JP2009295278A - 磁気記録媒体、その製造方法、インプリント用スタンパ、及びその原盤 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁気記録層が、溝によって分離された記録トラックパターンと、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズ等の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとを有し、管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されている。
【選択図】図2
Description
該磁気記録層は、少なくとも溝によって分離された記録トラックパターンと、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも1種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとを有し、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする。
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパを用いて、磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターンを形成した後、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも1種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成し、該レジストと共に磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする。
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパ上にレジストを形成し、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも1種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとは逆の凹凸パターンをレーザー描画及びエッチングにより形成し、得られたスタンパを用いて、該磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写し、該レジストと共に該磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする。
ホウ酸:40g/L
界面活性剤(ラウリル硫酸ナトリウム):0.15g/L
液の温度:55℃
pH:4.0
電流密度:20A/dm2。
基板としては、たとえばガラス基板、Al系合金基板、セラミック基板、カーボン基板、化合物半導体基板、Si単結晶基板などを用いることができる。ガラス基板には、アモルファスガラスまたは結晶化ガラスを用いることができる。アモルファスガラスとしては、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスなどがある。結晶化ガラスとしては、リチウム系結晶化ガラスなどがある。セラミック基板としては、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体や、これらの焼結体を繊維強化したものなどを用いることができる。化合物半導体基板としては、GaAs,AlGaAsなどがある。Si単結晶基板、いわゆるシリコンウエハーは表面に酸化膜を有していても構わない。
垂直磁気記録媒体を作製する場合には、軟磁性下地層(SUL)上に垂直磁気記録層を有するいわゆる垂直二層媒体とする。垂直二層媒体の軟磁性下地層は、記録磁極からの記録磁界を通過させ、記録磁極の近傍に配置されたリターンヨークへ記録磁界を還流させるために設けられている。すなわち、軟磁性下地層は記録ヘッドの機能の一部を担っており、記録層に急峻な垂直磁界を印加して、記録効率を向上させる役目を果たす。
垂直磁気記録層には、たとえば、Coを主成分とし、少なくともPtを含み、必要に応じてCrを含み、さらに酸化物(たとえば酸化シリコン、酸化チタン)を含む材料が用いられる。垂直磁気記録層中では、磁性結晶粒子が柱状構造をなしていることが好ましい。このような構造を有する垂直磁気記録層では、磁性結晶粒子の配向性および結晶性が良好であり、結果として高密度記録に適した信号/ノイズ比(S/N比)を得ることができる。上記のような構造を得るためには、酸化物の量が重要になる。酸化物の含有量は、Co、Pt、Crの総量に対して、3mol%以上12mol%以下が好ましく、5mol%以上10mol%以下がより好ましい。垂直磁気記録層中の酸化物の含有量が上記の範囲であれば、磁性粒子の周りに酸化物が析出し、磁性粒子を孤立化および微細化させることができる。酸化物の含有量が上記範囲を超える場合、酸化物が磁性粒子中に残留し、磁性粒子の配向性、結晶性を損ね、さらには磁性粒子の上下に酸化物が析出し、結果として磁性粒子が垂直磁気記録層を上下に貫いた柱状構造が形成されなくなる。一方、酸化物の含有量が上記範囲未満である場合、磁性粒子の孤立化および微細化が不十分となり、結果として記録再生時におけるノイズが増大し、高密度記録に適した信号/ノイズ比(S/N比)が得られなくなる。
保護層は、垂直磁気記録層の腐食を防ぐとともに、磁気ヘッドが媒体に接触したときに媒体表面の損傷を防ぐ作用を有する。保護層の材料としては、たとえばC、SiO2、ZrO2を含む材料が挙げられる。保護層の厚さは、1〜10nmとすることが好ましい。保護層の厚さを上記の範囲にすると、ヘッドと媒体の距離を小さくできるので、高密度記録に好適である。
潤滑剤としては、たとえばパーフルオロポリエーテル、フッ化アルコール、フッ素化カルボン酸などを用いることができる。
Claims (8)
- 非磁性基板、及び該非磁性基板上に形成された磁気記録層を含み、
該磁気記録層は、少なくとも溝によって分離された記録トラックパターンと、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも1種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとを有し、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする磁気記録媒体。 - 前記管理情報パターンは、AC消磁されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。
- 前記管理情報パターンは、再生可能領域に設けられることを特徴とする請求項1または2に記載の磁気記録媒体。
- 前記記録トラックパターン及び前記管理情報パターンは、
前記磁気記録層表面と、該磁気記録層表面上に設けられた、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストとをエッチングに供することにより形成され、
該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを有するレジストは、
電子ビーム描画により原盤に形成された該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを、インプリント用スタンパに転写して、該記録トラックパターンとは逆の凹凸パターンを形成した後、
該スタンパに設けられたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンとは逆の凹凸パターンを形成し、更にエッチングするとこによりスタンパに該管理情報パターンを形成させた後、該磁気記録媒体上に設けられたレジストに該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写するか、あるいは該磁気記録媒体上に設けられ、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンが転写されたレジストに、レーザー描画を用いて該管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成することにより得られることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。 - 少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパを用いて、磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターンを形成した後、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも1種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンと同様の凹凸パターンをレーザー描画により形成し、該レジストと共に磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 少なくとも溝によって分離された、記録トラックパターンと同様の凹凸パターンを電子ビーム描画により原盤上に形成し、
該原盤を用い、該記録トラックパターンと同様の凹凸パターンとは逆の凹凸パターンをインプリント用スタンパに転写した後、
前記インプリント用スタンパ上にレジストを形成し、製造番号、管理番号、製造日、製造場所、製造メーカー、販売ルート、記憶容量、及びサイズからなる群から選択される少なくとも1種の管理情報を二値化して表した管理情報パターンとは逆の凹凸パターンをレーザー描画及びエッチングにより形成し、得られたスタンパを用いて、該磁気記録層上に設けられたレジストに、該記録トラックパターン及び該管理情報パターンと同様の凹凸パターンを転写し、該レジストと共に該磁気記録層表面をエッチングすることにより、該磁気記録層表面に該記録トラックパターンと該管理情報パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、
前記管理情報パターンは、隣接する記録トラックにまたがって記録されていることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記管理情報パターンは、AC消磁されていることを特徴とする請求項5または6に記載の方法。
- 前記管理情報パターンは、再生可能領域に設けられることを特徴とする請求項5ないし7のいずれか1項に記載の方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011077723A1 (ja) | 2009-12-22 | 2011-06-30 | 株式会社エンプラス | レンズアレイおよびこれを備えた光モジュール |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01173274A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-07 | Hitachi Maxell Ltd | 磁性体パターン情報シート |
JPH10241155A (ja) * | 1997-02-12 | 1998-09-11 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 記憶装置、それを製造する方法及び磁気ディスク |
JP2004054977A (ja) * | 2002-07-17 | 2004-02-19 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | コンテンツ管理情報が埋め込まれた磁気記録媒体及び蓄積型磁気記録装置 |
-
2009
- 2009-09-18 JP JP2009218126A patent/JP2009295278A/ja active Pending
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