した。ターゲットには純ニッケルを使用し、８×１０^−３Ｐａ迄真空引きした後、アルゴンガスを導入して１Ｐａに調整されたチャンバー内で４００ＷのＤＣパワーをかけて４０秒間スパッタリングさせて、３０ｎｍの導電膜２６を得た。

その後、導電膜２６の付いたレジスト原盤をスルファミン酸ニッケルメッキ液（昭和化学（株）製、ＮＳ−１６０）を使用し、９０分間電鋳し、電鋳膜２８を形成した（図１２（ｅ）参照）。電鋳浴条件は次の通りである。
スルファミン酸ニッケル：６００ｇ／Ｌ
ホウ酸：４０ｇ／Ｌ
界面活性剤（ラウリル硫酸ナトリウム）：０.１５ｇ／Ｌ
液の温度：５５℃
Ｐ.Ｈ：４.０
電流密度：２０Ａ／ｄｍ^２
このとき得られた電鋳膜２８の厚さは３００μｍであった。

この後、レジスト原盤から電鋳膜２８を剥離することにより、導電膜２６および電鋳膜２８ならびにレジスト残渣を備えたスタンパ３０を得た（図１２（ｆ）参照）。続いて、レジスト残渣を酸素プラズマアッシング法で除去した（図１２（ｇ）参照）。酸素プラズマアッシングは酸素ガスを１００ｍｌ/ｍｉｎで導入し４Ｐａの真空に調整されたチャンバー内で１００Ｗで２０分間プラズマアッシングを行なった。これにより、導電膜２６および電鋳膜２８を備えたファザースタンパ３０を得た。その後、得られたスタンパの不要部を金属刃で打ち抜くことによりインプリント用スタンパとした。

スタンパ３０をアセトンで１５分間超音波洗浄をした後、インプリント時の離型性を高めるため、フルオロアルキルシラン（ＣＦ_３（ＣＦ_２）_７ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＭｅ）_３）(GE東芝シリコーン株式会社製、TSL8233)をエタノールで５％に希釈した溶液で３０分浸し、ブロアーで溶液を飛ばした後に、１２０℃で１時間アニールした。

（磁性体加工型磁気ディスク媒体の作成）
一方、図１３（ａ）に示すように、０．８５インチドーナツ型ガラス基板たる被加工材基板３１上に垂直記録用の磁気記録層３２が形成された基板を用意し、この磁気記録層３２上にノボラック系レジスト（ローム・アンド・ハース製、S1801）を回転数３８００ｒｐｍでスピンコートし、レジスト膜３４を形成した。その後、上述のスタンパ３０の被加工材基板３１に対する位置合わせを行い、スタンパ３０を２０００ｂａｒで１分間プレスすることによって、レジスト膜３４にそのパターンを転写した（図１３（ｂ）参照）。パターンが転写されたレジスト膜３４を５分間ＵＶ（紫外線）照射した後、１６０℃ で３０分間加熱した。

以上のようにインプリントされた基板をＩＣＰ（誘導結合プラズマ）エッチング装置を用い、２ｍＴｏｒｒのエッチング圧下でレジスト膜３４に酸素ＲＩＥを行ってレジストパターン３４ａを形成した（図１３（ｃ）参照）。続いて、レジストパターン３４ａをマスクとして、Ａｒイオンミリングを用いて磁気記録膜３２をエッチングし、ディスクリートな磁気記録層３２ａが形成された（図１３（ｄ）参照）。磁気記録層３２ａを形成後、エッチングマスクとなっていたレジストパターン３４ａを剥離するため、４００Ｗ、１Ｔｏｒｒで酸素ＲＩＥを行った（図１３（ｅ）参照）。

磁気記録層３２ａの形成後、保護膜としてＣＶＤ（化学気相成膜法）で３ｎｍ厚のＤＬＣを成膜した（図１３（ｆ）参照）。さらに、潤滑剤をディップ法で１ｎｍ厚となるように塗布し、磁性体加工型磁気ディスク媒体を得た。なお、磁気記録層３２ａの形成後、ＳｉＯ_２等の非磁性材料がスパッタなどによって溝に埋め込み形成された後、保護膜としてＤＬＣが成膜されることも、ヘッドの浮上安定させるよう表面形状を平坦化調整できる点で好ましい。

上述の説明は磁性体加工型磁気ディスク媒体の製造方法であったが、以下に基板加工型磁気ディスク媒体の製造方法を説明する。

（基板加工型磁気ディスク媒体の製造方法）
まず、被加工材基板として、０．８５インチドーナツ型ガラス基板を用い、このガラス基板上にノボラック系レジスト（ローム・アンド・ハース製、S1801）を回転数３８００ｒｐｍでスピンコートし、レジスト膜を形成した。その後、上述のスタンパの被加工材基板に対する位置合わせを行い、スタンパを２０００ｂａｒで１分間プレスすることによって、上記レジスト膜にそのパターンを転写した。パターンが転写されたレジスト膜を５分間ＵＶ照射した後、１６０ ℃ で３０分間加熱した。

以上のようにインプリントされた基板をＩＣＰ（誘導結合プラズマ）エッチング装置を用い、２ｍＴｏｒｒのエッチング圧下で上記レジスト膜に酸素ＲＩＥを行ってレジストパターンを形成した。続いて、このレジストパターンをマスクとして、Ａｒイオンミリングでガラス基板をエッチングした。ガラス基板のエッチング後、エッチングマスクとなっていたレジストパターンを剥離するため、４００Ｗ、１Ｔｏｒｒで酸素ＲＩＥを行った。こうして得られた表面加工基板上に磁気記録層をスパッタリング法で形成した。保護膜としてＣＶＤ（化学気相成膜法）で３ｎｍ厚のＤＬＣを成膜した。さらに、潤滑剤をディップ法で１ｎｍ厚となるように塗布し、基板加工型磁気ディスク媒体を得た。なお、磁性体加工型と同様、磁気記録層の形成後、ＳｉＯ_２等の非磁性材料がスパッタなどによって溝に埋め込み形成された後、保護膜としてＤＬＣが成膜されることも、ヘッドの浮上を安定させるよう表面形状を平坦化調整できる点で好ましい。

本実施例で作成した磁気ディスク媒体のトラックピッチは１５０ｎｍ、再生ヘッド幅１００ｎｍであった。比較のために、本実施例と同じサイズの磁気ディスク媒体を縮小投影を用いずにビーム径５０ｎｍの電子線描画装置で原盤を作製し、磁気ディスク媒体を製造し磁気記録再生装置に搭載したところ、ヘッドの浮上性が安定せず、ヘッドが媒体に接触してヘッドクラッシュを起こした。

（第３実施例）
次に、本発明の第３実施例による磁気記録再生装置を図１４乃至図１６を参照して説明する。本実施例の磁気記録再生装置は第１乃至第３実施形態の磁気ディスク媒体が搭載されるものである。

図１４に本実施例の磁気記録再生装置を示す。図１４は、ヘッド１本からなる構成概念図であるが、本実施例の磁気ディスク装置は、両面をＤＴＲ（discrete track recording）用に加工した垂直磁化２層膜の小径パターンドメディア１枚を、２本のヘッドで両面に記録再生するドライブで、上下面にダウンヘッド／アップヘッドがそれぞれ設けられている。

なお、磁気記録再生装置の構成は、磁気ディスク媒体が第１乃至第３実施形態のいずれかの磁気ディスク媒体である点を除けは、基本的に従来と同様の構成である。

ディスクドライブは、ヘッド・ディスクアセンブリ（ＨＤＡ）１００とも呼ばれる本体部と、ＰＣＢとも呼ばれるプリント回路基板２００とからなる。

ＨＤＡは、両面をＤＴＲ用に加工したディスク１４０と、当該ディスク１４０を回転させるスピンドルモータ（ＳＰＭ）１５０と、ヘッド１１０と、ヘッド移動機構と、図示しないヘッドアンプ（ＨＩＣ）を有する。

ヘッド１００は、ヘッド本体であるスライダ（ＡＢＳ）に、再生素子（ＧＭＲ素子）及び書き込み素子を有する磁気ヘッド素子が実装されたもので、ヘッド移動機構に搭載されている。

ヘッド移動機構は、ヘッド１００を支持するサスペンション・アーム１３０と、当該アーム１３０を回転自在に支持するピボット軸１３９と、ＶＣＭ１３１とを有する。ＶＣＭ１３１は、当該アーム１３０にピボット軸周りの回転トルクを発生させて、ヘッド１００をディスク１４０の半径方向に移動させる。さらに、ヘッド１００の入出力信号を増幅するためのヘッドアンプ（ＨＩＣ（図示せず））がアーム１３０上に固定され、フレキシブルケーブル（ＦＰＣ（図示せず））で、ＰＣＢ２００側と電気接続されている。なお、本実施例では、ヘッド信号のＳＮ低減のために、ＨＩＣがヘッド移動機構上に設置された構成だが、本体部に固定された構成であっても良い。

ＤＴＲディスク媒体１４０は、前述したように表裏があり、ヘッド移動軌跡と、ディスク１４０のサーボ領域パターンの円弧形状が略一致する表裏方向に、組み込まれる。ディスク仕様は、従来と同様に、駆動に適応した外径や内径、記再特性等を満足するものであるのは当然であるが、サーボ領域円弧形状として、ディスク回転中心からピボッド中心までの距離を半径位置として持つ円周上に、円弧中心を持ち、円弧半径がピボッドから磁気ヘッド素子までの距離として、形成されたもので与えられている。

（ＰＣＢ）
ＰＣＢは、主として４つのシステムＬＳＩを搭載している。ディスクコントローラ（ＨＤＣ）２１０、リード／ライトチャネルＩＣ２２０、ＭＰＵ２３０、及びモータドライバＩＣ２４０である。

ＭＰＵ２３０は、駆動システムの制御部であり、本実施形態に関するヘッド位置決め制御システムを実現するＲＯＭ，ＲＡＭ，ＣＰＵ及びロジック処理部を含む構成である。ロジック処理部は、ハードウェア回路で構成された演算処理部で、高速演算処理に用いられる。また、この動作ソフト（ＦＷ）は、ＲＯＭに保存されており、このＦＷに従ってＭＰＵ２３０がドライブを制御する。

ＨＤＣ２１０は、ハードディスク内のインターフェース部であり、ディスクドライブとホストシステム（例えばパーソナルコンピュータ）とのインターフェースや、ＭＰＵ，リード／ライトチャネルＩＣ，モータドライバＩＣへの情報交換を行ないドライブ全体を管理する。

リード／ライトチャネルＩＣ２２０は、リード／ライトに関連するヘッド信号処理部であり、ＨＩＣのチャネル切替えや、リード／ライト等の記録再生信号を処理する回路で構成される。

モータドライバＩＣ２４０は、ＶＣＭ及びＳＰＭの駆動ドライバ部で、スピンドルモータを一定回転に駆動制御したり、ＭＰＵ２３０からのＶＣＭ操作量を、電流値としてＶＣＭに与えて、ヘッド移動機構を駆動したりする。

（ヘッド位置決めシステム）
次に、ヘッド位置決めシステムを、図１５を用いて簡単に説明する。

図１５は、ヘッド位置決め制御のブロック構成図である。制御対象２６０は、具体的にはＶＣＭを含むヘッド移動手段に相当し、信号処理部２６５は具体的にはチャネルＩＣとＭＰＵ（オフトラック量検出処理の一部はＭＰＵ）により実現される要素である。

制御処理部は、フィードバック制御部２５０（以下第１コントローラともいう）及び同期抑圧補償部２５５（以下、第２コントローラともいう）により構成され、具体的にはＭＰＵにより実現される。

信号処理部２６５での動作詳細は後述するが、ヘッド位置（ＨＰ）直下の、ディスクサーボ領域からのアドレス情報等を含む再生信号を基に、ディスク上のトラック現在位置（ＴＰ）情報を生成する。

第１コントローラ２５０は、ディスク上の目標トラック位置（ＲＰ）とヘッドのディスク上現在位置（ＴＰ）との位置誤差（Ｅ）とを基に、位置誤差が小さくなる方向にＦＢ操作値Ｕ１を出力する。

第２コントローラ２５５は、ディスク上のトラック形状やディスク回転に同期した振動等を補正するためのＦＦ補償部で、事前に較正した回転同期補償値をメモリテーブルに保存している。第２コントローラ２５５は、通常、位置誤差（Ｅ）を使用せず、信号処理部Ｓから与えられる図示しないサーボセクタ情報を基に、テーブル参照して、ＦＦ操作値Ｕ２として出力する。

制御処理部は、第１及び第２のコントローラ２５０、２５５の出力Ｕ１、Ｕ２を加算し、制御操作値ＵとしてＨＤＣを介してＶＣＭに供給し、ヘッドを駆動する。

なお、同期補償値テーブルは、初期動作時に較正処理されるが、位置誤差（Ｅ）が設定値以上に大きくなると再較正処理を開始し、同期補償値を更新する処理がなされる。

（ドライブでの動作・位置情報検出処理）
次に、再生信号から、どのように位置偏差を検出するかを、図１６を用いて簡単に説明する。

ディスクは、ＳＰＭ１５０により一定回転速度で回転される。ヘッド１１０は、サスペンション・アーム１３０に設けられたジンバルを介して弾性支持されており、かつ、ディスク回転に伴なう空気圧とのバランスで微小隙間を保持する様に浮上設計されている。これにより、ヘッド再生素子は一定の磁気空隙をもって、ディスク磁性層からの漏れ磁束を検出する事ができる。

磁気ディスク媒体１４０のサーボ領域信号は、この回転により、一定周期でヘッド直下を通過する事になり、このサーボ領域再生信号から、トラック位置情報を検出する事で、一定周期のサーボ処理を実行できる。

ＨＤＣは、一旦、サーボマークと呼ぶサーボ領域識別フラグを認識すると、一定周期のため、ヘッド直下にサーボ領域が来るタイミングを予測可能となる。そこで、ＨＤＣはヘッド直下にプリアンブル部が来るタイミングで、チャネルにサーボ処理開始を促す。

（チャネルでの信号処理）
図１６に、チャネルでのアドレス再生処理構成を示す。再生ヘッドのヘッドアンプＩＣからの出力信号は、チャネルＩＣに読み込まれ、アナログフィルタ処理（長手信号等化処理）してＡＤＣでデジタル値としてサンプリングされる。

磁気ディスク媒体からの漏れ磁界は垂直磁化で、かつ、磁性／非磁性からのパターンであるが、ＨＩＣの持つハイパス特性と、長手等化するためのチャネルＩＣ前段部の等化器処理とにより、ＤＣオフセット成分は完全に除去され、プリアンブル部からのアナログフィルタ後出力は、ほぼ疑似正弦波となる。従来垂直磁化メディアとの違いは、信号振幅の大きさが半減している程度である。

なお、磁気ディスク媒体はパターンドメディアに限るものではないが、サーボ領域の漏れ磁束方向をどちらに取るかで、１，０を誤認して、チャネルでのコード検出失敗を引起すことになるので、ヘッド極性は、パターン漏れ磁束に合わせて適正に設定される。

チャネルＩＣでは、その再生信号フェーズに応じて、その処理を切替える。再生信号クロックをメディアパターン周期に同期させる同期引込み処理、セクタシリンダ情報を読み取るアドレス判読処理、オフトラック量を検出するための必要情報であるバースト部処理等が行われる。

同期引込み処理の詳細は省略するが、ＡＤＣサンプリングするタイミングを正弦波状再生信号と同期させ、かつ、デジタルサンプル値の信号振幅をあるレベルに揃えるＡＧＣ処理とを行なう。メディアパターンの１，０周期を４点でサンプリングする。

ついで、アドレス情報の再生では、サンプル値をＦＩＲでノイズ低下させ、最尤推定に基づくビタビ複合処理や、グレイコード逆変換処理を介して、セクタ情報・トラック情報に変換する。これにより、ヘッドのサーボトラック情報が取得できる。

ついで、バースト部ではチャネルはオフトラック量の検出処理を移行する。この処理図はないが、バースト信号パターンＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄの順に、各信号振幅をサンプルホールド積分処理して、平均振幅相当の電圧値をＭＰＵに出力し、ＭＰＵへサーボ処理割込みを発行する。ＭＰＵは、この割込みを受けると、内部ＡＤＣにて各バースト信号を時系列に読み込み、ＤＳＰでオフトラック量に変換する処理を行なう。このオフトラック量と、サーボトラック情報とにより、ヘッドのサーボトラック位置が精密に検出される。

（第４実施例）
次に、本発明の第４実施例による磁気ディスク媒体の製造方法を説明する。本実施例の製造方法は、第３実施形態の磁気ディスク媒体を製造するものである。

まず、第１実施例の製造方法を用いて、第３実施形態の磁気ディスク媒体用のレティクルを作成する。次に、このレティクルを使用して、第２実施形態で説明した製造方法を用いて図８に示す磁気ディスク媒体を作成する。

本実施例の製造方法で製造した磁気ディスク媒体を磁気記録再生装置に組みこみ、信号評価を行ったところ、データ領域の再生信号に、トラック６間の支持部６ｂで発生しているとみられる、若干異なる信号部分が検出されたが、これらの信号の差異は実用上問題のないレベルであった。

本発明の第１実施形態による磁気ディスク媒体のプリアンブル部のパターンを示す図。 第１実施形態の磁気ディスク媒体から一定の再生信号が得られることを説明する図。 第１実施形態の磁気ディスク媒体の概要を示す平面図。 第１実施形態の磁気ディスク媒体を半径方向に沿って切断した断面図。 サーボ領域の一例を説明する図。 第１実施形態のデータ領域を示す斜視図。 本発明の第２実施形態による磁気ディスク媒体を説明する図。 本発明の第３実施形態による磁気ディスク媒体のデータ領域を示す斜視図。 縮小投影露光技術を説明する図。 本発明の第１実施例によるレティクルの製造方法の製造工程示す断面図。 本発明の第１実施例によるレティクルの製造方法の製造工程示す断面図。 本発明の第２実施例による磁気ディスク媒体の製造方法の製造工程示す断面図。 本発明の第２実施例による磁気ディスク媒体の製造方法の製造工程示す断面図。 本発明の第３実施例による磁気記録再生装置を示すブロック図。 第３実施例の磁気記録再生装置のヘッド位置決め制御のブロック図。 第３実施例の磁気記録再生装置のチャネルでのアドレス再生処理を示す図。

符号の説明

１ 磁気ディスク媒体
２ 基板
４ 下地層
６ 記録トラック
７ 非磁性ガード帯
１１ データ領域
１２ サーボ領域
１２ａ プリアンブル部
１４ 磁性体
１５ 非磁性体
１１０ 磁気ヘッド

Claims (7)

1. 周方向に分割されたセクタのサーボ領域内にプリアンブル部を有し、前記プリアンブル部は磁性体からなる半径方向に配置された複数の帯状の記録パターンを有し、各帯状の記録パターンは非磁性体によって半径方向に周期的間隔で分断され、周方向において隣接する帯状の記録パターンは、前記非磁性体によって半径方向に周期的間隔で分断される位置が異なる構造を備えることを特徴とする磁気ディスク媒体。
2. 前記周方向において隣接する帯状の記録パターンは、前記非磁性体によって分断されていることを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク媒体。
3. 前記周方向において隣接する帯状の記録パターンは、前記磁性体によって接続されていることを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク媒体。
4. 前記非磁性体によって分断された前記帯状の記録パターン間には溝が設けられ、前記非磁性体は空気であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の磁気ディスク媒体。
5. 前記溝には非磁性材料が埋め込まれ、前記非磁性材料が埋め込まれた側の表面が平坦であることを特徴とする請求項４記載の磁気ディスク媒体。
6. レティクルを用いた電子線露光により形成されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の磁気ディスク媒体。
7. 請求項１乃至６のいずれかに記載の磁気ディスク媒体と、
   記録再生時に前記磁気ディスク媒体上を相対的に移動するヘッドと、
   を備えていることを特徴とする磁気記録再生装置。

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